TW200819073A - Sole balancing pad and use thereof - Google Patents

Description

200819073 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 尤指一種放置於鞋内 干擾之墊片設計。 特 本發明係一種足部平衡墊片， 定位置，使人們於穿鞋時減少鞋底 L无W技術】 越二發達’現代人對於物質生活的要求也越來 (…中人們對於穿著鞋子時之舒適感要 高’目前市面上生產鎖售的鞋子，主要訴求為軟底的2 鞋或符合足部形狀的鞋子M旦由於兩下肢長短有別，柔 的鞋底往往會使受力較大的—側下肢，陷下去較多，:人 身體關節產生不適當的變化，*符合足部而使 會增加不必要的足底干擾，造成足部變形，因此 又 又〜 囚此足部醫師 以矯正鞋墊來改變這些變化’糾正不良步態以改善身體处 構，但不-定得到理想的效果，且價格昂#，導致除：： ^嚴重足部變形之人，否則^會特^穿著該續正鞋 塑* 〇 【發明内容】 有鑑於前述目前穿鞋造成的困擾，為減少因穿鞋可能 造成的傷害’而提出新的理論和設計，藉由簡單的方式此 改善人們穿鞋的困擾，使人們足部感覺舒服又不受傷>害且 價格便宜。 因此，本發明之主要目的係為提供_ m 種足部平衡墊 3 200819073 片，係可改變足部之生物力學，進而改變足底受力之分配， 1到身體結構能自我調整為目的’減少足底與地面受力面 積’而對足底構成穩固的三點支撐。 /為達到上述發明目的，本發明所採用之主要技術手段 係令一足部平衡墊片於同一面上具有至少一第—平面鱼： 弟：t面’該第二平面係成水平或是沿第一平面邊緣形成 一向外傾斜角度，其中該第—平面上具有—支樓部。 之腳:Γ二係將該足部平衡墊片放置在鞋内對應使用者 ^ 進一步以另一足部平衡墊片置於鞋内對 :而7遠弟一平面係直接抵掣在使用者之足 其前腳掌下方，曰μ 一 又下方與 横桿支#作用Λ—足。卩平衡塾片上設有-凸點，且 貝才干支,，.古作用，可平衡腳掌内側與外 有 腳跟與腳掌的受力，當足部踩踏在上述之足部平2平衡 時，將受該足部平衡墊片之支標部之支撑，而減1片上 接觸的方法，因@ 減夕與足底 即對足底形成:支;足底党力面積，當受力面積減少， 翻。 支撐，聊跟和腳掌自然不易内翻或外 前述足部平衡墊片之支 面 丨係冋於弟一平面及第二平 别述足部平衡墊片之支撐部與 部之硬度大於第一平面。 千面♦向，且支撐 = 足部平衡塾片係形成-擴圓形。 =:—平面與第二平面係分別形成半椭圓步 …部平衡塾片係形成近似，，人，，字型錢。 4 200819073 ρρ X d之另一目的係提供一種上述足部平衡墊片之使 用方法，係包括：

提供至+ M U X 王乂一如上所述之足部平衡墊片；及 Λ足邛平衡墊片放置在鞋内，而位於與使用者腳跟 s义別腳掌相應之位置上。 月）述足部平衡墊片可放置在一鞋墊上。 =V足σ卩平衡墊片可放置在鞋子内部底面。 藉此’將可辅助使用者 • ^ ^ ,gp ,e , 丨之I疋進一步避免使用 者之腳跟和腳掌之内翻或外翻。 [貫施方式】 面第一圖所示，係為本發明第-較佳實施例之平 本發明係令-足部平衡塾…0)於同—面上I 有至 >、一弟—平面（11) -羋而Γιο、 昂一千面（12)，該第 一千面（1 2 )係呈水平（如第二

千面（11 )上係具有一支撐部 矛 Τ π 1 〈丄1 0 )，該支撐部（1 1 〇)如寺於該第一平面（丄丄）與 使其為受力點，於本實施例中 1 2)而 係形成一橢圓形，且該第一平面 役游4、一 一 . 口亥足部平衡塾片（1 〇 ) 與第二平面 2)匕別形成半糖圓形’且該第二平面 平’此外，該支撐部（11 〇)係、與”一平“ 及該第二平面（12)等高 …一―千面（1 1) &異失η ” “係為硬質材料所構成。 。月再$閱弟三圖所示，係為本發 — 剖面圖。於本實施例中，該第二 乂侄貝施例之 面（1 2 )係沿該第一 5 200819073 平面（1 1 )之邊緣向外傾斜一角度，該支撐部（丄丄〇 ) 係定義自該第一平面（11)的最高點，“對足底構成 支撐。 ,請再參閱第四圖所示，係為本發明第三較佳實施例之 平面圖。於本實施例中’該足部 1卞衡上月（1 0 a )係形 成近似’’人’，字型，且該第二平面（ v丄z a彡之邊緣係向外傾 斜-角度’該足部平衡塾片（10a)具有兩第一平面"、 la) (lib)，苴中一第一 τ , 甲弟千面（1 1 b )係位該第二 平面（1 2 a)上，且該支撐部（Ί 、丄丄U b )係咼於該第一 平面（1 lb) ’另一支樓部（丄工〇 面（11〇等高，且為硬質材料組成。 ^ + 請參閱第五圖與第六圖所示 一 知、為本务明使用在足部 之示意圖與側視圖。當使用者 i疋4私踏在该足部平衡墊 片（1 〇 ) ( 1 0 a)上，係令兮穿 ^ ^ , 1 丁、7该弟一平面（工工）之去 = 對應於使用者之_跟“點往腳指方向與 足弓接近處而為腳跟受力位詈， 置而该足部平衡墊片（1 〇 a)係設置在符合前腳掌受力 η λ 、位置上，该支撐部（1 1 a )係相對於使用者之蹏骨 Ί ^ 貝卜方，且另一支撐部（1 1 〇 b )係對應至使用者第— 乐職、骨與第二腋骨接近足弓 处，於本實施例中，係為一 星右产炉士 凸·站，該支撐部（1 1 〇 b ) 具有楨杯支點和按摩湧泉穴的作用。 此外，本發明之使用方法，係包括· 提供至少一足部平衡墊片；及 將該足部平衡墊片放置在 私内，而位於與使用者腳跟 6 .200819073 及/或是前腳掌相應之位置上。 墊片時，係將 使用者欲使用該足部平衡 各式鞋子二足:平:塾片放置在鞋内， •皮鞋、布鞋戎早、、丄办斤 衡塾片設置或形成在-鞋塾上後1寺，或是將該足部平 所示’係為本發明實施在 放：：内，如第七圖 尹係以拖鞋作為說明，土之不忍圖。於本實施例 該足部平衡墊片（10;不用从限制本發明，使用者係將 面上且與使用者之足跟( V^) /分別設置在拖鞋鞋 一則W手之相應位置。 系示上所述，當 片上時，由於， ^彳踩踏在上述之足部平衡墊 田方、5亥足部平銜| y 足部，因而能減少足底受力面芦=部將會支撐使用者之 底形成二點鼎古 -又積，當文力面積減少後，足 •如立，腳跟和腳掌自然不易内翻或外翻。 圖式 一圖 二圖 三圖 四圖 五圖 六圖 七圖 主要 10 第 第 第 第 第 第 第 簡單說明】 许為本發明第一較佳實施例之平面圖 :係為本發明第—較佳實施例之剖面圖 .係為本發明第二較佳實關之剖面圖 :係為本發明第三較佳實施例之平面圖 .係為本發明使用在足部之示意圖。 :為本叙明使用在足部之側視圖。 :仏為本發明實施在—拖鞋之示意圖。 元件符號說明】 )(1 0a)足部平衡塾片 )(^la) (11b)第一平面 7 200819073 (110) (110a) (ll〇b)支撐部 (12) ( 1 2 a)第二平面

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Claims (1)

1. 200819073 十、申請專利範圍·· 1 —種足部平衡塾片，梅人 面上具有至少—第一平面鱼_^:足部平衡塾片於同〜 水平或是沿第—平面、毐… 平面，肖第二平面係成 -平面上具有―支::緣…向外傾斜角度，其中” 支申請專利範圍第1項所述之足部平衡塾片1 又心。卩係局於第—平面及第二平面。 。亥

   支申請專㈣圍第1項所述之足部平衡墊片，兮 支W係與足部平衡塾片 。亥 度大於該足部平衡墊片。 且支#部之硬 片，二如申請專利範圍第2或3項所述之足部平衡塾 μ足邙平衡墊片係形成一橢圓形。 μ _ 5 *申請專利範圍第4項所述之足部平衡墊片，誃 弟平面與第二平面係分別形成半橢圓形。 6 ·如申請專利範圍第丄項所述之足部平衡墊片， 足部平衡墊片係形成近似，，人，，字型。 〜 7 如申晴專利範圍第6項所述之足部平衡墊片，該 Ρ平衡墊片於同一面上具有兩第一平面，其 面係位該第二平面^ 千 如申請專利範圍第7項所述之足部平衡墊片， 私泫第二平 丁卸上之弟一平面的支撐部係為一凸點。 9 ’如申請專利範圍第7項所述之足部平衡墊片，該 支樓部係；^ $ 人 1诉呵灰昂一平面及第二平面。 9 1 〇 如申請專利範圍第7項所述之足部平衡墊片， 200819073 該支禮部係埋入於足部平衡墊片内 支擇部之硬度大於該足部平衡塾片。 千面寺南’且 1 1 ·-種使用如_請專利範圍第 A 衡墊片以穩定足部平衡之方法，係包括、 片；Γ至少—如中請專利範圍第1項所述w部平衡塾 將該足部平衡墊片放罟太 、，β 在I内，而位於與使用者腳跟 及/或是Μ腳掌相應之位置上。 1 2 ·如申請專利範圊笛 =^ 寸七乾Ν乐1 χ項所述之方法，該足部 平衡墊片係設置或形成在一鞋塾上。 如申請專利範圍第1 1項所述之方法，該足部 平衡墊片係設置在鞋子内部底面。 十一、圖式： 如次頁 ❿ 10