TW200848714A - Measuring instrument of immunochromatographic test piece - Google Patents

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200848714 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關免疫色譜試片之測定裝置。 【先前技術】 免疫色譜試片上，與檢體中的抗原（或抗體）之間將引 起抗原體反應的抗體（或抗原）預先在反應區域塗抹呈帶狀 。使該試片的反應區域以色素標示的檢體中的抗原（或抗 體）展開時，在呈帶狀塗抹的抗體（或抗原）之間收集引起抗 原抗體反應的檢體中的抗原（或抗體），在反應區域形成藉 著色素發色的線。上述的免疫色譜試片，藉著測定裝置光 學性測定形成在反應區域的線的呈色度（反應度），可以定 量分析檢體中抗原（或抗體）的量。 專利文獻1〜3中，揭示有光照射在免疫色譜試片，藉 著其反射光強度的檢測來測定試片呈色度的裝置。專利文 獻1所記載的裝置是相對於位置固定後測定系統（發光手 段及受光手段）移動試片，藉著連續檢測反射光來測定呈 色度。又’專利文獻2所記載的裝置具備沿著檢體流動（ 展開）的方向排列設置的複數個發光元件及受光元件，根 據對於各受光元件的反射光強度測定呈色度。並且，專利 文獻3所g5載的裝置是在試片上的任意一點檢測反射光強 度的變化之後’從其變化到一定時間後自動地開始測定。 專利文獻1 :日本特開平1丨_ 8 3 7 4 5號公報 專利文獻2:日本特開平10-274624號公報 200848714 專利文獻3 :日本特開2003 -4743號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 但是，即使檢體中的抗原（或抗體）的量相同，對於反 應區域的反應度仍存在有產生不均一的問題。爲了精度良 好地進行檢體中抗原（或抗體）量的分析，期待以盡量抑制 上述反應度不均一造成的影響爲佳。 本發明人發現以上反應度的不均一與檢體流速（展開 速度）不均一之間的關係。亦即，產生反應度不均一的某 種要因會呈現出檢體流速（展開速度）的不均一。因此，測 定檢體的流速，根據其測定結果校正其反應度時，即可抑 制因反應度不均一的影響，可精度良好地分析檢體中抗原 (抗體）的量。但是，上述的專利文獻1〜3所記載的裝置， 不能測定檢體的流速，因此進行以上的校正困難。 本發明是有鑒於上述問題點所硏創而成，提供可測定 檢體的流速，並根據其測定結果容易進行反應度校正的免 疫色譜試片之測定裝置爲目的。 〔解決課題的手段〕 爲了解決上述的課題，根據本發明的第1免疫色譜試 片之測定裝置，具備：將測定光照射在免疫色譜試片上的 一個或複數個光照射部；藉著對於免疫色譜試片上的第1 位置之測定光的照射，檢測從免疫色譜試片所獲得的光的 -5- 200848714 第1光檢測部；藉著對於較免疫色譜試片上的第1位置下 游側的第2位置之測定光的照射來檢測從免疫色譜試片所 獲得的光的第2光檢測部；及根據來自第1及第2光檢測 部的輸出訊號，取得第1位置的光學特性變化後到第2位 置的光學特性變化爲止的經過時間的控制部。 在免疫色譜試片展開的檢體由於吸收光或與螢光物質 同時展開，因此免疫色譜試片上檢體到達的位置會使得相 對於測定光的光學特性變化。上述第1測定裝置具備檢測 從第1位置所獲得的光的第1光檢測部，及從第1位置下 游側的第2位置所獲得的光的第2光檢測部，因此藉著該 等光檢測部檢測光學特性的變化，可得知檢體分別到達第 1及第2位置的時機。並且，控制部取得從第1位置的光 學特性變化後到第2位置的光學特性變化爲止的經過時間 ，可自動測定檢體的流速。因此，測定人員（或自動地）根 據測定結果校正產生抗原抗體反應的反應線的反應度時， 可抑制反應度不均一造成的影響，並精度良好地分析檢體 中抗原（或抗體）的量。 根據本發明的第2免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部；檢測藉著測 定光的照射從免疫色譜試片所獲得的光的光檢測部；支撐 免疫色譜試片的試片支撐部；在免疫色譜試片的檢體流動 方向使得試片支撐部與光檢測部相對移動的驅動機構；及 控制驅動機構的控制部，控制部使得試片支撐部與光檢測 部相對移動以檢測來自免疫色譜試片上第1位置的光之後 -6 - 200848714 ’使試片支撐部與光檢測部相對移動以檢測來自第1位置 下游側之第2位置的光，並根據來自光檢測部的輸出訊號 ’取得第1位置的光學特性變化後到第2位置的光學特性 變化爲止的經過時間的控制部。 該第2測定裝置中，藉著驅動機構及控制部使得試片 支撐部與光檢測部相對移動來檢測從試片上的第1位置所 獲得的光之後，再度使得試片支撐部與光檢測部相對移動 來檢測從第2位置所獲得的光。因此，可以適當檢測第1 及第2位置的光學特性的變化，獲得檢體分別到達第1及 第2位置的時機。並且，由於取得第i位置光學特性的變 化後到第2位置光學特性變化爲止的經過時間，可自動測 定檢體的流速。因此，測定人員（或自動地）根據測定結果 校正產生抗原抗體反應的反應線的反應度時，可抑制反應 度不均一造成的影響，並精度良好地分析檢體中抗原（或 抗體）的量。 又，根據本發明的第3免疫色譜試片之測定裝置，具 備：將測定光照射在免疫色譜試片上的一個或複數個光照 射部；藉著對於免疫色譜試片上的第1位置之測定光的照 射以檢測來自免疫色譜試片的反射光的第1光檢測部；藉 著對於較免疫色譜試片上的第1位置下游側的第2位置之 測定光的照射以檢測來自免疫色譜試片的反射光的第2光 檢測部；及根據來自第1及第2光檢測部的輸出訊號，取 得第1位置的吸光度變化後到第2位置的吸光度變化爲止 的經過時間的控制部。 -7- 200848714 在免疫色譜試片展開的檢體由於吸收光，因此免疫色 譜試片上檢體到達會使得檢體到達後位置的吸光度會降低 。由於上述第1測定裝置具備檢測第1位置的反射光的第 1光檢測部，及檢測第1位置下游側之第2位置的反射光 的第2光檢測部，因此藉著該等光檢測部檢測吸光度的變 化，可得知檢體分別到達第1及第2位置的時機。並且， 控制部取得從第1位置的吸光度變化後到第2位置的吸光 度變化爲止的經過時間，可自動測定檢體的流速。因此， 測定人員（或自動地）根據測定結果校正反應度時，即可抑 制反應度不均一造成的影響，並精度良好地分析檢體中抗 原（或抗體）的量。 又，第3免疫色譜試片之測定裝置具備第1及第2光 照射部，第1光檢測部也可檢測根據第1光照射部所照射 的反射光，第2光檢測部可以檢測根據第2光照射部所照 射的反射光。藉此，可藉著第1及第2光檢測部分別對於 第1及第2位置穩定地照射光，提高檢體流速的測定精度 〇 並且，第3免疫色譜試片之測定裝置也可以具備一體 組裝有第1光照射部及第1光檢測部的第1光學頭，及一 體組裝有第2光照射部及第2光檢測部的第2光學頭，第 1及第2光學頭之中的至少一方具有覆蓋測定光及反射光 的光路的構件。如上述藉著將光照射部及光檢測部的組一 體組裝在光學頭上，可以使光照射部及光檢測部彼此精度 良好地定位，提高反射光的檢測精度。又，在第1及第2 -8- 200848714 光學頭之中的至少一方覆蓋著測定光及反射光的光路，可 以防止對於該光學頭的光檢測部之擾光的射入，可更爲提 高反射光的檢測精度。 又’第3免疫色譜試片之測定裝置中，第1光學頭與 第2光學頭的間隔爲可變。藉此，可以使第1光學頭與第 2光學頭的間隔容易對應試片的大小等。 另外’第3免疫色譜試片之測定裝置，也可以具備第 1與第2光學頭，及一體組裝有第1及第2光檢測部的光 學頭，藉著各光照射部及各光檢測部一體組裝在光學頭上 ，可以將光照射部及光檢測部彼此精度良好地定位，提高 反射光的檢測精度。又，光學頭中藉著測定光及反射光之 光路的覆蓋，可以防止對於第1及第2光檢測部之擾光的 射入，更爲提高反射光的檢測精度。 並且，第3免疫色譜試片之測定裝置，第1光學頭與 第2光學頭的間隔也可以爲可變。藉此，可以使第1光學 頭與第2光學頭的間隔容易對應試片的大小等。 又，第3免疫色譜試片之測定裝置也可以具備一體組 裝有第1與第2光照射部及第1與第2光檢測部的光學頭 ，光學頭具有覆蓋測定光及反射光的光路的構件。如上述 ，藉著將各光照射部及各光檢測部一體組裝在光學頭上， 可以將光照射部及光檢測部彼此精度良好地定位，提高反 射光的檢測精度。又，光學頭中藉著測定光及反射光之光 路的覆蓋，可以防止對於第1及第2光檢測部之擾光的射 入，更爲提高反射光的檢測精度。 -9 - 200848714 另外，第3免疫色譜試片之測定裝置也可以在第1光 照射部熄滅後點亮第2光照射部。藉以使來自第2光照射 部的光不會射入到第1光檢測部內，又由於第1光照射部 的光不會射入到第2光照射部，可提高第1及第2位置之 各反射光的檢測精度。 並且，第3免疫色譜試片之測定裝置爲免疫色譜試片 也可以具有產生檢體與抗原抗體反應的帶狀區域，因此控 制部在第1位置的吸光度變化後經過較經過時間長的預定 時間之後，取得帶狀區域的吸光度。如上述，藉著第1位 置的吸光度變化後經過預定時間之後，控制部取得帶狀區 域的吸光度，在該預定時間的期間進行抗原抗體反應可明 確發現線，因此在控制部可精度更爲良好地進行反應度的 測定。 又，第3免疫色譜試片之測定裝置，更具備：支撐免 疫色譜試片的試片支撐部，藉著控制部的控制，使第1及 第2光照射部的一方或雙方與試片支撐部朝著免疫色譜試 片的檢體流動方向相對移動的驅動機構，控制部也可以在 上述預定時間經過之後，將第1或第2光照射部的測定光 朝著檢體流動方向掃描使得測定光的照射位置通過帶狀區 域。如上述，以測定光掃描形成反應線的帶狀區域及其周 邊，檢測其反射光，藉此在反應線的位置即使產生誤差的 場合仍可確實地測定反應度。 另外，第3免疫色譜試片之測定裝置也可以控制部使 第2位置的吸光度變化之後熄滅第2光照射部，隨後再度 -10- 200848714 點亮進行預定時間經過後的掃描。藉此可縮短第2光照射 部的點亮時間，抑制電力的消耗，延長第2光照射部的壽 命。 並且，本發明的第4免疫色譜試片之測定裝置，具備 :將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部；檢測根據 測定光的照射的來自免疫色譜試片的反射光的光檢測部； 支撐免疫色譜試片的試片支撐部；使試片支撐部與光檢測 部在免疫色譜試片的檢體流動方向相對移動的驅動機構； 及控制驅動機構的控制部，控制部使得試片支撐部與光檢 測部相對移動以檢測來自免疫色譜試片上第1位置的反射 光之後，使試片支撐部與光檢測部相對移動以檢測來自較 第1位置下游側之第2位置的反射光，根據來自光檢測部 的輸出訊號，取得第1位置的吸光度變化後到第2位置的 吸光度變化爲止的經過時間。 該第4測定裝置是藉著驅動機構及控制機構，在試片 支撐部與光檢測部相對移動以檢測來自試片上的第1位置 的反射光之後，使試片支撐部與光檢測部再度相對移動以 檢測來自第2位置的反射光。因此，可適當檢測第1及第 2位置的吸光度，得知檢體分別到達第1及第2位置的時 機。並且，控制部取得從第1位置的吸光度變化到第2位 置吸光度變化爲止的經過時間，可自動測定檢體的流速。 因此，測定人員（或自動地）根據測定結果校正反應度，即 可抑制反應度不均一造成的影響，精度良好地分析檢體中 的抗原（或抗體）。 -11 - 200848714 又，第4免疫色譜試片之測定裝置也可以具備一體組 裝在光照射部及光檢測部的光學頭，驅動機構可以使試片 支撐部與光學頭相對移動。如上述，光照射部及光檢測部 一體組裝在光學頭上，可藉此將光照射部及光檢測部彼此 精度良好地定位，提高反射光的檢測精度。 並且，第4免疫色譜試片之測定裝置也可以是免疫色 譜試片具有產生檢體與抗原抗體反應的帶狀區域，控制部 在第1位置的吸光度變化後經過較經過時間長的預定時間 之後，取得帶狀區域的吸光度。如上述，藉著第1位置的 吸光度變化後經過預定時間之後控制部取得帶狀區域的吸 光度，在該預定時間的期間內進行抗原抗體反應可明確發 現反應線，控制部可精度更爲良好地進行反應度的測定。 另外，第4免疫色譜試片之測定裝置也可以控制部在 上述預定時間經過之後，使光照射部的測定光朝著檢體流 動方向掃描使測定光的照射位置通過帶狀區域。如上述， 以測定光掃描形成反應線的帶狀區域及其周邊，可藉著其 反射光的檢測，即使反應線的位置產生誤差的場合仍可確 實地測定反應度。 又，第4免疫色譜試片之測定裝置也可以控制部在第 2位置的吸光度變化後使得光照射部熄滅，隨後再度點亮 進行預定時間後的掃描。藉此，可縮短光照射部的點亮時 間，抑制電力消耗，使得光照射部的壽命延長。 並且，第3及第4免疫色譜試片之測定裝置也可以使 免疫色譜試片具有產生第1抗原抗體反應的第1帶狀區域 -12- 200848714 ，及設置在較第1帶狀區域下游側產生第2抗原抗體反應 的第2帶狀區域，第1位置位在第1帶狀區域內，第2位 置位在第2帶狀區域內爲佳。藉此，可以在第1位置及第 2位置更爲明確地檢測吸光度的變化。 另外，根據本發明第5免疫色譜試片之測定裝置，具 備：將測定光照射在免疫色譜試片上的一個或複數個光照 射部；檢測對於免疫色譜試片上的第1位置之根據測定光 照射的來自免疫色譜試片的反射光或螢光的第1光檢測部 ;檢測對於免疫色譜試片上的第1位置下游側的第2位置 的根據測定光照射之來自免疫色譜試片的反射光或螢光的 第2光檢測部；及根據來自第1及第2光檢測部的輸出訊 號，取得第1位置的吸光度或螢光強度變化後到第2位置 的吸光度或螢光強度變化爲止的經過時間的控制部。 與檢體中的抗原（或抗體）結合用的抗體藉著螢光物質 加以標示的場合，在免疫色譜試片上藉著測定光在檢體到 達的位置激發時即產生螢光。並且由於免疫色譜試片展開 的檢體吸收光，在檢體到達的位置會使得吸光度降低。由 於上述第5測定裝置，具備：檢測第1位置的反射光或螢 光的第1光檢測部，及檢測較第1位置下游側之第2位置 的反射光或螢光的第2光檢測部，因此藉著該等光檢測部 檢測吸光度的變化或螢光強度的變化，可藉以得知檢體分 別到達第1及第2位置的時機。並且，由於控制部可取得 第1位置的吸光度或螢光強度變化後到第2位置的吸光度 或螢光強度變化爲止的經過時間，可自動測定檢體的流速 -13- 200848714 。因此，測定人員（或自動地）根據測定結果校正反應線的 反應度時，可抑制反應度不均一造成的影響，並精度良好 地分析檢體中抗原（或抗體）的量。 又，根據本發明的第6免疫色譜試片之測定裝置，具 備：將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部；藉著測 定光的照射，檢測從免疫色譜試片所獲得的螢光的光檢測 部；支撐免疫色譜試片的試片支撐部；在免疫色譜試片的 檢體流動方向使得試片支撐部與光檢測部相對移動的驅動 機構；及控制驅動機構的控制部，控制部使得試片支撐部 與光檢測部相對移動以檢測來自免疫色譜試片上第1位置 的螢光之後，使試片支撐部與光檢測部相對移動而檢測來 自較第1位置下游側之第2位置的螢光，並根據來自光檢 測部的輸出訊號，取得第1位置的螢光強度變化後到第2 位置的螢光強度變化爲止的經過時間。 該第6測定裝置中，藉著驅動機構及控制部使得試片 支撐部與光檢測部相對移動來檢測從試片上的第1位置所 獲得的螢光之後，再度使得試片支撐部與光檢測部相對移 動來檢測從第2位置所獲得的螢光。因此，可以適當檢測 第1及第2位置的螢光強度的變化，獲得檢體分別到達第 1及第2位置的時機。並且，由於控制部取得第1位置螢 光強度的變化後到第2位置螢光強度變化爲止的經過時間 ，可自動測定檢體的流速。因此，測定人員（或自動地）根 據測定結果校正反應線的反應度時，可抑制反應度不均一 造成的影響，並精度良好地分析檢體中抗原（或抗體）的量 -14- 200848714 〔發明效果〕 根據本發明的免疫色譜試片之測定裝置，可測定檢體 的流速，並可容易獲得根據其測定結果之反應度的校正。 【實施方式】 以下，一邊參閱添附圖示詳細說明根據本發明免疫色 譜試片之測定裝置的實施形態。並且，圖示的說明中同一 元件賦予相同符號，省略其重複的說明。 (第1實施形態） 第1圖是表示本發明所涉及免疫色譜試片之測定裝置 的第1實施形態的透視圖。本實施形態的測定裝置1 a是 對於形成在免疫色譜試片41的呈色線（反應線）的測試線 TL及控制線CL照射測定光，檢測其反射光的強度，藉此 測定呈色線TL及CL的呈色度（反應度）的裝置。該測定裝 置la是如第1圖表示，具備：支撐具有免疫色譜試片41 的免疫色譜測試用具42用的載放板（試片支撐部）1 1 ; 一體 組裝有測定光照射在免疫色譜試片4 1的發光元件（第1照 射部）2 1及檢測來自免疫色譜試片4 1的反射光之光檢測元 件（第1光檢測部）22的第1光學頭2 ; —體組裝有測定光 照射在免疫色譜試片41的發光元件（第2光照射部）31及 檢測來自免疫色譜試片4 1的反射光之光檢測元件（第2光 -15- 200848714 檢測部）3 2的光學頭3 ;相對於光學頭2及3使載放板1 1 朝者檢體流動方向相對移動的驅動機構2 1 ;及控制光學頭 2、3與驅動機構1 2的控制部1 3。 在此，第2圖爲免疫色譜測示用具4 2的上視圖。如 第2圖表示，免疫色譜測試用具42，具有：平面方向爲長 方形的殻體43，及保持在該殻體43內的免疫色譜試片41 〇 殼體43設有沿著其長邊方向，滴下檢體用的檢體點 著窗44，及露出免疫色譜試片4 1的呈色部份的觀測用窗 45。成形著檢體點著窗44的緣部44a〜44d及成形著觀測 用窗45的緣部45a〜45d被朝向免疫色譜試片41傾斜設置 ，形成斜錐形。 免疫色譜試片4 1爲硝化纖維素膜或濾紙等的材質所 構成，呈長方形。免疫色譜試片4 1具有設置在對應檢體 點著窗44的位置的檢體點著部4 1 a與設置在對應觀測用 窗45的位置的檢測部4 1 b。檢測部4 1 b具有朝著與免疫色 譜試片4 1長方向的檢體流動方向（圖中的箭頭A)交叉方向 延伸的第1帶狀區域4 1 c，相對於帶狀區域4 1 c平行，且 設置在檢體流動方向A下游側的第2帶狀區域4 1 d。帶狀 區域41c塗抹有呈線狀（帶狀）的抗體中的抗原（或抗體）與 產生第1抗原抗體反應的抗體（或抗原）’帶狀區域4 1 d以 色素標記相對於和檢體中的抗原（或抗體）結合的抗體（或抗 原）（以下作爲標準色素），將產生第2抗原抗體反應的抗體 (或抗原）塗抹呈線狀，分別予以固定化。 -16- 200848714 檢體是從檢體點著窗44滴下到免疫色譜試片4 1的檢 體點著部4 1 a。檢體中的抗原（或抗體）是與標記顏色結合 ，檢體中的抗原（或抗體）與標記色素結合的結合體或未反 應的標記色素是在免疫色譜試片4 1的長邊方向移動。現 在，假如檢體中包含有抗原，抗原在帶狀區域4 1 c中執行 抗原抗體反應。隨著檢體的移動，檢體中的抗原與固定在 帶狀區域4 1 c的抗體特殊地反應，在反應後的帶狀區域 4 1 c藉著標記色素形成呈色線（測試線T L)。另一方面，未 反應的標記色素是與固定在帶狀區域4 1 d的抗體特殊性地 反應，在反應後的帶狀區域4 1 d藉著標記色素形成呈色線 (控制線 CL)。再者，呈色線 TL及 CL的寬度通常爲 1 .0mm左右。又，呈色線TL及CL的長方向的長度通常 爲5mm左右。 第3圖是沿著檢體移動方向的光學頭2的側面剖視圖 。又，第4圖是表示光學頭2及免疫色譜測試用具42的 透視圖。再者，爲了容易理解，第4圖中省略光學頭2具 有的樹脂構件25及PC基板26的圖示。 光學頭2是如第3圖及第4圖表示，具有：發光元件 21 ;光檢測元件22 ;光束整形構件23及24 ;樹脂構件 25(第3圖）；及PC基板26(第3圖）。本實施形態作爲發 光元件21是使用稱發光二極管（LED)的半導體發光元件， 作爲光檢測元件22則是使用稱爲矽光電二極管的半導體 光檢測元件。發光元件2 1其光軸是相對於免疫色譜試片 4 1的表面呈垂直安裝在P C基板2 6的內面2 6 a，將測定光 -17- 200848714 照射在免疫色譜試片4 1上。光檢測元件2 2是經結合在該 光檢測元件2 2的2支金屬棒2 7安裝在p C基板2 6上，光 檢測面2 2 a接受來自免疫色譜試片4 1的反射光，轉換成 對應反射光強度的電訊號。本實施形態的光檢測元件22 是相對於發光元件2 1的光軸配置在檢體流動方向a的下 游側。 光束整形構件23及24是將來自發光元件21的光整 形爲具有朝著與免疫色譜試片41的帶狀區域41c及41d( 參閱第2圖）大致平行方向延伸之光束剖面的光用的構件 ，排列配置在發光元件2 1的光軸方向（相對於免疫色譜試 片41表面的垂直方向）。光束整形構件23爲形成有大致 圓形的開孔23 a的板狀構件所構成。光束整形構件24是 形成有相對於帶狀區域4 1 c及4 1 d大致平行延伸的開縫 24a的板狀構件所構成。光檢測元件22及光束整形構件 23、24是如第3圖表示，一體保持在接合於PC基板26 的內面26a的塊狀樹脂構件25，限定彼此的位置關係。 第5圖是表示光學頭3及免疫色譜測試用具42的透 視圖。又，第6圖是沿著第5圖表示光學頭3的VI - VI剖面 的剖視圖。 光學頭3，具有：發光元件3丨；光檢測元件3 2 ;光束 整形構件3 3 ;及透鏡3 4，該等是藉著構件3 5及3 6保持 成一體，限定彼此的位置關係。本實施形態是使用發光二 極管（LED)的半導體發光元件作爲發光元件31，使用矽 (Si)光電二極管的半導體檢測元件作爲光檢測元件32。發 -18- 200848714 光元件31其光軸是相對於免疫色譜試片4 1的表面呈垂直 保持在構件3 6上，將測定光照射在免疫色譜試片4 1。光 檢測元件3 2是從免疫色譜試片4 1上的測定光照射位置配 置在與帶狀區域41c及41 d(參閱第2圖）大致平行方向的 斜上方，使來自免疫色譜試片4 1的反射光轉換成對應其 強度的電訊號。 光束整形成構件3 3是將來自發光元件3 1的光整形爲 具有朝著與免疫色譜試片41的帶狀區域41c及4 Id(參閱 第2圖）大致平行方向延伸的光束剖面的光用的構件。光 束整形構件3 3爲形成有相對於帶狀區域4 1 c及4 1 d朝著 大致平行方向延伸的開縫3 3 a的板狀構件所構成。光束整 形構件3 3是如第6圖表示，被夾持固定在構件3 5與嵌入 構件3 5的凹部並保持著發光元件3 1的構件3 6之間。又 ，透鏡3 4是將來自光束整形構件3 3的光（與帶狀區域4 1 c 及4 1 d大致平行的開縫光）成像於免疫色譜試片4 1上之用 。透鏡3 4被配置在從發光元件3 1所射出測定光的光軸上 ，保持在構件3 5上。 構件3 5爲保持光檢測元件3 2及透鏡3 4的構件。構 件3 5上形成有覆蓋從發光元件3 1所射出測定光的光路的 孔3 5a，及覆蓋從免疫色譜試片41反射而射入光檢測元件 32的光的光路的孔35b。孔35a的一端經開縫33a配置有 保持在構件36的發光元件31，孔35a的另一端是與免疫 色譜試片4 1的光照射位置相對。又，透鏡3 4被保持在孔 35a內。孔35b的一端配置有光檢測元件32，孔35b的另 -19- 200848714 一端是與免疫色譜試片4 1的光照射位置相對。藉此一構 成，孔35a及3 5b，具有作爲：防止從發光元件31所射出 的測定光洩漏到光學頭3的外部及反射光以外的擾光（散 射光）之緩衝部的功能。 再度參閱第1圖。驅動機構1 2是相對於光學頭2及3 使載放板1 1沿著檢體流動方向A移動用的機構。驅動機 構1 2，具有：沿著檢體流動方向A咬合在形成於載放板 1 1側面的齒條1 6的小齒輪1 7，及固定有咬合在該小齒輪 1 7的蝸輪1 8的驅動馬達1 9等。該驅動機構1 2藉著驅動 馬達1 9 一旦將蝸輪1 8朝著正轉方向轉動時，使得小齒輪 1 7減速轉動驅動，該小齒輪1 7上咬合著齒條1 6的載放板 1 1在與檢體流動方向A的相反方向移動。其結果，光學 頭2及3相對於載放板1 1在檢體流動方向A相對地移動 〇 控制部1 3是作爲驅動馬達1 9的轉動控制、發光元件 2 1及3 1的點燈控制及光檢測元件22及3 2的輸出訊號處 理之用而設置。 接著，針對根據本實施形態的測定裝置1 a的動作， 一邊參閱第7圖〜第12圖說明如下。第7圖及第8圖是表 示測定裝置la動作的流程圖。又，第9圖〜第12圖爲說 明測定裝置1 a的動作狀態用的透視圖。並且，第9圖〜第 1 2圖中，省略第1圖表示的驅動機構i 2及控制部1 3的圖 不 ° 首先，測定人員將免疫色譜測試用具4 2設定在載放 -20- 200848714 板1 1上（步驟S 1)。並且，控制部1 3使得載放板1 1與光 學頭2相對移動以檢測來自預先決定之免疫色譜試片4 1 上的第1位置的反射光。具體而言，控制部1 3是藉著驅 動機構1 2的動作移動載放板1 1，使免疫色譜試片4 1上的 第1位置位於光學頭2的發光元件2 1的光射出方向（具體 而言，通過開孔23a及開縫24a的光的前進方向）而控制 光學頭2與免疫色譜試片41的相對位置關係（步驟S2)。 本實施形態中，免疫色譜試片4 1上的第1位置是被設定 在第1帶狀區域41 c內。因此，如第9圖表示，帶狀區域 4 1 c形成位在發光元件2 1的光射出方向。 接著，測定人員在檢體滴下到檢體點著部4 1 a之後， 發光元件21對於免疫色譜試片41的第1位置（亦即帶狀 區域41c)照射測定光。並且，光檢測元件22接受其反射 光，轉換對應光強度的電訊號。將電訊號送至控制部1 3， 控制部13可根據該電訊號檢測第1位置（帶狀區域41c)的 反射光強度（步驟S 3)。並且，此時，熄滅發光元件3 1。 在此，第1 3 (a)圖是槪念性表示第1位置（帶狀區域 41c)的光學特性（吸光度）的變化狀態的圖表。第13(a)圖中 ，縱軸是表示第1位置（帶狀區域41 c)的反射光強度，橫 軸是表示時間。通常，乾的狀態的免疫色譜試片4 1的吸 光度小，光檢測元件22中檢測出比較大的強度P 1的反射 光。並且，檢體一旦到達第1位置（帶狀區域41 〇時’檢 體吸收測定光的一部份，使得第1位置（帶狀區域4 1 c)的 吸光度增大，因此朝著光檢測元件22的反射光強度變化 -21 - 200848714 爲小於強度P1的強度P2。控制部13是根據來自光檢測 元件22的電訊號來觀測吸光度的變化（步驟S4)，在吸光 度變化的時刻t a開始計時（步驟S 5)。控制部1 3在檢測第 1位置（帶狀區域41c)的吸光度變化之後，將發光元件21 熄滅。 接著，控制部1 3使得載放板1 1與光學頭3相對移動 以檢測來自較第1位置下游側的免疫色譜試片4 1上的第2 位置的反射光。具體而言，控制部1 3再度使驅動機構1 2 動作藉此移動載放板1 1，使免疫色譜試片4 1上的第2位 置位在光學頭3的發光元件3 1的光射出方向（通過開縫 3 3a及透鏡34的光前進的方向）而控制光學頭3與免疫色 譜試片4 1的相對位置關係（步驟S6)。本實施形態中，將 免疫色譜試片41上的第2位置設定在第2帶狀區域41d 內。因此，如第10圖表示，形成帶狀區域41d位在發光 元件3 1的光射出方向。之後，控制部1 3點亮發光元件3 1 ，發光元件31對於免疫色譜試片4 1的第2位置（亦即帶 狀區域41d)照射測定光。並且，光檢測元件32接受其反 射光，轉換成對應光強度的電訊號。將電訊號送到控制部 1 3，控制部1 3根據該電訊號來檢測第2位置（帶狀區域 41d)的反射光強度（步驟S7)。 第13(b)圖是槪念性表示第2位置（帶狀區域41d)的光 學特性（吸光度）的變化狀態的圖表。第1 3 (b)圖中，縱軸 是表示第2位置（帶狀區域41 d)的反射光強度，橫軸是表 示時間。如上述，檢體到達第2位置（帶狀區域41d)爲止 -22- 200848714 ，在光檢測元件3 2中檢測出比較大的強度P 1的反射光。 並且，檢體一旦到達第2位置（帶狀區域41 d)時，第2位 置（帶狀區域41d)的吸光度會增大，對於光檢測元件32的 反射光強度變化爲強度P2(< P1)。控制部13是根據來自 光檢測元件3 2的電訊號觀測吸光度的變化（步驟S 8 )，取 得吸光度變化的時刻tb與ta的差（tb-ta)，即第1位置（帶 狀區域41 〇的吸光度變化後到第2位置（帶狀區域4 Id)的 吸光度的變化爲止的經過時間（步驟S9)。控制部1 3在第 2位置（帶狀區域41d)的吸光度變化後，一旦熄滅發光元件 3 1 〇 接著，控制部1 3以時刻ta爲基準進行預定時間的計 算（步驟S 10)。在該預定時間的期間，進行上述第1及第 2抗原抗體反應，使帶狀區域41c及41d呈色來發現呈色 線TL及CL。該預定時間較上述經過時間（tb-ta)長，例如 設定爲1 5分鐘左右，根據檢體的種類加以適當調整。 控制部1 3再度點亮發光元件3 1，從時刻ta經過預定 時間之後，使測定光的照射位置通過帶狀區域4 1 c、4 1 d 而將發光元件3 1的測定光一邊朝著檢體流動方向掃描， 藉著光檢測元件32連續地（或斷續地）檢測反射光，獲得檢 測部4 1 b的測定光的吸光曲線（步驟S 1 1)。具體而言，控 制部1 3使驅動機構1 2再度動作藉此移動載放板1 1，如第 1 1圖表示，將檢測部4 1 b的上游測一端定位在發光元件 3 1的光射出方向。並且，控制部1 3在檢測部4 1 b的下游 側一端定位在發光元件31的光射出方向爲止（參閱第12 -23- 200848714 圖），使測定光的照射位置朝著下游側一邊移動（亦即，使 免疫色譜試片4 1相對於光學頭3相對地朝著上游側一邊 移動），持續將測定光照射在發光元件3 1上，藉著光檢測 元件32取得對應反射光強度的電訊號。 第1 4圖是表示藉上述動作所獲得測定光的吸光曲線 的一例圖。第14圖中，縱軸是表示反射光強度，橫軸是 表示檢體流動方向的檢測部4 1 b上的位置。控制部1 3作 成例如第1 4圖表示的吸光曲線，從該吸光曲線分別藉著 八8 31 = 1(^(&1/3())、人8 32 = 1(^(&2/&())的運算式算出免疫色譜 試片4 1上的測試線TL的吸光度AB S !、控制線CL的吸光 度ABS2。該吸光度ABSi及ABS2即表示各呈色線TL、 CL的呈色度。並且，控制部1 3是根據預先設定的關係式 藉著時間（tb-ta)來校正吸光度ABS!、ABS2。控制部13是 根據控制線CL校正後的吸光度ABS2來判定測定的成否 ，同時參閱預先作成的檢量特性線圖，藉此對應測試線 TL校正後的吸光度ABSi求得包含在檢體中的抗原（或抗 體）的總量（濃度），將此藉著顯示裝置或印刷裝置等的輸出 裝置加以輸出（步驟S 12)。 如上述，本實施形態之測定裝置1 a是測定形成在免 疫色譜試片4 1的檢測部4 1 b的測試線TL及控制線CL的 呈色度。 針對藉本實施形態的測定裝置1 a所獲得的效果說明 。本發明人是著眼於呈色線（反應線）的呈色度（反應度）的 不均一與檢體流速（展開速度）的不均一之間所存在的相關 -24- 200848714 性。並且，如第1 5圖表示，實際上準備13個免疫色譜試 片 Ml〜M13，使得環境條件等變化，藉以使各試片 Μ 1〜Μ 1 3具有不均一的流速，此外將含有同一濃度的抗原（ 或抗體）的檢體滴下’取得檢體通過免疫色譜試片上的第1 位置的時刻ta、檢體通過第2位置的時刻tb、差値（tb-ta) 及1 5分鐘後的測試線TL的吸光度AB S i。再者，以下的 實施例中，免疫色譜試片是使用表面活性劑處理硝化纖維 素膜之物，檢體則是使用在磷酸緩衝液中混入濃度 100[ng/mol]的蛋白質之物。 第16圖是將吸光度ABSi與時間（tb-ta)圖示在座標軸 上的圖。參閱第16圖時，吸光度ABS!與時間（tb-ta)之間 ，可得知時間（tb-ta)越長吸光度 ABS!越大的相關性。因 此，如第1 6圖表示，例如以一維近似直線G1表示上述的 相關性，只要根據該直線G 1校正吸光度AB S i時，藉著呈 色度不均一影響的抑制即可獲得正確的吸光度AB S !。 該實施例中，一維近似直線G1是以下述的數式（1)表 示0 ABSi = 0.0036x(tb-ta) + 0.0338··· (1) 並且，使用接著的數式（2)將校正後的吸光度ABSi表 示在第1 5圖的最右列。 (校正 ABSjy實測 ABSd-O.OfnGxGb-ta)···。） -25- 200848714 爲了評估該校正後的吸光度AB S !，算出校正前的吸 光度ABSi、校正後的吸光度ABSi的各個變動係數（不均 一度）CV。其結果，校正前的變動係數CV形成爲6.5，校 正後的變動係數C V是形成4.4，顯示各試片Μ 1〜Μ 1 3的 吸光度AB S !的不均一可藉著校正得以降低。如上述，測 定時間（tb-ta)即檢體的流速，根據其結果校正吸光度（呈色 度）時，抑制根據呈色度不均一的影響，可精度更良好地 分析檢體中抗原（或抗體）的量。 根據本實施形態的測定裝置1 a，藉著檢測第1位置（ 帶狀區域41c)的反射光的第1光檢測元件22及檢測第2 位置（帶狀區域4 1 d)的反射光的第2光檢測元件3 2可檢測 各位置吸光度的變化，藉以得知檢體到達各位置的時機ta 、tb。並且，可取得從第1位置（帶狀區域41c)吸光度的 變化後到第2位置（帶狀區域4 1 d)吸光度變化爲止的時間 ’自動測定檢體的流速。因此，控制部1 3 (或測定人員）根 據經過時間（tb-ta)校正呈色線TL及CL的吸光度（呈色度） ’藉以抑制呈色度不均一造成的影響，可精度良好地分析 檢體中的抗原（或抗體）的量。 又’如本實施形態，測定裝置1 a以具備對應各光檢 測元件22、32的發光元件21、3 1，使光檢測元件22可檢 測根據發光元件21所照射的反射光，光檢測元件3 2可檢 測根據發光元件3 1所照射的反射光爲佳。藉此，可分別 對於第1位置（帶狀區域41c)及第2位置（帶狀區域41d)穩 定地照射光，可以提高吸光度變化的檢測精度以至於檢體 -26- 200848714 流速的測定精度。 又’如本實施形態，將發光元件2 1及光檢測元件22 一體組裝在光學頭2，將發光元件3 1及光檢測元件3 2 — 體組裝在光學頭3，可藉此將發光元件2 1及光檢測元件 22與發光元件3 1及光檢測元件32彼此精度良好地定位， 提高反射光的檢測精度。又，光學頭2、3中的至少一方（ 本實施形態爲光學頭3 )具有包覆測定光及反射光的光路的 構件3 5 (參閱第6圖），可藉此防止該光學頭對於光檢測元 件的擾光的射入，可更爲提高反射光的檢測精度。 又，如本實施形態，測定裝置是以免疫色譜試片4 1 具有產生檢體與抗原抗體反應的帶狀區域（本實施形態爲2 條帶狀區域4 1 c、4 1 d)，控制部1 3在第1位置（帶狀區域 41c)的吸光度變化後經過較時間（tb-ta)長的預定時間之後 ，取得帶狀區域4 1 c、4 1 d的吸光度爲佳。如上述，從第1 位置（帶狀區域41c)的吸光度變化後經過較時間（tb-ta)長 的預定時間之後，取得帶狀區域4 1 c、4 1 d的吸光度，藉 此在該預定時間的期間內進行抗原抗體反應可明確發現呈 色線TL、CL，因此可更精度良好地進行呈色度的測定。 並且爲了以第1位置（帶狀區域41c)吸光度的變化作爲預 定時間的測量開始，與操作人員在按壓測量開始按鍵等的 測量開始輸入有所不同，不會發生輸入時機與實際測量應 開始的時機的不均一或忘記輸入等的問題。 又，如本實施形態，測定裝置1 a以具備支撐免疫色 譜試片4 1的載放板1 1及使得載放板1 1與光學頭2、3在 -27- 200848714 檢體流動方向相對移動的驅動機構1 2爲佳。並且，控制 部1 3在上述預定時間經過後，爲了使測定光的照射位置 通過帶狀區域4 1 c、4 1 d，以一邊使發光元件3 1的測定光 在檢體流動方向掃描，藉著光檢測元件3 2連續或斷續地 檢測反射光爲佳。藉此，取得形成呈色線TL、CL的帶狀 區域4 1 c、4 1 b及其周邊的反射光數據，可以作成如第1 4 圖表示的吸光曲線，因此即使在呈色線TL、CL的位置產 生誤差的場合，仍然可以確實地測定吸光度（呈色度）。 又’如本實施形態，控制部1 3以藉著光學頭2檢測 第1位置（帶狀區域4 1 c)的吸光度變化之後，熄滅光學頭2 的發光元件2 1，之後點亮光學頭3的發光元件3 1檢測第 2位置（帶狀區域4 1 d)的吸光度變化爲佳。藉此，在檢測第 1位置（帶狀區域41c)的吸光度變化時，來自發光元件31 的光不會射入光檢測元件2 2內，並且在檢測第2位置（帶 狀區域41d)的吸光度變化時，來自發光元件21的光不會 射入到光檢測元件3 2內，因此可以提高第1及第2位置 的各反射光的檢測精度。 又，如本實施形態，控制部1 3以檢測第2位置（帶狀 區域4 1 d)的吸光度變化之後一旦熄滅發光元件3 1，隨後 再度點亮，進行第8圖表示步驟s 1 1的動作（使發光元件 31的測定光朝著檢體流動方向掃描，獲得檢測部4 1 b的測 定光的吸光曲線）爲佳。藉此，可以縮短發光元件3 1的點 亮時間，因此可以抑制電力消耗，延長發光元件3 1的壽 命。從第1位置（帶狀區域41c)的吸光度變化後進行步驟 •28- 200848714 s 1 1爲止的預定時間爲1 5分鐘左右的場合，例如可以在 1 4分鐘左右經過的時刻再度點亮發光元件3 1。 又，本實施形態的光學頭2與光學頭3的間隔是以可 變的爲佳。藉此，可以使光學頭2與光學頭3的間隔容易 對應免疫色譜試片4 1的大小等。 再者，本實施形態中，驅動機構1 2雖然使得發光元 件2 1及31的雙方與載放板1 1在檢體流動方向相對移動 ，但是也可以使發光元件2 1及3 1的其中一方與載放板1 1 在檢體流動方向相對移動。此時，以使得進行第8圖表示 步驟S11的發光元件（本實施形態爲發光元件31)與載放板 1 1相對移動爲佳。 (第2實施形態） 第1 7圖是表示本發明所涉及免疫色譜試片之測定裝 置的第2實施形態的透視圖。本實施形態的測定裝置1 b 與上述第1實施形態的不同點在於第1光學頭的有無。亦 即，本實施形態的測定裝置1 b不具備第1圖所示的光學 頭2，本實施形態的控制部1 4是使用光學頭3進行第1位 置（帶狀區域41 〇的吸光度變化的檢測、第2位置（帶狀區 域4 1 d)的吸光度變化的檢測及測定光的吸光曲線的作成。 另外，本實施形態的光學頭3、驅動機構1 2及免疫色譜測 試用具42的構成是與第1實施形態相同。 針對根據本實施形態的測定裝置1 b的動作，一邊參 閱第18圖〜第23圖說明如下。第18圖及第19圖是表示 -29- 200848714 測定裝置1 b的動作的流程圖。又，第2 0圖〜第2 3圖是說 明測定裝置1 b的動作狀態用的透視圖。並且，第2 0圖〜 第2 3圖中，省略第1 7圖表示的驅動機構1 2及控制部1 4 的圖示。 首先’測定人員將免疫色譜試片32設定在載放板11 上（步驟S2 1)。並且，控制部1 4使載放板1 1與光學頭3 相對移動以檢測來自免疫色譜試片4 1上的第1位置（帶狀 區域41c)的反射光。具體而言，控制部14藉著驅動機構 1 2的動作來移動載放板1 1，控制光學頭3與免疫色譜試 片4 1的相對位置關係將免疫色譜試片4 1上的第1位置（ 帶狀區域41c)定位在光學頭3的發光元件31的光射出位 置（參閱第20圖）（步驟S22)。 接著，測定人員將檢體滴下到檢體點著部4 1 a之後， 發光元件31對於免疫色譜試片41的第1位置（帶狀區域 4 1 c)照射測定光。並且，光檢測元件3 2接受其反射光， 轉換成對應光強度的電訊號。將電訊號送到控制部1 4，控 制部14根據該電訊號檢測第1位置（帶狀區域41c)的反射 光強度（步驟S23)。控制部14根據該電訊號觀測光學特性 (吸光度）的變化（步驟S24)，在吸光度變化的時刻ta開始 計時（步驟S25)。 接著，控制部1 4使載放台1 1與光學頭3相對移動以 檢測來自免疫色譜試片41上的第2位置（帶狀區域41d)的 反射光。亦即，控制部1 4使驅動機構1 2再度動作，藉此 移動載放板1 1，控制光學頭3與免疫色譜試片4 1的相對 -30 - 200848714 位置關係將免疫色譜試片41上的第2位置（帶狀區域41d) 定位在發光頭3的發光元件31的光射出方向（參閱第21 圖）（步驟S 26)。之後發光元件31對於第2位置（帶狀區域 4 1 d)照射測定光，使光檢測元件3 2輸出對應其反射光強 度的電訊號。控制部1 4根據該電訊號檢測第2位置（帶狀 區域41 d)的反射光強度（步驟S2 7)。控制部14根據該電訊 號觀測光學特性（吸光度）的變化（步驟S28)，取得吸光度 變化的時刻tb與時刻ta的差（tb-ta)(步驟S29)。控制部 14在第2位置（帶狀區域41 d)的吸光度變化後，將發光元 件3 1 —旦熄滅。 接著，控制部1 4從時刻ta進行預定時間的計算（步驟 5 3 0)，此一期間內使帶狀區域41c及41d呈色發現呈色線 TL及CL。控制部14將發光元件3 1再度點亮，從時刻ta 經過預定時間之後，將發光元件3 1的測定光朝著檢體流 動方向持續地掃描，使測定光的照射位置通過帶狀區域 41c、41d，藉著光檢測元件32連續（或斷續）地檢測反射光 ，獲得檢測部41b的測定光的吸光曲線（步驟S3 1)。亦即 ，控制部1 4藉著驅動機構1 2再度的動作使載放台1 1移 動，如第22圖表示，將檢測部41 b上游測的一端定位在 發光元件3 1的光射出方向。並且，控制部1 4將檢測部 4 1 b的下游側一端定位在發光元件3 1的光射出方向爲止（ 參閱第23圖）使測定光的照射位置一邊朝著下游側移動（亦 即，一邊使得免疫色譜試片4 1相對於光學頭3相對地朝 著上游測移動），持續地將測定光照射在發光元件3 1上， -31 - 200848714 藉著光檢測元件32取得對應反射光強度的電訊號。 接著’控制部1 4作成吸光曲線（參閱第1 3圖），從該 吸光曲線算出免疫色譜試片4 1上的測試線T L的吸光度 ABS!、控制線CL的吸光度ABS2。並且，控制部14根據 預先所設定的關係式藉著時間（tb-ta)校正吸光度 ABSi、 ABS2。控制部14是根據控制線CL校正後的吸光度ABS2 來判定測定成否的同時，參照預先所製成的檢量特性線圖 ，對應測試線TL校正後的吸光度AB S !求得檢體中所含的 抗原（或抗體）的總量（濃度），藉著顯示裝置或印刷裝置等 的輸出裝置將此輸出（步驟S3 2)。 如上述，本實施形態的測定裝置1 b是測定形成在免 疫色譜試片4 1的檢測部4 1 b的測試線TL及控制線CL的 呈色度。 根據本實施形態的測定裝置1 b，第1光檢測元件22 相對於載放台1 1相對移動以檢測第1位置（帶狀區域4 1 c) 的反射光之後，再度相對移動來檢測第2位置（帶狀區域 4 1 d)的反射光，藉以檢測各位置的吸光度的變化，可得知 檢體到達各位置的時機ta、tb。並且，由於控制部1 4取 得第1位置（帶狀區域41c)的吸光度變化後到第2位置（帶 狀區域41d)的吸光度變化爲止的時間（tb-ta)，可以自動測 定檢體的流速。因此，控制部1 4(或者測定人員）根據時間 (tb-ta)校正呈色線TL及CL的吸光度（呈色度），可藉此抑 制呈色度不均一造成的影響，精度良好地分析檢體中的抗 原（或抗體）的量。 -32- 200848714 又，如本實施形態中，同樣地，控制部14在第1位 置（帶狀區域41c)的吸光度變化後經過較時間（tb-ta)長的 預定時間之後，取得帶狀區域4 1 c、4 1 d的吸光度。藉此 ，抗原抗體反應可充分進行明確地發現呈色線TL、CL， 因此控制部1 4中可更爲精度良好地進行呈色度的測定。 並且爲了以第1位置（帶狀區域41c)吸光度的變化作爲預 定時間的測量開始，與操作人員在按壓測量開始按鍵等的 測量開始輸入有所不同，不會發生輸入時機與實際測量應 開始的時機的不均一或忘記輸入等的問題。 又，如本實施形態中，同樣地，控制部14在上述預 定時間經過後，爲了使測定光的照射位置通過帶狀區域 4 1 c、4 1 d，一邊使發光元件3 1的測定光在檢體流動方向 掃描，藉著光檢測元件3 2連續或斷續地檢測反射光。藉 此，取得形成呈色線TL、CL的帶狀區域41c、41b及其 周邊的反射光數據，可以作成如第1 4圖表示的吸光曲線 ，因此即使在呈色線TL、CL的位置產生誤差的場合，仍 然可以確實地測定吸光度（呈色度）。 又，本實施形態的控制部1 4在檢測第2位置（帶狀區 域4 1 d)的吸光度變化之後一旦熄滅發光元件3 1，隨後再 度點亮，進行第1 9圖表示步驟s 3 1的動作（使發光元件3 1 的測定光朝著檢體流動方向掃描，獲得檢測部4 1 b的測定 光的吸光曲線）。藉此，可以縮短發光元件3 1的點亮時間 ，因此可以抑制電力消耗，延長發光元件3 1的壽命。 -33- 200848714 (變形例） 弟24圖爲上述第1實施形態的一變形例，表示測定 裝置1 C的構成的透視圖。該測定裝置1 C具備第1光學頭 5及第2光學頭6。光學頭5 —體組裝有發光元件5 i (第i 光照射部）5 1及光檢測元件（第1光檢測部）52。光學頭6 上一體組裝有發光兀件（第2光照射部）6 1及光檢測元件（ 第2光檢測部）6 2。 又，光學頭5更具有將半導體發光元件5 1所射出的 測定光整形爲與帶狀區域4 1 c大致平行的開縫光用的未圖 示的光束整形構件及透鏡，半導體發光元件51、半導體光 檢測元件52、光束整形構件及透鏡是藉著塊狀構件53 — 體保持著，限定著彼此的位置關係。發光元件5 1其光射 出方向被相對於免疫色譜試片4 1的表面形成垂直地保持 在構件53上，將測定光照射在免疫色譜試片41的第1位 置（帶狀區域41c)。光檢測元件52被從第1位置（帶狀區 域4 1 c)配置在與帶狀區域4 1 c大致平行方向的斜向上方， 將來自免疫色譜試片41的第1位置（帶狀區域41c)的反射 光轉換爲對應其強度的電訊號。 光學頭6更具有將半導體發光元件61所射出的測定 光整形爲與帶狀區域4 1 d大致平行的開縫光用的未圖示的 光束整形構件及透鏡，半導體發光元件6 1、半導體光檢測 元件62、光束整形構件及透鏡是藉著塊狀構件63 —體保 持著，限定著彼此的位置關係。發光元件6 1其光射出方 向被相對於免疫色譜試片4 1的表面形成垂直地保持在構 -34- 200848714 件63上，將測定光照射在免疫色譜試片4 1的第2位置（ 帶狀區域4 1 d)。亦即，發光元件6 1的射出光軸與發光元 件5 1的射出光軸的間隔被設定與第1位置（帶狀區域4 1 c) 及第2位置（帶狀區域4 1 d)的間隔大致相等。光檢測元件 62被從第2位置（帶狀區域41 d)配置在與帶狀區域41 d大 致平行方向的斜向上方，將來自免疫色譜試片4 1的第2 位置（帶狀區域4 1 d)的反射光轉換爲對應其強度的電訊號 〇 再者，構件53及63分別具有與第6圖表示的孔35a 、3 5 b相同的未圖示的2個孔，構成緩衝構造。一方的孔 覆蓋著從發光元件51(或61)所射出測定光的光路，另一方 的孔則是覆蓋著從免疫色譜試片4 1反射而射入光檢測元 件52(或62)的光的光路。 該變形例與第1實施形態不同，第1光學頭5同樣具 有覆蓋來自發光元件5 1的測定光的光路及來自第1位置（ 帶狀區域4 1 〇的反射光的光路的構件5 3，形成緩衝構造 。本發明所涉及的測定裝置中，第1及第2個光學頭中的 至少一方覆蓋著測定光及反射光的光路，藉此防止對於該 等光學頭的光檢測部之擾光的射入，可更爲提高反射光的 檢測精度。 又，例如本變形例，本發明第1光照射部的射出光軸 與第2光照射部的射出光軸的間隔也可以配合免疫色譜試 片的第1位置與第2位置的間隔來設定。 第2 5圖爲上述第1實施形態的其他變形例，表示測 -35- 200848714 定裝置1 d的構成的透視圖。該測定裝置1 d具備相對於免 疫色譜試片41固定在相對位置的光學頭7。光學頭7 —體 組裝有發光元件71、72及光檢測元件73、74，限定著彼 此的位置關係。發光元件7 1爲本變形例的第1光照射部 ，發光元件72爲本變形例的第2光照射部。又，光檢測 元件73爲本變形例的第1光檢測部，光檢測元件74爲本 變形例的第2光檢測部。 發光元件7 1及72其光射出方向是相對於免疫色譜試 片4 1的表面形成垂直地被保持在構件75上。發光元件7 1 是將測定光照射在免疫色譜試片4 1的第1位置（帶狀區域 4 1 〇，發光元件72是將測定光照射在第2位置（帶狀區域 4 1 d)。光檢測元件73是從第1位置（帶狀區域41 〇被配置 在與帶狀區域41c大致平行方向的斜向上方，將來自第1 位置（帶狀區域41〇的反射光轉換成對應其強度的電訊號 。光檢測元件74是從免疫色譜試片4 1的第2位置（帶狀 區域41 d)被配置在與帶狀區域41d大致平行方向的斜向上 方，將來自第2位置（帶狀區域41 d)的反射光轉換成對應 其強度的電訊號。 再者，構件75具有與第6圖表示的構件3 5相同的緩 衝構造，具有：覆蓋從發光元件7 1所射出測定光的光路 的孔；覆蓋從發光元件72所射出測定光的光路的孔；覆 蓋從第1位置（帶狀區域41 〇反射而射入到光檢測元件73 的光之光路的孔及覆蓋從第2位置（帶狀區域41 d)反射而 射入到光檢測元件74的光之光路的孔。 -36- 200848714 該變形例是與第1實施形態不同，由於第1及第2光 照射部（發光元件71及72)與第1及第2光檢測部（光檢測 元件73及74)被一體組裝在一個光學頭7上，因此發光元 件71及光檢測元件73與發光元件72及光檢測元件74彼 此被精度良好地定位，可以提高反射光的檢測精度。又， 光學頭7具有覆蓋測定光及反射光的光路的構件75，因此 可以防止對於光檢測元件73、74的擾光射入，可提高反 射光的檢測精度。 (第3實施形態） 接著，針對根據第3實施形態的免疫色譜試片的測定 裝置說明如下。第26圖是表示使用於本實施形態的測定 裝置1 e的構成的透視圖。本實施形態的測定裝置1 e是對 於含螢光物質的免疫色譜試片4 1所形成的反應線（測試線 TL及控制線CL)照射測定光（激發光），藉著檢測在反應線 TL及CL產生的螢光強度來測定反應線TL及CL的反應 度的裝置。再者，本實施形態的螢光物質是與第1實施形 態的色素相同，標記塗抹在免疫色譜試片4 1上的與檢體 中的抗原（或抗體）結合的抗體（或抗原），測試線TL及控制 線CL的反應是與第1實施形態相同。 本實施形態的測定裝置1 e與上述第1實施形態的主 要不同點在於光學頭的構成。亦即，本實施形態的第1光 學頭的光學頭8具有與第1實施形態的光學頭3相同的構 成。又，本實施形態的第2光學頭的光學頭9具有對於形 -37- 200848714 成在免疫色譜試片4 1的反應線TL及CL照射作爲測定光 的激發光，檢測反應線TL及CL產生的螢光強度用的構 成。再者’本實施形態的驅動機構1 2及免疫色譜測試用 具42的構成是與第1實施形態相同。 該測定裝置le是如第26圖表示，具備：支撐具有免 疫色譜試片4 1的免疫色譜測試用具42用的載放板（試片 支撐部）1 1 ; 一體組裝有測定光照射在免疫色譜試片4 1的 發光元件（第1光照射部）8 1及檢測來自免疫色譜試片4 j 的反射光的光檢測元件（第1光檢測部）8 2的第1光學頭8 ;一體組裝有測定光（激發光）照射在免疫色譜試片4 1的發 光元件（第2光照射部）9 1及檢測來自免疫色譜試片4 1的 螢光的光檢測元件（第2光檢測部）9 2的第2光學頭9 ;相 對於光學頭8及9使得載放板1 1在檢體流動方向相對移 動的驅動機構1 2 ;及控制光學頭8、9及驅動機構1 2的控 制部1 5。再者，對於載放台1 1、驅動機構1 2及免疫色譜 試片4 1的構成由於和第1實施形態相同，因此省略詳細 說明。 光學頭8具有與第1實施形態的光學頭3相同的構成 。亦即，光學頭8，具有：發光元件8 1 ;光檢測元件8 2 ; 光束整形構件8 3及透鏡8 4，該等是藉著構件8 5 —體保持 著，限定彼此的位置關係。發光元件8 1是使用稱爲發光 二極管（L E D )的半導體發光元件，光檢測元件8 2是使用稱 爲矽（S i)光電二極管的半導體光檢測元件。發光元件8 1其 光軸是相對於免疫色譜試片4 1的表面呈垂直地保持在構 -38- 200848714 件8 5上，將測定光照射在免疫色譜試片4 1。光檢測元件 82是從免疫色譜試片4 1上的測定光的照射位置被配置在 與帶狀區域41c及41d(參閱第2圖）大致平行方向的斜向 上方，將來自免疫色譜試片4 1的反射光轉換成對應其強 度的電訊號。 光學頭9具有與光學頭8大致相同的構成。亦即，光 學頭9，具有：發光元件9 1 ;光檢測元件92 ;光束整形構 件93及透鏡94，該等是藉著構件95 —體保持著，限定彼 此的位置關係。但是，光束整形構件93與透鏡94之間設 有波長濾波器96。波長濾波器96是將發光元件91所射出 的光取出螢光物質激發所必須波長成分用的構件。又，光 檢測元件92與免疫色譜試片4 1之間設有波長濾波器97。 波長濾波器97爲僅將螢光射入到光檢測元件92，截斷其 他波段的光（從發光元件9 1所射出的光等）用的構件。發光 元件9 1將激發螢光物質用的測定光（激發光）照射在免疫色 譜試片41。光檢測元件92將來自免疫色譜試片4 1的螢光 轉換成對應其強度的電訊號。 接著，針對根據本實施形態的測定裝置1 e的動作， 一邊參照第27圖〜第32圖說明如下。第27圖及第28圖 是表示測定裝置le的動作的流程圖。又，第29圖〜第32 圖爲說明測定裝置1 e的動作狀態用的透視圖。再者，第 2 9圖〜第3 2圖中，省略第2 6圖表示的驅動機構1 2及控制 部1 5的圖示。 首先，測定人員將免疫色譜測試用具42設定在載放 -39- 200848714 板11上（步驟S41)。並且，控制部15使得載放板U與光 學頭8相對移動以檢測來自預先決定之免疫色譜試片41 上的第1位置的反射光。具體而言，控制部1 5藉著驅_ 機構1 2的動作使載放板1 1移動，並控制光學頭8與免& 色譜試片41的相對位置關係，使免疫色譜試片4 1上的胃 1位置定位在光學頭8的發光元件8 1的光射出方向（步^驟 S 42)。本實施形態是將免疫色譜試片41上的第1位置設 定在第1帶狀區域41c內。因此，如第29圖表示’帶狀 區域4 1 c形成定位在發光元件8 1的光射出方向。 接著，測定人員將檢體滴下到檢體點著部4 1 a之後’ 發光元件8 1將測定光照射在免疫色譜試片4 1的第1位置 (即帶狀區域41c)。並且，光檢測元件82接受其反射光’ 轉換成對應光強度的電訊號。電訊號被送到控制部1 5 ’控 制部1 5可根據該電訊號檢測第1位置（帶狀區域4 1 c)的反 射光強度（步驟S 43)。並且，此時熄滅發光元件91。 在此，第33(a)圖是槪念顯示第1位置（帶狀區域41〇 的光學特性（吸光度）的變化狀態。如先前實施形態的說明 ，免疫色譜試片4 1乾燥時，光檢測元件82檢測出比較大 的強度P 1的反射光。並且，檢體到達第1位置（帶狀區域 4 1 c)時，由於吸光度增大因此對於光檢測元件8 2的反射 光強度變化爲強度P2( < P 1)。控制部1 5根據來自光檢測 元件82的電訊號觀測吸光度的變化（步驟S44)，在吸光度 變化的時刻ta開始計時（步驟S45)。控制部1 5在檢測第1 位置（帶狀區域41c)的吸光度變化之後，將發光元件81熄 -40- 200848714 滅。 接著，控制部1 5使得載放板1 1與光學頭9相對移動 ，檢測來自較第1位置下游側的免疫色譜試片4 1上的第2 位置的螢光。具體而言，控制部1 5藉著驅動機構1 2的再 度動作來移動載放板1 1，控制光學頭9與免疫色譜試片 4 1的相對位置關係將免疫色譜試片4 1上的第2位置定位 在光學頭9的發光元件91的光射出方向（步驟S 46)。本實 施形態是將免疫色譜試片41上的第2位置設定在第2帶 狀區域41 c內。因此，如第3 0圖表示，帶狀區域41 d形 成位在發光元件9 1的光射出方向。隨後，控制部1 5點亮 發光元件9 1，使得發光元件9 1將測定光（激發光）照射在 免疫色譜試片41的第2位置（即帶狀區域41d)。並且，光 檢測元件92接受該測定光激發所產生的螢光，轉換成對 應螢光強度的電訊號。將電訊號送到控制部1 5，控制部 15可根據該電訊號來檢測第2位置（帶狀區域41d)的螢光 特性（螢光強度）（步驟S47)。 第33(b)圖是槪念表示第2位置（帶狀區域41d)的光學 特性（螢光強度）的變化狀態的圖表。第1 5 (b)圖中，縱軸 是表示第2位置（帶狀區域41d)的螢光強度，橫軸是表示 時間。檢體到達第2位置（帶狀區域41d)爲止由於在該位 置上並未實質存在有螢光物質，因此光檢測元件92僅能 檢測出極小強度P3的光。並且，檢體一旦到達第2位置（ 帶狀區域41d)時，藉著測定光激發標示著與檢體中的抗原 (或抗體）結合後之抗體（或抗原）的螢光物質，因此對於光 -41 - 200848714 檢測元件9 2的螢光強度變化爲強度p 4 ( > p 3 )。控制部1 5 可根據來自光檢測元件92的電訊號觀測螢光強度的變化（ 步驟S 4 8 )，取得螢光強度變化後的時刻tb與時刻t a的差 (tb-ta)，即第1位置（帶狀區域4 1 c)的反射光強度變化後 到第2位置（帶狀區域4 1 d)的螢光強度變化爲止的經過時 間（步驟S4 9)。控制部15在第2位置（帶狀區域41 d)的螢 光強度變化之後，一旦將發光元件9 1熄滅。 接著，控制部1 5以時刻ta爲基準進行預定時間的計 算（步驟S 50)。在該預定時間的期間，進行上述第1及第 2抗原抗體反應，在帶狀區域41c及41d發現反應線TL 及CL。設定該預定時間較上述經過時間（tb-ta)長，例如 1 5分鐘左右，可根據檢體的種類加以適當調整。 控制部1 5再度點亮發光元件9 1，從時刻ta經過預定 時間之後，一邊讓發光元件9 1的測定光朝著檢體流動方 向掃描，使測定光的照射位置通過帶狀區域4 1 c、4 1 d，一 邊藉著光檢測元件92連續地（或斷續地）檢測螢光，獲得檢 測部4 1 b的螢光曲線（步驟S 5 1 )。具體而言，控制部1 5再 度使驅動機構1 2動作，藉此移動載放台1 1，如第3 1圖表 示，將檢測部4 1 b上游測的一端定位在發光元件9 1的光 射出方向。並且，控制部1 5將檢測部4 1 b下游側的一端 定位在發光元件91的光射出方向爲止（參閱第32圖）一邊 使測定光的照射位置朝著下游側移動（亦即，一邊使得免 疫色譜試片4 1相對於光學頭9相對地朝著上游測移動）， 持續地將測定光照射在發光元件9 1上，藉著光檢測元件 -42 - 200848714 92取得對應螢光強度的電訊號。 第3 4圖是表示藉上述動作所獲得螢光曲線的一例圖 。第3 4圖中，縱軸是表示螢光強度，橫軸是表示檢體流 動方向的檢測部4 1 b上的位置。控制部1 5製成例如第3 4 圖所表示的螢光曲線，分別以 PLfloghWaO、 PL2 = log(a5/a3)的運算式算出免疫色譜試片41上的測試線 TL的螢光度PL!、控制線CL的螢光度PL2。該螢光度 PI^及PL2即表示反應線TL、CL的反應度。並且，控制 部1 5是根據預先所設定的關係式以時間（tb-ta)校正螢光 度PL!、PL2。控制部15根據控制線CL校正後的螢光度 PL2判定測定成否的同時，參照預先所製成的檢量特性線 圖，藉以求得對應測試線TL校正後的螢光度P L i包含在 檢體中的抗原（或抗體）的總量（濃度），將此以顯示裝置或 印刷裝置等的輸出裝置加以輸出（步驟S5 2)。 如上述，本實施形態的測定裝置1 e是測定形成在免 疫色譜試片4 1的檢測部4 1 b上的測試線TL及控制線CL 的反應度。 根據以上說明後的本實施形態的測定裝置1 e，藉著檢 測第1位置（帶狀區域41c)的反射光的第1光檢測元件82 及檢測第2位置（帶狀區域4 1 d)的螢光的第2光檢測元件 92可得知檢體到達各位置的時機ta、tb。並且，控制部 1 5取得第1位置（帶狀區域4 1 c)的吸光度變化後到第2位 置（帶狀區域41 d)的螢光強度變化爲止的經過時間（tb-ta) ，可自動測定檢體的流速。因此，控制部1 5(或測定人員） -43- 200848714 根據經過時間（tb-ta)來校正反應線TL及CL的螢光度（反 應度），可藉此抑制反應度不均一造成的影響’精度良好 地分析檢體中的抗原（或抗體）的量。 再者，本實施形態涉及的測定裝置1 e也可以進行以 下的變形。亦即，光學頭8設置與光學頭9的波長濾波器 96、97相同的波長濾波器，在光檢測元件82中檢測螢光 而非反射光。根據以上的構成，同樣可得知檢體到達第1 位置（帶狀區域41c)的較佳時機ta。亦即，免疫色譜試片 41中螢光物質與檢體同時展開，藉著測定光激發檢體到達 的位置時即產生螢光，同時，由於檢體吸收測定光使得吸 光度降低。因此，光學頭8及9中檢測出反射光及螢光的 其中一方時，即可以得知上述的時機ta、tb。 又，本實施形態涉及的測定裝置1 e還可以進行如以 下的變形。亦即，如第2實施形態的測定裝置1 b，也可以 使用1個光學頭取得時機ta、tb，並且進行反應度的測定 。此時，測定裝置是形成排除本實施形態的光學頭8的構 成。亦即，該測定裝置，具備：對於檢體滴下後的免疫色 譜試片4 1照射測定光的發光元件（光照射部）9 1 ;檢測來自 根據測定光所照射免疫色譜試片41的螢光的光檢測元件（ 光檢測部）92 ;支撐免疫色譜試片4 1的載放板（試片支撐部 )1 1 ;使得載放板1 1與光檢測元件92在免疫色譜試片4 1 的檢體流動方向相對移動的驅動機構1 2 ;及控制驅動機構 1 2的控制部1 5。 並且，控制部1 5使得載放板1 1與光檢測元件92相 -44- 200848714 對移動以檢測來自免疫色譜試片41上的第1位置（帶狀區 域4 1 c)的螢光之後，使載放板1 1與光檢測元件92相對移 動以檢測來自第2位置（帶狀區域41d)的螢光，根據從光 檢測元件92的輸出訊號，取得第1位置（帶狀區域41c)的 螢光強度變化後到第2位置（帶狀區域41d)的螢光強度變 化爲止的經過時間。根據以上的構成，可適當檢測各位置 的螢光強度的變化，因此可得知檢體到達各位置後的時機 ta、tb ° 本發明不僅限於上述各實施形態及變形例。例如，光 照射部也可以使用雷射二極管等其他的半導體發光元件來 取代發光二極管。或者，光檢測部也可以使用光電晶體管 等其他的半導體受光元件或光電管及光電子倍增管等的真 空管型光感測器來取代矽光電二極管。 又，上述各實施形態中，分別將免疫色譜試片4 1的 第1位置設定在形成測試線TL的帶狀區域4 1 c，將免疫 色譜試片4 1的第2位置設定在形成控制線CL的帶狀區域 4 1 d。本發明的第1位置及第2位置不僅限於此，也可以 設定在免疫色譜試片上的任意位置。 又，上述實施形態中，針對呈色度與檢體流速的相關 性，雖如第16圖表示例示著時間（tb-ta)的長度越長吸光 度AB S i形成越大的相關性。但是兩者的相關性不僅限於 此，例如即使如時間（tb-ta)越長而吸光度 ABS!形成越小 的相關性時，根據本發明的測定裝置，以時間（tb-ta)校正 線TL及CL的反應度時，即可抑制反應度不均一所造成 -45- 200848714 的影響，精度良好地分析檢體中的抗原（或抗體）的量。 又，上述的各實施形態中，驅動機構移動試片支撐部 (載放板Π)而使得免疫色譜試片與光照射部相對移動，但 是也可以固定試片支撐部，驅動部移動光照射部可以使免 疫色譜試片與光照射部相對移動。或者，驅動機構也可以 移動試片支撐部及光照射部的雙方，使免疫色譜試片與光 照射部相對移動。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明所涉及免疫色譜試片之測定裝置 的第1實施形態的透視圖。 第2圖爲免疫色譜測試用具的上視圖。 第3圖爲沿著檢體移動方向的光學頭的側面剖視圖。 第4圖是表示光學頭及免疫色譜測試用具的透視圖。 第5圖是表示光學頭及免疫色譜測試用具的透視圖。 第6圖是沿著第5圖表示光學頭的VI - VI剖面的剖視圖 〇 第7圖是表示第1實施形態的測定裝置的動作流程圖 〇 第8圖是表示第1實施形態的測定裝置的動作流程圖 〇 第9圖爲說明第1實施形態的測定裝置之動作狀態用 的透視圖。 第1 0圖爲I兌明％ 1實施形態的測定裝置之動作狀態 -46- 200848714 用的透視圖。 第1 1圖爲說明第1實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第1 2圖爲說明第1實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第1 3圖爲槪念性表示第1位置的吸光度變化狀態的 圖表（a)，及槪念性表示第2位置的吸光度變化狀態的圖表 (b)。 第1 4圖是表示測定光的吸光曲線的一例圖。 第1 5圖是表示實施例結果的圖表。 第16圖是將實施例的吸光度與時間（tb-ta)圖示在座 標軸上的圖。 第1 7圖是表示本發明所涉及免疫色譜試片之測定裝 置的第2實施形態的透視圖。 第1 8圖是表不第2實施形態的測定裝置的動作流程 圖。 第1 9圖是表不第2實施形態的測定裝置的動作流程 圖。 第2 0圖爲說明第2實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 弟2 1圖爲說明弟2實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第2 2圖爲說明第2實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 -47- 200848714 第23圖爲說明第2實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第2 4圖是表示第1實施形態之變形例構成的透視圖 〇 第2 5圖是表示第1實施形態之其他變形例構成的的 透視圖。 第26圖是表示本發明所涉及免疫色譜試片之測定裝 置的第3實施形態的透視圖。 第2 7圖是表示第3實施形態的測定裝置的動作流程 圖。 第2 8圖是表示第3實施形態的測定裝置的動作流程 圖。 第29圖爲說明第3實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第3 0圖爲說明第3實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第3 1圖爲說明第3實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第3 2圖爲說明第3實施形態的測定裝置之動作狀態 用的透視圖。 第3 3圖爲槪念性表示第1位置的吸光度變化狀態的 圖表（a)，及槪念性表示第2位置的螢光強度變化狀態的圖 表（b)。 第3 4圖是表示螢光曲線的一例圖。 -48- 200848714 【主要元 1 a〜1 、1 2 ··驅 ，72 ， 81 ，92 :光 25 :樹脂 試片、4 1 C L :控制 件符號說明】 e :測定裝置、2，3，5〜9 :光學頭、1 1 :載放板 動機構、1 3〜1 5 :控制部、2 1，3 1，5 1，6 1，7 1 ，91:發光元件、22， 32， 52， 62， 73， 74， 82 檢測元件、23a :開孔、24a，33a :開縫、 構件、2 6 : P C基板、3 4 :透鏡、4 1 :免疫色譜 c，4 1 d :帶狀區域、42 :免疫色譜測試用具、 線、TL :測試線。 -49-

Claims (1)

1. 200848714 十、申請專利範圍 1 · 一種免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的一個或複數個光照 射部； 藉著對於上述免疫色譜試片上的第1位置之上述測定 光的照射，檢測從上述免疫色譜試片所獲得的光的第1光 檢測部； 藉著對於較上述免疫色譜試片上的上述第1位置下游 側的第2位置之上述測定光的照射來檢測從上述免疫色譜 試片所獲得的光的第2光檢測部；及 根據來自上述第1及第2光檢測部的輸出訊號，取得 上述第1位置的光學特性變化後到上述第2位置的光學特 性變化爲止的經過時間的控制部。 2·—種免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部； 檢測藉著上述測定光的照射從上述免疫色譜試片所獲 得的光的光檢測部； 支撐上述免疫色譜試片的試片支撐部； 在上述免疫色譜試片的檢體流動方向使上述試片支撐 部與上述光檢測部相對移動的驅動機構；及 控制上述驅動機構的控制部， 上述控制部使上述試片支撐部與上述光檢測部相對移 動以檢測來自上述免疫色譜試片上第1位置的光之後，使 上述試片支撐部與上述光檢測部相對移動以檢測來自較上 -50- 200848714 述第1位置下游側之第2位置的光’並根據來自上述光檢 測部的輸出訊號，取得上述第1位置的光學特性變化後到 上述第2位置的光學特性變化爲止的經過時間。 3 . —種免疫色譜試片之測定裝置’具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的一個或複數個光照 射部； 檢測藉著對於上述免疫色譜試片上的第1位置之上述 測定光照射而來自於上述免疫色譜試片的反射光的第1光 檢測部； 檢測藉著對於較前述免疫色譜試片上的第1位置下游 側的第2位置之上述測定光照射而來自於上述免疫色譜試 片的反射光的第2光檢測部；及 根據來自上述第1及第2光檢測部的輸出訊號，取得 上述第1位置的吸光度變化後到上述第2位置的吸光度變 化爲止的經過時間的控制部。 4.如申請專利範圍第3項記載的免疫色譜試片之測定 裝置，其中，具備： 第1及第2的上述光照射部， 上述第1光檢測部是檢測根據上述第1光照射部所照 射的上述反射光， 上述第2光檢測部是檢測根據上述第2光照射部所照 射的上述反射光。 5 .如申請專利範圍第4項記載的免疫色譜試片之測定 裝置，其中，具備： -51 - 200848714 一體組裝有上述第1光照射部及上述第1光檢測部的 第1光學頭，及 一體組裝有上述第2光照射部及上述第2光檢測部的 第2光學頭， 上述第1及上述第2光學頭之中的至少一方具有覆蓋 上述測定光及上述反射光的光路的構件。 6·如申請專利範圍第5項記載的免疫色譜試片之測定 裝置，其中，上述第1光學頭與上述第2光學頭的間隔爲 可變。 7 ·如申請專利範圍第4項記載的免疫色譜試片之測定 裝置，其中，具備一體組裝有上述第1與第2光照射部， 及上述第1及第2光檢測部的光學頭， 上述光學頭具有覆蓋上述測定光及上述反射光的光路 的構件。 8 ·如申請專利範圍第4項至第7項中任一項記載的免 疫色譜試片之測疋裝置，其中，在上述第1光照射部媳滅 後點亮上述第2光照射部。 9 .如申請專利範圍第3項至第8項中任一項記載的免 疫色譜試片之測定裝置，其中，上述免疫色譜試片具有產 生檢體與抗原抗體反應的帶狀區域， 上述控制部在上述第1位置的吸光度變化後經過較上 述經過時間長的預定時間之後，取得上述帶狀區域的吸光 度。 1 〇 ·如申請專利範圍第9項記載的免疫色譜試片之測 -52- 200848714 定裝置，其中，更具備： 支撐上述免疫色譜試片的試片支撐部’及 藉著上述控制部的控制，使上述第1及第2光照射部 的一方或雙方與上述試片支撐部朝著上述免疫色譜試片的 檢體流動方向相對移動的驅動機構， 上述控制部在上述預定時間經過之後，將上述第1或 第2光照射部的上述測定光朝著上述檢體流動方向掃描使 上述測定光的照射位置通過上述帶狀區域。 1 1 ·如申請專利範圍第1 0項記載的免疫色譜試片之測 定裝置，其中，上述控制部使上述第2位置的吸光度變化 之後熄滅上述第2光照射部，隨後再度點亮進行上述預定 時間經過後的掃描。 12.—種免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部； 檢測根據上述測定光的照射之來自上述免疫色譜試片 的反射光的光檢測部； 支撐上述免疫色譜試片的試片支撐部； 使上述試片支撐部與上述光檢測部在上述免疫色譜試 片的檢體流動方向相對移動的驅動機構；及 控制上述驅動機構的控制部， 上述控制部使上述試片支撐部與上述光檢測部相對移 動以檢測來自上述免疫色譜試片上的第1位置的前述反射 光之後，使上述試片支撐部與上述光檢測部相對移動以檢 測來自較上述第1位置下游側之第2位置的上述反射光， -53- 200848714 根據來自上述光檢測部的輸出訊號，取得上述第1位置的 吸光度變化後到上述第2位置的吸光度變化爲止的經過時 間。 1 3 .如申請專利範圍第1 2項記載的免疫色譜試片之測 定裝置，其中，具備一體組裝在上述光照射部及上述光檢 測部的光學頭， 上述驅動機構使上述試片支撐部與上述光學頭相對移 動。 1 4 .如申請專利範圍第1 2項或第1 3項記載的免疫色 譜試片之測定裝置，其中，上述免疫色譜試片具有產生檢 體與抗原抗體反應的帶狀區域， 上述控制部在上述第1位置的吸光度變化後經過較上 述經過時間長的預定時間之後，取得上述帶狀區域的吸光 度。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項記載的免疫色譜試片之測 定裝置，其中，上述控制部在上述預定時間經過之後，使 上述光照射部的上述測定光朝著上述檢體流動方向進行掃 描使上述測定光的照射位置通過上述帶狀區域。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項記載的免疫色譜試片之測 定裝置，其中，上述控制部在上述第2位置的吸光度變化 後使上述光照射部熄滅，隨後再度點亮進行上述預定時間 後的掃描。 17·如申請專利範圍第3項或第12項記載的免疫色譜 試片之測定裝置，其中，上述免疫色譜試片具有產生第1 -54- 200848714 抗原抗體反應的第1帶狀區域，及設置在較上述第1帶狀 區域下游側產生第2抗原抗體反應的第2帶狀區域， 上述第1位置位在上述第1帶狀區域內，上述第2位 置位在上述第2帶狀區域內。 1 8 · —種免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的一個或複數個光照 射部； 檢測對於上述免疫色譜試片上的第1位置之根據上述 測定光照射的來自上述免疫色譜試片的反射光或螢光的第 1光檢測部； 檢測對於上述免疫色譜試片上的較上述第1位置下游 側的第2位置的根據上述測定光照射之來自上述免疫色譜 試片的反射光或螢光的第2光檢測部；及 根據來自上述第1及第2光檢測部的輸出訊號，取得 上述第1位置的吸光度或螢光強度變化後到上述第2位置 的吸光度或螢光強度變化爲止的經過時間的控制部。 19.一種免疫色譜試片之測定裝置，具備： 將測定光照射在免疫色譜試片上的光照射部； 檢測根據上述測定光的照射的來自上述免疫色譜試片 的螢光的光檢測部； 支撐上述免疫色譜試片的試片支撐部； 使上述試片支撐部與上述光檢測部在上述免疫色譜試 片的檢體流動方向相對移動的驅動機構；及 控制上述驅動機構的控制部， -55- 200848714 上述控制部使上述試片支撐部與上述光檢測部相對移 動以檢測來自上述免疫色譜試片上的第1位置的上述螢光 之後，使上述試片支撐部與上述光檢測部相對移動以檢測 來自較上述第1位置下游側之上述第2位置的上述螢光， 根據來自上述光檢測部的輸出訊號，取得上述第1位置的 螢光強度變化後到上述第2位置的螢光強度變化爲止的經 過時間。 -56-