TW200819922A - Pattern writing apparatus, pattern writing system and pattern writing method - Google Patents

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200819922 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ' 本發明係關於一種利用光於基板上之感光材料描％圖 Ϋ 案之技術。 ° 【先前技術】 習知，藉由對形成於半導體基板或印刷基板、或者電漿 顯示裝置、液晶顯示裝置用之玻璃基板等（以下，稱為「= 板」）上之感光材料照射光，來進行圖案之描繪。 例如，於曰本專利特開2002_98824號公報中揭示有如 ::術·精由透過光罩對負型感光性樹脂層照射光而描绔 :案’於顯影步驟中錄非曝光部分，藉此形成液晶顯^ 衣置之感光性間隔物（photospacer)。又，於日本專 開2005-173037號公報中’液晶顯示裝置之配向控制用： =由光阻所形成。然而’於以曰本專利特開 大 號公報所述之方式轉印光㈣案之描时式中，料= 繪對象之基板增大，縣罩亦增大，因: 成本將增加。 衣直之W造 去因：曰不使用與基板同等大小之大型光罩之描緣方 形成有數個開口之比較小型的光罩= 上之感先_上照射脈衝光，—邊移動基板 脈衝光，藉此於感光材料上纟 、反覆Α射 讓-145745號公報中，m 1。於日本專利特開 Μ取砀欲日日顯不裝置之彩色 312XP/m^mmmm/96^l2/96131424 6 200819922 濾光片基板上之黑色矩陣圖案。 近年來，於製造液晶 ^ ^ m t 員不衣置用之彩色濾光片等時，右 k f用1片玻璃基板來萝#盤 〜夕㈣、 數片彩色濾光片基板（進行所 域設定於1片基板之主/面卜_㈣之數個描1 會區 表面上，猎此該數個描繪區域 圍區域即成為未描綠圖案之_ ^ W承 < 非抱繪區域（即，不可對 材料照射光之區域）。於曰太蜜 〜 “於日本專利特開2006-145745骑八 報之描緣裝置中，避開非#給 'ϋ Α 一 t閉非彳田繪區域而僅對描繪區域照射 光。 、 然而，於日本專利特開2006_145745號公報之描繪裝置 中，除負型感光材料以外亦對正型感光材料進行描繪^於 此情形時’透過具有與欲描敎圖案對應之遮光^的光 罩，對與描繪區域之圖案對應之部分以外的區域照射光。 此處，於對正型感光材料描繪圖案之情形時，必須對整個 未描繪圖案之非描繪區域照射光，然而於該描繪裝置中， •由於對負型感光材料亦照射光，故光照射區域僅限制於描 繪區域内，而難以對位於描繪區域外側之非描繪區域昭= 光。 …、、 【發明内容】 本發明之目的在於提供一種利用光於基板上之感光材 • 料上描繪圖案之圖案描繪裝置，以容易地對基板上之非描 繪區域照射光。 η 圖案描繪裝置具備：基板保持部’保持藉由在後續步驟 中部分地去除而使成為週期圖案之正型感光材料形成為 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 7 200819922 =之基板，第1光照射部’對上 有相互垂直之朝向第！方向及第 =上°又疋為具 •繪區域中、與上述圖荦對 肖之邊的長方形之描 #日4心* 部分以外照射光；以及第2 % 先a射口P ’其對上述感光材料上、 描繚區域昭射井· 1 ψ 'L田巧區域周圍之非 曰L L、射先，其中’上述第… 源；第1光罩部，根據上述 i j弟1先 1 . ^ ^ ^ 4圓茱之週期性，將來自上述第 1光源之光¥至如下區域， t , , ^ v 將上述4田繪區域於上述第 1方向上專为而成之數個分割區域之一與上 長度相等之第1照射區域十、盥 =庙 〇之 的區域，第1移動機構，相對於上述y f 4 方向相對地移動上述第"二=!域朝上述第1 或上述第1光罩部，而移動上述

第1 /、?、射£域，並且每當匕七十[楚1 Η77 ό丄广L 母田上述弟1照射區域分別與上述數 個分別區域關於上述第i方向一致時，透過上述第 :對j第、！照射區域照射光；且上述第2光照射部具 丄弟光源，弟2光罩部，將來自上述第2光源之光導 至第2照射區域’即’於上述感光材料上於上述第2方向 延伸亚且权截上述描綠區域及上述非描緣區域之區域第 2移動機構’相對於上述感光材料朝上述第i方向相對地 移動上述第2照射區域；以及第2控制部，於上述第2职 ，區域通過上述描繪區域及上述非描繪區域時，控制上^ 第2*光罩部而變更上述第2照射區域中遮播光照射之區 域，藉此使光僅照射上述非描繪區域。根據本發明，可容 易地對基板上之非描繪區域照射光。 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 8 200819922 較佳實施形態中，上述第2光罩部具備液 crystal shutter)，因此可容易地變更第 2方向上長度。 、：明之另一較佳實施形態中，於上述基板保持部 一’w代替形成有上述正型感光材料之上述基板，而保 錯由在後續步驟中部*地去除而使成為週期目案之負型 感光：料形成為層狀之基板，上述第i光照射部藉由變更

^述第1光罩部及/或上述第1控制部之控制，而使光僅 知、射：下區域，即，在上述感光材料上被設定為具有朝向 上述第1方向及上述第2方向之邊的長方形之描繪區域 i與/述圖案對應之部分。因此，可使圖案描緣裝置之 構造簡化，並且對負型及正型感光材料描繪圖案。更佳 為，上述基板為液晶顯示裝置用之彩色滤光片基板，且利 用上述負型之上述感光材料而形成於上述彩色濾光片基

於本發明之一 晶光閘（1 iquid 2照射區域之第 ，上之上述圖案為像素圖案。進而更佳為，上述基板為液 晶顯不裝置用之玻璃基板，且利用上述正型上述感光材料 而形成於上述玻璃基板上之上述圖案為用於液晶配向控 制之突起圖案。 &本發明H步另—實施形態中’於上述感光材料 上，包含上述描繪區域及與上述描繪區域相同形狀之描繪 區域的數個描繪區域，於上述第丨方向及/或上述第2方 向上相互間隔而排列’ ±述基板為根據上述數個描緣區域 而加以多倒角之預定基板，上述第丨光照射部對上述數個 描緣區域中與上述圖案對應部分以外之部分照射光，上述 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 9 200819922 外的非描繪區域照：光感上之上述數個财區域以 丨光源及/或上述第，光4弟：控制部藉由控制上述第 繪區域移動上述第〗照二並 ==二數:描 過上述第1光罩部而朝上弟1方向一致時，透 2照射區域於上㈣2方/^、射區域f射光，上述第 料，當上述第2照射區域通過上上光材 第2控制部對上述第2#先材㈣，精由上述 非描緣區域先罩部之控制，而使光僅照射上述 本發明之-個態樣係在利用光於 ，案之圖案描㈣統，於藉由在後續步驟== :而:么為週期圖案之正型感光材料形成為層狀之基板 為且.弟1光照射展置’對在上述感光材料上被設定 為具有相互垂直之朝向第1方向及第2方向之邊的長方形 之&输區域中、與上述圖料應之部分以外照射光；第2 光…射衣置，對上述感光材料上之上述描繪區域周圍之非 ％區域照射光；以及搬送機構，於上述第工光照射裝置 與上述第2光照射裝置之間搬送基板；其中，上述第^光 照射褒置具備：第1基板保持部，用以保持基板；第丄光 源；第1光罩部，根據上述圖案之週期性，將來自上述第 1光源之光導向如下區域，即，將上述描繪區域於上述第 1方向上等分而成之數個分割區域之一與上述第1方向+ 度相等的第1照射區域中、與上述圖案對應之部分以外的 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 ι〇 200819922 區域；第1移動機構’相對於上 :=!動上述第1照射區域;以及第i控制ί二: 弟1先源及/或上述第1光罩部，而移動上述第 1照射區域’並且每當上述第1照射區域分別與上述數個 分割區域關於上述第丨方向—致時，透過上述第^ Γ第述！= 區域照射光;且上述第2光照射裝= 備.弟2基板保持和用以保持基板；第2光源；第 罩部：將來自上述第2光源之光導至第2照射區域，即， 上述感光材料上於上述第2方向上延伸並 繪區域及上述非描㈣域之區域；第2移動機構，相^ 上述感光材料朝上述第1方向相對地移動上述第2昭射區 域；、以及第2控制部，於上述帛2照射區域通過上⑽讀 區域及上述非描緣區域時，藉由控制上述第2光罩部而變 更上述第2照射區域中遮擋光照射之區域，而使光僅照射 上述非描纟會區域。 • 本發明之目的亦在於提供一種利用光於基板上之 材料上描繪圖案之圖案描緣方法。 之4先 ’上述目的及其他目的、特徵、態樣及優點可參照隨附圖 式並由以下本發明之詳細說明而明瞭。 【實施方式】 圖1及圖2係表示本發明第〗實施形態之圖案描繪裝置 1之構成的側視圖及俯視圖。圖案描繪裝置〗係利用光於 液晶顯示裝置用之玻璃基板9(以下，簡稱為「基板9」） 上之感光材料上描繪圖案之裝置。 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 200819922 圖3係表示基板9之俯視圖。於基板9之主表面上，藉 由在後續步驟中部分地去除而使成為週期圖案之感光^ 料形成為層狀，於該感光材料上設定有具有相互垂直之朝 向圖3中之X方向及γ方向之邊的長方形之四個描緣區域 91(圖3中以平行斜線表示）。四個描繪區域9ι形狀相同， 且於感光材料上於X方向及γ方向上相互間隔而排列。 於基板9上之感光材料上，描繪區域91周圍之格子狀 區域（即’數個描繪區域91以外之區域）形成為不描繪（形 成）週期圖案之非描繪區域92。於以下說明中，將設定於 感光材料上之非描綠區域92中、覆蓋基板9之^向之 全長而設定之部分稱為「第！非描緣區域921」，將除此 以外之部分（即，於χ方向上與描綠區域91鄰接之部 ，為「第2非描㈣域922」。於圖3中，將第！非描緣 -域921及帛2非描纷區域922分別以二點鍵線來表示曰。 基板9係根據四個描緣區域91而加以多倒角之預定美 ::’由1片基板9獲得之4片基板成為經由後續步心 終形成為 _(_ti-d_in AHgnment = ^垂直配向）型液晶顯示襄置之組裝零件即彩色遽光片基 於圖案描緣裝置！中，藉由在形成於基板9上 (即，顯影時曝光部分殘留於基板上之類型）感光材料即 阻劑上照射光’可描繪形成於彩色濾光片基板上之^ =案（即’子像素之集合）。又，於圖案描緣裝置，夢 由在形成於基板9上之正型(即，顯影時僅非曝光部分； 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 u 200819922 留於基板上之類型）感光材料上照射光，亦可描繪形成於 彩色濾光片基板上之用於液晶配向控制之突起圖案（即， •突起之集合）。於基板9中，無論是對負型感光材料進行 1彳田纟會¥ ’抑或疋對正型感光材料進行描繪時，數個描繪區 域91於感光材料上均進行同樣設定。 所謂用於液晶配向控制之突起，係指於液晶顯示裝置 中，形成於彩色濾光片基板或TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體）基板之透明電極上而於施加電 壓時發揮使電場畸變作用之構造物。於液晶顯示裝置中， 利用該突起而使電場產生畸變，藉此使未施加電壓時呈垂 直配向之液晶分子於施加電壓時呈傾斜配向。藉此，可實 現具有廣視角之液晶顯示裝置。 ' 如圖1及圖2所示，圖案描繪裝置丨具備：平臺3，用 作保持基板9之基板保持部；平臺驅動機構2，設置於基 座11上，使平堂3移動及旋轉；框架12及框架13，以 •跨越平臺3及平臺驅動機構2之方式固定於基座u上； 第1光照射部4，安裝於框架12上，對基板9上之感光 材料上之數個描繪區域91(參照圖3)照射光；第2光照射 部5,安裝於框架13上，對基板9上之感光材料上:非 描繪區域92(參照圖3)照射光；以及攝像部6，用以拍攝 .平臺3上之基板9。於平臺3上，保持主表面上形成有正 .型感光材料之基板，又，亦可代替該基板而保持形成 型感光材料之基板。 又’圖案描繪裝置i具備控制該等構成之控制部。圖4 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96B1424 200819922 係連同其他構成—/if主一 堍ra 7 表不由該控制部7實現之功能之方 塊圖。控制部7蛊诵赉 ΡΑΜ ΡΠΜ η + ^吊之龟腦同樣地，形成連接有CPU、 RAM、ROM、固定禅η、粗一上 干，頒不邛及輸入部之構成，如圖4所 不’具備控制弟1杏昭紅. 〇 . ^ 先〜射邛4之弟1控制部71、以及控 制弟2光照射部5之楚〇 ^ ^ 之弟2控制部72。於圖案描繪裝置1 中，平堂驅動機構2、第】氺日々M立 外

及攝像部6由控制部7:二弟2光照射部5 傳送至控制部7。 私制。又，來自攝像部6之輸出 如圖1及圖2所示’平臺驅動機構2具備：支撐板2ι， 可旋轉二支撐平臺3;平臺旋轉機構22,於支撐板以上 以與平堂3之主表面垂直之平臺旋轉軸221為中心使平臺 3旋轉；副掃描機構23，連同支撐板21 —併於圖2中之 :方向(以下’稱為「副掃描方向」）上移動平臺3 ;底板 ，隔著副掃描機構23而將支撐板21支撐；以及主掃描 機構25，連同支撐板21及底板24 —併於圖2中之γ方 向（以下’稱為「主掃描方向」）上移動平臺3。 、平臺旋轉機構22具備設置於平臺3之（_γ)側之線性馬 達222，線性馬達222具備固定於平臺3之（_γ)侧之側面 的移動元件、以及設置於支撐板21之上表面之固定元 件於平室彡疋轉機構22中，線性馬達222之移動元件沿 著固定元件之槽而於X方向上移動，藉此平臺3以設置^ 支撐板21上之平臺旋轉軸221為中心、，於規定角度範圍 内旋轉。 副掃描機構23具備：線性馬達231，於支撐板21之下 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 14 200819922 側（即’⑼侧），於與平臺3之主表面平行且與主 向垂直之副掃描方向上延伸；以及―對導軌咖，= 馬達231之（+Y)侧及（_γ)側於副掃描方向上延伸。n焉 達如具備固定於支撐板21之下表面之移動元件:^ 設置於歧24之上表面之固定元件，該移動元件沿著固 定元件而於副掃描方向上移動，藉此，支撐板21與平臺 3 -同沿著線性馬達231及導軌232於副掃描 移動。 口上直、暴

主掃描機構25具備··線性馬達251，於底板以之下側， 於與平臺3之主表面平行之轉描方向上延伸；以及一對 ^轨252 ’於線性馬達251之⑻側及⑼側於主掃描方 向上延伸。線性馬達251具備固定於底板24之下表面之 f動元件、以及設置於基座η之上表面之固定元件，藉 由，元件沿著固定元件於主掃描方向上移動，使得底 如圖2所示’第u照射部4具備沿著副掃描方向以相 :、間距（於本實施形態中為200 mm之間距）排列並安裝於 ^ 12中之數個光學頭41。又’如圖i所示，第i光照 ^部4具備連接於各光學頭41之照明光學系統“、以及 乍^光源之雷射振盪器43及雷射驅動部44。於第i光照 =°卩4中，藉由驅動各雷射驅動部44，而自雷射振盪器 杏2出脈衝光（以下，簡稱為「光」），並將其透過照明 光學系統42而導向各光學頭41。 、=4與支撐板21及平臺3—起沿著作為移動軸之線性馬 達251及導執252於主掃描方向上直線移動。 2XP/發明 _月書(補件)/96·12/96131424 15 200819922 各光學頭41具備：射出部45，使來自雷射振盪器43 之光朝向下方射出；孔徑單元46，部分地遮擋來自射出 部45之光；以及光學系統47，將通過孔徑單元46之光 導入至设置於基板9上之感光材料上。於圖案描繪装置1 中，於描繪彩色濾光片基板之像素圖案之情況及描繪用於 液晶配向控制之突起圖案之情況時，於各光學頭41中， 變更孔徑單元46之孔徑。以下，首先就描繪像素圖案時 之光孚頭41之構成進行說明，其後，就描繪突起圖案時 之光學頭41之構成進行說明。 圖5係表示孔徑單元46之一部分之俯視圖。如圖5所 不，孔徑單元46具備：第1孔徑板461，具有數個長方 形狀透光部；一對保持部462，自（+χ)侧及（_χ)侧保持第 1孔徑板461 ;以及位置調整機構463，

拟之主掃描方向及副掃描方向之位置。於第】孔徑二 中，不同尺寸之3種透光部4611、4612、4613分別沿著 副掃描方向（即，X方向）以相等間距排列有數個。於本告 施形態中’透光部4611之間距、透光部4612之間距、二 透光部4613之間距互不相同。於圖5中，為了易於理解， 對第1孔徑板461之除透光部4611〜4613以外之區域 (即’遮光部）附加平行斜線。 一位置調整機構463具備：第！調整機構偏，使第^ 徑板461與-對保持部462 一同於主掃描方向上移動；一 對導執465,於第！調整機構464之下侧於副掃描方向上 延伸；以及第2調整機構’使第！孔徑板461與保持 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 16 200819922 邛462及第1調整機構464 —同沿著導軌465於副掃描方 向上移動。於本實施形態中，第1調整機構464及第2調 整機構466，係利用線性馬達。 田圖6係表示與孔徑單元46之圖5所示部分於光學上重 且之/、他σ卩分的俯視圖。如圖6所示，孔徑單元4 6更具 備：第2孔徑板467，具有數個長方形狀之透光部；一對 保持4 468 ’自（+γ)侧及（—γ)侧保持第2孔徑板‘π ;以

j第3調整機構469，使第2孔徑板467與一對保持部 一同於副掃描方向上移動。於本實施形態中，第3調整機 構469，係利用線性馬達。 f 2孔徑板467、保持部468及第3調整機構469配置 於第1孔徑板46；1、保持部462(參照圖3)及位置調整機 構463之上方，固疋於位置調整機構Mg之第1調整 似上。帛！孔徑板術與第2孔徑板樹配置 共輛之位置。於第2孔徑板樹中，分別對應於第工孔^ 板461之數個透光部4611〜4613之尺寸不同的3種透光 部4671、4672、4673係分別沿著副掃描方向（即，χ方向） 而以相等間距排列有數個。於圖6 +，為了圖式易於理 解，利用虛線來描繪位置調整機構463及第丨孔徑板 之透光部刪〜4613。又，對第2孔徑板術之工除透光 部4671〜4673以外之區域附加平行斜線來表示。 如圖 所示，當自雷射振盪器43透過射出部45(表昭 圖1)而射出之光的照射區域451(圖6 +，以二點鍵線來 表示）中配置有第2孔徑板467之透光部4673以及盥透光 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 17 200819922 部4673部分重疊之第1孔徑板461的透光部4613時，來 自射出部45之光僅通過透光部4673與透光部4613重疊 之區域（以下，稱為「光罩設定透光部」），並透過光學系 統47 (芩照圖1 )，如圖7所示，導入至基板9上之數個長 方形狀之照射區域931。於以下說明中，將數個照射區域 9 31統稱為「照射區域9 3」。

―於圖案描繪裝置1中，藉由調整第2孔則反467相對於 第1孔徑板461在副掃描方向的相對位置，來變更導入至 基板9上之光的副掃描方向之寬度（即，數個照射區域咖 各自之寬度）°又’藉由在主掃描方向上移動第丨孔徑板 及第2孔徑板467，且於來自射出部仏之光之照射區 域451中配置透光部46n、4671或透光部4612、術2， 來變更基板9之照射區域931之大小或間距等。

於圖1所示之圖案騎裝置i中，利用圖4所示之控制 部7之第1控制部71控制平臺驅動機構2及第i光昭射 部4,而使基板9與平臺3 一同於⑼方向上移動，並且 對移動中之基板9之數個描繪區域91(參照圖_射光。 換言之，於基板9之數個描繪區域91上，—邊相對 板9上之感光材料於（—γ)太& 土 pq •方向上相對地移動照射區域 戈93照射光。1^ ^ 案。 、主知描方向平行延伸之條紋狀圖 次移動結束，則於停止光 3 一同於副掃描方向上僅 當平臺3朝向主掃描方向之一 照射之狀態下，使基板9與平臺 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 18 200819922 定^離（於本實施形態中，4 50職），其後一邊於 9、，-二，描相反之方向（即’（_Υ)方向）上移動基板 . 、恥射區域93照射光。於本實施形態中，以於夂 主掃夹隔副掃描之方式進行4次主掃描，藉此於基： 之感光材料上之數個描㈣域91上，僅對與像素圖案 對應之部分照射光而描緣像素圖案，而於後續步驟中實施 顯影處理，藉此將感光材料之非曝光部分自基板上去除而 修形成彩色濾光片基板之數個子像素。 其次’就描繪用於液晶配向控制之突㈣案時之各光學 碩41之構成加以說明。於描緣突起圖案時，第^光照射 部=之各光學頭41中’拆下圖5及圖6所示孔徑單元、铛 2 1孔徑板461及第2孔徑板467,並如圖8所示，於 安裝有第1孔徑板461之保持部462上安裝第3孔徑板 461a。再者，於此情形時，保持部468(參照 裝孔徑。 ♦如圖8所示，第3孔徑板461a具有與—部分突起圖案 對應之數個圓形遮光部4614，遮光部4614以外之區域成 為用以透光之透光部。於第3孔徑板461a中，遮光部4614 於主掃描方向（即，Y方向）上排列成2行，於各行中，多 個遮光部4614沿著副掃描方向（即，χ方向）以相等間距 .而排列。於圖8中’為了圖式易於理解，對遮光部4614 附以平行斜線而表示。再者，於圖8中，為了便於圖示， 將遮光部4614之間距增大且所描繪之個數少於實際個 數0 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 19 200819922 中自雷射振盪器43透過射出部45(參 T圖υ而射出之光照射至第3孔徑板她 孔徑板461a而對該光加以部分遮擋3 部45之光自描緣區域91上於 ^ ^自射出 2射£域，導人至除對應於突起圖案之部分以外之區 荦”:、二一個_域91之-部分之俯視圖。於圖 荼細繪裝置1中，利用篦1M o^ 先a射邛4之數個光學頭41， 於副掃描方向上以相 於本實施形態μ刚域上^ 於=兒= 射區域941之副掃描方向之長度設為5〇咖。 =於圖9中，對照射區域94中之非曝光區域加以塗里 而表不’又，以細線圓來表示與描 ： rr部分911。再者，於圖9中，為便於圖= 、、曰之圓形部分911之個數少於實際個數。 如圖9所不’照射區域94之主掃描方 =咖圖案之週期性而對描繪區域91=) 形，分割區物圖9中利用二點鍵： 末表”不）之一個分割區域之主掃描方向之長度相等。於第 日部4中’利用數個光學頭41之第3孔徑板461a(參 j 8)’而將來自射出部45之光導 與突起圖案對應之部分以外的區域。 中除 πχρ/發明說明書(補件)/96_12/96131424 20 200819922 ，圖1所示之圖案描繪裝置1中，利用控制部7之第i 控制部71來控制平臺驅動機構2、以及作為第上光昭射 部4之光源的雷射振盈器43及雷射驅動部44，藉此，基 Γ= 臺Γ同於(+γ)方向上移動’且對移”之基： 的數個“區域91間歇性地照射光。具體而言，於基 板9之感光材料上’相對於描綠區域91於主掃描方向二 相對地連續移動照射區域94，並且每當照射區域％分別 與數個分割區域912關於主掃描方向一致時（即，每 個照射區域941之（-Υ)侧邊緣與一個分割區域912之(田一γ) 側邊緣重疊時），透過孔徑單元46之第3孔徑板4仏而 對照射區域94瞬間照射光。藉此，可於各描繪區域91中， 使感光材料上除數個圓形部分911以外之區域曝光。再 者’於圖案描繪裝置1中，亦可每當照射區域94盥分苟 區域912關於主掃摇方向一致時，停止基板9之移動，並 對停止過程中之基板9照射光。 於圖案描輕置1中，與錢像素圖案時同樣地，以於 各主掃描間插入副掃描之方式進行4次主掃描，藉此於基 板9之感光材料上之數個描繪區域91上，僅對突起圖^ 以外之部分照射光來描繪突起圖案’而藉由在後續步驟中、 實施顯影處理，將感光材料之曝光部分自基板上去除而形 成大致圓柱狀（例如，圓錐台狀）之用於液晶配向控制之^ 起。 尺 其次，說明第2光照射部5。如圖！及圖2所示，第2 光照射部5具備作為光源之高M水銀燈（以下，簡稱為「水 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 21 200819922 銀燈」）51、以及部分地遮擋來自水銀燈51之光的孔徑單 兀52，又，如圖1所示，具備將通過孔徑單元52之光導 .向被設置於基板9上之感光材料上之光學系统53。於圖 _案描繪裝置1中，當描繪上述突起圖案時，自第2光照射 部5對形成於基板上之正型感光材料照射光。 圖10A係表示孔徑單元52之俯視圖。如圖1〇A所示， 孔徑單兀52具備：第4孔徑板521，具有於副掃描方向 鲁上延伸之細長方形之開口 5211; 一對保持部522，自（+χ) 側及（-Χ)侧保持第4孔徑板521 ;位置調整機構523，調 整第4孔徑板521之主掃描方向及副掃描方向之位置；遮 光板524，配置於第4孔徑板521之上方；一對保持部 525,自（+Χ)侧及（-Χ)側保持遮光板524;以及遮光板移 動機構526，使遮光板524與一對保持部525 一同於主掃 描方向上移動。 位置調整機構523與圖5所示之位置調整機構463大小 ⑩不同，但構造相同，其具備：第4調整機構527，使第4 孔徑板521與一對保持部522 一同於主掃描方向上移動； 一對導執528 ’在第4調整機構527之下侧於副掃描方向 上延伸；以及第5調整機構529，使第4孔徑板521與保 持部522及第4調整機構527 —同沿著導轨528於副掃描 • 方向上移動。於本實施形態中，作為第4調整機構527及 • 第5調整機構529、以及遮光板移動機構526，係利用線 性馬達。遮光板移動機構526固定於位置調整機構523之 第4調整機構527上。於圖10Α中，為了圖式易於理解， 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 22 200819922 對第4孔徑板521之除開口 5211以外之區域（即，遮 以及遮光板524附加平行斜線而表示。 … 遮光板524具備：本體部…卜可藉由保持部奶而 保持兩侧之邊緣；以及兩個突出部52 =突二兩個突―為長方形板 :== 孔徑單元52，’藉由遮光板移動機 構526於（-Υ)側移動遮光板524，而如圖⑽所示 ^彳之突出部洲與第彳孔徑板切之開口奶 重豐。 1刀 如圖10Α所示，於遮光板524之突出部5242盥 之開口 52U未重疊之狀態下，水銀燈= 圖1)所射出之光通過開口 52U，而如圖11Α所示，導至 基板9上於副掃描方向上延伸之長方形狀之一個照射區 :95。照射區域95之副掃描方向之長度與基板&副； “方向之長度（即’第1非描繪區域921之副掃描方向之 長度）相等，照射區域95於副掃描方向上橫截感光材料上 之兩個描繪區域91及非描繪區域92。 又，如圖10Β所示，於遮光板524之突出部5242與第 4孔徑板521之開口 5211重疊之狀態下，自水銀燈51、所 射出之光通過開口 5211中未與突出部5242重疊之部分， 而如圖11Β所示，導至基板9上於副掃描方向上排列之長 方形狀之三個照射區域95a。三個照射區域95a之副掃^ 方向之長度分別與所對應之第2非描繪區域922的副掃2 方向之長度相等。 田 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 23 200819922 部7之第2 ϋΓ案描緣裝置1中，利用圖4所示之控制 邱5而祛/ ”2控制平臺驅動機構2及第2光照射 仆而使基板9與平臺卜㈣⑻方向上移動，並對 :動中之基，9之非描緣區域92照射光。具體而言，當 土板9上之第！非描繪區域921(即，非描 蓋基板9之副掃描方向全長而設定之部分)通過; 之下方時’如圖⑽所示’形成遮光板524之突出' =242未與第4孔捏板521之開口 5211重疊之狀態而 對覆蓋基板9之副掃描方向之全長的照射 &域9 5照射光。 二’：二板9上之第2非描繪區域922(即，非描繪區 =中除弟i非描繪區域921以外之部分）及描繪區域 广匕弟2光照射部5之下方時，如圖10B所示，形成 反，之突出部_與第4孔徑板521之開口 5211 主之狀L 1¾如圖丨1B所示’對於副掃描方向上排列之 二=照射區域95a照射光。換言之，當照射區域95通過 :、'區二91及_區域92時，藉由第2控制部72控 二孔仅單tl 52 ’變更照射區域95中遮擔照射光之區域， 猎此使光僅知射於感光材料上之非描缘區域92。 ^處，若將第/光照射部4之孔徑單元46設為第^ ^ ’又’將弟2光照射部5之孔徑單元52設為第2光 ^甘則轉描機構25兼作第1移動機構及第2移動機 古’、中該第1移動機構相對於描缘區域91而朝主掃描 «相對地和動第1光罩部之第i照射區域即照射區域 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 24 200819922 94,該第2移動機構相對 地移動第2光罩部之第=先「材料而朝主掃描方向相對 又，第丨光照射部4:夂2 = σ无予碩41之雷射振盡哭及帝 射驅動部44成為朝向第 田㈣盈-43及田 2光照射部5之水二5 =射出光之第1光源，第 第2光源。 51成為朝向第2光罩部射出光之 明其會裝置1描㈣素圖案之流程加以說 二素圖案之流程圖。於描緣像素圖案時， 即’數個描繪區域91及格子狀非描 、“域92)上塗佈有負型感光材料之基板9載置於平臺3 上，、且吸附並保持於平臺3之主表面上（步驟311)Γ :、、'後矛!1用拴制。(5 7控制攝像部6之四個對準相機 (a igmnent camera)61(參照圖丨及圖 2)， 9上之四個角部附近之對準標記（省略圖示）進行拍攝1 且’利用控制部7’根據來自攝像部6之輸出 驅動機構2’藉此使平臺3於主掃描方向及副掃描方：： 移動亚且以平臺旋轉軸221為中心旋轉。藉此，基板9位 於描緣開始位置（步驟S12 )。 若基板9之對準結束，則利用控制部7之第！控制 71控制第1光照射部4,開始光之照射，且利用孔徑單°一 46部分地遮擋該光，藉此將光導向基板9上之 上與光罩設定透光部對應之照射區域93(㈣如)先材枓 其次，利用控制部7控制平臺驅動機構2，使平臺3開 始向（+Y)方向移動（步驟S14)，照射區域93於（_〇方= 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 25 200819922 t相對於感光材料相對地進行主掃描，藉此將條紋狀圖案 心繪於基板9上之感光材料上。而且，當照射區域⑽之 .主掃描到達規定之移動結束位置（即，（_γ)侧描!會區域91 *之（-Υ)側邊緣）時，停止平臺3及基板9之移動（步驟 S15)並停止光之照射（步驟S16)。再者，於圖案描繪裝 置1中，當位於（+γ)側描繪區域91與（_¥)側描繪區域Μ 之間的第2非描綠區g 922通過第】光照射部4之下方 鲁枯暫止來自第1光照射部4之光的照射。 當對基板9上之感光材料的第1次主掃描結束時，確切 是否繼續對基板9描!會圖案（即，有無下一主掃描）（步: S17)。當存在下一掃描時，利用副掃描機構23使基板9 朝副掃描方向移動（步驟S171)，並回到步驟S13，開始朝 基板9照射光，以及使平臺3朝（_γ)方向移動（步驟gig、 S14)。然後，於（-γ)側之移動結束位置，使平臺3之移動 及光之照射停止（步驟S15、S16)。 •=圖案描繪裝置1中，一邊向基板9照射光一邊進行之 平臺3朝主掃描方向之移動（即，對於基板9上之感光材 料的肊射區域93之主掃描），以於各主掃描間夾隔平臺3 朝副掃描方向移動之方式而僅重複規定次數（於本實=形 態中為4次）（步驟S13〜S17、S171)。然後，當於基板9 上之感光材料上描繪整個條紋狀像素圖案（步驟S17)時， •結束圖案描繪裝置1之描繪動作。於描繪有像素圖案之基 板9中，藉由在後續步驟中實施顯影處理，自基板二去^ 感光材料之非曝光部分而形成數個子像素。上述處理針對 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 26 200819922 子像素之各色重複進行，而形成RGB(Red Green Blue， 紅綠藍）3色之彩色阻劑圖案。 • 其次’就利用圖案描繪裝置1描繪突起圖案之流程加以 ^ σ兒明。圖13A及圖13B係描繪突起圖案之流程圖。於圖案 描繪裝置1中，如圖13A所示，對基板上之正型感光材料 妝射來自第1光照射部4之光後，如圖13B所示，照射來 自第2光照射部5之光。 ⑩絡T描繪突起圖案時，首先，將整個主表面（即，數個描 繪區域91及格子狀非描繪區域92)上塗佈有正型感光材 料之基板9保持於平臺3上之後，與上述步驟S12同樣 和用平臺驅動機構2朝描緣開始位置移動（步驟S21、 S22)。於圖案描繪裝置i中，於第】光照射部4之孔徑單 元46中，將第1孔徑板461及第2孔徑板預先變更 為弟3孔控板4 61 a。 若基板9之對準結束，則藉由控制部7之第1控制部 • γ控制主掃描機構25，於未自第i光照射部4之雷射振 盪器43照射光之狀態（即，熄滅狀態）下，使基板=開始 朝⑻方向移動’使照射區域94相對於描繪區域91朝 方向相對地移動（步驟S23)。 然後，當照射區域94與分割區域912關於主掃描方向 一致時’利用帛1控制部71來控制第1光照射部4田之二 射驅動部44’自雷射振盪器43瞬間射出光，並】 兀46部分地遮播該光，藉此，於位於感光材料工 之兩個描繪區域91之各個區域 入（即，照射） 312XP/發明說明書(補件)/96·】2/96! 3】424 27 200819922 側之分割區域912上之照射區域％(即， 如ΓΙ區血域912關於主掃描方向一致之數個照射區域 丄用突：圖案對應之部分以外之部分(步驟洲。 制部7’確認光照射結束之分割區域912 = (-Y)侧疋否存在未照射之分割區域91 =區：9_叫當存在下一分割區域9;;下時， 驟:用=機構25繼續移動基板9之狀態下返回至步 照射_與下一分割區域912關於主掃 ==-致1透過孔徑單元46之第3孔徑板如 =域94中除與突起圖案對應之部分以外照射光（步驟 當照射區域94之主掃㈣達規定之移動 二射光時(即，當位於感光材料之⑼侧之兩個描： 或91之各個區域上，朝位於最靠⑼侧之分割區域犯 之先照射結束時），停止平臺3及基板9之移動（步驟奶、 2對基板9上之感光材料之第1次主掃描結束時，確認 疋否㈣對基板9描_案（即，有無下— Γ)。當存在下-婦描之情形時，利用副掃描機= 土板9朝副知描方向移動（步驟S271)，並返回至步驟犯3 :基板9開始朝(_Y)方向移動，直至照射區域94之 “到達（+Y)側移動結束位置而結束平臺3朝主掃描方向 =移動為止，每當照射區域94與分割區域912關於主掃 “方向一致時，對照射區域94中除與突起圖案對應之部 312XP/胃明說明書(補件)/96·12/96131424 28 200819922 分以外照射光（步驟S23〜S26)。 於圖案描緣裝置j中一、蠢、 •瞬間性的光-邊進行之孚一基板9重複照射間歇性且 .對基板9上之感先二::二掃描方向之移動(即， 主掃描間夾隔平，以於各 複規定次數（於本實施4 之==2僅7重 S271)。然後，當於基板9上 卜 •起圖㈣（步驟㈣上料完整個突 #列描緣動作。 ^束仙弟1光照射部4之-系 當立第1光照射部4之描緣結束時，利用控制部7之第2 控制邓72來控制平臺驅動機 射部5之描_置移動動：二= 嬰^ ^ , 籾％ S3D。於該描繪開始位 第之非描綠區域92之(+γ)側之邊緣位於 H。此時’於第2光照射部5之孔徑 儿 形成遮光板524之突出部5242與第4孔徑板 φ 52丨之開口 5211未重疊之狀態（參照圖i〇a)。 然後，利用第2控制部72控制第2光照射部5而開如 照射光，並利用孔徑單元52之第4孔徑板52ι來部分^ 遮擋該光’藉此於感光材料上之最靠⑽側之第i非描绔 區域921上，將光導至對應於開口 5211且於副掃描方^ 上延伸之長方形狀之一個照射區域95(步驟S32)。昭射區 .域95於基板9上覆蓋第1非描繪區域921之副掃描'方: 之全長。 其次，利用第2控制部72控制主掃描機構25而使平臺 312χΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 29 200819922 3,開始向（ + Y)方向移動（步驟卿，照射區域95相對於感 =材料，（-Y)方向上相對地進行主掃描。然後，於感光材 .;斗上之最靠（+Y)侧之第1非描繪區域921上於（_γ)方向上 .相對地移動之照射區域95,若到達該第！非描緣區域921 與鄰接於第1非描綠區域921之（_γ)側之第2非描綠區域 ”2之間的邊界(即’若照射區域95之(_γ)侧之邊緣與該 f 1非描綠區域921之（-Υ)侧的邊緣重疊），則於第2光 籲照射部5之孔徑單元52中，利用帛2控制部72來控制遮 光板移動機構526，使遮光板524朝（-Y)方向移動，而使 遮光板524之突出部5242與第4孔徑板521之開口 “η 部分地重疊（參照圖10B)。藉此，變更來自水銀燈Η之 光的照射區域中遮播光照射之區域，將於基板9上之感光 f料上於（-Y)方向上相對移動之照射區域，自形狀對應於 第1非描緣區域921之照射區域95變更為形狀對應於第 2非描繪區域922之三個照射區域95a(參照圖11B)。 .三個照射區域95a於感光材料上之（+γ)侧之第2非描繪 區域922上，於（-γ)方向上相對地移動。而且，若照射區 域95a到達該第2非描繪區域922與鄰接於第2非描繪區 域922之（_Y)侧之第丨非描繪區域921之間的邊界（即， 若各照射區域95a之（-Υ)側之邊緣與第2非描繪區域犯2 之（-Y)侧的邊緣重疊），則於第2光照射部5之孔徑單元 .52中’利用第2控制部72來控制遮光板移動機構工526， 使遮光板524向（+Y)方向移動，而使遮光板524之突出部 5242自第4孔徑板521之開口 5211上退避（參照圖1〇A)。 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 200819922 精此’變更來自水銀燈51之光照射區域中遮擋光照射之 ^域’使照射區域之形狀自三個照射區域❿變更為對應 :開口 5211之一個照射區域95(參照圖丄1 a)。 ’於圖案犏I冒裝置i中，繼續一邊對感光材料照射光一邊 進行照射區域（即，照射區域95或照射區域心）之主掃 七田’直至平臺3到達規定移動結束位置為止，每當照射區 域到，第^非描綠區域921與第2非描繪區域㈣之間的 鲁邊界時，變更照射區域中遮擔光照射之區域，切換照射區 域95與照射區域95a(步驟S34)。藉此，於基板9上之感 光=料上二僅對非描繪區域92照射來自水銀燈51之光。 '、、、而藉由如射區域95、95a之主掃描，對整個非描繪 區域92照射光’當基板9到達移動結束位置時，停止平 至3及基板9朝主掃描方向之移動（步驟S35)，並停止光 之照射（步驟S36)。如此，於感光材料上除與突起圖案對 應之部分以外之整體已照射光之基板9中，藉由在後續步 ♦驟中實施顯影處理，自基板上去除感光材料之曝光部分而 形成用於液晶配向控制之數個突起。 如以上所述，於圖案描繪裝置〗中，對基板9上之正型 f光材料描繪突起圖㈣，藉由利用第！控制部71㈣ 第1光照射部4，而使描緣區域91之數個分割區域912 之-個分割區域與主掃描方向之長度相等之照射區域Μ 於主掃描方向上相對地移動，並且每當照射區域94與分 割區域912 —致時，對照射區域94照射瞬間的光。藉/此二 當對大型基板9描繪突起圖案時，亦可不使用與基板9同 312Xp/發明說明書(補件)/96-12/96131424 31 200819922 等大小之大型光罩，而容易地對描繪區域91描繪突起圖 案。 •木又，藉由利用第2控制部72控制第2光照射部5,每 ,备來自水銀燈51之光的照射區域到達第1非描繪區域921 與第2非描繪區域922之間的邊界時，變更該照射區域中 ^擋光照射之區域，切換照射區域95與照射區域95a。 藉此，於感光材料上，可不對描繪區域9丨照射光（即，不 _會對描繪區域91造成影響），而容易地僅對形狀隨著主掃 描方向位置而變化之非描繪區域92照射光。因此，可謂 圖案杬繪裝置1尤其適用於對基板整體必然大型化並且 非柄區域形狀複雜之經多倒角乏基板的圖案描繪。 近年來，由於液晶顯示裝置之尺寸大型化，故可不使用 大型光罩而容易地描繪圖案之圖案描繪裝置丨，尤其適用 於對液晶顯示裝置用之玻璃基板描繪圖案。又，由於可容 易地僅對非描繪區域92照射光，故尤其適用於利用正型 _感光材料而形成之用於液晶配向控制之突起圖案的描繪。 於圖案描繪裝置1中，對基板9上之負型感光材料描繪 像素圖案時，利用用以描繪突起圖案之第1光照射部4， 僅對描繪區域91中與像素圖案對應之部分照射光。藉 此’可一邊使圖案描繪裝置1之構造簡化，一邊對負型及 正型感光材料描繪圖案。 • 通常，於液晶顯示裝置用之彩色濾光片基板中，在利用 正型感光材料形成用於液晶配向控制之突起圖案之前，先 利用負型感光材料形成像素圖案或黑色矩陣（black 312xp/發明說明書(補件)/96-12/96131424 32 200819922 ^ 對貞型及正型感光材料之描繪可藉由簡單之 2進行，故尤其適用於對液晶顯示裝W之彩色渡 基板的像素圖案等描繪。

二人」兒明本發明之第2實施形態之圖案描綠裝置。第 2貝加形恶之圖案描緣裝置代替圖i所示圖案描繪褒置1 之第一2光照射部5之孔徑單元52,而具備圖14A中俯視 圖所不之孔徑單兀52a。其他構成均與圖i所示圖案描纷 裝置上才目同，故於以下說明中附加相同符號。

於第2貫施形態之圖案描綠裝£中，亦與第工實施形態 同k地’ m於作為液晶顯示裝置用之彩色濾光片基板 之基板9(參照目1)上的正型感光材料，描緣用於液晶配 向控制之突起圖案，並利用第2光照射部5僅對感光材料 上之非描繪區域92(參照圖3)照射光。利用第2實施形態 之圖案描繪裝置之第2光照射部5朝非描繪區域92之光 的照射，除了切換照射區域95與照射區域95a(參照圖11A 及圖11B)之方法呈現不同以外，其餘與第i實施形態相 同0 如圖14A所示，孔徑單元52a代替圖i〇A所示之孔徑單 元52之第4孔徑板521及遮光板524，而具備多通道液 曰曰光閘5 21 a ’其猎由對液晶分子施加或去除電場，而使 液晶分子之排列產生變化，藉此來透光或遮光。又，孔徑 單元52a與圖10A所示孔徑單元52同樣地，具備：一對 保持部522,自（+X)侧及（-X)側保持液晶光閘521a;以及 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 33 200819922 位置調整機構523，調整液晶光閘521a之主掃描方向及 副掃描方向之位置。 . 液晶光閘52h具有於副掃描方向上延伸之細長方形狀 *之透光部5212，將來自水銀燈51 (參照圖1)之光透過該 透光部5212，經由光學系統53(;參照圖丨）導至基板9上 之感光材料，而照射至第i非描繪區域921上之一個昭射 區域95(參照圖11A)。於圖14A中，為了圖式易於理解， 鲁對液晶光閘521a之除透光部5212以外之區域（即，遮光 部）附以平行斜線來表示（圖14B中亦同）。 於第2光照射部5中，藉由利用控制部7之第2控制部 72(芩照圖4)控制液晶光閘521a，而使透光部5212之液 晶分子之排列方向發生變化，並對一部分透光部5212或 者整個透光部5212遮擋光。於第2實施形態之圖案描繪 裝，中，對第2非描繪區域922(參照圖3)照射光時，^ 由第2控制部72控制液晶光閘52ia，而如圖14B所示， φ對透光。卩5212部分遮光。藉此，變更來自水銀燈51之光 之照射區域中遮擋光照射之區域，而僅對第2非描繪區域 922上之照射區域95a(參照圖11B)照射光。又當對感 光材料之光的照射停止時，對整個透光部5 212遮光。 於該圖案描繪装置中，與第丨實施形態同樣地，可不使 *用大型光罩而對描繪區域91容易地描繪突起圖案。又， ，可容易地僅對非描缘區域92照射光，而不會對描繪區域 91造成影響。 於第2實施形態之圖案描繪裝置中，尤其藉由控制液晶 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 34 200819922 = Bfla來變更透光部5212之㈣部分，而可容易地變 】：：射區域95a之副掃描方向之長度。其 非描㈣域92之第2非描繪區域922之副掃描方向= 不同的多種基板（例如，描㈣域91之尺寸不同者、或者 1片基板上描繪區域91之個數 ^ 對非讀區域92照射光⑽不时）^’可容易地僅 其次，說明本發明之第3實施形態之圖案描㈣統。圖 15:表示第3實施形態之圖案描繪系统1〇〇之構成的圖。 圖案描㈣統刚具備：第1光照射裝置m，僅對基板 9上之感光材料上之描矣會區域91(參照圖3)照射光；第2 光…、射衣i 102 ’僅對感光材料上之非描繪區域92(參照 圖3)妝射光，以及作為搬送機構之搬送臂1 ，於第1光 照f裝置101與第2光照射裝置102之間搬送基板9。 第1光如、射裝置1 〇 1為自目j所$之圖案描繪裝置工省 略第2光照射部5及第2控制部72之構成，帛2光照射 裝置102 $自圖案描繪裝置i省略第i光照射部4及第！ 控制部71之構成。於圖案描㈣統_巾，利用第i光 知射^置ΗΠ ’對基板9進行與利用_案描繪裝置i之第 1光照射部4之光照射同樣的處理，利用帛2光照射裝置 102，對基板9進行與利用圖案描繪裝置1之第2光照射 邛5之光照射同樣的處理。帛j光照射裝置】〇1及第2光 知射1置102之平堂3分別成為圖案描繪系統1 〇〇之第1 基板保持部及第2基板保持部。 於第1光照射裝置101中，對設置有負型感光材料之基 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 35 200819922 板9 ’透過第1孔徑板461及第2孔徑板467(參照圖5及 圖6)而照射光，藉此描繪液晶顯示裝置用之彩色濾光片 基板之像素圖案。 又’於第1光照射裝置1 〇1中，對設置有正型感光材料 之基板9 ’透過第3孔徑板461 a(參照圖8)而照射光，藉 此對描緣區域91之除與用於液晶配向控制之突起圖案對 應的部分以外照射光。該基板9由搬送臂1〇3自第1光照 射裝置101搬出而搬入至第2光照射裝置1〇2。於第2光 照射裝置102中，進行基板9之對準後，透過第4孔徑板 521(參知圖10A)而照射光，並利用遮光板524(參照圖ι〇Β) 變更照射區域中遮擋光照射之區域，藉此僅對非描繪區域 92照射光。再者，於圖案描繪系統丨〇〇中，亦可代替搬 送臂103而設置其他搬送機構。 於圖案描繪系統100中，可與第1實施形態同樣地，不 使用大型光罩而容易地於描繪區域91上描繪突起圖案。 又可谷易地僅對非描緣區域92照射光，而不會對描緣 區域91造成影響。 於圖案描繪系統1〇〇之第2光照射裝置1〇2中，可與第 2實施形態同樣地，代替第4孔徑板521及遮光板524而 設置多通道液晶光閘521a。藉此，可容易地變更照射區 域之副掃描方向之長度，而可更容易地向非描繪區域犯 照射光。 以上，就本發明之實施㈣進行了說明，但本發明並不 限定於上述實施形態，可進行各種變更。 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 36 200819922 例如，於上述實施形態之圖案描繪裝置中， 料處於停止狀態之平臺3移動第i光照射部4及== ’、、、：邛5 ’而使來自第1光照射咅"之光照射區域、及來 料=1部5之光照射區域相對於基板9上之感光材 :圖”置中，利用第2光照射部5對正型感光材 日會區域92之光照射’未必需要於利用第1光 逸'/ 4對該感㈣料上之騎區域91的光照射結束後 * 如’可與對描繪區域91所進行之照射區域94的 者：二主掃描同時對非描繪區域92照射光，或 # ’。、W ;田％區域91照射光之前對非描繪區域92照射 部：二繪區域92照射光亦可與利用第1光照射

Si =::_同’藉由在基板9之移動過 1 丁里複恥射_間光而進行。 於圖案描繪裝置之繁彳本 元46之第i孔徑板461及；:;二中:亦可代替孔徑^ 晶光閘。於此情形時，利丄徑板467，例如使用液 控制作為第丨光罩部之孔:;:：7之第1控制 照射區域94與描…9= 46之該液晶光閉’每當 曰# pm 之各分割區域912 一致時，液 :先間㈣開閉，對照射區域94照射光。又，作為先 第、43及雷射驅動部44與該液晶光閘-同由 於：宰二壯控制，藉此可對照射區域94照射瞬間光。 圖宰類似中，當負型及正型感光材料上所描綠之 似％亦可不變更第1光照射部4之孔徑，而變更 312汾/__書(補件)/96·12/96⑶似 37 200819922 第1控制部71對光源或平臺驅動機構2之控制，來對兩 感光材料描綠圖案。 於上述實施形態之圖案描繪裝置以及第3實施形態之 圖案描繪系統1〇〇之第】光照射裝置1〇1中，亦可與第1 光照射部4(及第2光照射部5)分開單獨地設置對基板9 照射光之其他光照射部，以代替第】光照射部4，利用該 光照射部來對負型感光材料描繪圖案。 利用圖案描繪裝置及圖案描繪系統1〇〇描繪圖案之基 板，並非限定於感光材料上設定有四個描繪區域91之基 板，亦可為感光材料上僅設定有一個描繪區域之基板。 又，亦可對感光材料上設定有於主掃描方向及/或副掃描 方向上相互間隔而排列之數個描繪區域（即，包含一個描 繪區域及與該描繪區域形狀相同之一個以上描繪區域的 數個描繪區域）之基板進行描繪。 於上述實施形態之圖案描繪裝置中，亦可利用第丨光照 射部4,驗晶顯示裝置用之彩色濾光片基板描繪除像素 圖案以外之其他圖案（例如，與黑色矩陣或感光性間隔物 對應之圖案）。又’亦可利用第！光照射部4及第2光照 射部5，對液晶顯示裝置用之TFT(Thin Fi lm 基板描繪用於液晶配向控制之突起圖案或用於tft佈線 之蝕刻之光阻圖案（圖案描繪系統i 〇〇中亦同）。 圖案描緣裝置及圖案描繪系統1〇〇亦可用於對電裝顯 示裝置或有機EL顯示裝置等平面顯示襄置用之基板描繪 圖案。又’圖案描繪裝置及圖案描繪系統1〇〇除平面顯示 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 38 200819922 裝置用之玻璃基板以外，亦可用於對半導體基板或印刷佈 線基板、或者光罩用之玻璃基板等描繪圖案。 以上詳細描述並說明了本發明，但所述說明僅為例示性 而並非限定性者。因此，可認為只要不脫離本發明之範 圍’便可具有多種變形及態樣。 【圖式簡單說明】 圖1係第1實施形態之圖案描繪裝置之侧視圖。

圖2係圖案描緣裝置之俯視圖。 圖3係表示基板之俯視圖。

圖4係連同其他構成一併表示由控制部所實現之功 之方塊圖。 、 圖5係表示孔徑單元之一部分之俯視圖。 圖6係表示孔徑單元之另一部分之俯視圖。 圖7係表示基板上之照射區域之俯視圖。 圖8係表示孔徑單元之一部分之俯視圖。 圖9係表示描繚區域之一部分之俯視圖。 圖10A係表示孔徑單元之俯視圖。 圖10B係孔徑單元之俯視圖。 圖11A係表示基板上之照射區域之俯視圖。 圖11B係表示基板上之照射區域之俯視圖。 圖12係表示描繪像素圖案之流程圖。 圖13A係表示描繪突起圖案之流程圖。 圖13B係表示描繪突起圖案之流程圖。 圖14A係孔徑單元之俯視圖。 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 39 200819922 圖14B係孔徑單元之俯視圖。 圖15係表示圖案描繪系統之構成圖。

【主要元件符號說明】 1 圖案描繪裝置 2 平堂驅動機構 3 平臺 4 第1光照射部 5 第2光照射部 6 攝像部 7 控制部 9 基板 11 基座 12、13 框架 21 支撐板 22 平臺旋轉機構 23 副掃描機構 24 底板 25 主掃描機構 41 光學頭 42 照明光學系統 43 雷射振盪器 44 雷射驅動部 45 射出部 46 、 52 、 52a 孔徑單元 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 40 200819922 47、53 光學系統 51 高壓水銀燈 61 對準排列相機 71 第1控制部 72 第2控制部 91 描繪區域 92 非描纟會區域 93 、 94 、 95 、 95a 、 451 、 93卜 941 照射區域 100 圖案描繪系統 101 第1光照射裝置 102 第2光照射裝置 103 搬送臂 221 平臺旋轉軸 222 、 23卜 251 線性馬達

導軌 第1孔徑板 第3孔徑板 保持部 位置調整機構 第1調整機構 弟2調整機構 第2孔徑板 第3調整機構 第4孔徑板 232 、 252 、 465 、 528 • 461 461a 462 、 468 、 522 、 525 463 、 523 464 466 467 469 521 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 41 200819922

521a 524 526 527 529 911 912 921 922 4611 、 4612 、 4613 、 4671 4614 5211 5241 5242 液晶光閘 遮光板 遮光板移動機構 第4調整機構 弟5調整機構 圓形部分 分割區域 第1非描繪區域 第2非描繪區域 4672、4673、5212 透光部 遮光部 開口 本體部 突出部

312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 42

Claims (1)

1. 200819922 十、争請專利範園·· 】·種圖案插繪裝置，係 上描繪圖案；其具備· 用尤而於基板上之感光材料 基板保持部，保持藉由在 為週期圖宰之T*,jr¥ 、^^驟令部分地去除而使成 弟1光照射部，對上述4:狀之基板’ 之朝向第1方向及第hi材科上設定為具有相互垂直 丨J及弟2方向之邊沾日 上述圖案對靡> π Y 心瓊的長方形之描繪區域中與 :對應之部分以外照射光；以及 之二==述感光材料上之上述描— 而上述第1光照射部具備·· 第1光源； 第1光罩部’根據上述圖案之 光源之光導至如下區祕ρ 綠將；自上述弟1 方为上聱八 ，Ρ，將上述描繪區域於上述第1 成之數個分割區域之-與上述第1方向之 的區域； 射&域中與上述圖案對應之部分以外 第1控制部’藉由控制上述第1光源及/或上述第i光 罩部，而移動上述第lm射區域，並且每當上述第u 區域分別與上述數個分割區域關於上述第1方向一致 時，透過上述第1光罩部對上述第丨照射區域照射光； 上述第2光照射部具備： 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 43 200819922 第2光源； 第2光罩部，將來自上述第2光 域，即’於上述感光材料上於上述第2方向延且 上述描緣區域及上述非描緣區域之區域. 、 對構;相對於上述感光材料朝上述第1方向相 對地私動上述弟2照射區域；以及 ，工制卩於上述第2照射區域通過上述描繪區域及 上逑非描繪區域時，藉由控制上述第 第2照射區域中遮擋光早丨而-更上述 域照射光。 先‘、、、射之£域，來僅對上述非描緣區 2.如申請專利範圍第！項之圖 上述第2光罩部具備液晶光問。 置，、中 3·如ΐ請專·圍第2項之圖案料裝置，盆中， 基板保持部中’可代替形成有上述正型感光材料 持藉由在後續步驟中部分地去除而使成 -。’ ®，、之負型感光材料形成為層狀之基板， 第光：射部藉由變更上述第1光罩部及/或上述 右°之工制’而僅對在上述感光材料上被設定為具 述第1方向及上述第2方向之邊的長方形之描繪 &域中與上述圖案對應之部分照射光。 4.如申請專利範圍第3項之圖案描繪裝置，其中， 上述基板為液晶顯示裝置用之彩色遽光片基板， η 用上述負型之上述感光材料而形成於上述彩色濾 光片基板上之上述圖案為像素圖案。 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-12/96131424 44 200819922 5.如申請專利範圍第2項之圖案描繪裝置，其中， 、於上述感储料上，包含上述㈣區域及與上述描緣區 域形狀相同之描繪區域之數個描繪區域，於上述第1方 及/或上述第2方向上相互間隔而排列， ° 上述基板為根據上述數個描繪區域而多倒角之預 板， 、土 士述弟1光照射部對上述數個財區域中與上述圖案 對應之部分以外照射光，上述第2光昭射邱μ、+、八 错由上述第1控制部控制上述第i光源及/或上述第卫 ，罩部’而分別相對於上述數個描差會區域移動上述第工昭 ^域，並且每當上述第！照射區域分別與上述數個分:; :二:於上述第1方向-致時，透過上述第1光罩部對上 述弟1照射區域照射光， τ上 、、上述第2照射區域於上述第2方向上延伸 述感光材料’當上述第2照射區域 ^ 藉由上述第2控制部控制上述第 ’ 描緣區域照射光。 先罩和而僅對上述非 6.如申請專利範圍第5項之圖案描”置，其中， 於上述基板保持部中，可代替形成有上述正型 之上述基板，而保持藉由在後續步^材科 為週期圖案之負型感光材料形成為:中狀:;地板去除而使成 上述第1光照射部藉由變更上述光 控制部之控制’而僅對被設定為與上述感述先弟材1 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96·12顧31424 45 200819922 料’fe況時相同之數個描 照射光。 繪區域中與上述圖 案對應之部分

   7. 如申請專利範圍第6項之圖案描繪裝置，豆中， 上述基板為液晶顯示裝置用之彩色遽光片基板， 光片而述負型之上述感光材料而形成於上述彩色濾、 尤片基板上之上述圖案為像素圖案。 8. 如申請專利範圍第1項之圖案描綠褒置，其中， 基板保持部中，可代替形成有上述正型感光材料 為、而保持藉由在後續步驟中部分地去除而使成 為週期圖案之負型感光材料形成為層狀之基板， ―十述第i光照射部藉由變更上述第工光罩部及"戈上述 控制部之控制，而僅對在上述感光材料上被設定為具 =向上述第！方向及上述第2方向之邊的長方形之描緣 區域中與上述圖案對應之部分照射光。 9·如申請專利範圍第8項之圖案描繪裝置，其中， 上述基板為液晶顯示裝置用之彩色濾光片基板， …而利用上述負型之上述感光材料而形成於上述彩色濾 光片基板上之上述圖案為像素圖案。 10·如申請專利範圍第丨項之圖案描繪裝置，其中， 、於上述感光m含上述描輕域及與上述描緣區 域形狀相同之描繪區域之數個描繪區域，於上述第丨方向 及/或上述第2方向上相互間隔而排列， 上述基板係根據上述數個描繪區域而多倒角之預定美 板， 、土 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 46 200819922 庵述弟1光照射部對上述數個描繪區域中與上 2部分料照射光，上述第2光照射部對上述感光材 科上之上述數個描繪區域以外之非描繪區域照射光， =由上述第1控制部控制上述第1光源及/或上述第i 3部，而分別相對於上述數個描繪區域移動上述第i照 射區域，並且每當上述第〗077 i μ 別與上述數個分割 上、;J】述弟1方向一致時，透過上述第1光罩部而朝 上述弟1照射區域照射光， 上述第2照射區域於上述第2方向延伸並且橫截上述感 先材，’當上述第2照射區域通過上述感光材料時，藉由 區域照射光。 以2先罩部，而僅對上述非描繪 11.如申請專利範圍第1G項之圖案騎裝置，其中， 於上述基板保持部’可代替形成有上述正型感光材料之 上述基板’而保持藉由在後續步驟中部分地去除而使成為 週期圖案之負型感光材料形成為層狀之基板， 上述第1光照射部藉由變更上述光罩部及/或上述第丨 控制部之控制’而僅對在被設定為與上述正型之上述感光 材料時相同之數個描繪區域中與上述圖 射光。 刀…、 12.、如申請專利範圍第u項之圖案描繪裝置，其中， 上述基板為液晶顯示裝置用之彩色濾光片基板， 利用上it負i之上述感光材料而形成於上述彩色滤光 片基板上之上述圖案為像素圖案。 Μ 312ΧΡ/發明說明書(補件y96_12/96131424 200819922 13.如申請專利範圍第！至12項中任一項之圖案描絡 置，其中， 上述基板為液晶顯示裝置用之玻璃基板， 利用上述正型之上述感光材料而形成於上述破璃基板 上之上述圖案為用於液晶配向控制用之突起圖案。 14· 一種圖案描繪系統，係利用光而於基板上之感光 料描緣圖案，其具備： 第1光照射裝置，於藉由在後續步驟中部分地去除而使 成為週期圖案之正型感光材料形成為層狀之基板上，對在 上述感光材料上被設定為具有相互垂直之朝向第i方向 及第2方向之邊的長方形之描繪區域中與上述圖案對應 之部分以外照射光； ’ 第2光照射裝置，對上述感光材料上之上述描繪區域周 圍之非描繪區域照射光；以及 搬送機構，於上述第丨光照射裝置與上述第2光照射 置之間搬送基板； ^ 而上述第1光照射裝置具備·· 第1基板保持部，用以保持基板； 第1光源； 、，第1光罩部，根據上述圖案之週期性，將來自上述第1 光源之光導至如下區域，即，在將上述料區域於上述第 1方向上#分而成之數個分割區域之一與上述第1方向之 長度相等之第1照射區域中、與上述圖案對應之部分以外 之區域； 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 48 200819922 ::: 多動機構’相對於上述描緣區域朝上述 對地移動上述第】照射區域；以及 门相 第1控制部，藉由控制上述第〗光源及/或上述第 =，而移動上述第〗照射區域，並且每當上述第i昭射 :域分別與上述數個分割區域關於上述第〗方向一致 牯’透過士述第】光罩部而朝上述第！照射區域照射光； 而上述第2光照射裝置具借： 第2基板保持部，用以保持基板； 第2光源； 第2光罩部，將來自上述第2光源之光導至第〗照射區 :於上述感光材料上於上述第2方向延伸並且橫截 述描繪區域及上述非描繪區域之區域； 第2移動機構’相對於上述感光材料朝上述第！方向相 對地移動上述第2照射區域；以及 第2拴制邛，於上述第2照射區域通過上述描繪區域及 ^述非描緣區域時，藉由控制上述第2光罩部而變更上述 第2照射區域中遮播光照射之區域，來僅對 域照射光。 a b 15·如申請專利範圍第14項之圖案描繪系統，其中 上述第2光罩部具備液晶光閘。 項之圖案描繪系統，其 16·如申請專利範圍第14或15 中， 於上述第1光照射裝置之上述第丨基板保持部中，可代 替形成有上述正型感光材料之上述基板，而保持藉由在後 312ΧΡ/翻說明書(補件)/96·12/9613ΐ424 49 200819922 2=中部分地去除而使成為週期圖案之負型感光㈣ 开少成為層狀之基板， * 上速第1光照射裝置#由變更上述第1光罩部或上述第 .^制部之控制’而僅對在上述感光材料上被設 t向上述Ρ方向及上述第2方向之邊的長方形之描緣區 域中與上述圖案對應之部分照射光。 、 Π.—種圖案描繪方法，係利用光於基板上 描繪圖案，且於上土戒其k μ ^丄上^ UTb材料 /、 、 土板上，猎由在後續步驟中部分地去 、示而使成為週期圖案之正型感光材料形成為層狀，且於上 述感光材料上將描繪區域設定為具有相互垂直之朝向第i 方向及第2方向之邊的長方形，並於上述感光材料上之上 述描繪區域的周圍設定非描繪區域， 上述圖案描繪方法具備·· a) 根據上述圖案之週期性，將光導向如下區域，即 上，描!會區域於上述第i方向等分而成之數個分割區域 之與上述弟1方向長度相等之第丨照射區域中、 圖案，應之部分以外之區域，同時相對於上述描緣區域朝 上述第1方向相對地移動上述第J照射區域之步驟； b) 於上述a)步驟中’每當上述第1照射區域分別盘上 述數個分割區域關於上述第i方向一致時，對上;、昭 射區域照射光之步驟； …、 /)將光導向第2照射區域’即’上述感光材料上於上述 第2方向上延伸並且橫截上述描繪區域及上述非描絡區 域之區域’同時相對於上述感光材料朝上述第！方向_ 312XP/發明說明書(補件)/96-12/96131424 50 200819922 地移動上述第2照射區域之步驟；以及 d)於上述c)步驟中上述第2照射區域通過上述描繪區 域及上述非描繪區域時，藉由變更上述第2照射區域中遮 檔光照射之區域，而僅對上述非描繪區域照射光之步驟。

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