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TW200819501A - Polyimide-based resin composition, method of manufacturing thereof and metal laminate - Google Patents

Polyimide-based resin composition, method of manufacturing thereof and metal laminate Download PDF

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TW200819501A
TW200819501A TW96133674A TW96133674A TW200819501A TW 200819501 A TW200819501 A TW 200819501A TW 96133674 A TW96133674 A TW 96133674A TW 96133674 A TW96133674 A TW 96133674A TW 200819501 A TW200819501 A TW 200819501A
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TW
Taiwan
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formula
bis
layer
resin
resin composition
Prior art date
Application number
TW96133674A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Toriida
Yoshihiro Sakata
Masaki Okazaki
Hitoshi Onishi
Wataru Yamashita
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Publication of TW200819501A publication Critical patent/TW200819501A/zh

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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08L79/02Polyamines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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Description

200819501 256Ui)plt 九、發明說明: 本申請案主張依據2006年9月u曰申請之申請案號 JP2006-244946 (日本特願2〇〇6·244946)之優先權。其 利說明書及圖式所記载之内容全部援帛於本案。 【發明所屬之技術領域】
本發明係關於聚酸亞胺系樹脂組成物及其製造方法、 以及包含由該樹脂組成物構成之樹脂層的金 【先前技術】 特性'電氣 j料使用於航空器之結構材料及纜線包覆 體封壯箄所好"、常適用作為使用於挽性印刷基板及半導 、衣荨所代表之電子領域之耐熱性接著劑。 屬浐:ί而:ϊΐ利用聚酿亞胺系接著劑作為樹脂層之金 亞胺金屬積層體;㈡焊料在此聚酸 件之曰衣曰曰片及電子零件,或卸下所謂備用愛 片冬件之情形。從近年來之環保觀點,在晶 裝上已逐漸使用無錯焊料,故殷切要: 〜末,異'「焊料耐熱性⑽derheat㈣st_)」。求 ,在所謂硬撓性及撓性多層基板之 稱在以往㈣求之料賴 性有^ 具備更高溫之耐·。 ,、了祕不足,希望 薄膜使曰用片亞胺系接著劑為樹脂層之金細 ,膜曰曰片接合體(以下簡稱「C 下马 配線之接合係使用内部導線接合機及覆月晶接 5 200819501
ZDOUDpiI
Au-Au接合或Au_Sn接合進行。Au_Au接合或Au__ 要300 C以上之南溫條件,故即使在使用於c〇f之情形 希望使用焊料耐熱性優異之基材。 吧 工, 士 在近年采之聚酿亞胺系耐熱性接著劑中,從加
>'W 4寸!生方面δ之,除了耐熱特性以外,也逐漸要求 之ίίΓ:右在以往利用含特定聚_酸之樹脂組成物 :ϊ=而=。以上之接著溫度之情形,從低溫 窥2而a ’其特性尚未充分。 詞二ί著胺系接著難要求需兼顧耐熱性之提高 V:二“。作為具有充分之接著強度與耐埶性 胺㈣熱性接著劑,已·出由特定聚_酸企 亞胺所構成之樹脂組成物(例如參照專利文獻】 屬浐,由利用聚醯亞胺系接著劑作為樹脂層之金 造電r情形’有利用雷射加工施行通孔形 鹼性溶'夜二ΐ在通孔形成令’-般,需施行以 ww橋料被雷射加^全除去 邊」)之處理(又稱「去膠渣處理」)。從月層(又稱知 膠逢以迅麵除去(去_速度· ,郝^之, ,鹼性溶液之溶解性較高之聚醒亞胺系:著:期:能使 J尚低溫接著性後之聚醯亞胺系接著‘二二而二 易變慢。 渣速度部容 劑,ί報::二充f之低溫接著性之聚醯亞胺系接著 據報告有由雙馬來酿亞胺化合物與聚酿胺酸所構成之 200819501
ZDOU^piI 樹脂組成物(爹照專利文獻5)。然而,將含雙馬來醯亞胺 之樹脂組成物使用於金屬積層體之樹脂層之情形,會因, 造條件而產生揮發物質(雙馬來醯亞胺)而有時會有生產 . 上之問題。又在塗佈或層壓樹脂組成物時,有揮發物當 . 對生產設備造成影響之虞。 为谭毛物貝 [專利文獻1]曰本特開平1-289862號公報 [專利文獻2]日本特開平6_145638號公報 [專利文獻3]日本特開平6_192639號公報 [專利文獻4]日本特開平2_274762號公報 [專利文獻5]日本特開2〇〇4_2〇9%2號公報 【發明内容】 本發明之目的在於—面維持聚酿亞胺系樹月旨組成物之 二去膠祕(加严去膠錢度)。又,本發明之目的在於 而提里—面抑制加工時之揮發物質之產生 谷易生叙異之聚醯亞胺系樹脂組成物。 利用本發明之樹脂組成物,提 4撓,印刷基板等之金屬積層體。 適用作 物。第!之本發明係關於以下所示之聚醯亞胺系樹月旨組成 乂 (!H種=亞料獅組成物,其係含有下列通式 錢亞胺樹月旨,以及下列通式⑵所示:^重胺:=之 7 200819501
JOLDpiT
A Α2 ΟΛ\ηο ΟΛ^ΥΟ ΟΛ ϊο οαβϊο ? J.N) -2) [在式(Η)及式(1-2)中,A芬Δ γ 或(a2 ),既可互她同,村料;β aj 或(b2),既可互相相同,亦可相異]]2刀別為下式㈦Xr°O^0iy ··-
〇〇 Δ Λ Λ Α3~Ν Β3 Ν- ϊ If 〇〇 (a2) 〇 (b2) (bl)
⑵ [在式(2)中,Α3為下式(cl 為下式(dl)〜(d4)中 為1〜5之整數]
〜(c4)中之一,b3 之一,z為下式(el)或(e2)M (c2) (cl)
(c3) (c4) 〔在式(cl )〜(c4)中,χ7〜12係選擇自包含單鍵〇〜、—S—、一 CO—、— COO—、〜c r 、〜 C(CFS)2 S02 NHCO-之群,既可互相相 8 200819501
230UDpiI
亦可相異〕
Ve4 Υ1〇{|- (dl)
丫 7-·
• (d4) (d2) Υ9 Υΐ1 〔在式(dl)〜(d4)中,Υ7〜12係選擇自包含單鍵、 〇 S---CO COO---c (ch3) 2___ c(cf3)2 so2 NHC〇-之群,既可互相相同, 亦可相異〕 R1 (el)
(e2) 〔在式(el)或(e2)中,Rh係選擇自包含氫原子、鹵 素原子、及碳数1〜3之烷基之群,既可互相相同,亦可相 異,心係一0—、一S—、一CH2 co —或一coo—〕 c (CH3) 2-
〔2〕如〔1〕之聚醯亞胺系樹脂組成物,其中前述通 式(1-1)之人】、及通式(1-2)之八2中之一方為(al), 另一方為(a2 )。 、,〔3〕如〔丨〕或〔2〕之聚醯亞胺系樹脂組成物,其中 前述通式(2)之1為1。 ^ 〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項之聚醯亞胺系樹脂組成 物,其中相對於前述聚醯亞胺樹脂1〇〇重量份,以前述通
式(2)所示之醯亞胺低聚物含有5重量份以上、1〇〇 份以下。 S 〔5〕如〔1〕之聚亞胺糸樹脂組成物,其中玻璃轉 9 200819501 ZDOUDpn 移溫度為刚W、職以下之範圍。 物,其6中〕組成 B3係選擇自下式(du r '、]^式(D)或(C6), Γ )0C ·- 54乂1為1〜5之整數。dl°)之君為(e3: "t^r〇~O~〇-01- · · (〇5) (d7)
(d9) ϋ 〔R3及R4之定義與前述式(e2)相同〕 〔7〕一種混合物,其係含有下列通式(n)所示$ 重複單位、及下列通式(3-2)所示之重複單位之聚醯胺趣 (poly amic acid)、以通式(2)所示之醯亞胺低聚物以及々 要時所需之溶劑。 (3-1) μ 〇 Ο Μ ' -Af Ν-4
ΗΟπί ir0H 〇〇 10 200819501 ZDOU^pil
• * * (3-2) ^ [ff) (3Β;^ί } ^ 5 (al )Ϊ ^,= ’亦可相異,及B2分別為前述 气「) ΐ : 1 ’既可互相相同,亦可相異] Α3-ΝΛΒ, Ν Π 〇Λ γ 〇
〇 χΥ I 〇 、、,[在式(2)巾’^為前述式(cl)〜(c4)中之一,Β, 為别述式(dl)〜(d4)中之一,7炎义、+、4、 2為刖述式(el)或(e2) 中,1為1〜5之整數] 〔㈦一種聚醯亞胺系樹脂硬化物之製造方法,苴係包 含加熱如〔7〕之混合物而使起醒亞胺化反應之步驟、。’、 〔9〕-麵,其係包含如⑴至⑷中任一項之聚 醯亞胺系樹脂組成物之硬化物。 一〔10〕一種金屬積層體,其係包含金屬層與樹脂層, 且前述樹脂層之至少一層係由如〔n至〔6〕中任一項之 聚酸亞胺系樹脂組成物之硬化物所構成。 义〔11〕一種金屬積層體,其係具有聚醯亞胺膜、形成 於韵述聚醯亞胺膜之單面或雙面之聚醯亞胺層、及積層於 前述聚醯亞胺層之一方或兩方之金屬層; 接觸於前述金屬層之聚醯亞胺層係樹脂層,其係由如 〔1〕至〔6〕中任一項之聚|藍亞胺糸樹脂組成物之硬化物 所構成。 l 12 禋接者溥片
200819501 -^OUDpn 述樹脂膜之單面或雙面之π、〕至、〔有6樹„積層於前 胺系樹脂組成物之硬化物所構成之樹月匕I ㉟之亞 本發明之雜錢_餘絲^溫 =生高。(去膠渣速度快),且可抑制在加上揮 又,可藉本發明之聚酿亞胺系樹脂組成 層與樹脂層而製造金屬積層體,在其接著中,不必使用f =加工溫度’減_以殘留在箱層與㈣亞胺界面二 :此得金屬層與樹脂層之高接著驗之金屬積層 -°所^•之金屬積層體可適合使用作為撓性印刷基板等: =得之金屬積層體、及金屬積層體之前驅物之接著薄 片、(無金屬層之狀態之薄片)之焊料耐熱性優異,故在 f概度條件嚴苛之LSI晶片或零件安裝製程、及該等之備用 令件製程中,也難以發生膨脹。 【實施方式】 1·聚醯亞胺系樹脂組成物 本叙明之聚醯亞胺糸樹脂組成物之特徵在於:含有聚 -亞版树月曰以及亞胺低聚物(如丨如〇lig〇mer)。 聚醢亞胺樹脂 • 聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂亦可為, 3有下列通式(μ〗)所示之重複單位與通式(丨_2)所示 之重複單位;或藉由醯亞胺化而產生下列通式(Μ)所示 之重複單位與通式(1_2)所示之重複單位的前驅物(也就 12 200819501 256ϋ5ριί 是聚醯胺酸(poly amic acid)) 〇 ο (1-1) (1-2) Δ ΛΑ
1 一 W 〇〇 〇〇 Δ Λ Λ ·Α2-Ν Β2 Ν- ϊ ίΐ 〇〇 式(1-1 )之Αι及式(1-2)之 Α 么 @ 士一# f # ^ t八2為具有二鄰亞本鍵 (tdphenyleneether)結構,其以下式(al) (al) W°W°Y^ ______ 〜〇、」$U2)表不。 (a2) A]&A2既可互相相同,亦可相異,較好的是、及、 之-方為(al),另-方為(a2)。域^均為⑷時, 有時去膠渣速度會變慢。另—方面,ΑιΑΑ2均為⑽時, 有時剝離強度及低溫接著性會降低。^及〜為⑶)盘 c; 之組合時,可取得去_速度與低溫接著性(玻璃轉移溫 度)之平衡,故聚醢亞胺所含之(al)與(a2)之個數 率較好為8 : 2〜5 : 5,更好為7 : 3。 又,式(1)之BAB2是以下式(Μ)或(b2)表示。 較好的是$及%中之-方或雙方為(Μ),及匕為(⑷ 與(b2)之組合時,樹脂組成物之去膠渣速度雖可提高, 但:另-方面,(b2)之比率過高時,有時在加濕環;下 之焊料耐熱性(solder heat resistance)會惡化。 II η
lJ Uk ··- X)r§XX ··-) 本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹 13 200819501 256ϋ5ριί 所示之重複單位 脂,雖含有前述之式(1-1)及式(1-2) 但亦可含有其他之重複單位。 聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂之分子旦 =無特別限定,域所述,可解歸分(二胺(diami=) f 四羧酸二酐(tetracarb0Xylic dianhydride))的分子量及其 莫耳比加以調整。 〃 聚醯亞胺樹脂之製造
3聚醯亞胺系樹脂組成物所含的聚醯亞胺樹脂,較好的 疋由四竣酸二酐與二胺之原料加以製造。 在聚醯亞胺樹脂的原料中,較好的是包含四羧酸二酐 的 3,3’,4,4’_二苯甲酮四羧酸二酐(m+benzophen· tetracarboxylic dianhydride,BTDA)或雙(3,4_二羧基苯基) 石尹、酸一酐(bis(3,4-dicarboxphenyl) sulfonic dianhydride, DSDA) 〇 另外,在聚醯亞胺樹脂的原料中,也可包含1種或2種 以上之其他的四羧酸二酐。使該等共聚合化時,可以不損 失本發明效果的方式,施行聚醯亞胺樹脂之性能的改良及 改質。 在其他四羧酸二酐之例中,包含:苯均四酸二酐、 3,3’,4,4’-聯笨四羧酸二酐、雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、 雙(3,4-二羧基苯基)硫醚二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲 烧二野、2,2_雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2_雙(3,4-二魏基苯基)-1,1,1,3,3,3_六氟丙烷二酐、1,3-雙(3,4-二羧 基苯氧基)笨二酐、1,4_雙(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、 14 200819501 256ϋί)ριί 1,4-雙(3,4-二羧基苯氧基)聯苯二酐、2,2-雙〔(3,4-二羧 基苯氧基)笨基〕丙烷二酐等。 另外,在其他四羧酸二酐之例中,包含:乙撐四羧酸 二酐、丁烷四羧酸二酐、環戍烷四羧酸二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二 酐、U-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2·雙(3,4-二羧 基苯基)乙统二針、1,2,5,6-奈四竣酸二針、3,4,9,10-花四 羧酸二酐、2,3,6,7-蒽四羧酸二酐、1,2,7,8-萘四羧酸二酐 等。此等四羧酸二酐也可單獨或組合2種以上使用。 另外,其他四羧酸二酐亦可為以氟基或三氟曱基取代 上述例示之四羧酸二酐之芳香環上之氫原子之一部分或全 部之四叛酸二酐。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,較好為含有二胺之1,3-雙 (3-氨苯氧基)苯(ΑΡΒ)、或1,3-雙(4-氨苯氧基)苯 (APB-R),更好為含有任何一種。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,亦可含有其他之二胺。其 他之二胺既可為芳香族二胺,亦可為脂肪族二胺。 在芳香族二胺中,含有間苯二胺、鄰苯二胺、對苯二 胺、3,3’-二氨基二苯醚、3,4’_二氨基二苯醚、4,扎二氨基二 苯醚、3,3’-二氨基二苯硫醚、3,4’_二氨基二苯硫醚、4,4’-二氨基二苯硫醚、3,3^二氨基二苯颯、3,4f•二氨基二苯颯、 4,4’-二氨基二苯颯、3,3’-二氨基二苯曱酮、3,3f-二氨基二苯 曱烷、3,4’_二氨基二苯甲烷、4,4’-二氨基二苯甲烷、2,2-雙(3-氨苯基)丙烷、2,2-雙(4-氨苯基)丙烷、2,2-雙(3- 15 200819501 256ϋ5ρΐί ^ ^33 H ,,六鼠丙垸、2,2·雙(4-氨苯基) -u,碰,、氟丙烷、砂二氨基二苯亞砜、3令二氨基 二笨亞颯、4’二氨基二笨亞石風、⑶雙(3_氨苯基)笨、 1,3:又(4-風苯基)苯、认雙(3_氨笨基)苯、以-雙㈠_ 〜雙(3·氨苯氧基)笨、1,4-雙(4-氨苯氧 Γ+ Ϊ ' 4雙(3_氨苯基硫醚)*、U_雙(4_氨苯基硫 ^ 雙⑷氨苯基硫⑹笨、雙(3·氨基苯硬)
本、,-又(4-乳基苯碾)苯、认雙( 广雙尸:氨鮮)苯、U,(4_氨基竹苯、M_雙,心 氨基节)苯、1,3·雙(3·氨基_4•苯氧基苯曱醯)笨、3 3_ 雙(3-氨基笨氧基)聯苯、仏雙(4•氨基苯氧基)聯笨、 y又(3-氨基苯氧基)聯苯、4,4_雙(4_氨基苯氧基)聯 ^雙!:3· (3_氨基苯氧基)苯基〕峻、雙〔3- (4-氨基苯 乳基)本基〕_、雙〔4_ (3_氨基苯氧基)苯基〕醚、雙 (4-氣基苯氧基)苯基〕_、雙〔3· (3_氨基苯氧基) ,基〕酮、雙〔3- (4_氨基苯氧基)苯基〕酮、雙〔4· (3_ 氨基苯氧基)苯基〕酮、雙〔‘(4_氨基苯氧基)苯基〕 酮、雙〔3_ (3-氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔3_ (4_氨基 苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕硫 _、雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙〔3_ (3_氨基 苯氧基)苯基〕砜、雙〔3- (4-氨基苯氧基)苯基〕砜Γ 雙〔4_ (3-氨基苯氧基)苯基〕颯、雙〔4- (4-氨基苯氧基) 本基〕石風、雙〔3- (3-氨基苯氧基)苯基〕甲烧、雙〔3_ (4-氣基本氧基)本基〕甲烧、雙〔‘(3-氨基苯氧基) 16 200819501 256U^pit Γ 苯基〕甲烷、雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕甲烷、2,2_ 雙(3-氨基苯氧基)苯基〕丙烷、2,2-雙〔3_ (4-氨基 苯氧基)苯基〕丙烷、2,2-雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕 丙院、2,2-雙〔本(4-氨基苯氧基)苯基〕丙炫、2,2_雙〔3_ (3-氨基苯氧基)苯基〕义^^六氟丙烷^孓雙㈡· (心氨基苯氧基)苯基〕_1,;[,1,3,3,3_六氟丙烷、2,2_雙〔4_ (3_氨基苯氧基)苯基〕_i,ij,3,3,3-六氟丙院、2,2_雙〔4_ (‘氨基苯氧基)苯基〕」,〗丄3,3,3_六氟丙烷等。此等芳 香族二胺也可使用一種或組合數種使用。 在聚醯亞胺樹脂之原料中,也可含有脂肪族二胺。脂 肪族二胺係用於施行性能之改良及改質。在脂肪族二胺之 例中,含有1,3-雙(3-氨丙基)四甲基二矽氧烷、丨,3_雙(4_ 氨丁基)四甲基二石夕氧院、α,ω雙(3一氨丙基)聚二甲基 二石夕氧烧、α,ω-雙(3.氨丁基)聚二甲基二魏燒、雙(氨 曱基)醚、1,2-雙(氨曱氧基)乙烷、雙〔(2_氨曱氧基) $基〕醚、1,2-雙〔(2_氨曱氧基)乙氧基〕乙烷、雙& 氨乙基)醚、雙(2·氨乙氧基)乙烧、雙〔2- (2-氨乙 乳基)乙基〕醚、雙〔2-(2_氨乙氧基)乙基〕乙烧、雙 3_說丙基)醚、乙二醇雙(域丙基)_、二乙二醇雙 (3,丙基)_、三乙二醇雙(3遍丙基)醚、乙二胺、 ^ ^ ^ i56- Γκ)、」:了飞基庚烧、Μ·二氨基辛烧、W二氨 十一烧、U一絲環己烧、1,3·二氨基環己烧、M-二 17 200819501 25605pif 氨基環己烧、1,2-二(2^ 7 ^ , 〇 苴、洋口 ^ i 、厶虱乙基)%己烷、u_二(2_
=衣 冬二(L氨乙基)環己烷、雙(4-氨美俨P 基^^6,(氨甲基)二環〔切〕狀、二= 曱土 一% 2,2,1〕庚烷等。此等二胺也可單獨使用一葙 或組合數種使用。 彳更用種 之分2胺系樹脂組成物所含之聚醯亞胺樹脂 里°度),與通常之縮聚合系聚合物之分早旦 同樣,可藉調節單體成分之莫耳比加以控制。也就 聚醯亞胺料,蝴於二胺為丨莫 莫耳之四羧酸二酐,更佳為含 • 95莫耳之四羧酸二酐,特佳為含有〇95莫耳〜〇995 莫耳之四羧酸二酐,最佳為含有〇 97莫耳〜〇 995之 羧酸二酐。 、卄乏四 …聚醯亞胺樹脂之原料(含二胺與四羧酸二酐之單體 料)較好先變成聚醯胺酸(聚醯亞胺前驅物),然後^ 成聚醯亞胺。為使單體原料變成聚醯胺酸,只 ^ 加入單體原料而加熱即可。 Θ 加入聚亞胺樹脂之單體原料之溶劑並無特別限制 但較好為非質子性極性溶劑(&?1*〇也1)〇1虹80^如〇,^好為 非質子性醯胺系溶劑。具體上,可例示凡队二甲替甲醯扩、、 N,N_一甲基乙醯胺、n,N-二乙基乙胺、n,n_二甲基”甲, 基乙醯胺、N-二甲基-2-吡咯烷酮、ι,3-二甲基-2_咪 氧 酮等。 I〜 另外,在加入聚醯亞胺樹脂之單體原料之溶劑中,也 18 200819501
Z30U3piI 可進一步技卢女 一 中,含有絮、卞有以下所示之溶劑。在可共存之有機溶劑 氯甲笨:甲f、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、鄰 溴甲笨一曰之甲笨、對氣甲苯、鄰溴甲苯、間溴甲苯、對 種以上使^、填苯等。此等有機溶劑可單獨使用或混合2 漆。聚胺前驅物而製造之聚酿胺酸係被用作清 心,更::羽區物之對數黏度祕,較好為〇.2 dl々〜2.0 醯亞胺前]·3⑴々〜1…dl/g ’最好為Q.4 dl/g〜0.9 dl/g。聚 前驅物之_之對數黏度,係以Q'5dl/g之濃度將聚酿亞胺 35°C之黏声谷解於-二甲基乙醯胺所得之溶液,在 由前^==前驅物之對數黏度設定於上述之範圍時, 金屬積帅 Μ脂硬化物變得較為牢固,容易形成膜及 裎中,、二 而且,在製造膜及金屬積層體之際之塗佈製 各易保持膜厚之均勻,相當理想。 釀亞胺低聚物 2 亞胺系樹脂組成物所含之醯亞胺低聚物具有式 為1時所J1"、之結構。式(2)中之1為1〜5。式(2)中之1 其紝果可進步提高醯亞胺低聚物之作為可塑劑之效果, 性。 了進步提兩聚醯亞胺系樹脂組成物之低溫接著 〇ΖΛ\Ν' Ο 〇 ο X If 〇〇 〇jf A3i〇Z Υ 〇 ⑵ 弋(2)中之Α3具有下式(cl)〜(c4)中之一所示之 19 200819501 joiopir ο f聋。另外,式⑺中之絲好具有下式(c5)或(c6) 中之-所示之結構。在式⑴)〜(' ),(:6) 自包含單鍵、一0 〜 )中X7〜12係廷擇
S co 、一COO—、— c 既可互相相同,亦可相里。x 1 . —NHC0—之群, π样从/相異7〜12鍵結於構成笨環之碳中之 如,式⑵中之A3具有式(峨編) … CH, •C(CF3)2- so (cl) -x9--
X 10 JT-Xirf -χ12- (c4) -Q-o-0-0-0- ...(c£ (c6) O~°O-〇-〇m〇- ·
• · · (c7) 式⑵中之b3具有下式( 〜㈤0)中之一所示之結構3。;:具 (c8) 結構。另外,式(2)中n h 所不之 ;生與成本之觀點等力-選擇即可3。:欠 W系選擇自包含單鍵…〇…—s — C ⑽)Π (叫 r、—so「、— —之群,既可互她同,亦可相異〕。U結於構j 20 200819501 2^6UDpir %之石反原子中之一。又〜為-coo一或—NHC0 情鍵結之方向為任何方向皆可。 U …(dl) Y^v7-rr
• (d3) 一之 (d2) (d4) 11
»〇Ί〇ν〇^χχ .··_ h3c ch3 _Yi2〜CC ·.· )〇"c »°1〇:
(d9) (d6) (d8) 以下式(ei)或⑻表示,但以下 二群氫 N -C(CH3)2 co—或-coo-。&為—c⑻ 形,其鍵結之方向為任何方向皆可。” (el)
r3、 (e2) (e3) R4,^\ 你*本發明之聚輕㈣樹麵成物所含之醯亞胺低聚 ’較好具有1000以上、5_以下之重量平均分子量(又 21 200819501
2^t)U3plI 稱Mw)。醯亞胺低聚物之重暑 透色譜法加以測定(測定條千=,可利用凝膠滲 四气哕喃,4、# ·彳"·牛為私測為·· RI,擴展觸媒: 四a夫南,机速.iml/mm,桎溫度·· 醯亞胺低聚物之重量平八 少加熱樹脂組成物時之蒸發】範圍時,可減 果,相當_ H *會降低可塑化之效 〜、另外攸抑制墓發量盘接古-^月w 4 丁 衡之觀點言之,重量 '、^里/、“可塑性之平 ο _。以下,更好為圆以上 上、3500以下。 3500以下’最好為1500以 酿亞胺低聚物之製法 物可系脂組成物所含之醯亞職 胺及二私蛛/衣1^。例如,可使含四綾酸二酐、二 反庫而二二酐;=及必要時添加之溶劑之原料起酿亞胺 酐:=ί:=制原料所含之各成分(四紐二 聚物(後述)。獨之莫耳比而獲得理想之酸亞胺低 中,=亞胺低聚物之原料中所含之四缓酸二酐之例 3 3,4 41 均四酸二軒、3,3',4,4L聯苯四幾酸二酐、 i酐:雔—四舰二酐、雙(3,4_二縣苯基)鱗 苯基)i二酐二竣t苯幻躺二針、雙(3,4-二縣 ^ ^ 又(3,4·一竣基苯基)曱烧二酐、2,2_雙 ]"-二,基苯基)喊二酐、2,2_雙(3,4_二縣苯基) H二氟丙烧二肝、(3,4_二縣苯氧基) •,又(3,4·—羧基笨氧基)苯二酐、1,4_雙(3,4- 22 200819501 ζ^ου^ριτ 二羧基苯氧基)聯苯二酐、2,2-雙〔(3,4-二羧基苯氧基) 苯基〕丙烷二酐等。醯亞胺低聚物之原料中所含之四羧 酸二酐為1或2種以上。 . 在醯亞胺低聚物之原料中所含之二胺之例中,含有 . 間苯二胺、鄰苯二胺、對苯二胺、3J-二氨基二苯醚、 3,4’-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基二苯醚、3,3f-二氨基二苯 硫鍵、3,心二氨基二苯硫鍵、4,4f-二氨基二苯硫鍵、3,3f-二氨基二本礙、3,4’-二氨基二本^風、4,4’-二氨基二本石風、 ^ 3,3f-二氨基二苯曱酮、3,3’-二氨基二苯曱烷、3,4’-二氨基 二苯曱烷、4,仁二氨基二苯曱烷、2,2-雙(3_氨苯基)丙 烷、2,2-雙(4-氨苯基)丙烷、2,2-雙(3-氨苯基M,l,l,3,3,3-六敗丙统、2,2-雙(4-氨苯基)-1,1,1,3,3,3_六氣丙燒、3,3’_ 二氨基二苯亞颯、3,4’-二氨基二苯亞颯、4,4’-二氨基二苯 亞颯、1,3_雙(3-氨苯基)苯、1,3-雙(4-氨苯基)苯、 M-雙(3-氨苯基)苯、1,4-雙(4-氨苯基)苯、1,3-雙(3-氨苯氧基)苯、1,3-雙(‘氨苯氧基)苯、1,4-雙(3-氨 、 苯氧基)苯、1,4-雙(4-氨苯氧基)苯、1,3-雙(3_氨苯 基硫鱗)苯、1,3-雙(4-氣苯基硫喊)苯、1,4-雙(4-氣 苯基硫醚)苯、1,3-雙(3-氨基苯砜)苯、1,3-雙(4-氨 基苯颯)苯、1,4-雙(4-氨基苯砜)苯、1,3-雙(3-氨基 苄)苯、1,3-雙(4-氨基苄)苯、1,4-雙(4-氨基苄)苯、 ' U-雙(3-氨基-4-苯氧基苯曱醯)苯、3,3-雙(3-氨基笨 ‘ 氧基)聯苯、3,3-雙(4-氨基苯氧基)聯笨、4,4-雙(3- 氨基苯氧基)聯苯、4,4-雙(4-氨基苯氧基)聯苯、雙〔3_ 23 200819501 (3-氨基苯氧基)苯基〕醚、雙〔3_ (4_氨基笨氧基)苯 基〕醚、雙〔4_ (3-氨基苯氧基).笨基〕醚、雙& (4_ 氨基苯氧基)苯基〕鱗、雙〔3- (3_氨基苯氧基)苯基〕 * 酮、雙〔3- (4-氨基笨氧基)苯基〕酮、雙〔4_ (3_氨基 _ 苯氧基)苯基〕酮、雙〔冬(4-氨基苯氧基)苯基〕酮、 雙〔3- (3-氨基本氧基)苯基〕硫喊、雙〔3_ (‘氨基苯 氧基)苯基〕硫_、雙〔4· (3-氨基苯氧基)笨^妒 f、 醚、雙〔4_ 氨基苯氧基)苯基〕硫醚、雙(3_ 氨基苯氧基)苯基〕颯、雙〔3- (4-氨基苯氧基)苯基〕 颯、雙〔4- (3-氨基苯氧基)苯基〕砜、雙〔4_ (‘氨基 苯氧基)苯基〕砜、雙〔3_ (3_氨基苯氧基)笨基〕甲 烧雙〔> (4_氨基本氧基)苯基〕甲烧、雙〔4_ ( 3_ 氨基苯氧基)苯基〕甲院、雙〔4_ (4_氨基苯氧基)苯 基〕甲院、2,2-雙〔3-(3-氨基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2_ 雙〔3- (4_氨基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2_雙〔心(3_氨 基苯氧基)苯基〕丙烧、2,2-雙〇 (4-氨基苯氧基)苯 J 基〕丙烷、2,2"雙〔(3-氨基苯氧基)苯基〕-l,l,l,3,3,3- 六氟丙烷、2,2_雙〔3_(4_氨基苯氧基)苯基〕_1,1,1,3,3,3_ 六氟丙烷、2,2-雙〔4_ (1氨基苯氧基)苯基〕义u,3,3,’3_ 六氟丙烷、2,2_雙〔4- (4-氨基苯氧基)苯基〕·mm . 六氟丙烷等。醯亞胺低聚物之原料所含之二胺為丨或2種 以上。 在亞胺低聚物之原料所含之二幾酸酐之例中,含 有馬來酸酐、降冰片烯酸酐等。或者是,也可使用4 24 200819501 ^^bU^pit 乙炔基苯)鄰苯二曱酸酐、及4- (2-乙炔基)鄰苯二甲 酸酐等之藉由三量化而形成苯環之化合物。 醯亞胺低聚物之原料所含之溶劑以有機溶劑為佳, .在有機溶劑之例中,含有苯酚、鄰氯酚、間氯酚、對氯 _ 酚、鄰曱苯酚、間曱笨酚、對曱苯酚、2,3-二曱苯酚、2,4- 二曱苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二曱苯酚、3,4-二曱苯酚、 3,5-二曱苯酚、N,N-二曱替甲醯胺、N,N-二曱基乙醯胺、 N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二曱基甲氧基乙醯胺、N-二曱 f 基-2-吼洛:!:完酮、1,3-二甲基-2-味唾琳二酮、N-曱基己内 醯胺、1,2-二甲氧基乙烷、雙(2-曱氧基乙基)醚、1,2-雙(2-曱氧基乙氧基)乙烷、雙〔2- (2-甲氧基乙氧基) 醚、四氫呋喃、1,3_二噁烷、1,4-二噁烷、吡啶、皮考琳、 二甲基亞颯、二曱基颯、四甲基脲、六曱基磷醯胺、茴 香醚等。此等有機溶劑可單獨使用或混合2種以上使用。 在醯亞胺低聚物之原料中,也可進一步共存有以下 所示之溶劑。在可共存之有機溶劑中,含有苯、曱苯、 “ 鄰二甲苯、間二曱苯、對二甲苯、鄰氯曱苯、間氯甲苯、 對氯甲苯、鄰溴曱苯、間溴曱苯、對溴曱苯、氯苯、溴 苯等。 在醯亞胺低聚物之原料中,也可含有用來提高醯亞 胺化反應(後述)之觸媒,例如有機驗性觸媒。在有機 鹼性觸媒之例中,含有三乙胺、三丁胺、三戊胺、N,N-’ 二甲基苯胺、N,N-二乙基苯胺、吡啶、α-皮考啉、β·皮 考琳、丫_皮考琳、2,4_二曱吼。定、、啥琳、 25 200819501 256U5pit 異喹啉等,理想者為吡啶、γ-皮考啉。 在醯亞胺低聚物之原料中之觸媒含量,只要實質上 能提高聚合反應速度即可,並無特別限制,例如相對於 四羧酸二酐為1莫耳,其含量為0.001〜0.5.莫耳。 . 就製造醯亞胺低聚物之步驟而言,可列舉:(1 )使 一胺與四羧酸二酐反應後,添加二羧酸酐而使其持續反 應’或(2)加入二胺與二羧酸酐使其反應後,添加四羧 『酸二酐成分而使其持續反應,或(3)同時添加二胺化合 物、四緩酸一酐及二竣酸酐使其反應之步驟等,也可採 用其中任一步驟。 在醯亞胺反應之例中,含有熱醯亞胺化、化學醯亞 月女化、直接熱酿亞胺化。 所谓熱醯亞胺化,係使前述原料在1〇〇它以下之低 溫,具體上,在-20〜70°C,較好在〇〜6〇°c下反應而合 成醯亞胺低聚物前驅物,接著,將溫度提高至i〇〇〜2〇(rc 而使其醯亞胺化,藉以獲得醯亞胺低聚物之方法。所謂 , 化學醯亞胺化,係利用醋酐等醯亞胺化劑,以化學方式 將前述醯亞胺低聚物前驅物施行醯亞胺化之方法。 另一方面,所謂直接熱醯亞胺化,係混合二胺、四 羧酸二酐及二羧酸酐後,在有機鹼及/或共沸脫水用溶劑 之存在下或不存在下迅速升溫,直接使反應系統_產生 之S&亞胺低聚物前驅物酿亞胺化之方法。 醯亞胺化之反應時間因使用之單體種類、溶劑種 類、有機鹼觸媒之種類、共沸脫水用溶劑之種類、量及 26 200819501 反應^度而異,就目標而言,為j 時。 直接熱酿亞胺化之情形,就目標而言 至德出之水達到理論量(通常無法全部回收,,;為5= 率)’?常需要約數小時之反應時間。此情形, 一:又木以甲苯等共濟劑除去醯亞胺化所生之水之方 法’且此方法相當有效。
44小時,通常為數小 fe亞胺化之反應壓力並無特別限制,通常只要為大 氣壓=可。gf亞胺化反應通常在含空氣、氮、氨、氛、 氬之環境氣體下進行,較好為在惰性氣體之氮及氯之環 境下進行,但並無特別限制。 、醯亞胺低雜之顯所含之單體成分之濃度(聚合 派度)亚恶特別限制,但_般約為1〇〜6〇树%。低於 wt%之情形,有時需要極端長之反應時間,且超過術心 之情形,有原料難以溶解,反應效率不良之虞。聚合 派度,較好為20〜50wt%,更好為3〇〜4〇wt%。 醢亞胺低聚物之分子量與通f之騎合彡聚合物之 分子量之情形相同,可_節_所含之單體成分之莫 耳比加以控制。醯亞胺低聚物之原射,相對於二胺為1 莫耳,含有〇.5〇〜請莫耳之四醜二酐相當重要,更好 為含有㈣〜謂莫耳之四_二酐,特好為含有0·50〜 〇·65莫耳之四紐二酐,最好為含有G.50〜0.60莫耳之四 缓酉文-酐。適且地控制單體成分之比率而製造時,如前 所述’可製造具有理想分子量之醯亞胺低聚物。 200819501 256ϋ5ριί 相對於二胺為丨莫耳之_酸二酐,含有低於〇·興 耳日守5 ^里地產生二胺與二羧酸酐組成之雙醯亞胺, 加熱時之蒸發量會增多,故並不理想。另一方面,超過 • 0.80莫耳日彳’ ϋ分子量增加,會降侧如仙作為可塑 - 劑之情形之可塑化效果,故並不理想。 又I亞胺低聚物之原料所含之二羧酸酐之莫耳數 Μ5與四羧酸二酐之莫耳數Μ3、及二胺之莫耳數綱滿足 以下之數式之關係相當重要。 (Μ4-Μ3) x2xl.〇^M5^ (Μ4-Μ3) χ2χ2.2 較好為滿足(Μ4-Μ3) x2xl.〇-M5S (Μ4—Μ3) χ2χ2·0之關係,更好為滿足(Μ4 —Μ3) χ2χ1·〇^Μ5$ (Μ4—Μ3) χ2χ1·5之關係;較好為滿足(Μ4—Μ3) χ2χ1·0^Μ5$ (Μ4-M3) χ2χ1·2之關係。 、(Μ4-M3) χ2χ1·〇>Μ5時,產生之醯亞胺低聚物會 殘留胺基,加熱時會著色,在外觀上不理想。另一方面, (Μ4— M3) ><2x2.0<]V15時,會多量地產生二胺與二羧酸 I 酐組成之雙醯亞胺,加熱時之蒸發量會增多,並不理想。 聚S&亞胺糸樹脂組成物 本發明之聚驗亞胺系樹脂組成物之特徵在於:包含含 有前述通式(1-1)所示之重複單位與通式(1-2)所示之 重複單位之聚醯亞胺樹脂,以及含有前述通式(2)所示之 醯亞胺低聚物。聚醯亞胺樹脂既可為硬化後之樹脂,亦可 為硬化時產生通式(1-1)所示之重複單位與通式(丨_2) 所示之重複單位之樹脂(聚醯胺酸)。 28 200819501
UbiDpir 在聚醯亞胺系樹脂組成物中,相對於前 份,前述通式(2)所示之酸亞胺低聚物 為3有5重里伤以上、100重量份以下,更好為含有職 份以上、90重量份以下,.最料含有戰量份以上、 r 量份以下。聚輕賴脂與酿亞胺低聚物之轉在 圍内時,《亞胺系_組成物之玻_移溫度變得充= 低’使用於需要低溫接著性之金屬積層體之情形特別: 用。另外,使聚酸亞胺系樹脂組成物硬化而作為膜及 情形’可降低其脆度’相當理想。 使本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物硬化而使用作為挽 性印刷基板用之積層體或接著薄片之樹脂層之情形,聚萨 亞胺系樹脂組成物之玻璃轉移溫度以在1〇〇t以上、3〇〇< 以下之範n為佳。另外,從實現在低溫條件下之接著之 點百之,以100〜240 c為佳,1〇〇〜2〇〇〇c更佳。 本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物在不損及本發明之目 的之範_ ’可包含其他任意之熱錄樹脂等。 —在任意之熱塑性樹脂之例中,含有聚乙稀、聚丙稀、 聚氯乙稀、聚偏二氯乙稀、聚丁二稀、聚苯乙歸、聚醋酸 乙烯酉旨:ABS樹脂、聚對苯二甲酸丁二醇醋、聚對苯二甲 酸乙二醇s旨、聚苯ϋ、聚碳酸§旨、PTFE、赛珞路、聚丙稀 酉欠酉s來醚腈、聚酏胺、聚硬、聚醚颯、聚醚酮、聚苯硫 醚、聚Sf輕胺、聚輕胺、改㈣苯驗聚醯亞胺等。 ^在任意之熱塑性樹脂之例中,含有熱硬化性聚丁二 烯甲醛树脂、胺基樹脂、聚氨酯、矽樹脂、SBR、、 29 200819501 25605pif 不飽和聚酯、環裊士士 ^ 醯亞胺等。 对知、#氰酸酯、酚醛樹脂及聚雙馬來 可依目的,蚀1 性樹脂藉由適者旦、Θ人或2種以上之熱塑性樹脂及熱可硬化 脂組成物,錢合金化而包含於㈣亞胺系樹 & 並無特別限定,可適用習知之方法。 在不缺本發明之目的之範圍内,也可 =物=各種填充劑或添加劑。在填充“添加 ^例中3有石墨、碳化矽、石粉、二硫化鉬、氟李榭 脂等耐磨損性烊%% 一卜 匕知氣糸树 性辦強,·、η + 二氧化銻、碳酸鎂、碳酸約等難燃 々曰六,陶土、雲母等電氣特性增強劑;石棉、二氧化 L、石墨等耐漏電性增強劑;硫酸鋇、二氧化碎、石夕酸詞 荨耐酸性增輸、鋅粉、姉、銅粉雜傳導度增 強劑;其他_細珠、_球、滑石、㈣土、氧化紹、 ,微粒土、、,水合氧“、金屬氧化物、著色料及顏料等。 混合方法並無特別限制,可適用習知之方法。 、本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物,也可使包含含有前 述通,(3_1)所*之重複單位及前親^ (3_2)所示之 重複單位之聚醯胺酸(醯亞胺前驅物),以及與前述通式 (2)所不之醯亞胺低聚物之溶液之聚醯胺酸醯亞胺化,且 使醯亞胺《物反應而獲得。醯亞胺㈣物係使末端之雙 鍵彼此聚合而不可逆地高分子化。醯亞胺低聚物之聚合物 可利用IR確認雙鍵之存在而加以檢測。 尤其,將含有聚醒胺酸(酿亞胺前驅物)與酿亞胺低 聚物之溶液之塗佈膜加熱乾燥等而除絲劑,且使其酿亞 30 200819501 25605ριί 胺反應而硬化時,可獲得膜或層狀之聚醯亞胺系樹脂組成 物。 含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液之溶劑並無特別 - 限制,但較好為非質子性極性溶劑,更好為非質子性醯胺 系溶劑。具體上,可例示Ν,Ν-二曱替甲醯胺、ν,Ν-二甲基 乙醯胺、Ν,Ν-二乙基乙醯胺、Ν,Ν_:甲基甲氧基乙醯胺、 Ν_二曱基士吡咯烷酮、二曱基_2_咪唑啉二酮等。 含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液之黏度並無特別 限制。例如,使用E型黏度計在25它測定之黏度為100〜 20,000 mPa · s之範圍時,欲塗佈該溶液時,較容易控制塗 佈厚度。 ι 對含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液熱處理時,會 發生聚胺酸之醯亞胺化及醯亞胺低聚物彼此之反應,而 成為聚醯亞胺系樹脂硬化物。熱處理之壓力通常只要使用 大氣壓即已充分足夠,但也可在加壓下進行。熱處理之環 境氣體並無特別限制,通常為空氣、氮、氦、氖、氬,較 ^ 好為惰性氣體之氮及氬。 又,在含有聚si胺酸與酿亞胺低聚物之溶液中,基於 促進、或抑制熱處理所進行之交聯反應,或控制其反應速 度之目的,也可添加觸媒等之添加物。觸媒之例中,包括 含有叙、鍺、銦或錯之金屬觸媒;含有翻、猛、鎳、錢、 鈷、鉻、鐵、銅、錫或鉑等之過渡金屬觸媒;及磷化合物、 矽化合物、氮化合物或硫化合物等。 又,在含有聚si胺酸與醯亞胺低聚物之溶液中,基於 31 200819501 ^^OUDpll 同樣目的,也可施行紅外線、紫外線或α、線等放射 線、電子線及X線之照射,以及電漿處理或摻雜處理。
本發明之聚醯亞胺系樹脂組成物也可形成膜。為了形 成膜,只要將含有聚醯胺酸與醯亞胺低聚物之溶液塗佈在 基材,而使所得之塗膜脫溶劑化及醯亞胺化反應而硬化 後,由基材加以剝離即可。在基材之例中,含有金屬箔或 玻璃等無機基板、或聚合物膜等。又,對基材之塗佈只要 利用塗佈機等進行即可。塗佈厚度受到含有聚 醯胺酸與醯 亞胺低聚物之溶液之固形份濃度所影響,脫溶劑化及醯亞 月女化反應後(也就是說,「硬域」)之㈣亞胺系樹脂 硬化物之膜厚以1 mm以下為宜。 贶浴劑化及亞胺化(也就是說,「硬化」)之方法 3=別_ ’只要在減壓下,或在氮、氦、氬等惰性環 广:下進灯即可。又,只要設定於使用之溶劑之濟點以 /^醯亞胺化反應進行之溫度以上即可,例如使用非質子 糸酿胺溶劑之倩形,只龙少ΟΛΑ。 、 亞胺化所〇以上即可。脫溶劑化及酿 分足夠。 寸別限制,通常只要2小時,即已充 2·金屬積層體 本I明之金屬積層體包含金續 體中包含1層或2層以上之料』屬i屬積層 声係由太癸昍夕取舻 树月日層。其中之一層以上之樹脂 二/^&亞胺系翻旨組成物之硬化物(又稱掏 形成W Α °金屬積層體絲好具有雜亞胺膜、 形成於««胺.單㈣雙蚊雜麵層、及積層 200819501 25605pif 於該聚輕胺層之-方或兩方之域層;接觸於金屬層之 聚醒亞胺層係由前述之本發明之聚輕胺祕脂組成物之 硬化物所構成。 樹脂層 如前所述,本發明之金屬積層體包含1層或2層以上之 聚酸亞胺娜層,射之丨層以上之細層係由本發明之聚 酸亞胺系娜組成物之硬化物所構成。含#2層以上之聚酸 亞胺樹脂層之情形’較好的是鄰接之層係由成分互異之聚 亞胺所構成。所謂聚酸亞胺之成分減,係指單體單位 之種類及/或含量相異之意。又,構成單層之雜亞胺層或 多層之聚酸亞胺層之層的至少巧,也可由2種以上之層之 聚酿亞胺賴奴組祕(混合物)所賴。 " /也就疋5兒,構成金屬積層體之聚醯亞胺層為單層之情 开二。亥層係由本發明之聚酿亞胺系樹脂組成物之硬化物所 ,成。另—方面’構成金屬積層體之聚醯亞胺層為多声之 ί形接==亞:!獻單面或雙面之多層聚‘層 ;盈_層之♦鉍亞胺層係由本發明之聚醯亞胺系 =月曰,成物之硬化物所構成之層。上述係為了提高與金屬 曰之讀性之故。接觸於金屬層之聚醯亞 =广_下’較好為。以上、1〇_=為 更好為0·1μηι以上、5μηι以下。 -厚:太=金屬積層體之聚醯亞胺層(單層或多層)之 =度,:,剛性會增強,而不能使用於需要彎曲等之 切日调衫卿能錢雜及操作财面使用之 33 200819501 限制。 為:b上金積層體所含之聚酿亞胺層之厚度合計較好 為3,以上、75μιη以下,更好為1〇师以上、 =好 之厚度在上述__,金騎層體且有⑦续 性、柔賴、作業冊異且縣低廉之傾向。〜,’,巴緣 聚醯亞胺膜 $如前所述,金屬積層體可具有聚酿亞胺膜、 醯,贿之單面或雙面之聚酿亞胺層、及積層於該聚酿= 二曰:之-方或兩方之金屬層。該金屬積層體所含之聚酿 ΐ膜ΓΤ為使塗佈非熱雜魏亞胺之前驅體乾燥而得之 J·生取妒可為市f之雜錄城亞賴。在市售之非敎塑 胺膜中,含有優匹列克斯s、優匹列克斯SG:: 】克斯SN (宇部興產株式會社f,註冊商標/商品 合私制aptonH、Kapton v、KaP_EN (東麗•杜邦株式 二二,註冊商標/商品名)、Apieal AH、ApkaiNpi、細㈤ ί, 朱式會社kaneka製,註冊商標/商品名)等。 主屬積層體所含之前述雜亞賴使用㈣之 亞胺膜之情形,其厚度通常為3,以上、75_ = 亞胺^為!.5哗以上、4〇哗以下之範圍。又,前述聚酿 、為使塗佈非熱塑性聚醯亞胺之前驅體乾燥而形成之 二、’其厚度為G.l_以上、卿m以下,較好為〇·5陣以 5μΠΐ以下,更好為0.5,以上、16,以下。 金屬層 “蜀%層體所含之金屬層並無特別限制,可選擇自銅 34 200819501 256ϋ3ριί 及銅合金、不銹鋤Β甘 叙;5叙人八μ鋼及金、鎳及鎳合金(亦含42合金)、 声。入^ ^寺之金屬層,較好為銅或銅合金之層、不銹鋼 可將金屬箔貼合於樹脂層而形成,也可利用 ;x明之聚醯亞胺系樹脂組成物所形成之樹脂 層。 你m 積層體所含之金屬層之厚度只要可將金屬積層體 使用作為膠帶之厚度,並無特別限制,通常為0·1_以上、 150μιη以下’較好為2μιη以上、丨m以 十、—,特好為一以上、3一以下,最子t3 = 上、12μιη以下之範圍。 金屬積層體之製法 本發明之金屬積層體只要在不損及本發明之效可 =地參,知之金屬積層體之製法加以製造’並無特別 限制。例如,可利用如以下之方法製造。 、、⑴加熱壓接單層或多層之聚醢亞胺膜與金屬箱之方 法0 / (2)將聚㈣㈣樹齡成物之清漆 使其乾燥之方法。 ,、至屬ν白後 以金屬層作為最外層之方式積層下列積層體:⑴ 次積層體U)、與下列積層體⑴或積層體(ii 脂層彼此相接疊合而積層)之方法·· ' ,層體⑴:僅在加熱壓接單層或多層之聚酿亞胺膜 /、孟屬箔而得之僅有一方之面具有金屬層之積層體。、 35 200819501 25605pif 積層體(11 :r㈣乾燥-===積漆 可 伯使用於金屬積層體之製造之金屬羯並無特別限制, 使用習知之金屬箔。在金屬噹 不鉉人八# 〃屬咱之例中,含有銅及銅合金、
合金(亦含42合金)、銘及紹合 =寺之金屬層’較好為銅_合金、或不軸。金屬唱之 ^只f:,:乍為膠帶之厚度,並無特別限制,通常為 以上、150_以下,較好為2陣以上、15〇陣以下, ^好為3陣以上、5〇陴以下,特好為以上、%降以下, =好、ΐ2μηι以下之範圍。製造金屬積層體之 :’塾接金Um亞闕之表面也可被騎電聚處理 或電暈放電處理。 、々製造本發明之金屬制體之際之加麵接只要利用以 ,等為熱狀加減介質加_加熱之金屬輥、或以橡膠 等鍍覆金屬輥表面之輥間施以層壓之方法、或利用熱壓機 之方法等施行即可。前者適合於連續之輥製品之製造,後 者適合於切片狀之散張製品之製造,可適宜地依用途加以 利用。 ^又,加熱壓接只要在空氣、氮、氬等之氣體環境下施 订即可。加熱溫度需要熱塑聚醯亞胺之玻璃移轉溫度以上 之溫度,較好為比玻璃移轉溫度高約2〇。〇以上之溫度,通 系為100〜400°C,較好為只要在150〜300。(:之間施行即 可。又,加熱時間較好為〇.01秒以上、15小時以下,加熱 36 200819501 25605pif 壓力只要御.l〜„a之關印可飞,吊^5〜ι〇ί^。 又,在加熱壓接後,基於進-步提高金屬積層體之密 接力之目的,也可利用高壓釜等施行後處理。後處理係以 如以下之條件進行。後處理溫度通常為15〇〜4〇〇它, 為2⑻〜^:,處_間為!分〜5〇小時,壓力為常^〜 3MPa之耗圍。南壓爸裝置内較好為真空或以氮或 氣體取代,以防止金屬箔之氧化。 、月14 在本發明之金屬積層體之製造方法中 聚麵系樹脂組成物之清漆(含有聚酸亞胺酸】=! ,聚物之溶液)之情形,可利用輥式塗佈機、口‘ = 機、凹版塗佈機、浸潰塗佈機、喷霧 ς ==、括條塗佈機等一般的塗佈裝置= 可依β^之黏度及塗佈厚度適宜選擇。 土 塗佈後之㈣亞㈣樹脂組成物 地利用以電氣加熱或油加熱之熱風或^ 2可適宜 金屬箱之氧化引起之變色之目的,必之變質、及 外’::氮、氬或氫等氣體取代乾燥環境氣體可在空氣以 塗佈後之聚醯亞胺系樹脂組成物之ί、=: 60〜6啊之溫度範时 燥較好在 止在乾燥中由塗膜起 ^幵皿度而進行。如此,可防 獲得膜厚均句:=:或在纖之膜表面產生凹凸, # / 尺寸穩定性更為優異之樹妒勝 胲之形成而言,相當理想 二,故對絕緣 度適宜選擇即可。 / /、要以〇·05〜500分程 200819501 25605pif 接者薄片 本發明之接著薄片係具有樹脂膜、形成於 早面或雙面之本發明之樹餘成物之硬所之 層。所謂樹顧,可.例示f知之樹 2成之树脂 ^好為了.料之聚酸亞胺膜。有關在樹脂膜 又面形成樹脂層之方法,也無㈣限制,好 5 金屬積層體之製造方法所示,利用 =剛述之 之清漆之塗佈及乾燥加以形成t ^亞㈣樹脂組成物 [實施例] 以下,依據實施例及比較例更詳細地說明本發明。 發明之範圍不因此而受任何限定及解釋。 在實施例及比較例中,是依照下列方法來測定各物 聚醯胺酸之評估 Ο對數黏度(rjinh):將聚醯胺酸清漆添加至 曱基乙醯胺溶劑中,而將固形份濃度調整至0.5岁出後,在 設定於35°C之恆溫槽内加以測定。 2) E型黏度··使用E型黏度計(r〇1〇5A,東機產業 株式會社)在25°C—定之條件下,以3。錐形旋轉器測定。 酿亞胺低聚物之評估 Ο對數黏度(riinh)·•將醯亞胺低聚物添加至n,N-二 曱基乙醯胺溶劑中,而將醯亞胺低聚物固形份濃度調整至 〇·5 g/dl。而且,將其溶液調整至35°C而測定對數黏度。 38 200819501 25605pif 2) 分子量(重量平均分子量Mw,數平均分子量Μη): 利用Shodex公司製GPCsystem-21H系列(檢測器:RI,擴 展觸媒:四氫吱喃,流速:1 ml/min,柱溫度:40°C )加 以測定。 3) 玻璃轉移溫度(Tg):利用島津製作所(株式會社) 製熱分析裝置DSC60系列,在含氮環境氣體下測定。 聚酸亞胺系樹脂組成物之評估 1 )玻璃轉移溫度(Tg ):利用島津製作所株式會社製 熱分析裝置DSC60系列,在含氮環境氣體下測定。 2) 去膠渣(desmear)速度:將聚醯胺酸溶液塗佈在玻 璃板上,在含氮環境氣體下,以30(TC加熱4小時而製作聚 醯亞胺膜。切下取出6x2 cm2之大小之試樣,作為測定用試 樣。蝕刻液,係混合MACUDAIZAR 9275 (日本MacDermid 公司製)50g、MACUDAIZAR 9276 (曰本MacDermid公司 製)50ml及離子交換水成為整體1公升所調製而成。將試 樣浸潰於蝕刻液中15分鐘後,沖洗、使其乾燥,由浸潰前 後之重量變化算得去膠渣速度。 3) 揮發性:相對於聚醯胺酸固形份1〇〇重量份,將醯 亞胺低聚物33重量份添加至聚醯胺酸清漆而調製溶液,使 其流延至玻璃基板上。將在含氮環境氣體下以24〇〇c加熱15 分鐘所得之膜剝離,切成5 cm見方。將此膜放入玻璃器皿, 而在含氮環境氣體下以280°C加熱30分鐘後,冷卻至室溫。 以目視觀察附著於玻璃器皿上蓋之析出物之量,而以〇(無 39 200819501 25605pif 析出物)、△(稍有析出物)、X (幾乎全面地有析出物)之 基準加以評估。 金屬積層體之評估 . 1) 剝離強度:依據jISC_6471測定。準備平行於金屬 箔之流動方向的長5〇 mm、寬! mm的試樣,在23。〇、相對
濕度50%的環境下使金屬箔成9〇度的角度,以剝離速度5〇 mm/min從絕緣層剝離,測定其應力。 2) 焊料耐熱溫度:依據IPC-TM_650 (The institutefe
InterC()nnecting and Packaging Electronic Circuits ) N 〇·2·4·13測定。在24(rc至34(rc之間每隔1〇t,以不發生 膨脹及金屬與聚醯亞胺界面變色之最高溫度作為焊料ς熱 溫度。試樣使用在8VC、相對濕度85%之環境下保存48 時之試樣。 化學結構之確認,係使用日本電子株式會社製之核磁 共振(NMR)裝置ΕΧ4⑽加以確認。 實施例及比較例中使用之溶劑、二胺、四緩酸二肝、 二羧酸酐之簡稱如以下所述: — 1) 溶劑: DMAc : Ν,Ν-二甲基乙醯胺 2) 二胺: ΑΡΒ : 1,3-雙(3-氨苯氧基)苯、 APB-R ·· 1,3-雙(4-氨苯氧基)笨、 m-BP : 4,4’-雙(3-氨苯氧基)聯笨、 200819501 25605pif 3) 四羧酸二酐 BTDA · 3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、 DSDA :雙(3,4-二羧基苯基)磺酸二酐、 ODPA :雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、 BPDA : 3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐、 PMDA :苯均四酸二酐、 4) 二羧酸酐: MA :馬來酸酐 NDA :降冰片烯酸酐 [合成例1-1] 聚醯胺酸清漆的合成 在具有攪拌機及氮導入管的容器中,裝入DMAc (991g)作為溶劑後,於此裝入APB ( 146.25g)、APB-R (61.39g)而在至溫擾拌至溶解為止。接著,褒入btda (219.92g),在50 c擾拌6小時,而得聚酿胺酸清漆。 所獲得的聚醯胺酸清漆之聚醯胺酸固. 為祕,龍減編响,坑+调=為= [合成例1-2〜M5] 除了變更_酸二酐、二胺之種類及料 所示者二外,與合成例丨同樣地合成聚酸胺 與合成例1 一併揭示於表1。 將…果 41 200819501;
副ε π go寸 οοςα: oolocr' οοοοι 00寸 00Γ(Ν 000,00ιΛΙΙ 00 寸ΓΤΓ 000t 寸 0051 00 寸,ϊ oo^el οοςΓίι 0051
s/IPcrVNa〕 qu{U <Ν 一 OCNCN — moooc — ΟΝΟΟΟΟ Όν〇ν〇^〇Ό〇〇ιη〇ΊΓη — 寸… 0000000(Ν0000000 〔oUI/oal〕 a+u/a+v om/om〕 α/υ 005s6ds/0 e 丨CQdv I 000CP6O iFe-OQdv SdV 009I/P60 iFΉώίίν mdv ooos 卜 60 iFβώΟΗνDQdv 000 I/P60 iFΉ-sv sv 000 10680iF>J>3dV mdv 000 1/5 寸 60e-PQdvPQdv 000 1/000 1 iFΉ-CQdvCQdv 000·ί/ς66Ό s e-advCQdv 000·Ι/ς66Ό iFβ-PQdvOQdv 000 IS6 0 01/0 βώα-ν I 000·Ι/ςΑ6Ό ς/ς e-gdvmdv 000 s 卜 60 1/6 ^«£< sv 009I/S660/01 IPQdv 000cSA6di!L Ήώ€ίν mdv
/IV J!ds9s 〔om/om〕 a/v fe 01/0 01/0 Ui 寸/9 (n/8 0/01 0/01 0/01 0/01 0/01 0/01 0/0 ΐ 0/01 0/0 ΐ 0/01 vasa vasa vasa vasa vasa valOQ valPQ valm vaHs valCQ ValPQ ValOQ vaia vaHa vaia ValCQ ValCQ vaxa n丨i 寸ϊ丨l ει丨i (NI 丨 i I,i ow 6 二 8丨一 ΖτΙ 9丨1 彳一 tI £丨1 <Ν丨 I I丨一 200819501 256U5pif [合成例2-1] 醯亞胺低聚物的合成 在j有攪拌機、氮導入管、抽出器、冷卻器及 之k瓶中,裝入APB (29.23g,〇1〇m〇1)、〇DpA ( 15 〇,〇5Π^、馬來酸肝(以下稱MA) (11.77g,0.12m〇1)、$
作為容η]之DMAc ( 132g )、作為脫水共沸溶劑之曱笨 (42g)。。其後,攪拌此溶液,一面通以氮氣,一面加熱至 130+〜135%。在内溫達到13(rc附近之同時,發生甲笨與水 之蒸,。利用冷卻器將該等之一部分凝縮而以抽出器將水 與:苯分離後,僅使甲苯回流至系統内,將一部分與流通 之氮氣同時由冷卻管上部蒸餾至系統外。 方e行7小時反應後,冷卻反應容器,停止聚合反應。 將反應混合物裝入於甲醇中而使醯亞胺低聚物析出後,利 用曱醇加以洗淨。其後,在氮氣流通下,以9〇。〇使其乾燥 12小時而得39.59g的醯亞胺低聚物(產率78%)。所得之醯 亞胺低聚物之對數黏度帀汕為〇.〇7dl/g,GPC測定之數平均 分子量(以下稱Μη)為2100,重量平均分子量(以下稱 ]^\¥)為3100,分子量分佈之指標之多分散度]^^舰11為1.5。 為確認所得之醯亞胺低聚物的結構,可透過NMR、 FD-MS測疋確$忍已產生具有目的結構之酿亞胺低聚物。此 酉&亞私低聚物之DSC測定的Tg為118°C。將此酿亞胺低聚物 以濃度40wt%在室溫下混合至DMAc的結果,可迅速溶解。 [合成例2-2〜2-7] 43 200819501 25605pif 除了變更四羧酸二酐、二胺之種類成為表2所示者以 外,與合成例16同樣地施行醯亞胺低聚物之合成、評估。 將結果與合成例2-1—併揭示於表2。 •[合成例2-8] . 在具有攪拌機、氮導入管、抽出器、冷卻器及溫度計 之燒瓶中,裝入APB ( 29.23g,O.lOmol)、〇DPA ( 15 51g 0.05mol)、NDA (9.85g,0.06mol)及作為溶劑之DMAc’ P (163g)。 搜拌所得之溶液,一面通以氮氣,一面加熱至。 在内溫達到160°c附近之同時,發生少量之DMAc與水之蒸 發。利用冷卻器將該等之一部分凝縮而以抽出器將其抽 出,將一部分與流通之氮氣同時由冷卻管上部蒸餾至系統 外。2小時後,將NDA (9.85g,0.06mol)裝入反應器内, 再加熱4小時。其後,冷卻反應容器,停止聚合反應。 將反應混合物裝入於曱醇中而使醯亞胺低聚物析出 後’利用曱醇加以洗淨。其後,在氮氣流通下,以9〇°c使 G 洗淨物乾燥12小時而得41.81g之醯亞胺低聚物(產率 73%)。所得之醯亞胺低聚物之對數黏度dl/g, GPC測定之數平均分子量Mn^1500,重量平均分子量Mw 為2100,分子量分佈之指標之多分散度。 為確認所得之醯亞胺低聚物的結構,可透過NMR、 FD-MS測定確認已產生具有目的結構之醯亞胺低聚物。此 醯亞胺低聚物之DSC測定之Tg為120°C。將此醯亞胺低聚 物以濃度40wt%在室溫下混合至DMAc之結果,可迅速溶 44 200819501 2560$pif 解。 [合成例2-9〜2-14] 除了變更四羧酸二酐、二胺之種類成為表2所示者以 外,與合成例2-6同樣地施行醯亞胺低聚物之合成、評估。 將結果匯總揭示於表2。 [合成例2-15及2_16] 〇 成, 雙醯亞胺之合成 利用日本特開平4_99764號公報所記載之方法加以合 並施行評估。將結果匯總揭示於表2。 45 200819501
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Ms i 51pcrvi〕 lcju 〔3。〕 ^―Ν τ—< ^―-i 1—^ ^―ί. Τ—^ τ—^ r—Η r—Η ^ρ—< 009<ν 009(ν 0§ I 0081 oi 001<Ν 009£ 009ΓΠ οοςΓη οος(Ν 008CNI οοοοΓΝι ΟΟΙΓη 0061 0081 0081 I 00寸ί 00寸一 I 00 寸<Ν ooerNI οοεΓΝΙ 00卜一 000ΓΝ1 000<Ν 00Ι(Ν 600 800 800 i 卜 00 900 i 800 800 0000 900 卜 00 ΖΌΌ i £1) Ο寸I sl) 081 8£ί 6U ooel lCNl s I(Nl § 6U 6U 9U (NiNI <N(N1 l(NI ocu 0 0
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91 丨(N tnI 丨<N 寸 T<N ει 丨<N (NI 丨(N Π·(Ν 01 丨<N 6—(n 00丨<N L,z 9丨3 a 丨<N 寸丨<N s z丨τ I 丨<N 200819501 25605pif [實施例1] 在具有攪拌機、氮導入管及溫度計之燒瓶中,裝入人 成例1-1所得之聚醯胺酸清漆、合成例2-1所得之酸亞胺^ 聚物,而相對於聚醯胺酸清漆中之聚醯胺酸固形份1〇〇重旦 份,使醯亞胺低聚物含有33重量份。 加熱至4 0 °C並混合而裝入D M A c,獲得e型黏度叶中之 黏度為100〜1000之淡褐色透明之溶液。流延所得之溶液而 得之膜的Tg為177°C。又,依序前述程序測定之去膠洁速 度為2ug/cm2/min,揮發性試驗之評估為〇。 其次’在市售之聚醯亞胺樹脂膜(東麗•杜邦株式备 社製、商品名:Kapton 100EN)之雙面,利用輥式塗佈機 塗佈上述溶液,以70°C施行乾燥5分,l〇〇t:施行乾燥2分, 140 C施行乾燥2分,180°C施行乾燥2分,220°C施行乾燥1〇 分,乾炼後之厚度為4μηι。如此獲得在樹脂膜雙面積層聚 醯亞胺系樹脂組成物之聚醯亞胺絕緣膜。 將銅箔(古河Circuit FoH株式會社製、商品名·· 、厚9μιη)直接疊合於所得之絕緣膜之聚醯亞胺系 树脂硬化物層,而利用被覆石夕橡膠之輥式層壓機,在 240C、壓力1·4 MPa之條件下使其貼合。其後,利用溫度 3f°C、含氮環境氣體下之批式高壓蒼施行4小時之退火而 亞胺金屬積層體。聚邮胺金屬積賴之剝離強度 為咖跑’焊料耐熱溫度為3靴。 [實施例2〜29] 47 200819501 25605pif 、除了將聚醯胺酸清漆、醯亞胺低聚物之種類變更為表 3^A或表3B所不者以外,與實施例丨同樣地施行聚醯亞胺系 =月曰組成物之合成及評估,再製作及評估賴亞胺金屬積 層體。將結果揭示於表3A或表3B。 、 [比較例1]
—除了不使用醯亞胺低聚物以外,與實施例1同樣地施 仃life亞胺系樹脂組成物之合成及評估,再製作及評估聚 醯亞胺金屬積層體。將結果揭示於表3A。 [比較例2及3] 除了將聚醯胺酸清漆、含有交聯性基之添加劑之雙酸 ",之種類變更為表3B所示者以外,與實施例〗同樣地施 =酸亞胺系翻旨組成物之合纽評估,再製作及評估聚 齪亞胺金屬積層體。將結果揭示於表3B。
48 200819501 f J!ds9s 【νε ί 焊料耐 献 溫度rc ) 340 340 340 340 300 340 340 300 320 300 330 320 300 290 〇 On (N 300 320 剝離強度 [kN/m ] 0000000000^00000 » •攀》 *»··«*··« r—^ r—Η τ—H f—^ τ—^ r—^ (N 〇 OC 〇 Ο 1 揮發性 試驗 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 〇 〇 < 去膠渣速度 〔pg/cm2/min ] ? \ 1 i 寸 ^ V \_f 177 168 172 196 205 182 172 185 165 155 180 182 186 190 cn Ο (N 〇 0\ IT) ^ Η % ^ 锲 巧侧 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/33 100/0 100/11 100/150 通式⑵ 之1 r-H τ—Η τ-^Η τ—Η τ—Η ι—Η τ—Η τ—Η r—^ τ—Η r—Η r-H τ—Η 1 ,丨1 1 < r~H 醯亞胺低聚 物 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 合成例2-1 1 合成例2-1 合成例2-1 聚醯胺酸 合成例Μ 合成例1-2 合成例1-3 合成例1-4 合成例1 -5 合成例1-6 合成例1-7 合成例1-8 合成例1-9 合成例1-10 合成例1_11 合成例1-12 合成例1-13 合成例1-14 合成例1-15 合成例1-1 合成例1 -1 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 比較例1 Η τ«·Η 6寸 200819501 〔。。〕ir?i〔 S/S〕 _| 〔.££/p5/3ZL〕〔。。〕 〔玉¥侧〕 審鉍绰鍩ftifg /拿染一一一^鍩饍龄 寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸寸 寸 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 ο • »»»#···»«♦» » ,丨· ! ( 气 I ( ψ i < , — i' < v-丨— f 崎 f H t_ 1 i 〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇 τ τ τ τ ζ τ ζ τ τ ζ e τ ζ
寸001 ΖΟΟΙ <ΝοοΙ ZL\ S 6卜一 LLA ecoI 181 oool oz/i PI eil eil §oi §οϊ §01 §01 eil eii iol iol rnsoi §01 1
./IV J!ds9s 【S <】 Η·(Νί#^φ U 丨<Νί4^φ <Νϊ-(Νί4^φ π-(Νί#^φ Οΐ 丨(Ν^^φ 3 OC丨(Νί#^φ ΖΓΓΝΙί卷噠命 9 丨<Νί#^φ ς 丨<Νί4^φ 寸丨2:苳噠^ 3 ϊ丨I冢噠命 1丨1 ί#^φ I丨 I ίφ^φ ϊ 丨 ίί4^φ ϊ 丨一 ί#^φ ι 丨 u#^4 I丨一 ί#^φ I 丨I ί4^φ I丨I革噠令 I丨一ί4^φ I 丨ϊ^^φ Ϊ丨I ί4^φ 6<Nf#^_ ocrsli# 嫁 # 9<Ni#^·s f#德㈣ 寸(Nf杳键^ eCNIf在衮 # <N(Nf#^· ιΓΝΙί冬嫁取 宕苳衮# 61罢嫁取 81革嫜取 ZJi#鸯取
ο寸Γηs X τ d 8— ο 9Ι·<Νί4^<πΙ-ΙΜ5Φ^ si ο芝__5 X τ 091 81/001 0 ςΙ-<Ν¥^φΙ-Ι ί#^φ^ SS 200819501 25605pif 如表3所示,可知:使用不含醯亞胺低聚物之樹脂組 成物(比較例1)製造之金屬積層體之剝離強度較差。故有 時作為接著劑之性能不充分。 又,可知:含有雙醯亞胺以取代醯亞·胺低聚物之樹脂 ,成物(比較例2及3)之揮發性試驗之評估結果較差,曝 露於高溫度環境時,組合物之一部分(被認為是雙醯亞胺) 有昇華之虞。
另一方面,如實施例1〜14所示,含有合成例M〜1 〜14所彳于之聚醯胺酸清漆中之一與醯亞胺低聚物之樹脂組 成物之揮H极之評估較高,使用此所製造之金屬積層 ,之剝離強度也相當充分。χ,如實施例15及16所示,不 =屬胺酸_份與醯亞胺低聚物之量比如何,本發明之 Τ/酉:亞私系树月曰組成物均顯示優異之物性,但聚醯胺酸固 形伤之里比過南(醯亞胺低聚物過少)時,剝離強度有劣 虞,fe亞胺低聚物之量比過高時,揮發性試驗之評估 有降低之虞。 〜又,如,施例17〜29所示,含有聚醯胺酸與合成例2_2 所付之醯亞胺低聚物中之一之樹脂組成物之揮發 驗之評估也較高,使用其所製造之金屬積層體之剝 強度也相當充分。 [產業上之可利用性] f么明之聚醯亞胺系樹脂組成物可使用於耐熱性 卩職缺半導難裝等。 【圖式間早說明】 益 51 200819501 25605pif 【主要元件符號說明】 益 /η、

Claims (1)

  1. 200819501 25605pif 十、申請專利範圍: 1.-種聚醯亞胺系樹脂組成物,其係、含 所示之重複單位與通式(1·2)所示之重鮮j 論亞胺獅,以及下_式⑺所科_胺低聚物1 〇〇 • · (l'l) • · . (1'2) ΛΛ 1-ΝΥΒΥΝ" 〇〇 〇〇 -α2~ν^β^ν-Π fl 〇〇 [,式(1·1)及式()中,A]AA2分別為下式(ai) 互相相同,亦可相異為下式 ⑽或(b2)’既可互相相同
    ΟΛ YO I οα^πηο onnA- WKNO N I Z ΟΛ YO N ⑵ 53 200819501 25605pif
    ' [在式(2)中,A3為下式(cl)〜(c4)中之一,b3 為下式(dl)〜(d4)中之一,z為下式(£ΐ)或(e2), 1為1〜5之整數]
    〔在式(cl)〜(C4)中,乂7〜12係選擇自包含單 鍵 0-、-S-、-CO-、-COOs、—c (CH: NHC0〜之群,既可互相相同, c (cf3) 2一、— so: 亦可相異〕
    • · · (dl)
    • · · (d2)
    〔在式(dl)〜(d4)中,Y7〜12係選擇自包含 • (d4) 、-s-、-CO-、—COO〜、一c (ch3) _ 54 200819501 25605pif -NHCO〜之群,既可互相相同,
    c(cf3)2---s〇2- 亦可相異〕
    〔在式(el)或(e2)中,仏〜4係選擇自包含氫原子、 3原子、及碳数卜3的絲之群,既可互相相同,亦可 ^ ,R5 係一0-、-S-、~CH2~、-C (CH3) 2—、 —CO —或—c〇〇 —〕。 私t如申請專纖1第1項所述之㈣亞㈣樹脂組成 物,其中前述通式(H)之Al及通式(1_2)之 一方為(al),另一方為(a2)。 3·如中請專利翻第丨項所述之親亞㈣樹脂 物,其中前述通式⑺之以卜 取 4·如申請專利範圍第}項所述之聚酿亞胺系樹脂組成 勿’、其中相對於前述聚醯亞胺樹脂為100重量份,以前述 通式(2)所示之醯亞胺低聚物含有5重量份以上、1〇〇 量份以下。 5·如申請專利範圍第1項所述之聚醯亞胺系樹脂組成 其中聚醯亞胺系樹脂組成物的玻璃轉移溫度為l〇〇°C 以上、300。〇以下之範圍。 6·如申請專利範圍第1項所述之聚醯亞胺系樹脂組成 55 200819501 25605pif 物,其中在前述通式(2)中,A3 B3係選擇自下式(dl)及(d5)〜 或(e4),1為ι〜5之整數 Ο 係下式(c5)或(C6), (dlO)之群,z 為(e3)
    〔R3及R4之定義與前述式(e2)相同〕。 、—7.一種混合物,其係含有下騎式(3_υ所示之重 複單下列通式(3_2)所示之重複單位的聚醯胺酸、 以通式(2)所示之酸亞胺低聚物以及必要時所需之溶劑 56 200819501 25605pif II Ο Ο 11 •Α如;^一 Βι Η〇ΐί ίΓ〇Η 〇〇 II Ο Ο II Η〇Ίί Ι~〇Η 〇〇 (3-1) • · · (3-2) Γ [在式(3-1)及式〇υ中,Α】及^分 、 或(a2),既可互相相同,亦可相显二剐述式Ul (Μ)或(b2),既可互相相同,亦’可相異^刀別為前心
    • · · (a2) • (al)
    〇〇 ΛΑ ·Α3 - ΝγΒγΝ-Ο 0 (bl) (b2)
    〇 Aζγ 〇[在式(2) 為前述式(dll· 1為1〜5之整數] z onnA VHO N I A^o 前 為 中 之 中 d4 ⑵ 逑式(cl)〜(C4)中之一,B: —,Z為前述式(ei)或(e2), (cl) -Ο— 57 200819501 25605pif
    (c2) x8""^^Xicrl丨- χιΗ卜士X12
    (c3)
    (c4) 〔在式(cl)〜(c4)中,X7〜]2係選擇自包含單鍵、 -ο-、-S-、-CO-、-COO-、_c (CH3)广、— c (CF3) 2—、— S〇2-、—NHCO-之君竿,既可互相相同, 亦可相異〕
    (el) (e2) 〔在式(el)或(e2)中’R ;[〜4係選擇自包含氫原子、 鹵素原子及碳数1〜3的烷基之群,既可互相相同,亦可相 異,R5係一0---S---CH2- . -c (CH3) 2___ Co—或— COO—〕。 8·種聚醯亞胺系樹脂硬化物的製造方法,其係包含 化^庫《Γ π專利範圍第7項所述之混合物而使其起·亞胺 1匕夂應之步驟。 Κ 亞胺;㈤二申請專利範’項所述之聚酿 1〇,1金屬積層體,其係包含金屬層與樹脂層,且前 58 200819501 256U5pit 述樹脂層的至少_層是由如 酿亞胺系樹月旨組成物的硬化圍卑1項所述之聚 聚酿亞胺層的4::;::屬:亞按層、及積層於前述 由如前述錢層之㈣㈣層是難層,其係 項所述之㈣亞胺_脂組成物之 樹脂』之?片’其係具有樹脂膜,以及積層於前述 、之早面或雙面的如申請專利 f 胺系樹脂組成物之硬化物所構成之樹脂層。、t / 59 200819501 25605pifl.doc imide oligomer represented by the formula (2) is provided. The polyimide includes repeating units represented by the formula (1-1) and the formula (1-2). 〇〇 • A Λ —---.-(1-1) N—f ΟΛΒνο OAVO OAYO - fA3 A2t I N ΟΛΖΥΟ Z 0AYO N I A3 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 〇〇 (1-1) Λ Λ •A1—\BlrN_ 〇〇 〇A\o ΟΛ ¥0 N I A2 OAVO OAYO N I A3 OAVO z OAYO N I A3 (1-2) (2 4
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