TW200819501A - Polyimide-based resin composition, method of manufacturing thereof and metal laminate - Google Patents
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Description
200819501 256Ui)plt 九、發明說明: 本申請案主張依據2006年9月u曰申請之申請案號 JP2006-244946 (日本特願2〇〇6·244946)之優先權。其 利說明書及圖式所記载之内容全部援帛於本案。 【發明所屬之技術領域】
本發明係關於聚酸亞胺系樹脂組成物及其製造方法、 以及包含由該樹脂組成物構成之樹脂層的金 【先前技術】 特性'電氣 j料使用於航空器之結構材料及纜線包覆 體封壯箄所好"、常適用作為使用於挽性印刷基板及半導 、衣荨所代表之電子領域之耐熱性接著劑。 屬浐:ί而:ϊΐ利用聚酿亞胺系接著劑作為樹脂層之金 亞胺金屬積層體;㈡焊料在此聚酸 件之曰衣曰曰片及電子零件,或卸下所謂備用愛 片冬件之情形。從近年來之環保觀點,在晶 裝上已逐漸使用無錯焊料,故殷切要: 〜末,異'「焊料耐熱性⑽derheat㈣st_)」。求 ,在所謂硬撓性及撓性多層基板之 稱在以往㈣求之料賴 性有^ 具備更高溫之耐·。 ,、了祕不足,希望 薄膜使曰用片亞胺系接著劑為樹脂層之金細 ,膜曰曰片接合體(以下簡稱「C 下马 配線之接合係使用内部導線接合機及覆月晶接 5 200819501
ZDOUDpiI
Au-Au接合或Au_Sn接合進行。Au_Au接合或Au__ 要300 C以上之南溫條件,故即使在使用於c〇f之情形 希望使用焊料耐熱性優異之基材。 吧 工, 士 在近年采之聚酿亞胺系耐熱性接著劑中,從加
>'W 4寸!生方面δ之,除了耐熱特性以外,也逐漸要求 之ίίΓ:右在以往利用含特定聚_酸之樹脂組成物 :ϊ=而=。以上之接著溫度之情形,從低溫 窥2而a ’其特性尚未充分。 詞二ί著胺系接著難要求需兼顧耐熱性之提高 V:二“。作為具有充分之接著強度與耐埶性 胺㈣熱性接著劑,已·出由特定聚_酸企 亞胺所構成之樹脂組成物(例如參照專利文獻】 屬浐,由利用聚醯亞胺系接著劑作為樹脂層之金 造電r情形’有利用雷射加工施行通孔形 鹼性溶'夜二ΐ在通孔形成令’-般,需施行以 ww橋料被雷射加^全除去 邊」)之處理(又稱「去膠渣處理」)。從月層(又稱知 膠逢以迅麵除去(去_速度· ,郝^之, ,鹼性溶液之溶解性較高之聚醒亞胺系:著:期:能使 J尚低溫接著性後之聚醯亞胺系接著‘二二而二 易變慢。 渣速度部容 劑,ί報::二充f之低溫接著性之聚醯亞胺系接著 據報告有由雙馬來酿亞胺化合物與聚酿胺酸所構成之 200819501
ZDOU^piI 樹脂組成物(爹照專利文獻5)。然而,將含雙馬來醯亞胺 之樹脂組成物使用於金屬積層體之樹脂層之情形,會因, 造條件而產生揮發物質(雙馬來醯亞胺)而有時會有生產 . 上之問題。又在塗佈或層壓樹脂組成物時,有揮發物當 . 對生產設備造成影響之虞。 为谭毛物貝 [專利文獻1]曰本特開平1-289862號公報 [專利文獻2]日本特開平6_145638號公報 [專利文獻3]日本特開平6_192639號公報 [專利文獻4]日本特開平2_274762號公報 [專利文獻5]日本特開2〇〇4_2〇9%2號公報 【發明内容】 本發明之目的在於—面維持聚酿亞胺系樹月旨組成物之 二去膠祕(加严去膠錢度)。又,本發明之目的在於 而提里—面抑制加工時之揮發物質之產生 谷易生叙異之聚醯亞胺系樹脂組成物。 利用本發明之樹脂組成物,提 4撓,印刷基板等之金屬積層體。 適用作 物。第!之本發明係關於以下所示之聚醯亞胺系樹月旨組成 乂 (!H種=亞料獅組成物,其係含有下列通式 錢亞胺樹月旨,以及下列通式⑵所示:^重胺:=之 7 200819501
JOLDpiT
A Α2 ΟΛ\ηο ΟΛ^ΥΟ ΟΛ ϊο οαβϊο ? J.N) -2) [在式(Η)及式(1-2)中,A芬Δ γ 或(a2 ),既可互她同,村料;β aj 或(b2),既可互相相同,亦可相異]]2刀別為下式㈦Xr°O^0iy ··-
〇〇 Δ Λ Λ Α3~Ν Β3 Ν- ϊ If 〇〇 (a2) 〇 (b2) (bl)
⑵ [在式(2)中,Α3為下式(cl 為下式(dl)〜(d4)中 為1〜5之整數]
〜(c4)中之一,b3 之一,z為下式(el)或(e2)M (c2) (cl)
(c3) (c4) 〔在式(cl )〜(c4)中,χ7〜12係選擇自包含單鍵〇〜、—S—、一 CO—、— COO—、〜c r 、〜 C(CFS)2 S02 NHCO-之群,既可互相相 8 200819501
230UDpiI
亦可相異〕
Ve4 Υ1〇{|- (dl)
丫 7-·
• (d4) (d2) Υ9 Υΐ1 〔在式(dl)〜(d4)中,Υ7〜12係選擇自包含單鍵、 〇 S---CO COO---c (ch3) 2___ c(cf3)2 so2 NHC〇-之群,既可互相相同, 亦可相異〕 R1 (el)
(e2) 〔在式(el)或(e2)中,Rh係選擇自包含氫原子、鹵 素原子、及碳数1〜3之烷基之群,既可互相相同,亦可相 異,心係一0—、一S—、一CH2 co —或一coo—〕 c (CH3) 2-
〔2〕如〔1〕之聚醯亞胺系樹脂組成物,其中前述通 式(1-1)之人】、及通式(1-2)之八2中之一方為(al), 另一方為(a2 )。 、,〔3〕如〔丨〕或〔2〕之聚醯亞胺系樹脂組成物,其中 前述通式(2)之1為1。 ^ 〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項之聚醯亞胺系樹脂組成 物,其中相對於前述聚醯亞胺樹脂1〇〇重量份,以前述通
式(2)所示之醯亞胺低聚物含有5重量份以上、1〇〇 份以下。 S 〔5〕如〔1〕之聚亞胺糸樹脂組成物,其中玻璃轉 9 200819501 ZDOUDpn 移溫度為刚W、職以下之範圍。 物,其6中〕組成 B3係選擇自下式(du r '、]^式(D)或(C6), Γ )0C ·- 54乂1為1〜5之整數。dl°)之君為(e3: "t^r〇~O~〇-01- · · (〇5) (d7)
(d9) ϋ 〔R3及R4之定義與前述式(e2)相同〕 〔7〕一種混合物,其係含有下列通式(n)所示$ 重複單位、及下列通式(3-2)所示之重複單位之聚醯胺趣 (poly amic acid)、以通式(2)所示之醯亞胺低聚物以及々 要時所需之溶劑。 (3-1) μ 〇 Ο Μ ' -Af Ν-4
ΗΟπί ir0H 〇〇 10 200819501 ZDOU^pil
• * * (3-2) ^ [ff) (3Β;^ί } ^ 5 (al )Ϊ ^,= ’亦可相異,及B2分別為前述 气「) ΐ : 1 ’既可互相相同,亦可相異] Α3-ΝΛΒ, Ν Π 〇Λ γ 〇
〇 χΥ I 〇 、、,[在式(2)巾’^為前述式(cl)〜(c4)中之一,Β, 為别述式(dl)〜(d4)中之一,7炎义、+、4、 2為刖述式(el)或(e2) 中,1為1〜5之整數] 〔㈦一種聚醯亞胺系樹脂硬化物之製造方法,苴係包 含加熱如〔7〕之混合物而使起醒亞胺化反應之步驟、。’、 〔9〕-麵,其係包含如⑴至⑷中任一項之聚 醯亞胺系樹脂組成物之硬化物。 一〔10〕一種金屬積層體,其係包含金屬層與樹脂層, 且前述樹脂層之至少一層係由如〔n至〔6〕中任一項之 聚酸亞胺系樹脂組成物之硬化物所構成。 义〔11〕一種金屬積層體,其係具有聚醯亞胺膜、形成 於韵述聚醯亞胺膜之單面或雙面之聚醯亞胺層、及積層於 前述聚醯亞胺層之一方或兩方之金屬層; 接觸於前述金屬層之聚醯亞胺層係樹脂層,其係由如 〔1〕至〔6〕中任一項之聚|藍亞胺糸樹脂組成物之硬化物 所構成。 l 12 禋接者溥片
200819501 -^OUDpn 述樹脂膜之單面或雙面之π、〕至、〔有6樹„積層於前 胺系樹脂組成物之硬化物所構成之樹月匕I ㉟之亞 本發明之雜錢_餘絲^溫 =生高。(去膠渣速度快),且可抑制在加上揮 又,可藉本發明之聚酿亞胺系樹脂組成 層與樹脂層而製造金屬積層體,在其接著中,不必使用f =加工溫度’減_以殘留在箱層與㈣亞胺界面二 :此得金屬層與樹脂層之高接著驗之金屬積層 -°所^•之金屬積層體可適合使用作為撓性印刷基板等: =得之金屬積層體、及金屬積層體之前驅物之接著薄 片、(無金屬層之狀態之薄片)之焊料耐熱性優異,故在 f概度條件嚴苛之LSI晶片或零件安裝製程、及該等之備用 令件製程中,也難以發生膨脹。 【實施方式】 1·聚醯亞胺系樹脂組成物 本叙明之聚醯亞胺糸樹脂組成物之特徵在於:含有聚 -亞版树月曰以及亞胺低聚物(如丨如〇lig〇mer)。 聚醢亞胺樹脂 • 聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂亦可為, 3有下列通式(μ〗)所示之重複單位與通式(丨_2)所示 之重複單位;或藉由醯亞胺化而產生下列通式(Μ)所示 之重複單位與通式(1_2)所示之重複單位的前驅物(也就 12 200819501 256ϋ5ριί 是聚醯胺酸(poly amic acid)) 〇 ο (1-1) (1-2) Δ ΛΑ
1 一 W 〇〇 〇〇 Δ Λ Λ ·Α2-Ν Β2 Ν- ϊ ίΐ 〇〇 式(1-1 )之Αι及式(1-2)之 Α 么 @ 士一# f # ^ t八2為具有二鄰亞本鍵 (tdphenyleneether)結構,其以下式(al) (al) W°W°Y^ ______ 〜〇、」$U2)表不。 (a2) A]&A2既可互相相同,亦可相異,較好的是、及、 之-方為(al),另-方為(a2)。域^均為⑷時, 有時去膠渣速度會變慢。另—方面,ΑιΑΑ2均為⑽時, 有時剝離強度及低溫接著性會降低。^及〜為⑶)盘 c; 之組合時,可取得去_速度與低溫接著性(玻璃轉移溫 度)之平衡,故聚醢亞胺所含之(al)與(a2)之個數 率較好為8 : 2〜5 : 5,更好為7 : 3。 又,式(1)之BAB2是以下式(Μ)或(b2)表示。 較好的是$及%中之-方或雙方為(Μ),及匕為(⑷ 與(b2)之組合時,樹脂組成物之去膠渣速度雖可提高, 但:另-方面,(b2)之比率過高時,有時在加濕環;下 之焊料耐熱性(solder heat resistance)會惡化。 II η
lJ Uk ··- X)r§XX ··-) 本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹 13 200819501 256ϋ5ριί 所示之重複單位 脂,雖含有前述之式(1-1)及式(1-2) 但亦可含有其他之重複單位。 聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂之分子旦 =無特別限定,域所述,可解歸分(二胺(diami=) f 四羧酸二酐(tetracarb0Xylic dianhydride))的分子量及其 莫耳比加以調整。 〃 聚醯亞胺樹脂之製造
3聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂,較好的 疋由四竣酸二酐與二胺之原料加以製造。 在聚醯亞胺樹脂的原料中,較好的是包含四羧酸二酐 的 3,3’,4,4’_二苯甲酮四羧酸二酐(m+benzophen· tetracarboxylic dianhydride,BTDA)或雙(3,4_二羧基苯基) 石尹、酸一酐(bis(3,4-dicarboxphenyl) sulfonic dianhydride, DSDA) 〇 另外,在聚醯亞胺樹脂的原料中,也可包含1種或2種 以上之其他的四羧酸二酐。使該等共聚合化時,可以不損 失本發明效果的方式,施行聚醯亞胺樹脂之性能的改良及 改質。 在其他四羧酸二酐之例中,包含:苯均四酸二酐、 3,3’,4,4’-聯笨四羧酸二酐、雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、 雙(3,4-二羧基苯基)硫醚二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲 烧二野、2,2_雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2_雙(3,4-二魏基苯基)-1,1,1,3,3,3_六氟丙烷二酐、1,3-雙(3,4-二羧 基苯氧基)笨二酐、1,4_雙(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、 14 200819501 256ϋί)ριί 1,4-雙(3,4-二羧基苯氧基)聯苯二酐、2,2-雙〔(3,4-二羧 基苯氧基)笨基〕丙烷二酐等。 另外,在其他四羧酸二酐之例中,包含:乙撐四羧酸 二酐、丁烷四羧酸二酐、環戍烷四羧酸二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二 酐、U-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2·雙(3,4-二羧 基苯基)乙统二針、1,2,5,6-奈四竣酸二針、3,4,9,10-花四 羧酸二酐、2,3,6,7-蒽四羧酸二酐、1,2,7,8-萘四羧酸二酐 等。此等四羧酸二酐也可單獨或組合2種以上使用。 另外,其他四羧酸二酐亦可為以氟基或三氟曱基取代 上述例示之四羧酸二酐之芳香環上之氫原子之一部分或全 部之四叛酸二酐。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,較好為含有二胺之1,3-雙 (3-氨苯氧基)苯(ΑΡΒ)、或1,3-雙(4-氨苯氧基)苯 (APB-R),更好為含有任何一種。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,亦可含有其他之二胺。其 他之二胺既可為芳香族二胺,亦可為脂肪族二胺。 在芳香族二胺中,含有間苯二胺、鄰苯二胺、對苯二 胺、3,3’-二氨基二苯醚、3,4’_二氨基二苯醚、4,扎二氨基二 苯醚、3,3’-二氨基二苯硫醚、3,4’_二氨基二苯硫醚、4,4’-二氨基二苯硫醚、3,3^二氨基二苯颯、3,4f•二氨基二苯颯、 4,4’-二氨基二苯颯、3,3’-二氨基二苯曱酮、3,3f-二氨基二苯 曱烷、3,4’_二氨基二苯甲烷、4,4’-二氨基二苯甲烷、2,2-雙(3-氨苯基)丙烷、2,2-雙(4-氨苯基)丙烷、2,2-雙(3- 15 200819501 256ϋ5ρΐί ^ ^33 H ,,六鼠丙垸、2,2·雙(4-氨苯基) -u,碰,、氟丙烷、砂二氨基二苯亞砜、3令二氨基 二笨亞颯、4’二氨基二笨亞石風、⑶雙(3_氨苯基)笨、 1,3:又(4-風苯基)苯、认雙(3_氨笨基)苯、以-雙㈠_ 〜雙(3·氨苯氧基)笨、1,4-雙(4-氨苯氧 Γ+ Ϊ ' 4雙(3_氨苯基硫醚)*、U_雙(4_氨苯基硫 ^ 雙⑷氨苯基硫⑹笨、雙(3·氨基苯硬)
本、,-又(4-乳基苯碾)苯、认雙( 广雙尸:氨鮮)苯、U,(4_氨基竹苯、M_雙,心 氨基节)苯、1,3·雙(3·氨基_4•苯氧基苯曱醯)笨、3 3_ 雙(3-氨基笨氧基)聯苯、仏雙(4•氨基苯氧基)聯笨、 y又(3-氨基苯氧基)聯苯、4,4_雙(4_氨基苯氧基)聯 ^雙!:3· (3_氨基苯氧基)苯基〕峻、雙〔3- (4-氨基苯 乳基)本基〕_、雙〔4_ (3_氨基苯氧基)苯基〕醚、雙 (4-氣基苯氧基)苯基〕_、雙〔3· (3_氨基苯氧基) ,基〕酮、雙〔3- (4_氨基苯氧基)苯基〕酮、雙〔4· (3_ 氨基苯氧基)苯基〕酮、雙〔‘(4_氨基苯氧基)苯基〕 酮、雙〔3_ (3-氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔3_ (4_氨基 苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕硫 _、雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔3_ (3_氨基 苯氧基)苯基〕砜、雙〔3- (4-氨基苯氧基)苯基〕砜Γ 雙〔4_ (3-氨基苯氧基)苯基〕颯、雙〔4- (4-氨基苯氧基) 本基〕石風、雙〔3- (3-氨基苯氧基)苯基〕甲烧、雙〔3_ (4-氣基本氧基)本基〕甲烧、雙〔‘(3-氨基苯氧基) 16 200819501 256U^pit Γ 苯基〕甲烷、雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕甲烷、2,2_ 雙(3-氨基苯氧基)苯基〕丙烷、2,2-雙〔3_ (4-氨基 苯氧基)苯基〕丙烷、2,2-雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕 丙院、2,2-雙〔本(4-氨基苯氧基)苯基〕丙炫、2,2_雙〔3_ (3-氨基苯氧基)苯基〕义^^六氟丙烷^孓雙㈡· (心氨基苯氧基)苯基〕_1,;[,1,3,3,3_六氟丙烷、2,2_雙〔4_ (3_氨基苯氧基)苯基〕_i,ij,3,3,3-六氟丙院、2,2_雙〔4_ (‘氨基苯氧基)苯基〕」,〗丄3,3,3_六氟丙烷等。此等芳 香族二胺也可使用一種或組合數種使用。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,也可含有脂肪族二胺。脂 肪族二胺係用於施行性能之改良及改質。在脂肪族二胺之 例中,含有1,3-雙(3-氨丙基)四甲基二矽氧烷、丨,3_雙(4_ 氨丁基)四甲基二石夕氧院、α,ω雙(3一氨丙基)聚二甲基 二石夕氧烧、α,ω-雙(3.氨丁基)聚二甲基二魏燒、雙(氨 曱基)醚、1,2-雙(氨曱氧基)乙烷、雙〔(2_氨曱氧基) $基〕醚、1,2-雙〔(2_氨曱氧基)乙氧基〕乙烷、雙& 氨乙基)醚、雙(2·氨乙氧基)乙烧、雙〔2- (2-氨乙 乳基)乙基〕醚、雙〔2-(2_氨乙氧基)乙基〕乙烧、雙 3_說丙基)醚、乙二醇雙(域丙基)_、二乙二醇雙 (3,丙基)_、三乙二醇雙(3遍丙基)醚、乙二胺、 ^ ^ ^ i56- Γκ)、」:了飞基庚烧、Μ·二氨基辛烧、W二氨 十一烧、U一絲環己烧、1,3·二氨基環己烧、M-二 17 200819501 25605pif 氨基環己烧、1,2-二(2^ 7 ^ , 〇 苴、洋口 ^ i 、厶虱乙基)%己烷、u_二(2_
=衣 冬二(L氨乙基)環己烷、雙(4-氨美俨P 基^^6,(氨甲基)二環〔切〕狀、二= 曱土 一% 2,2,1〕庚烷等。此等二胺也可單獨使用一葙 或組合數種使用。 彳更用種 之分2胺系樹脂組成物所含之聚醯亞胺樹脂 里°度),與通常之縮聚合系聚合物之分早旦 同樣,可藉調節單體成分之莫耳比加以控制。也就 聚醯亞胺料,蝴於二胺為丨莫 莫耳之四羧酸二酐,更佳為含 • 95莫耳之四羧酸二酐,特佳為含有〇95莫耳〜〇995 莫耳之四羧酸二酐,最佳為含有〇 97莫耳〜〇 995之 羧酸二酐。 、卄乏四 …聚醯亞胺樹脂之原料(含二胺與四羧酸二酐之單體 料)較好先變成聚醯胺酸(聚醯亞胺前驅物),然後^ 成聚醯亞胺。為使單體原料變成聚醯胺酸,只 ^ 加入單體原料而加熱即可。 Θ 加入聚亞胺樹脂之單體原料之溶劑並無特別限制 但較好為非質子性極性溶劑(&?1*〇也1)〇1虹80^如〇,^好為 非質子性醯胺系溶劑。具體上,可例示凡队二甲替甲醯扩、、 N,N_一甲基乙醯胺、n,N-二乙基乙胺、n,n_二甲基”甲, 基乙醯胺、N-二甲基-2-吡咯烷酮、ι,3-二甲基-2_咪 氧 酮等。 I〜 另外,在加入聚醯亞胺樹脂之單體原料之溶劑中,也 18 200819501
Z30U3piI 可進一步技卢女 一 中,含有絮、卞有以下所示之溶劑。在可共存之有機溶劑 氯甲笨:甲f、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、鄰 溴甲笨一曰之甲笨、對氣甲苯、鄰溴甲苯、間溴甲苯、對 種以上使^、填苯等。此等有機溶劑可單獨使用或混合2 漆。聚胺前驅物而製造之聚酿胺酸係被用作清 心,更::羽區物之對數黏度祕,較好為〇.2 dl々〜2.0 醯亞胺前]·3⑴々〜1…dl/g ’最好為Q.4 dl/g〜0.9 dl/g。聚 前驅物之_之對數黏度,係以Q'5dl/g之濃度將聚酿亞胺 35°C之黏声谷解於-二甲基乙醯胺所得之溶液,在 由前^==前驅物之對數黏度設定於上述之範圍時, 金屬積帅 Μ脂硬化物變得較為牢固,容易形成膜及 裎中,、二 而且,在製造膜及金屬積層體之際之塗佈製 各易保持膜厚之均勻,相當理想。 釀亞胺低聚物 2 亞胺系樹脂組成物所含之醯亞胺低聚物具有式 為1時所J1"、之結構。式(2)中之1為1〜5。式(2)中之1 其紝果可進步提高醯亞胺低聚物之作為可塑劑之效果, 性。 了進步提兩聚醯亞胺系樹脂組成物之低溫接著 〇ΖΛ\Ν' Ο 〇 ο X If 〇〇 〇jf A3i〇Z Υ 〇 ⑵ 弋(2)中之Α3具有下式(cl)〜(c4)中之一所示之 19 200819501 joiopir ο f聋。另外,式⑺中之絲好具有下式(c5)或(c6) 中之-所示之結構。在式⑴)〜(' ),(:6) 自包含單鍵、一0 〜 )中X7〜12係廷擇
S co 、一COO—、— c 既可互相相同,亦可相里。x 1 . —NHC0—之群, π样从/相異7〜12鍵結於構成笨環之碳中之 如,式⑵中之A3具有式(峨編) … CH, •C(CF3)2- so (cl) -x9--
X 10 JT-Xirf -χ12- (c4) -Q-o-0-0-0- ...(c£ (c6) O~°O-〇-〇m〇- ·
• · · (c7) 式⑵中之b3具有下式( 〜㈤0)中之一所示之結構3。;:具 (c8) 結構。另外,式(2)中n h 所不之 ;生與成本之觀點等力-選擇即可3。:欠 W系選擇自包含單鍵…〇…—s — C ⑽)Π (叫 r、—so「、— —之群,既可互她同,亦可相異〕。U結於構j 20 200819501 2^6UDpir %之石反原子中之一。又〜為-coo一或—NHC0 情鍵結之方向為任何方向皆可。 U …(dl) Y^v7-rr
• (d3) 一之 (d2) (d4) 11
»〇Ί〇ν〇^χχ .··_ h3c ch3 _Yi2〜CC ·.· )〇"c »°1〇:
(d9) (d6) (d8) 以下式(ei)或⑻表示,但以下 二群氫 N -C(CH3)2 co—或-coo-。&為—c⑻ 形,其鍵結之方向為任何方向皆可。” (el)
r3、 (e2) (e3) R4,^\ 你*本發明之聚輕㈣樹麵成物所含之醯亞胺低聚 ’較好具有1000以上、5_以下之重量平均分子量(又 21 200819501
2^t)U3plI 稱Mw)。醯亞胺低聚物之重暑 透色譜法加以測定(測定條千=,可利用凝膠滲 四气哕喃,4、# ·彳"·牛為私測為·· RI,擴展觸媒: 四a夫南,机速.iml/mm,桎溫度·· 醯亞胺低聚物之重量平八 少加熱樹脂組成物時之蒸發】範圍時,可減 果,相當_ H *會降低可塑化之效 〜、另外攸抑制墓發量盘接古-^月w 4 丁 衡之觀點言之,重量 '、^里/、“可塑性之平 ο _。以下,更好為圆以上 上、3500以下。 3500以下’最好為1500以 酿亞胺低聚物之製法 物可系脂組成物所含之醯亞職 胺及二私蛛/衣1^。例如,可使含四綾酸二酐、二 反庫而二二酐;=及必要時添加之溶劑之原料起酿亞胺 酐:=ί:=制原料所含之各成分(四紐二 聚物(後述)。獨之莫耳比而獲得理想之酸亞胺低 中,=亞胺低聚物之原料中所含之四缓酸二酐之例 3 3,4 41 均四酸二軒、3,3',4,4L聯苯四幾酸二酐、 i酐:雔—四舰二酐、雙(3,4_二縣苯基)鱗 苯基)i二酐二竣t苯幻躺二針、雙(3,4-二縣 ^ ^ 又(3,4·一竣基苯基)曱烧二酐、2,2_雙 ]"-二,基苯基)喊二酐、2,2_雙(3,4_二縣苯基) H二氟丙烧二肝、(3,4_二縣苯氧基) •,又(3,4·—羧基笨氧基)苯二酐、1,4_雙(3,4- 22 200819501 ζ^ου^ριτ 二羧基苯氧基)聯苯二酐、2,2-雙〔(3,4-二羧基苯氧基) 苯基〕丙烷二酐等。醯亞胺低聚物之原料中所含之四羧 酸二酐為1或2種以上。 . 在醯亞胺低聚物之原料中所含之二胺之例中,含有 . 間苯二胺、鄰苯二胺、對苯二胺、3J-二氨基二苯醚、 3,4’-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基二苯醚、3,3f-二氨基二苯 硫鍵、3,心二氨基二苯硫鍵、4,4f-二氨基二苯硫鍵、3,3f-二氨基二本礙、3,4’-二氨基二本^風、4,4’-二氨基二本石風、 ^ 3,3f-二氨基二苯曱酮、3,3’-二氨基二苯曱烷、3,4’-二氨基 二苯曱烷、4,仁二氨基二苯曱烷、2,2-雙(3_氨苯基)丙 烷、2,2-雙(4-氨苯基)丙烷、2,2-雙(3-氨苯基M,l,l,3,3,3-六敗丙统、2,2-雙(4-氨苯基)-1,1,1,3,3,3_六氣丙燒、3,3’_ 二氨基二苯亞颯、3,4’-二氨基二苯亞颯、4,4’-二氨基二苯 亞颯、1,3_雙(3-氨苯基)苯、1,3-雙(4-氨苯基)苯、 M-雙(3-氨苯基)苯、1,4-雙(4-氨苯基)苯、1,3-雙(3-氨苯氧基)苯、1,3-雙(‘氨苯氧基)苯、1,4-雙(3-氨 、 苯氧基)苯、1,4-雙(4-氨苯氧基)苯、1,3-雙(3_氨苯 基硫鱗)苯、1,3-雙(4-氣苯基硫喊)苯、1,4-雙(4-氣 苯基硫醚)苯、1,3-雙(3-氨基苯砜)苯、1,3-雙(4-氨 基苯颯)苯、1,4-雙(4-氨基苯砜)苯、1,3-雙(3-氨基 苄)苯、1,3-雙(4-氨基苄)苯、1,4-雙(4-氨基苄)苯、 ' U-雙(3-氨基-4-苯氧基苯曱醯)苯、3,3-雙(3-氨基笨 ‘ 氧基)聯苯、3,3-雙(4-氨基苯氧基)聯笨、4,4-雙(3- 氨基苯氧基)聯苯、4,4-雙(4-氨基苯氧基)聯苯、雙〔3_ 23 200819501 (3-氨基苯氧基)苯基〕醚、雙〔3_ (4_氨基笨氧基)苯 基〕醚、雙〔4_ (3-氨基苯氧基).笨基〕醚、雙& (4_ 氨基苯氧基)苯基〕鱗、雙〔3- (3_氨基苯氧基)苯基〕 * 酮、雙〔3- (4-氨基笨氧基)苯基〕酮、雙〔4_ (3_氨基 _ 苯氧基)苯基〕酮、雙〔冬(4-氨基苯氧基)苯基〕酮、 雙〔3- (3-氨基本氧基)苯基〕硫喊、雙〔3_ (‘氨基苯 氧基)苯基〕硫_、雙〔4· (3-氨基苯氧基)笨^妒 f、 醚、雙〔4_ 氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙(3_ 氨基苯氧基)苯基〕颯、雙〔3- (4-氨基苯氧基)苯基〕 颯、雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕砜、雙〔4_ (‘氨基 苯氧基)苯基〕砜、雙〔3_ (3_氨基苯氧基)笨基〕甲 烧雙〔> (4_氨基本氧基)苯基〕甲烧、雙〔4_ ( 3_ 氨基苯氧基)苯基〕甲院、雙〔4_ (4_氨基苯氧基)苯 基〕甲院、2,2-雙〔3-(3-氨基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2_ 雙〔3- (4_氨基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2_雙〔心(3_氨 基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2-雙〇 (4-氨基苯氧基)苯 J 基〕丙烷、2,2"雙〔(3-氨基苯氧基)苯基〕-l,l,l,3,3,3- 六氟丙烷、2,2_雙〔3_(4_氨基苯氧基)苯基〕_1,1,1,3,3,3_ 六氟丙烷、2,2-雙〔4_ (1氨基苯氧基)苯基〕义u,3,3,’3_ 六氟丙烷、2,2_雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕·mm . 六氟丙烷等。醯亞胺低聚物之原料所含之二胺為丨或2種 以上。 在亞胺低聚物之原料所含之二幾酸酐之例中,含 有馬來酸酐、降冰片烯酸酐等。或者是,也可使用4 24 200819501 ^^bU^pit 乙炔基苯)鄰苯二曱酸酐、及4- (2-乙炔基)鄰苯二甲 酸酐等之藉由三量化而形成苯環之化合物。 醯亞胺低聚物之原料所含之溶劑以有機溶劑為佳, .在有機溶劑之例中,含有苯酚、鄰氯酚、間氯酚、對氯 _ 酚、鄰曱苯酚、間曱笨酚、對曱苯酚、2,3-二曱苯酚、2,4- 二曱苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二曱苯酚、3,4-二曱苯酚、 3,5-二曱苯酚、N,N-二曱替甲醯胺、N,N-二曱基乙醯胺、 N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二曱基甲氧基乙醯胺、N-二曱 f 基-2-吼洛:!:完酮、1,3-二甲基-2-味唾琳二酮、N-曱基己内 醯胺、1,2-二甲氧基乙烷、雙(2-曱氧基乙基)醚、1,2-雙(2-曱氧基乙氧基)乙烷、雙〔2- (2-甲氧基乙氧基) 醚、四氫呋喃、1,3_二噁烷、1,4-二噁烷、吡啶、皮考琳、 二甲基亞颯、二曱基颯、四甲基脲、六曱基磷醯胺、茴 香醚等。此等有機溶劑可單獨使用或混合2種以上使用。 在醯亞胺低聚物之原料中,也可進一步共存有以下 所示之溶劑。在可共存之有機溶劑中,含有苯、曱苯、 “ 鄰二甲苯、間二曱苯、對二甲苯、鄰氯曱苯、間氯甲苯、 對氯甲苯、鄰溴曱苯、間溴曱苯、對溴曱苯、氯苯、溴 苯等。 在醯亞胺低聚物之原料中,也可含有用來提高醯亞 胺化反應(後述)之觸媒,例如有機驗性觸媒。在有機 鹼性觸媒之例中,含有三乙胺、三丁胺、三戊胺、N,N-’ 二甲基苯胺、N,N-二乙基苯胺、吡啶、α-皮考啉、β·皮 考琳、丫_皮考琳、2,4_二曱吼。定、、啥琳、 25 200819501 256U5pit 異喹啉等,理想者為吡啶、γ-皮考啉。 在醯亞胺低聚物之原料中之觸媒含量,只要實質上 能提高聚合反應速度即可,並無特別限制,例如相對於 四羧酸二酐為1莫耳,其含量為0.001〜0.5.莫耳。 . 就製造醯亞胺低聚物之步驟而言,可列舉:(1 )使 一胺與四羧酸二酐反應後,添加二羧酸酐而使其持續反 應’或(2)加入二胺與二羧酸酐使其反應後,添加四羧 『酸二酐成分而使其持續反應,或(3)同時添加二胺化合 物、四緩酸一酐及二竣酸酐使其反應之步驟等,也可採 用其中任一步驟。 在醯亞胺反應之例中,含有熱醯亞胺化、化學醯亞 月女化、直接熱酿亞胺化。 所谓熱醯亞胺化,係使前述原料在1〇〇它以下之低 溫,具體上,在-20〜70°C,較好在〇〜6〇°c下反應而合 成醯亞胺低聚物前驅物,接著,將溫度提高至i〇〇〜2〇(rc 而使其醯亞胺化,藉以獲得醯亞胺低聚物之方法。所謂 , 化學醯亞胺化,係利用醋酐等醯亞胺化劑,以化學方式 將前述醯亞胺低聚物前驅物施行醯亞胺化之方法。 另一方面,所謂直接熱醯亞胺化,係混合二胺、四 羧酸二酐及二羧酸酐後,在有機鹼及/或共沸脫水用溶劑 之存在下或不存在下迅速升溫,直接使反應系統_產生 之S&亞胺低聚物前驅物酿亞胺化之方法。 醯亞胺化之反應時間因使用之單體種類、溶劑種 類、有機鹼觸媒之種類、共沸脫水用溶劑之種類、量及 26 200819501 反應^度而異,就目標而言,為j 時。 直接熱酿亞胺化之情形,就目標而言 至德出之水達到理論量(通常無法全部回收,,;為5= 率)’?常需要約數小時之反應時間。此情形, 一:又木以甲苯等共濟劑除去醯亞胺化所生之水之方 法’且此方法相當有效。
44小時,通常為數小 fe亞胺化之反應壓力並無特別限制,通常只要為大 氣壓=可。gf亞胺化反應通常在含空氣、氮、氨、氛、 氬之環境氣體下進行,較好為在惰性氣體之氮及氯之環 境下進行,但並無特別限制。 、醯亞胺低雜之顯所含之單體成分之濃度(聚合 派度)亚恶特別限制,但_般約為1〇〜6〇树%。低於 wt%之情形,有時需要極端長之反應時間,且超過術心 之情形,有原料難以溶解,反應效率不良之虞。聚合 派度,較好為20〜50wt%,更好為3〇〜4〇wt%。 醢亞胺低聚物之分子量與通f之騎合彡聚合物之 分子量之情形相同,可_節_所含之單體成分之莫 耳比加以控制。醯亞胺低聚物之原射,相對於二胺為1 莫耳,含有〇.5〇〜請莫耳之四醜二酐相當重要,更好 為含有㈣〜謂莫耳之四_二酐,特好為含有0·50〜 〇·65莫耳之四紐二酐,最好為含有G.50〜0.60莫耳之四 缓酉文-酐。適且地控制單體成分之比率而製造時,如前 所述’可製造具有理想分子量之醯亞胺低聚物。 200819501 256ϋ5ριί 相對於二胺為丨莫耳之_酸二酐,含有低於〇·興 耳日守5 ^里地產生二胺與二羧酸酐組成之雙醯亞胺, 加熱時之蒸發量會增多,故並不理想。另一方面,超過 • 0.80莫耳日彳’ ϋ分子量增加,會降侧如仙作為可塑 - 劑之情形之可塑化效果,故並不理想。 又I亞胺低聚物之原料所含之二羧酸酐之莫耳數 Μ5與四羧酸二酐之莫耳數Μ3、及二胺之莫耳數綱滿足 以下之數式之關係相當重要。 (Μ4-Μ3) x2xl.〇^M5^ (Μ4-Μ3) χ2χ2.2 較好為滿足(Μ4-Μ3) x2xl.〇-M5S (Μ4—Μ3) χ2χ2·0之關係,更好為滿足(Μ4 —Μ3) χ2χ1·〇^Μ5$ (Μ4—Μ3) χ2χ1·5之關係;較好為滿足(Μ4—Μ3) χ2χ1·0^Μ5$ (Μ4-M3) χ2χ1·2之關係。 、(Μ4-M3) χ2χ1·〇>Μ5時,產生之醯亞胺低聚物會 殘留胺基,加熱時會著色,在外觀上不理想。另一方面, (Μ4— M3) ><2x2.0<]V15時,會多量地產生二胺與二羧酸 I 酐組成之雙醯亞胺,加熱時之蒸發量會增多,並不理想。 聚S&亞胺糸樹脂組成物 本發明之聚驗亞胺系樹脂組成物之特徵在於:包含含 有前述通式(1-1)所示之重複單位與通式(1-2)所示之 重複單位之聚醯亞胺樹脂,以及含有前述通式(2)所示之 醯亞胺低聚物。聚醯亞胺樹脂既可為硬化後之樹脂,亦可 為硬化時產生通式(1-1)所示之重複單位與通式(丨_2) 所示之重複單位之樹脂(聚醯胺酸)。 28 200819501
UbiDpir 在聚醯亞胺系樹脂組成物中,相對於前 份,前述通式(2)所示之酸亞胺低聚物 為3有5重里伤以上、100重量份以下,更好為含有職 份以上、90重量份以下,.最料含有戰量份以上、 r 量份以下。聚輕賴脂與酿亞胺低聚物之轉在 圍内時,《亞胺系_組成物之玻_移溫度變得充= 低’使用於需要低溫接著性之金屬積層體之情形特別: 用。另外,使聚酸亞胺系樹脂組成物硬化而作為膜及 情形’可降低其脆度’相當理想。 使本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物硬化而使用作為挽 性印刷基板用之積層體或接著薄片之樹脂層之情形,聚萨 亞胺系樹脂組成物之玻璃轉移溫度以在1〇〇t以上、3〇〇< 以下之範n為佳。另外,從實現在低溫條件下之接著之 點百之,以100〜240 c為佳,1〇〇〜2〇〇〇c更佳。 本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物在不損及本發明之目 的之範_ ’可包含其他任意之熱錄樹脂等。 —在任意之熱塑性樹脂之例中,含有聚乙稀、聚丙稀、 聚氯乙稀、聚偏二氯乙稀、聚丁二稀、聚苯乙歸、聚醋酸 乙烯酉旨:ABS樹脂、聚對苯二甲酸丁二醇醋、聚對苯二甲 酸乙二醇s旨、聚苯ϋ、聚碳酸§旨、PTFE、赛珞路、聚丙稀 酉欠酉s來醚腈、聚酏胺、聚硬、聚醚颯、聚醚酮、聚苯硫 醚、聚Sf輕胺、聚輕胺、改㈣苯驗聚醯亞胺等。 ^在任意之熱塑性樹脂之例中,含有熱硬化性聚丁二 烯甲醛树脂、胺基樹脂、聚氨酯、矽樹脂、SBR、、 29 200819501 25605pif 不飽和聚酯、環裊士士 ^ 醯亞胺等。 对知、#氰酸酯、酚醛樹脂及聚雙馬來 可依目的,蚀1 性樹脂藉由適者旦、Θ人或2種以上之熱塑性樹脂及熱可硬化 脂組成物,錢合金化而包含於㈣亞胺系樹 & 並無特別限定,可適用習知之方法。 在不缺本發明之目的之範圍内,也可 =物=各種填充劑或添加劑。在填充“添加 ^例中3有石墨、碳化矽、石粉、二硫化鉬、氟李榭 脂等耐磨損性烊%% 一卜 匕知氣糸树 性辦強,·、η + 二氧化銻、碳酸鎂、碳酸約等難燃 々曰六,陶土、雲母等電氣特性增強劑;石棉、二氧化 L、石墨等耐漏電性增強劑;硫酸鋇、二氧化碎、石夕酸詞 荨耐酸性增輸、鋅粉、姉、銅粉雜傳導度增 強劑;其他_細珠、_球、滑石、㈣土、氧化紹、 ,微粒土、、,水合氧“、金屬氧化物、著色料及顏料等。 混合方法並無特別限制,可適用習知之方法。 、本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物,也可使包含含有前 述通,(3_1)所*之重複單位及前親^ (3_2)所示之 重複單位之聚醯胺酸(醯亞胺前驅物),以及與前述通式 (2)所不之醯亞胺低聚物之溶液之聚醯胺酸醯亞胺化,且 使醯亞胺《物反應而獲得。醯亞胺㈣物係使末端之雙 鍵彼此聚合而不可逆地高分子化。醯亞胺低聚物之聚合物 可利用IR確認雙鍵之存在而加以檢測。 尤其,將含有聚醒胺酸(酿亞胺前驅物)與酿亞胺低 聚物之溶液之塗佈膜加熱乾燥等而除絲劑,且使其酿亞 30 200819501 25605ριί 胺反應而硬化時,可獲得膜或層狀之聚醯亞胺系樹脂組成 物。 含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液之溶劑並無特別 - 限制,但較好為非質子性極性溶劑,更好為非質子性醯胺 系溶劑。具體上,可例示Ν,Ν-二曱替甲醯胺、ν,Ν-二甲基 乙醯胺、Ν,Ν-二乙基乙醯胺、Ν,Ν_:甲基甲氧基乙醯胺、 Ν_二曱基士吡咯烷酮、二曱基_2_咪唑啉二酮等。 含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液之黏度並無特別 限制。例如,使用E型黏度計在25它測定之黏度為100〜 20,000 mPa · s之範圍時,欲塗佈該溶液時,較容易控制塗 佈厚度。 ι 對含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液熱處理時,會 發生聚胺酸之醯亞胺化及醯亞胺低聚物彼此之反應,而 成為聚醯亞胺系樹脂硬化物。熱處理之壓力通常只要使用 大氣壓即已充分足夠,但也可在加壓下進行。熱處理之環 境氣體並無特別限制,通常為空氣、氮、氦、氖、氬,較 ^ 好為惰性氣體之氮及氬。 又,在含有聚si胺酸與酿亞胺低聚物之溶液中,基於 促進、或抑制熱處理所進行之交聯反應,或控制其反應速 度之目的,也可添加觸媒等之添加物。觸媒之例中,包括 含有叙、鍺、銦或錯之金屬觸媒;含有翻、猛、鎳、錢、 鈷、鉻、鐵、銅、錫或鉑等之過渡金屬觸媒;及磷化合物、 矽化合物、氮化合物或硫化合物等。 又,在含有聚si胺酸與醯亞胺低聚物之溶液中,基於 31 200819501 ^^OUDpll 同樣目的,也可施行紅外線、紫外線或α、線等放射 線、電子線及X線之照射,以及電漿處理或摻雜處理。
本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物也可形成膜。為了形 成膜,只要將含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液塗佈在 基材,而使所得之塗膜脫溶劑化及醯亞胺化反應而硬化 後,由基材加以剝離即可。在基材之例中,含有金屬箔或 玻璃等無機基板、或聚合物膜等。又,對基材之塗佈只要 利用塗佈機等進行即可。塗佈厚度受到含有聚 醯胺酸與醯 亞胺低聚物之溶液之固形份濃度所影響,脫溶劑化及醯亞 月女化反應後(也就是說,「硬域」)之㈣亞胺系樹脂 硬化物之膜厚以1 mm以下為宜。 贶浴劑化及亞胺化(也就是說,「硬化」)之方法 3=別_ ’只要在減壓下,或在氮、氦、氬等惰性環 广:下進灯即可。又,只要設定於使用之溶劑之濟點以 /^醯亞胺化反應進行之溫度以上即可,例如使用非質子 糸酿胺溶劑之倩形,只龙少ΟΛΑ。 、 亞胺化所〇以上即可。脫溶劑化及酿 分足夠。 寸別限制,通常只要2小時,即已充 2·金屬積層體 本I明之金屬積層體包含金續 體中包含1層或2層以上之料』屬i屬積層 声係由太癸昍夕取舻 树月日層。其中之一層以上之樹脂 二/^&亞胺系翻旨組成物之硬化物(又稱掏 形成W Α °金屬積層體絲好具有雜亞胺膜、 形成於««胺.單㈣雙蚊雜麵層、及積層 200819501 25605pif 於該聚輕胺層之-方或兩方之域層;接觸於金屬層之 聚醒亞胺層係由前述之本發明之聚輕胺祕脂組成物之 硬化物所構成。 樹脂層 如前所述,本發明之金屬積層體包含1層或2層以上之 聚酸亞胺娜層,射之丨層以上之細層係由本發明之聚 酸亞胺系娜組成物之硬化物所構成。含#2層以上之聚酸 亞胺樹脂層之情形’較好的是鄰接之層係由成分互異之聚 亞胺所構成。所謂聚酸亞胺之成分減,係指單體單位 之種類及/或含量相異之意。又,構成單層之雜亞胺層或 多層之聚酸亞胺層之層的至少巧,也可由2種以上之層之 聚酿亞胺賴奴組祕(混合物)所賴。 " /也就疋5兒,構成金屬積層體之聚醯亞胺層為單層之情 开二。亥層係由本發明之聚酿亞胺系樹脂組成物之硬化物所 ,成。另—方面’構成金屬積層體之聚醯亞胺層為多声之 ί形接==亞:!獻單面或雙面之多層聚‘層 ;盈_層之♦鉍亞胺層係由本發明之聚醯亞胺系 =月曰,成物之硬化物所構成之層。上述係為了提高與金屬 曰之讀性之故。接觸於金屬層之聚醯亞 =广_下’較好為。以上、1〇_=為 更好為0·1μηι以上、5μηι以下。 -厚:太=金屬積層體之聚醯亞胺層(單層或多層)之 =度,:,剛性會增強,而不能使用於需要彎曲等之 切日调衫卿能錢雜及操作财面使用之 33 200819501 限制。 為:b上金積層體所含之聚酿亞胺層之厚度合計較好 為3,以上、75μιη以下,更好為1〇师以上、 =好 之厚度在上述__,金騎層體且有⑦续 性、柔賴、作業冊異且縣低廉之傾向。〜,’,巴緣 聚醯亞胺膜 $如前所述,金屬積層體可具有聚酿亞胺膜、 醯,贿之單面或雙面之聚酿亞胺層、及積層於該聚酿= 二曰:之-方或兩方之金屬層。該金屬積層體所含之聚酿 ΐ膜ΓΤ為使塗佈非熱雜魏亞胺之前驅體乾燥而得之 J·生取妒可為市f之雜錄城亞賴。在市售之非敎塑 胺膜中,含有優匹列克斯s、優匹列克斯SG:: 】克斯SN (宇部興產株式會社f,註冊商標/商品 合私制aptonH、Kapton v、KaP_EN (東麗•杜邦株式 二二,註冊商標/商品名)、Apieal AH、ApkaiNpi、細㈤ ί, 朱式會社kaneka製,註冊商標/商品名)等。 主屬積層體所含之前述雜亞賴使用㈣之 亞胺膜之情形,其厚度通常為3,以上、75_ = 亞胺^為!.5哗以上、4〇哗以下之範圍。又,前述聚酿 、為使塗佈非熱塑性聚醯亞胺之前驅體乾燥而形成之 二、’其厚度為G.l_以上、卿m以下,較好為〇·5陣以 5μΠΐ以下,更好為0.5,以上、16,以下。 金屬層 “蜀%層體所含之金屬層並無特別限制,可選擇自銅 34 200819501 256ϋ3ριί 及銅合金、不銹鋤Β甘 叙;5叙人八μ鋼及金、鎳及鎳合金(亦含42合金)、 声。入^ ^寺之金屬層,較好為銅或銅合金之層、不銹鋼 可將金屬箔貼合於樹脂層而形成,也可利用 ;x明之聚醯亞胺系樹脂組成物所形成之樹脂 層。 你m 積層體所含之金屬層之厚度只要可將金屬積層體 使用作為膠帶之厚度,並無特別限制,通常為0·1_以上、 150μιη以下’較好為2μιη以上、丨m以 十、—,特好為一以上、3一以下,最子t3 = 上、12μιη以下之範圍。 金屬積層體之製法 本發明之金屬積層體只要在不損及本發明之效可 =地參,知之金屬積層體之製法加以製造’並無特別 限制。例如,可利用如以下之方法製造。 、、⑴加熱壓接單層或多層之聚醢亞胺膜與金屬箱之方 法0 / (2)將聚㈣㈣樹齡成物之清漆 使其乾燥之方法。 ,、至屬ν白後 以金屬層作為最外層之方式積層下列積層體:⑴ 次積層體U)、與下列積層體⑴或積層體(ii 脂層彼此相接疊合而積層)之方法·· ' ,層體⑴:僅在加熱壓接單層或多層之聚酿亞胺膜 /、孟屬箔而得之僅有一方之面具有金屬層之積層體。、 35 200819501 25605pif 積層體(11 :r㈣乾燥-===積漆 可 伯使用於金屬積層體之製造之金屬羯並無特別限制, 使用習知之金屬箔。在金屬噹 不鉉人八# 〃屬咱之例中,含有銅及銅合金、
合金(亦含42合金)、銘及紹合 =寺之金屬層’較好為銅_合金、或不軸。金屬唱之 ^只f:,:乍為膠帶之厚度,並無特別限制,通常為 以上、150_以下,較好為2陣以上、15〇陣以下, ^好為3陣以上、5〇陴以下,特好為以上、%降以下, =好、ΐ2μηι以下之範圍。製造金屬積層體之 :’塾接金Um亞闕之表面也可被騎電聚處理 或電暈放電處理。 、々製造本發明之金屬制體之際之加麵接只要利用以 ,等為熱狀加減介質加_加熱之金屬輥、或以橡膠 等鍍覆金屬輥表面之輥間施以層壓之方法、或利用熱壓機 之方法等施行即可。前者適合於連續之輥製品之製造,後 者適合於切片狀之散張製品之製造,可適宜地依用途加以 利用。 ^又,加熱壓接只要在空氣、氮、氬等之氣體環境下施 订即可。加熱溫度需要熱塑聚醯亞胺之玻璃移轉溫度以上 之溫度,較好為比玻璃移轉溫度高約2〇。〇以上之溫度,通 系為100〜400°C,較好為只要在150〜300。(:之間施行即 可。又,加熱時間較好為〇.01秒以上、15小時以下,加熱 36 200819501 25605pif 壓力只要御.l〜„a之關印可飞,吊^5〜ι〇ί^。 又,在加熱壓接後,基於進-步提高金屬積層體之密 接力之目的,也可利用高壓釜等施行後處理。後處理係以 如以下之條件進行。後處理溫度通常為15〇〜4〇〇它, 為2⑻〜^:,處_間為!分〜5〇小時,壓力為常^〜 3MPa之耗圍。南壓爸裝置内較好為真空或以氮或 氣體取代,以防止金屬箔之氧化。 、月14 在本發明之金屬積層體之製造方法中 聚麵系樹脂組成物之清漆(含有聚酸亞胺酸】=! ,聚物之溶液)之情形,可利用輥式塗佈機、口‘ = 機、凹版塗佈機、浸潰塗佈機、喷霧 ς ==、括條塗佈機等一般的塗佈裝置= 可依β^之黏度及塗佈厚度適宜選擇。 土 塗佈後之㈣亞㈣樹脂組成物 地利用以電氣加熱或油加熱之熱風或^ 2可適宜 金屬箱之氧化引起之變色之目的,必之變質、及 外’::氮、氬或氫等氣體取代乾燥環境氣體可在空氣以 塗佈後之聚醯亞胺系樹脂組成物之ί、=: 60〜6啊之溫度範时 燥較好在 止在乾燥中由塗膜起 ^幵皿度而進行。如此,可防 獲得膜厚均句:=:或在纖之膜表面產生凹凸, # / 尺寸穩定性更為優異之樹妒勝 胲之形成而言,相當理想 二,故對絕緣 度適宜選擇即可。 / /、要以〇·05〜500分程 200819501 25605pif 接者薄片 本發明之接著薄片係具有樹脂膜、形成於 早面或雙面之本發明之樹餘成物之硬所之 層。所謂樹顧,可.例示f知之樹 2成之树脂 ^好為了.料之聚酸亞胺膜。有關在樹脂膜 又面形成樹脂層之方法,也無㈣限制,好 5 金屬積層體之製造方法所示,利用 =剛述之 之清漆之塗佈及乾燥加以形成t ^亞㈣樹脂組成物 [實施例] 以下,依據實施例及比較例更詳細地說明本發明。 發明之範圍不因此而受任何限定及解釋。 在實施例及比較例中,是依照下列方法來測定各物 聚醯胺酸之評估 Ο對數黏度(rjinh):將聚醯胺酸清漆添加至 曱基乙醯胺溶劑中,而將固形份濃度調整至0.5岁出後,在 設定於35°C之恆溫槽内加以測定。 2) E型黏度··使用E型黏度計(r〇1〇5A,東機產業 株式會社)在25°C—定之條件下,以3。錐形旋轉器測定。 酿亞胺低聚物之評估 Ο對數黏度(riinh)·•將醯亞胺低聚物添加至n,N-二 曱基乙醯胺溶劑中,而將醯亞胺低聚物固形份濃度調整至 〇·5 g/dl。而且,將其溶液調整至35°C而測定對數黏度。 38 200819501 25605pif 2) 分子量(重量平均分子量Mw,數平均分子量Μη): 利用Shodex公司製GPCsystem-21H系列(檢測器:RI,擴 展觸媒:四氫吱喃,流速:1 ml/min,柱溫度:40°C )加 以測定。 3) 玻璃轉移溫度(Tg):利用島津製作所(株式會社) 製熱分析裝置DSC60系列,在含氮環境氣體下測定。 聚酸亞胺系樹脂組成物之評估 1 )玻璃轉移溫度(Tg ):利用島津製作所株式會社製 熱分析裝置DSC60系列,在含氮環境氣體下測定。 2) 去膠渣(desmear)速度:將聚醯胺酸溶液塗佈在玻 璃板上,在含氮環境氣體下,以30(TC加熱4小時而製作聚 醯亞胺膜。切下取出6x2 cm2之大小之試樣,作為測定用試 樣。蝕刻液,係混合MACUDAIZAR 9275 (日本MacDermid 公司製)50g、MACUDAIZAR 9276 (曰本MacDermid公司 製)50ml及離子交換水成為整體1公升所調製而成。將試 樣浸潰於蝕刻液中15分鐘後,沖洗、使其乾燥,由浸潰前 後之重量變化算得去膠渣速度。 3) 揮發性:相對於聚醯胺酸固形份1〇〇重量份,將醯 亞胺低聚物33重量份添加至聚醯胺酸清漆而調製溶液,使 其流延至玻璃基板上。將在含氮環境氣體下以24〇〇c加熱15 分鐘所得之膜剝離,切成5 cm見方。將此膜放入玻璃器皿, 而在含氮環境氣體下以280°C加熱30分鐘後,冷卻至室溫。 以目視觀察附著於玻璃器皿上蓋之析出物之量,而以〇(無 39 200819501 25605pif 析出物)、△(稍有析出物)、X (幾乎全面地有析出物)之 基準加以評估。 金屬積層體之評估 . 1) 剝離強度:依據jISC_6471測定。準備平行於金屬 箔之流動方向的長5〇 mm、寬! mm的試樣,在23。〇、相對
濕度50%的環境下使金屬箔成9〇度的角度,以剝離速度5〇 mm/min從絕緣層剝離,測定其應力。 2) 焊料耐熱溫度:依據IPC-TM_650 (The institutefe
InterC()nnecting and Packaging Electronic Circuits ) N 〇·2·4·13測定。在24(rc至34(rc之間每隔1〇t,以不發生 膨脹及金屬與聚醯亞胺界面變色之最高溫度作為焊料ς熱 溫度。試樣使用在8VC、相對濕度85%之環境下保存48 時之試樣。 化學結構之確認,係使用日本電子株式會社製之核磁 共振(NMR)裝置ΕΧ4⑽加以確認。 實施例及比較例中使用之溶劑、二胺、四緩酸二肝、 二羧酸酐之簡稱如以下所述: — 1) 溶劑: DMAc : Ν,Ν-二甲基乙醯胺 2) 二胺: ΑΡΒ : 1,3-雙(3-氨苯氧基)苯、 APB-R ·· 1,3-雙(4-氨苯氧基)笨、 m-BP : 4,4’-雙(3-氨苯氧基)聯笨、 200819501 25605pif 3) 四羧酸二酐 BTDA · 3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、 DSDA :雙(3,4-二羧基苯基)磺酸二酐、 ODPA :雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、 BPDA : 3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐、 PMDA :苯均四酸二酐、 4) 二羧酸酐: MA :馬來酸酐 NDA :降冰片烯酸酐 [合成例1-1] 聚醯胺酸清漆的合成 在具有攪拌機及氮導入管的容器中,裝入DMAc (991g)作為溶劑後,於此裝入APB ( 146.25g)、APB-R (61.39g)而在至溫擾拌至溶解為止。接著,褒入btda (219.92g),在50 c擾拌6小時,而得聚酿胺酸清漆。 所獲得的聚醯胺酸清漆之聚醯胺酸固. 為祕,龍減編响,坑+调=為= [合成例1-2〜M5] 除了變更_酸二酐、二胺之種類及料 所示者二外,與合成例丨同樣地合成聚酸胺 與合成例1 一併揭示於表1。 將…果 41 200819501;
副ε π go寸 οοςα: oolocr' οοοοι 00寸 00Γ(Ν 000,00ιΛΙΙ 00 寸ΓΤΓ 000t 寸 0051 00 寸,ϊ oo^el οοςΓίι 0051
s/IPcrVNa〕 qu{U <Ν 一 OCNCN — moooc — ΟΝΟΟΟΟ Όν〇ν〇^〇Ό〇〇ιη〇ΊΓη — 寸… 0000000(Ν0000000 〔oUI/oal〕 a+u/a+v om/om〕 α/υ 005s6ds/0 e 丨CQdv I 000CP6O iFe-OQdv SdV 009I/P60 iFΉώίίν mdv ooos 卜 60 iFβώΟΗνDQdv 000 I/P60 iFΉ-sv sv 000 10680iF>J>3dV mdv 000 1/5 寸 60e-PQdvPQdv 000 1/000 1 iFΉ-CQdvCQdv 000·ί/ς66Ό s e-advCQdv 000·Ι/ς66Ό iFβ-PQdvOQdv 000 IS6 0 01/0 βώα-ν I 000·Ι/ςΑ6Ό ς/ς e-gdvmdv 000 s 卜 60 1/6 ^«£< sv 009I/S660/01 IPQdv 000cSA6di!L Ήώ€ίν mdv
/IV J!ds9s 〔om/om〕 a/v fe 01/0 01/0 Ui 寸/9 (n/8 0/01 0/01 0/01 0/01 0/01 0/01 0/0 ΐ 0/01 0/0 ΐ 0/01 vasa vasa vasa vasa vasa valOQ valPQ valm vaHs valCQ ValPQ ValOQ vaia vaHa vaia ValCQ ValCQ vaxa n丨i 寸ϊ丨l ει丨i (NI 丨 i I,i ow 6 二 8丨一 ΖτΙ 9丨1 彳一 tI £丨1 <Ν丨 I I丨一 200819501 256U5pif [合成例2-1] 醯亞胺低聚物的合成 在j有攪拌機、氮導入管、抽出器、冷卻器及 之k瓶中,裝入APB (29.23g,〇1〇m〇1)、〇DpA ( 15 〇,〇5Π^、馬來酸肝(以下稱MA) (11.77g,0.12m〇1)、$
作為容η]之DMAc ( 132g )、作為脫水共沸溶劑之曱笨 (42g)。。其後,攪拌此溶液,一面通以氮氣,一面加熱至 130+〜135%。在内溫達到13(rc附近之同時,發生甲笨與水 之蒸,。利用冷卻器將該等之一部分凝縮而以抽出器將水 與:苯分離後,僅使甲苯回流至系統内,將一部分與流通 之氮氣同時由冷卻管上部蒸餾至系統外。 方e行7小時反應後,冷卻反應容器,停止聚合反應。 將反應混合物裝入於甲醇中而使醯亞胺低聚物析出後,利 用曱醇加以洗淨。其後,在氮氣流通下,以9〇。〇使其乾燥 12小時而得39.59g的醯亞胺低聚物(產率78%)。所得之醯 亞胺低聚物之對數黏度帀汕為〇.〇7dl/g,GPC測定之數平均 分子量(以下稱Μη)為2100,重量平均分子量(以下稱 ]^\¥)為3100,分子量分佈之指標之多分散度]^^舰11為1.5。 為確認所得之醯亞胺低聚物的結構,可透過NMR、 FD-MS測疋確$忍已產生具有目的結構之酿亞胺低聚物。此 酉&亞私低聚物之DSC測定的Tg為118°C。將此酿亞胺低聚物 以濃度40wt%在室溫下混合至DMAc的結果,可迅速溶解。 [合成例2-2〜2-7] 43 200819501 25605pif 除了變更四羧酸二酐、二胺之種類成為表2所示者以 外,與合成例16同樣地施行醯亞胺低聚物之合成、評估。 將結果與合成例2-1—併揭示於表2。 •[合成例2-8] . 在具有攪拌機、氮導入管、抽出器、冷卻器及溫度計 之燒瓶中,裝入APB ( 29.23g,O.lOmol)、〇DPA ( 15 51g 0.05mol)、NDA (9.85g,0.06mol)及作為溶劑之DMAc’ P (163g)。 搜拌所得之溶液,一面通以氮氣,一面加熱至。 在内溫達到160°c附近之同時,發生少量之DMAc與水之蒸 發。利用冷卻器將該等之一部分凝縮而以抽出器將其抽 出,將一部分與流通之氮氣同時由冷卻管上部蒸餾至系統 外。2小時後,將NDA (9.85g,0.06mol)裝入反應器内, 再加熱4小時。其後,冷卻反應容器,停止聚合反應。 將反應混合物裝入於曱醇中而使醯亞胺低聚物析出 後’利用曱醇加以洗淨。其後,在氮氣流通下,以9〇°c使 G 洗淨物乾燥12小時而得41.81g之醯亞胺低聚物(產率 73%)。所得之醯亞胺低聚物之對數黏度dl/g, GPC測定之數平均分子量Mn^1500,重量平均分子量Mw 為2100,分子量分佈之指標之多分散度。 為確認所得之醯亞胺低聚物的結構,可透過NMR、 FD-MS測定確認已產生具有目的結構之醯亞胺低聚物。此 醯亞胺低聚物之DSC測定之Tg為120°C。將此醯亞胺低聚 物以濃度40wt%在室溫下混合至DMAc之結果,可迅速溶 44 200819501 2560$pif 解。 [合成例2-9〜2-14] 除了變更四羧酸二酐、二胺之種類成為表2所示者以 外,與合成例2-6同樣地施行醯亞胺低聚物之合成、評估。 將結果匯總揭示於表2。 [合成例2-15及2_16] 〇 成, 雙醯亞胺之合成 利用日本特開平4_99764號公報所記載之方法加以合 並施行評估。將結果匯總揭示於表2。 45 200819501
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Ms i 51pcrvi〕 lcju 〔3。〕 ^―Ν τ—< ^―-i 1—^ ^―ί. Τ—^ τ—^ r—Η r—Η ^ρ—< 009<ν 009(ν 0§ I 0081 oi 001<Ν 009£ 009ΓΠ οοςΓη οος(Ν 008CNI οοοοΓΝι ΟΟΙΓη 0061 0081 0081 I 00寸ί 00寸一 I 00 寸<Ν ooerNI οοεΓΝΙ 00卜一 000ΓΝ1 000<Ν 00Ι(Ν 600 800 800 i 卜 00 900 i 800 800 0000 900 卜 00 ΖΌΌ i £1) Ο寸I sl) 081 8£ί 6U ooel lCNl s I(Nl § 6U 6U 9U (NiNI <N(N1 l(NI ocu 0 0
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91 丨(N tnI 丨<N 寸 T<N ει 丨<N (NI 丨(N Π·(Ν 01 丨<N 6—(n 00丨<N L,z 9丨3 a 丨<N 寸丨<N s z丨τ I 丨<N 200819501 25605pif [實施例1] 在具有攪拌機、氮導入管及溫度計之燒瓶中,裝入人 成例1-1所得之聚醯胺酸清漆、合成例2-1所得之酸亞胺^ 聚物,而相對於聚醯胺酸清漆中之聚醯胺酸固形份1〇〇重旦 份,使醯亞胺低聚物含有33重量份。 加熱至4 0 °C並混合而裝入D M A c,獲得e型黏度叶中之 黏度為100〜1000之淡褐色透明之溶液。流延所得之溶液而 得之膜的Tg為177°C。又,依序前述程序測定之去膠洁速 度為2ug/cm2/min,揮發性試驗之評估為〇。 其次’在市售之聚醯亞胺樹脂膜(東麗•杜邦株式备 社製、商品名:Kapton 100EN)之雙面,利用輥式塗佈機 塗佈上述溶液,以70°C施行乾燥5分,l〇〇t:施行乾燥2分, 140 C施行乾燥2分,180°C施行乾燥2分,220°C施行乾燥1〇 分,乾炼後之厚度為4μηι。如此獲得在樹脂膜雙面積層聚 醯亞胺系樹脂組成物之聚醯亞胺絕緣膜。 將銅箔(古河Circuit FoH株式會社製、商品名·· 、厚9μιη)直接疊合於所得之絕緣膜之聚醯亞胺系 树脂硬化物層,而利用被覆石夕橡膠之輥式層壓機,在 240C、壓力1·4 MPa之條件下使其貼合。其後,利用溫度 3f°C、含氮環境氣體下之批式高壓蒼施行4小時之退火而 亞胺金屬積層體。聚邮胺金屬積賴之剝離強度 為咖跑’焊料耐熱溫度為3靴。 [實施例2〜29] 47 200819501 25605pif 、除了將聚醯胺酸清漆、醯亞胺低聚物之種類變更為表 3^A或表3B所不者以外,與實施例丨同樣地施行聚醯亞胺系 =月曰組成物之合成及評估,再製作及評估賴亞胺金屬積 層體。將結果揭示於表3A或表3B。 、 [比較例1]
—除了不使用醯亞胺低聚物以外,與實施例1同樣地施 仃life亞胺系樹脂組成物之合成及評估,再製作及評估聚 醯亞胺金屬積層體。將結果揭示於表3A。 [比較例2及3] 除了將聚醯胺酸清漆、含有交聯性基之添加劑之雙酸 ",之種類變更為表3B所示者以外,與實施例〗同樣地施 =酸亞胺系翻旨組成物之合纽評估,再製作及評估聚 齪亞胺金屬積層體。將結果揭示於表3B。
48 200819501 f J!ds9s 【νε ί 焊料耐 献 溫度rc ) 340 340 340 340 300 340 340 300 320 300 330 320 300 290 〇 On (N 300 320 剝離強度 [kN/m ] 0000000000^00000 » •攀》 *»··«*··« r—^ r—Η τ—H f—^ τ—^ r—^ (N 〇 OC 〇 Ο 1 揮發性 試驗 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 〇 〇 < 去膠渣速度 〔pg/cm2/min ] ? \ 1 i 寸 ^ V \_f 177 168 172 196 205 182 172 185 165 155 180 182 186 190 cn Ο (N 〇 0\ IT) ^ Η % ^ 锲 巧侧 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/0 100/11 100/150 通式⑵ 之1 r-H τ—Η τ-^Η τ—Η τ—Η ι—Η τ—Η τ—Η r—^ τ—Η r—Η r-H τ—Η 1 ,丨1 1 < r~H 醯亞胺低聚 物 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 1 合成例2-1 合成例2-1 聚醯胺酸 合成例Μ 合成例1-2 合成例1-3 合成例1-4 合成例1 -5 合成例1-6 合成例1-7 合成例1-8 合成例1-9 合成例1-10 合成例1_11 合成例1-12 合成例1-13 合成例1-14 合成例1-15 合成例1-1 合成例1 -1 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 比較例1 Η τ«·Η 6寸 200819501 〔。。〕ir?i〔 S/S〕 _| 〔.££/p5/3ZL〕〔。。〕 〔玉¥侧〕 審鉍绰鍩ftifg /拿染一一一^鍩饍龄 寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸 寸 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 ο • »»»#···»«♦» » ,丨· ! ( 气 I ( ψ i < , — i' < v-丨— f 崎 f H t_ 1 i 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 τ τ τ τ ζ τ ζ τ τ ζ e τ ζ
寸001 ΖΟΟΙ <ΝοοΙ ZL\ S 6卜一 LLA ecoI 181 oool oz/i PI eil eil §oi §οϊ §01 §01 eil eii iol iol rnsoi §01 1
./IV J!ds9s 【S <】 Η·(Νί#^φ U 丨<Νί4^φ <Νϊ-(Νί4^φ π-(Νί#^φ Οΐ 丨(Ν^^φ 3 OC丨(Νί#^φ ΖΓΓΝΙί卷噠命 9 丨<Νί#^φ ς 丨<Νί4^φ 寸丨2:苳噠^ 3 ϊ丨I冢噠命 1丨1 ί#^φ I丨 I ίφ^φ ϊ 丨 ίί4^φ ϊ 丨一 ί#^φ ι 丨 u#^4 I丨一 ί#^φ I 丨I ί4^φ I丨I革噠令 I丨一ί4^φ I 丨ϊ^^φ Ϊ丨I ί4^φ 6<Nf#^_ ocrsli# 嫁 # 9<Ni#^·s f#德㈣ 寸(Nf杳键^ eCNIf在衮 # <N(Nf#^· ιΓΝΙί冬嫁取 宕苳衮# 61罢嫁取 81革嫜取 ZJi#鸯取
ο寸Γηs X τ d 8— ο 9Ι·<Νί4^<πΙ-ΙΜ5Φ^ si ο芝__5 X τ 091 81/001 0 ςΙ-<Ν¥^φΙ-Ι ί#^φ^ SS 200819501 25605pif 如表3所示,可知:使用不含醯亞胺低聚物之樹脂組 成物(比較例1)製造之金屬積層體之剝離強度較差。故有 時作為接著劑之性能不充分。 又,可知:含有雙醯亞胺以取代醯亞·胺低聚物之樹脂 ,成物(比較例2及3)之揮發性試驗之評估結果較差,曝 露於高溫度環境時,組合物之一部分(被認為是雙醯亞胺) 有昇華之虞。
另一方面,如實施例1〜14所示,含有合成例M〜1 〜14所彳于之聚醯胺酸清漆中之一與醯亞胺低聚物之樹脂組 成物之揮H极之評估較高,使用此所製造之金屬積層 ,之剝離強度也相當充分。χ,如實施例15及16所示,不 =屬胺酸_份與醯亞胺低聚物之量比如何,本發明之 Τ/酉:亞私系树月曰組成物均顯示優異之物性,但聚醯胺酸固 形伤之里比過南(醯亞胺低聚物過少)時,剝離強度有劣 虞,fe亞胺低聚物之量比過高時,揮發性試驗之評估 有降低之虞。 〜又,如,施例17〜29所示,含有聚醯胺酸與合成例2_2 所付之醯亞胺低聚物中之一之樹脂組成物之揮發 驗之評估也較高,使用其所製造之金屬積層體之剝 強度也相當充分。 [產業上之可利用性] f么明之聚醯亞胺系樹脂組成物可使用於耐熱性 卩職缺半導難裝等。 【圖式間早說明】 益 51 200819501 25605pif 【主要元件符號說明】 益 /η、
Claims (1)
- 200819501 25605pif 十、申請專利範圍: 1.-種聚醯亞胺系樹脂組成物,其係、含 所示之重複單位與通式(1·2)所示之重鮮j 論亞胺獅,以及下_式⑺所科_胺低聚物1 〇〇 • · (l'l) • · . (1'2) ΛΛ 1-ΝΥΒΥΝ" 〇〇 〇〇 -α2~ν^β^ν-Π fl 〇〇 [,式(1·1)及式()中,A]AA2分別為下式(ai) 互相相同,亦可相異為下式 ⑽或(b2)’既可互相相同ΟΛ YO I οα^πηο onnA- WKNO N I Z ΟΛ YO N ⑵ 53 200819501 25605pif' [在式(2)中,A3為下式(cl)〜(c4)中之一,b3 為下式(dl)〜(d4)中之一,z為下式(£ΐ)或(e2), 1為1〜5之整數]〔在式(cl)〜(C4)中,乂7〜12係選擇自包含單 鍵 0-、-S-、-CO-、-COOs、—c (CH: NHC0〜之群,既可互相相同, c (cf3) 2一、— so: 亦可相異〕• · · (dl)• · · (d2)〔在式(dl)〜(d4)中,Y7〜12係選擇自包含 • (d4) 、-s-、-CO-、—COO〜、一c (ch3) _ 54 200819501 25605pif -NHCO〜之群,既可互相相同,c(cf3)2---s〇2- 亦可相異〕〔在式(el)或(e2)中,仏〜4係選擇自包含氫原子、 3原子、及碳数卜3的絲之群,既可互相相同,亦可 ^ ,R5 係一0-、-S-、~CH2~、-C (CH3) 2—、 —CO —或—c〇〇 —〕。 私t如申請專纖1第1項所述之㈣亞㈣樹脂組成 物,其中前述通式(H)之Al及通式(1_2)之 一方為(al),另一方為(a2)。 3·如中請專利翻第丨項所述之親亞㈣樹脂 物,其中前述通式⑺之以卜 取 4·如申請專利範圍第}項所述之聚酿亞胺系樹脂組成 勿’、其中相對於前述聚醯亞胺樹脂為100重量份,以前述 通式(2)所示之醯亞胺低聚物含有5重量份以上、1〇〇 量份以下。 5·如申請專利範圍第1項所述之聚醯亞胺系樹脂組成 其中聚醯亞胺系樹脂組成物的玻璃轉移溫度為l〇〇°C 以上、300。〇以下之範圍。 6·如申請專利範圍第1項所述之聚醯亞胺系樹脂組成 55 200819501 25605pif 物,其中在前述通式(2)中,A3 B3係選擇自下式(dl)及(d5)〜 或(e4),1為ι〜5之整數 Ο 係下式(c5)或(C6), (dlO)之群,z 為(e3)〔R3及R4之定義與前述式(e2)相同〕。 、—7.一種混合物,其係含有下騎式(3_υ所示之重 複單下列通式(3_2)所示之重複單位的聚醯胺酸、 以通式(2)所示之酸亞胺低聚物以及必要時所需之溶劑 56 200819501 25605pif II Ο Ο 11 •Α如;^一 Βι Η〇ΐί ίΓ〇Η 〇〇 II Ο Ο II Η〇Ίί Ι~〇Η 〇〇 (3-1) • · · (3-2) Γ [在式(3-1)及式〇υ中,Α】及^分 、 或(a2),既可互相相同,亦可相显二剐述式Ul (Μ)或(b2),既可互相相同,亦’可相異^刀別為前心• · · (a2) • (al)〇〇 ΛΑ ·Α3 - ΝγΒγΝ-Ο 0 (bl) (b2)〇 Aζγ 〇[在式(2) 為前述式(dll· 1為1〜5之整數] z onnA VHO N I A^o 前 為 中 之 中 d4 ⑵ 逑式(cl)〜(C4)中之一,B: —,Z為前述式(ei)或(e2), (cl) -Ο— 57 200819501 25605pif(c2) x8""^^Xicrl丨- χιΗ卜士X12(c3)(c4) 〔在式(cl)〜(c4)中,X7〜]2係選擇自包含單鍵、 -ο-、-S-、-CO-、-COO-、_c (CH3)广、— c (CF3) 2—、— S〇2-、—NHCO-之君竿,既可互相相同, 亦可相異〕(el) (e2) 〔在式(el)或(e2)中’R ;[〜4係選擇自包含氫原子、 鹵素原子及碳数1〜3的烷基之群,既可互相相同,亦可相 異,R5係一0---S---CH2- . -c (CH3) 2___ Co—或— COO—〕。 8·種聚醯亞胺系樹脂硬化物的製造方法,其係包含 化^庫《Γ π專利範圍第7項所述之混合物而使其起·亞胺 1匕夂應之步驟。 Κ 亞胺;㈤二申請專利範’項所述之聚酿 1〇,1金屬積層體,其係包含金屬層與樹脂層,且前 58 200819501 256U5pit 述樹脂層的至少_層是由如 酿亞胺系樹月旨組成物的硬化圍卑1項所述之聚 聚酿亞胺層的4::;::屬:亞按層、及積層於前述 由如前述錢層之㈣㈣層是難層,其係 項所述之㈣亞胺_脂組成物之 樹脂』之?片’其係具有樹脂膜,以及積層於前述 、之早面或雙面的如申請專利 f 胺系樹脂組成物之硬化物所構成之樹脂層。、t / 59 200819501 25605pifl.doc imide oligomer represented by the formula (2) is provided. The polyimide includes repeating units represented by the formula (1-1) and the formula (1-2). 〇〇 • A Λ —---.-(1-1) N—f ΟΛΒνο OAVO OAYO - fA3 A2t I N ΟΛΖΥΟ Z 0AYO N I A3 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 〇〇 (1-1) Λ Λ •A1—\BlrN_ 〇〇 〇A\o ΟΛ ¥0 N I A2 OAVO OAYO N I A3 OAVO z OAYO N I A3 (1-2) (2 4
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