TW200814055A - Semiconductor device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 27
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 53
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 13
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 10
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 9
- 238000003491 array Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000012552 review Methods 0.000 description 4
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- LVTHXRLARFLXNR-UHFFFAOYSA-M potassium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [K+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LVTHXRLARFLXNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 101100223794 Arabidopsis thaliana At5g23212 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100325974 Arabidopsis thaliana BHLH95 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100340017 Arabidopsis thaliana HUA2 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100255944 Arabidopsis thaliana RWA1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100255945 Arabidopsis thaliana RWA2 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- WYBXZVJGRKCXPJ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-[3-(2,3-dihydro-1,4-benzodioxin-6-ylamino)quinoxalin-2-yl]benzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC2=CC=CC=C2N=C1NC1=CC=C(OCCO2)C2=C1 WYBXZVJGRKCXPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100255946 Arabidopsis thaliana RWA3 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000007595 memory recall Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M sodium chloroacetate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CCl FDRCDNZGSXJAFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000003442 weekly effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
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- G11C2213/79—Array wherein the access device being a transistor
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200814055 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明關於半導體裝置,關於含有記憶格 置,該記憶格由可對應記憶資訊而呈現電阻値之 構成,特別關於含有使用記憶格之相變化記憶體 裝置,該記憶格爲利用硫屬化物材料之狀態變化 訊,檢測出該資訊引起之電阻値之差而辨識資訊 【先前技術】 本發明人檢討之技術,例如包含相變化記憶 體裝置技術如下。 記憶元件係以至少含有S b (銻)與τ e (碲 Sb — Te 系、Ag — In — Sb — Te 系等之插 (chalcogenide )材料(或相變化材料)作爲記 使用。使用相變化材料之相變化記憶體之特性記 非專利文獻1。 圖2爲使用相變化材料之電阻性記憶元件之 要之脈寬與溫度之關係圖。如圖2所示,對該記 入記憶資訊”〇“時,係施加使記憶元件熱至相變 融點T a以上之後急速冷卻的重置脈衝。縮短重 縮小供給之全部能量,縮短冷卻時間11、例如設 而使相變化材料成爲高電阻之非晶質狀態。 反之,寫入記憶資訊” 1 “時,係施加設定脈 兀件保持在低於融點T a,高於和玻璃轉移點相 的記憶裝 .差之元件 丨的半導體 t而記憶資 者。 體的半導 )之 Ge — E屬化物 錄層材料 載於例如 相變化必 憶元件寫 化材料之 置脈衝、 :爲約 1 n s 衝使記憶 同或較其 -4- 200814055 爲高之結晶化溫度Τχ的溫度區域,使相變化材料成爲低 電阻之多晶狀態。結晶化所要時間t2,因相變化材料之組 成而不同。該圖2所示元件之溫度,受到記憶元件本身發 出之焦耳熱及對周圍之熱擴散之影響。 專利文獻1揭示記憶資訊,,1 “之具體寫入方法,圖3 爲設定動作使用之格電流脈衝。圖4爲產生格電流脈衝之 波形產生電路。於圖3,1 22爲可使電阻性記憶元件之相 轉移爲高電阻(重置)狀態之位準。由該位準1 22漸漸降 低成爲低位準1 3 0,則可使電阻性記憶元件之相轉移爲低 電阻(設定)狀態之位準。於圖4之波形產生電路,203 爲電源電壓,2 05爲接地電壓,204爲電流源,208爲格選 擇開關使用之電晶體,208爲電阻性記憶元件。21 0_ 1〜 2 1〇_ K爲開關電晶體,212_ 1〜212_ K爲電流源。藉由 設定開關電晶體208爲活化狀態,使圖3之位準122之電 流施加於記憶元件。又,藉由依序設定控制信號C 1〜 CK爲活化狀態,使對應之開關電晶體210— 1〜210_ K導 通,慢慢減低施加於記憶元件之電流。藉由上述格電流脈 衝之使用,可縮短下降時間至約 200ns,可縮短設定時 間。 專利文獻2揭示減低改寫電流之介面(1/ F )相關之 技術。具體言之爲,對應於同時改寫之位元數而停止改寫 驅動用電源電路,實現抑制記憶體晶片之改寫電流。 專利文獻1 :美國專利648 7 1 1 3號公報 非專利文獻 1 : IEEE International Electron Devices 200814055 meeting,TECHNICAL DIGEST (美國),p p · 8 0 3 - 8 0 6, 200 1 非專利文獻 2 : IEEE International Solid-State Circuits Conference,Digest of Technical Papers (美國), pp. 140-141, 2006 【發明內容】 (發明所欲解決之課題) 本發明人針對上述相變化記憶體技術檢討結果發現以 下問題。 第1,針對相變化記憶體之改寫電流之檢討結果發 現,欲設定記憶元件爲重置狀態需要相當於1元件數百 V A之改寫電流。電源電路之驅動能力雖因應用而有不 同,但會受容許之峰値電流影響而有可能導致無法一次對 多數記憶元件進行寫入。 第2,針對相變化記憶體之改寫時間之檢討結果,特 別考慮相變化記憶體適用民生機器之情況。通常,民生機 器係依據每一種應用而決定記憶資訊之格式或改寫時間。 相變化記憶格要求之改寫時間依據該定義被算出。例如於 時間T_ P GRM之間改寫N位元資訊之規格時,記憶元件 之改寫須於時間〔T_ PGRM / Ν〕χΜ〕以內進行。其中Μ 爲同時改寫之位元數。依據上述檢討,同時改寫之位元數 Μ受限於改寫電流,因此改寫之位元數增加進行改寫時間 延長變爲困難。 -6 - 200814055 第3,針對相變化記憶體之介面(1/ F )構成之檢討 結果發現,以微電腦代表之系統單晶片(SoC,System on chip )搭載之單晶片(On-chip )相變化記憶體之情況下, 將佔有和IP (智慧型特徵)模組間之資訊處理使用之系統 匯流排。另外,非單晶片(Off-chip )相變化記憶體時, 若對應於改寫位元數縮小格構成,則成爲佔有連接晶片間 之系統匯流排之同時進行改寫動作,於彼等期間無法執行 其他工作,有可能使系統性能顯著劣化。同樣,單晶片相 變化記憶體或非單晶片相變化記憶體內之記憶格陣列被區 塊(bank )化,多數區塊共有輸出入(1/ 〇 )線時,成爲 佔有I / 〇線之同時進行改寫動作。此情況下,無法進行 使用所謂交錯(interleave )動作之讀出動作,有可能使晶 片性能顯著劣化。因此,設定系統匯流排或1/ Ο線之匯 流排寬大於改寫位元數之同時,於相變化記憶體內部進行 記憶資訊之暫時儲存及並列-序列轉換而進行分時改寫動 作一事被期待著。 本發明爲解決上述問題,亦即,本發明目的在於實 現,在短時間受信一定量記憶資訊之同時,可以抑制峰値 電流,而對記憶格進行寫入的相變化記憶體。本發明上述 及其他目的,以及特徵可由本說明書之記載及圖面加以理 解。 (用以解決課題的手段) 本發明之代表性槪要簡單說明如下。 -7 - 200814055 亦即,具有相變化記憶體之半導體裝置中,使用多數 感測放大器暫時儲存記憶資訊,如此則,於改寫動作中可 開放資料系匯流排,可並行進行讀出等之其他動作。另 外,設置多數改寫電路,使用不同相位之控制信號設定彼 等爲活化狀態,如此則,可抑制改寫動作電流。藉由上述 可以不劣化資料系匯流排之使用效率,而實現低消費電流 之相變化記憶體系統。 【實施方式】 以下依據圖面詳細說明本發明實施形態。於說明實施 形態之全圖中,同一構件原則上附加同一符號而省略重複 說明。又,構成實施形態之各方塊的電路元件並未特別限 定,典型者係藉由習知CMOS (互補型MOS電晶體)等半 導體積體電路技術形成於單晶矽等之1個半導體基板上。 另外,表現相變化的相變化材料(硫屬化物材料)等藉由 積體電路技術被混成(Hybrid )作成。 (第1實施形態) 圖1爲本發明第1實施形態之記憶體模組之重要部分 方塊之構成例之圖。亦即,該相變化記憶體由以下構成: 記憶格陣列MCA、多工器MUX0〜MUX15、字元驅動器列 WDA、讀/寫電路 RW0〜RW15、輸出入資訊緩衝器 IOBUF、改寫控制電路PCTL。圖中一例表示(m + 1 )行X 1 2 8列之多數記憶格構成之記憶格陣列M C A。於字元驅動 200814055 器列WDA之輸出之字元線WL0〜WLm與BL0〜BL127之 各交叉點,配置記憶格M C 0 0〜M C ( m + 1 ) 1 2 7。各記憶 格由串接之記憶體元件RM與選擇電晶體QM被插入位元 線與接地電壓V S S端子之間而構成。字元線連接於選擇電 晶體QM之閘極。位元線介由每隔8條配置之多工器 MUX0〜MUX1 5結合於對應之讀/寫電路 RW0〜RW15。 多工器MUX0〜MUX15之各個,係選擇8條位元線之其中 1條,使電連接於對應之讀/寫電路RW0〜RW15。藉由 此構成,於後述改寫動作或讀出動作,可使連續或同時存 取之記憶格位置分離,可抑制選擇記憶格受到周圍記憶格 之熱影響。亦即,可迴避所謂熱干擾。以下爲使記憶格陣 列MCA與讀/寫電路RW0〜RW15之配置關係明確,依 每1 6條位元線將記憶格陣列方塊化,分別稱爲副陣列 SMCA0 〜SMCA15。 讀/寫電路由例如RW0等之感測放大器SA0、改寫 電路PRGM0、輸出入閘極IOG構成。讀/寫電路RW0, 係介由輸出入閘極IOGO及輸出入匯流排IOBS中之輸出 入線對IOPO,於輸出入緩衝器IOBUF及資料匯流排 DQBS之間進行記憶資訊之授受。感測放大器SA0及改寫 電路PRGM0,於多工器MUX0側介由共通資料線CD0, 於輸出入閘極IOG側介由感測節點對SNP0分別被連接。 於感測放大器SA0被輸入記憶資訊之讀出動作使用之參照 電壓VREF。改寫電路prgMO,係由改寫控制電路PCTL 介由改寫信號匯流排PPBS被輸入之改寫控制信號群PP0 200814055 被加以控制。改寫控制電路PCTL產生和改寫起動信號 WEB及改寫時脈WCLKB對應之改寫控制信號群ppo。 圖5爲針對圖1之記憶體模組之重要部分電路方塊, 以多工器MUX0及讀/寫電路rw〇爲例之具體構成。多 工器MUX0由CMOS傳送閘極CS W0〜CS W7,及放電用 NMOS電晶體ΜΝ0〜MN7構成。CMOS傳送閘極CSW0〜 C S W 7 ’分插入共通資料線C D 0與位元線B L 0〜B L 7之 間,作爲列選擇開關使用。於C Μ Ο S傳送閘極C S W 0〜 CSW7之閘極,分別連接列解碼器(未圖示)之輸出信號 之列選擇線對(YSOT、YS0B)〜(YS7T、YS7B)。藉由 列選擇線對(YSOT、YS0B)〜(YS7T、YS7B)之其中之 一被活化,使對應之CMOS傳送閘極被活化,使位元線 BL0〜BL7之其中之一被連接於共通資料線CD0。NMOS 電晶體MN 0〜MN 7,分別插入位元線B L 0〜B L 7與接地電 壓 VSS端子之間,於閘極分別連接列選擇線 YS0B〜 YS7B。待機狀態時,列選擇線 YS0B〜YS7B被保持於電 源電壓VDD,NMOS電晶體ΜΝ0〜MN7導通,而將位元 線BL0〜BL7驅動於接地電壓VSS。列選擇線對(YS0T、 YS0B )〜(YS7T、YS7B )亦共通連接於其他多工器 MUX1 〜MUX7。 以下針對讀/寫電路RW0,依感測放大器SA0、改寫 電路P R G Μ 0、輸出入閘極I Ο G 0之順序說明。感測放大器 SA0由讀出閘極RG、預充電電路PCC、交叉耦合型感測 閂鎖器CCL構成。讀出閘極RG由插入感測節點對SNP0 -10- 200814055 (亦即感測節點SNTO、SNBO )與共通資料線CD0及參照 電壓VREF之間的NM0S電晶體對構成。電晶體對之閘極 之中,於共通資料線CD0側被連接第1讀出閘極起動信號 RGE1,於參照電壓VREF側被連接第2讀出閘極起動信號 RGE2。於讀出動作,彼等讀出動作起動信號rgEI、RGE2 由接地電壓VSS被驅動於電源電壓VDD,電晶體對導 通,使感測節點對SNP0和共通資料線CD0及參照電壓 VREF被連接。於此狀態下,讀出信號由位元線產生於感 測節點對SNP0。又,讀出信號放大時,使讀出動作起動 信號RGE 1、RGE2由電源電壓VDD被驅動於接地電壓 VS S,切斷位元線及感測節點對SNP0,可使感測節點對 SNP0之負荷容量減輕並均等化,可進行高速且確實之讀 出。又,讀出閘極起動信號RGE亦同樣連接於其他讀/ 寫電路RW1〜RW7內之讀出閘極。 預充電電路PCC爲3個NMOS電晶體構成之習知電 路。於讀出電壓VDLR供電線與感測節點對SNP0之間被 插入電晶體。於感測節點SNT0與SNB0之間被插入其餘 之電晶體。於彼等電晶體之閘極被輸入感測節點等化信號 SNEQ。待機狀態時,感測節點等化信號SNEQ被保持於 電源電壓VDD,各電晶體導通,使感測節點對SNP0被驅 動於讀出電壓VDLR。又,於讀出動作初期,預充電電路 PCC,係介由讀出閘極RG及多工器MUX0內之列選擇開 關,使選擇位元線被驅動於讀出電壓 VDLR。讀出電壓 VDLR設爲,低於電源電壓VDD、記憶格之記憶資訊不被 -11 - 200814055 破壞、亦即電阻性記憶元件不會產生相移轉之程度之電 壓。又,感測節點等化信號SNEQ亦同樣連接於其他讀/ 寫電路RW1〜RW7內之預充電電路。本實施形態中’預 充電電路PCC,並非依每各位元線BL0〜BL120之每一個 設置,而是設置於對多數位元線共通設置之感測放大器 SA0內。依該構成可縮小面積。本實施形態中,預充電電 路PCC與位元線BL係介由讀出閘極RG被連接。因此預 充電電路PCC藉由讀出閘極RG被由位元線切離,寫入動 作時不必控制。因此預充電電路PCC之控制容易,不必設 定控制信號爲活化狀態,可實現低消費電力。 交叉耦合型感測閂鎖器CCL,爲由2個PMOS電晶體 及2個NMOS電晶體構成之習知電路,係藉由成爲讀出電 壓VDLR之共通源極線CSP、CSN分別被驅動於電源電壓 VDD、接地電壓VSS被設爲活化狀態,而進行感測節點對 SNP0產生之微小信號之放大。又,共通源極線CSP、CSN 亦同樣連接於其他讀/寫電路RW 1〜RW7內之感測閂鎖 器。 重寫電路PRGM,爲由重置電路RCKT及設定電路 SCKT構成。重置電路RCKT係由例如串接於重置電壓供 電線 VRST與共通資料線 CDL0之間的 PMOS電晶體 MP100、MP101構成。於PMOS電晶體MP100之閘極連接 感測節點SNB0,於PMOS電晶體MP101之閘極連接改寫 控制信號群 ΡΡ0中之重置起動信號 RSTE0。重置電壓 VRCKT設爲和電源電壓VDD相同,或如圖2所示使記憶 -12- 200814055 元件流通超過融點之電流程度的電壓。 設定電路 SCKT,係由 4個 PMOS電晶體 MP200〜 MP203構成。於第1設定電壓供電線VSET1與共通資料 線CDL0之間插入串接的PMOS電晶體MP200〜MP201。 於第2設定電壓供電線VSET2與共通資料線CDL0之間插 入串接的PMOS電晶體MP202〜MP203。於PMOS電晶體 MP200、20之閘極連接感測節點SNT0,於PMOS電晶體 MP201之閘極連接改寫控芾[1信號群ΡΡ0中之第1設定起動 信號FSE0,於PMOS電晶體MP203之閘極連接改寫控制 信號群ΡΡ0中之第2設定起動信號SSE0。第1設定電壓 VSET1設爲和電源電壓VDD相同,或如圖2、圖4所示 使記憶元件流通超過融點之電流程度的電壓。因此可設爲 和重置電壓VRST相同之電壓,此情況下,可抑制供電線 數目。第 1設定電壓 VSET2設爲低於第 1設定電壓 VSET1之的電壓位準。藉由2個設定電壓之供給可縮短設 定時間。又,雖圖示2個設定電壓之供給構成,但藉由擴 大於如圖3所示構成,可驅動如圖4所示形狀之格電流。 輸出入閘極IOG0係由插入感測節點對SNP0 (亦即感 測節點SNT0、SNB0 )與輸出入線對IOPO (亦即輸出入線 IOOT、IOOB )之間的NMOS電晶體對構成。於電晶體對 之閘極連接輸出入閘極起動信號IOGE,於讀出動作或改 寫動作,彼等輸出入閘極起動信號I〇GE由接地電壓VSS 被驅動於電源電壓VDD,使電晶體對導通,使感測節點對 SNP0和輸出入線對ιορο被連接,可進行資訊之授受。 -13- 200814055 又’輸出入閘極起動信號10GE亦共通連接於其他讀/寫 電路RW1〜RW15內之輸出入閘極,因此並列傳送至輸出 入匯流排IOBS的16位元資料亦同時被取入對應之讀/寫 電路RW1〜RW15。藉由上述讀/寫電路RW1〜RW1 5之 構成可進行以感測放大器SA0〜SA15作爲寫入緩衝器使 用之後述改寫動作。 於圖1將讀/寫電路RW0設於1個副陣列,但亦可 於2個副陣列間配置讀/寫電路RW0,使2個副陣列共 有。此情況下,使用讀出閘極RG來選擇2個副陣列之其 中之一而使感測放大器SA連接於一方之副陣列即可。 重寫電路PRGM亦可構成爲其之輸出使用閘極電路進行選 擇。 圖6爲改寫控制電路PC TL之例之構成圖。本電路係 由移位暫存器SREG及改寫信號產生電路群PGBK構成。 移位暫存器SREG,係接收改寫起動信號WEB及改寫時脈 WCLKB而輸出不同相位之改寫控制信號Q0〜Q15。改寫 信號產生電路群PGBK係由改寫信號產生電路PGEN0〜 PGEN15構成。改寫信號產生電路PGEN0〜PGEN15,係接 收對應之改寫控制信號Q0〜Q 1 5而產生改寫控制信號群 ΡΡ0〜PP15。改寫控制信號群 ΡΡ0〜PP15,係如上述說明 之改寫控制信號群ΡΡ0,分別由重置起動信號、第1設定 信號、第2設定信號構成。又,總稱改寫控制信號群ΡΡ0 〜PP15爲改寫信號匯流排PPBS。本實施形態,改寫控制 電路PC TL,係對各個改寫電路分別輸出對應之改寫控制 -14- 200814055 信號群PP0〜PP 1 5。如此則,可獨立控制供給時序,可抑 低峰値電流。 圖7爲圖1之相變化記憶體模組之改寫動作之時序圖 之例。圖中說明字元線WL0上之128個記憶格之中,依 每隔 8格改寫 1 6個記憶格 M C 0 0、M C 0 8..... MCI 20之記憶資訊之一例。 首先,說明改寫控制電路PCTL之動作。藉由驅動成 爲電源電壓VDD之改寫起動信號WEB至接地電壓VSS, 設定改寫控制電路PCTL爲活化狀態。亦即,和改寫時脈 WCLKB之下降邊緣同步地,改寫控制電路PCTL內之移 位暫存器SREG依據改寫時脈WCLKB之週期時間TCKW1 之間隔依序產生改寫控制信號Q0〜Q15。改寫信號產生電 路PGEN0〜PGEN15接收改寫控制信號Q0〜Q15,依序輸 出短期間之重置起動信號RSTB0〜RSTB15、第1設定起 動信號FSEB0〜FSEB15。又,使彼等起動信號由接地電壓 VSS被驅動於電源電壓VDD之後,依序產生第2定起動 信號 SSEB0 〜SSEB15。 以下說明記憶格陣列之動作。關於讀/寫電路RW0〜 RW15之動作,爲求簡單而著眼於讀/寫電路RW0詳細說 明之。首先,藉由驅動成爲電源電壓VDD之改寫起動信 號WEB至接地電壓VSS,使成爲電源電壓VDD之感測節 點等化信號SNEQ被驅動於接地電壓VSS,設定感測放大 器內之預充電電路PCC爲非活化狀態。又,藉由驅動成爲 接地電壓VSS之輸出入閘極起動信號IOGE至電源電壓 -15- 200814055 VDD,使輸出入線對ΙΟΡΟ與感測節點對SNP0連接之同 時,使成爲讀出電壓VDLR之共通源極線CSP、CSN分別 被驅動於電源電壓VDD、接地電壓VSS,設定交叉耦合型 感測閂鎖器CCL爲活化狀態而取入記憶資訊。其中記憶 資訊對應於高電阻(重置)狀態記憶格,感測節點 SNT0被驅動於電源電壓VDD。另外,記憶資訊”1“對應於 低電阻(重置)狀態記憶格,感測節點SNΤ0被驅動於接 地電壓VSS。又,其他讀/寫電路RW1〜RW15內之感測 放大器SA1〜SA15亦同樣被取入記憶資訊。 和彼等動作並行地藉由設定列選擇信號對(Y S 0 T、 YS0B )爲活化狀態,使位元線BL0、BL8..... BL120被連接。藉由驅動成爲接地電壓vss之字元線 WL0至電源電壓VDD,使改寫電路prgMO〜PRGM15與 記憶格MC00、MC08......MCI 20被連接形成電流路 徑。寫入記憶格MC00之記憶資訊爲,,〇“時,藉由設定讀 /寫電路RW0內之改寫電路PRGM0之重置電路RCKT爲 活化狀態’使重置電壓VRST對應之値IR之格電流 I C E L L 0 0被施加於記憶格M C 0 0。記憶資訊爲,,1 “時,藉由 設定設定電路SCKT爲活化狀態,使第1設定電壓VSET1 及第2設定電壓VSET2對應之値IS1、IS2之格電流 IC E L L 0 0依序被施加於記憶格M C 0 〇。其中,第1設定電 壓VSET1係和重置電壓VRST相同或較其小的電壓,因此 格電流I S 1係和Ϊ R相同或較其小的値。格電流〗s 1及I s 2 之施加時間總和等於改寫時脈WCLKB之週期時間 -16- 200814055 TCKW1。因此,對應於改寫控制信號Q0〜Q15之產生, 格電流ICELL0、ICELL8.....I C E L L 1 2 0依據週期時 間 TS 之間隔依序被施加於記憶格 MC00 、 MC07.....MC120。最後,藉由設定列選擇信號對 (YS0T、YS0B )爲非活化狀態,使成爲電源電壓VDD之 字元線 WL0被驅動於接地電壓 VSS。又,共通源極線 CSP、CSN分別被驅動於讀出電壓VDLR之同時,驅動成 爲接地電壓 VSS之感測節點等化信號SNEQ至電源電壓 VDD,驅動感測節點對SNP0〜SNP15至讀出電壓VDLR。 另外,使成爲接地電壓VSS之改寫起動信號WEB被驅動 於電源電壓VDD,回至待機狀態。 圖8爲圖1之相變化記憶體模組之讀出動作之時序圖 之例。和先前之改寫動作同樣,說明字元線WL0上之1 2 8 個記憶格之中,依每隔 8格由16個記憶格 MC00、 MC08.....MCI 20讀出記憶資訊之一例。 又,爲求簡單而假設記憶格MC 00記憶之資訊爲資 訊”〇“、記憶格MC 1 20記憶之資訊爲資訊” 1 “,著眼於讀/ 寫電路RW0及RW詳細說明之。本讀出動作之特徵爲, 並非如改寫動作以分時方式讀出各一位元之資訊,而是同 時讀出1 6位元之資訊。 於讀出動作,改寫起動信號WEB被保持於電源電壓 VDD,因此改寫控制信號 Q0〜Q15亦被保持於電源電壓 VDD。讀出動作開始時,藉由設定列選擇信號對(YS0T、 YS0B )爲活化狀態之同時,使成爲接地電壓VSS之第1 -17- 200814055 讀出閘極起動信號RGE1被驅動於電源電壓VDD,使讀出 閘極 RG內之一^方電晶體導通,而使位元線 BL0、 BL8.....BL120與和其對應之讀/寫電路RW0〜 RW15內之感測放大器SA0〜SA15被連接。彼等位元線, 藉由對應之感測放大器SA0〜SA15內之預充電電路PC0〜 PC15,而由接地電壓VSS被驅動於讀出電壓VDLR。讀出 電壓VDLR’設爲貧訊不被破壞之電壓,較好是設爲較第 2設定電壓VSET2小之電壓,如此則,可防止讀出干擾。 之後,使成爲電源電壓VDD之感測節點等化信號SNEQ 被驅動於接地電壓VSS,設定預充電電路PC0〜PC15爲非 活化狀態之後,使成爲接地電壓V S S之第2讀出閘極起動 信號RGE2被驅動於電源電壓VDD,使感測節點SNB0〜 SNB15被驅動於參照電壓VREF。之後,藉由驅動成爲接 地電壓VSS之字元線 WL0至電源電壓 VDD,使記憶格 MC00、MC0 8.....MCI 20設爲活化狀態而驅動位元 線BL0〜BL120。記憶格MC00爲對應於記憶資訊”〇“之高 電阻(重置)狀態,因此位元線BL0之電壓大致保持於讀 出電壓VDLR。記憶格MCI 20爲對應於記憶資訊”1“之低 電阻狀態,因此位元線BL 120之電壓由讀出電壓VDLR被 驅動於接地電壓VSS。在位元線BL 120之電壓乃未充分低 於參照電壓VREF之時點,使成爲讀出電壓VDLR之共通 源極線CSP、CSN分別被驅動於電源電壓VDD、接地電壓 V S S,藉由設定感測放大器S A 0〜S A 1 5爲活化狀態,而將 產生於感測節點對SNP0〜SNP15的讀出信號放大。 -18- 200814055 讀出信號放大後,使成爲電源電壓 VDD之字元線 WL0、讀出動作起動信號RGE1、RGE2被驅動於接地電壓 VSS。又,設定列選擇信號對(YS0T、YS0B )爲非活化 狀態。又,使成爲接地電壓V S S之輸出入閘極起動信號 IOGE被驅動於電源電壓VDD,由感測放大器SA0〜SA15 將資訊讀出至輸出入線對IOPO〜IOP15。最後,藉由驅動 成爲電源電壓VDD之輸出入閘極起動信號10 GE至接地電 壓VSS之同時,使共通源極線CSP、CSN被驅動於讀出電 壓VDLR設定爲非活化狀態。又,使成爲接地電壓VSS之 感測節點等化信號SNEQ驅動於電源電壓VDD,而使感測 節點對SN0〜SN15被驅動於讀出電壓VDLR ’回至待機狀 態。 圖9爲本實施形態之相變化記憶體模組之全體構成 例。本記憶體模組PCM之特徵爲,具有多數區塊(於此 爲 ΒΑΝΚ0〜BANK3) 。:BANK0〜BANK3之各個具有和圖 1之記憶格陣列相同構成。藉由以先前說明之感測放大器 作爲寫入緩衝器使用而進行分時改寫動作,則於例如 BANK0寫入記憶資訊當中亦可以開放輸出入匯流排 IOBS,可進行來自其他區塊之讀出動作/寫入動作。亦 即,可進行區塊交替動作’可提升輸出入匯流排I〇BS之 使用效率。 圖1 0爲搭載如圖9所示相變化記憶體模組之S 〇 C構 成例。於該SoC,相變化記憶體模組PTM介由資料匯流排 DQS連接於中央運算處理裝置 CPU、智慧型特徵器 -19- 200814055 (Intellectual Property) IP1、IP2。智慧型 IP2爲進行影像處理或彎全監控的模組。藉 動作,於對相變化記憶體模組寫入記憶資訊 放輸出入匯流排I0BS,中央運算處理裝置 組IP 1、IP2之存取爲可能。亦即,可提升系 上述相變化記憶體模組之構成及動作效 亦即,第1,將記憶格陣列MCA分割爲副p SMCA1 5,配置多數多工器 MUX0〜MUX15 RW0〜RW15而隔開選擇字元線上之選擇位 如此則,可以抑制選擇記憶格之接受來自周 熱。亦即可迴避所謂熱干擾。第 2,使用 PCTL產生不同相位之改寫控制信號群ΡΡ0 一週期設定改寫電路爲活化狀態,而可以進 作。如此則,可以抑制改寫電流之峰値。第 寫電路,其產生之格電流可以對應於改寫控 測節點對之電壓,如此則,可以進行以感測 寫緩衝器使用之改寫動作。亦即於改寫動作 入匯流排或資料匯流排,可提升匯流排使用 作業效率。藉由上述可以實現改寫電流小、 記憶體模組。 (第2實施形態) 第2實施形態說明另一改寫動作。圖1 1 實施形態之相變化記憶體模組之時序圖之另 特徵器IP1、 由上述構成及 當中亦可以開 CPU對其他模 統性能。 果彙整如下。 車歹ij S M C A 0〜 及讀/寫電路 元線之間隔, 圍之記憶格之 改寫控制電路 〜PP15,每隔 行分時改寫動 3,構成之改 制信號群及感 放大器作爲改 中可開放輸出 效率,可提升 高速之相變化 爲本發明第2 一例。其中, -20- 200814055 記憶元件設爲高電阻(重置)狀態之重置電流IR,係較相 變化記憶體模組之適用對象容許之改寫電流小,第2設定 電流IS2程度之餘裕度存在時,可同時施加重置電流IR 乃至第1設定電流IS 1、第2設定電流IS 2。本實施形態 中,著眼於此點,以增快序列改寫中後續記憶格之活化時 序爲特徵。以下著眼於此點說明圖1 1之動作。 首先,說明改寫控制電路PCTL之動作。和改寫時脈 WCLKB之下降邊緣同步地,改寫控制電路PCTL內之移 位暫存器SREG依據改寫時脈WCLKB之週期時間TCKW2 之間隔依序產生改寫控制信號Q 〇〜Q 1 5。改寫信號產生電 路PGEN0〜PGEN15接收對應之改寫控制信號Q〇〜Q15, 依序產生改寫控制信號群ΡΡ0〜PP15 (亦即,短期間之重 置起動信號RSTB0〜RSTB15、第1設定起動信號FSEB0 〜FSEB15、第 2定起動信號 SSEB0〜SSEB15 )。其中, 相較於設定時間TS,改寫時脈·週期時間TCKW2,係和 重置起動信號乃至第1設定起動信號之脈寬TS 1以相同程 度被設爲較短,因此,在記憶格(於此爲記憶格MC00 ) 之設定動作結束前,後續之改寫控制信號(於此爲Q0 ) 被活化。因此,第2定起動信號SSEB0〜SSEB15之脈寬 被調整爲,可使自第1設定起動信號FSEB之下降邊緣至 第 2定起動信號之上升邊緣爲止的時間成爲設定時間 TS。 以下說明記憶格陣列之動作。寫入記憶格MC 00之記 憶資訊爲”〇“時,改寫控制信號群PP1中之重置起動信號 -21 - 200814055 路 流 憶 使 値 〇 定 第 之 之 步 IR 改 間 寫 列 變 動 部 RSTB讀/寫電路RW0內之改寫電路PRGM0之重置電 RCKT被活化,使重置電壓 VRST對應之値IR之格電 ICELLOO被施加於記憶格MCOO,此爲如上述說明。記 資訊爲”1“時,藉由設定電路SCKT被設爲活化狀態, 第1設定電壓VSET1及第2設定電壓VSET2對應之 IS 1、IS2之格電流ICELLOO依序被施加於記憶格MC 00 在第2格電流之施加途中,和改寫控制信號Q 1同步設 改寫控制信號群P P 1爲活化狀態,而使重置電流IR或 1設定電流IS1施加於記憶格MC08。寫入記憶格MC08 記憶資訊爲”1“時,再度使第2設定電流IS2被施加。 後,在第2格電流之施加途中,和改寫控制信號Q2同 設定改寫控制信號群PP2爲活化狀態,而使重置電流 或第1設定電流IS 1施加於記憶格MC 1 6。以下同樣使 寫電流依序被施加直至記憶格MC 1 20爲止。 藉由上述動作,可以縮短將1 6位元之記憶資訊以 位元1位元依序寫入時之總時間。亦即,相較於設定時 TS ’縮短改寫時脈WCLKB之週期時間TCKW2,縮短改 控制信號群PP0〜PP15之週期時間,如此則,可縮短序 改寫所要時間,因此,可實現能進行高速改寫動作的相 化記憶體模組。 (第3實施形態) 第3實施形態說明相變化記憶體模組之另一構成及 作。圖12爲第3實施形態之相變化記憶體模組之重要 -22- 200814055 分電路方塊之構成例之圖。和圖1之較大差異構成有以下 2點。第1,於圖1,改寫信號匯流排PPBS對應於改寫控 制信號群ΡΡ0〜PP15及各副陣列而包含16條,相對於 此,改寫控制信號群僅有ΡΡ0及PP1,前者由偶數號之副 陣歹!J SMCA0、SMCA2......SMCA14對應之讀/寫 電路 RWAO、RWA2......RWA14共有,後者由奇 數號之副陣歹[J SMCA1、SMCA3......SMCA15對應 之讀/寫電路 RWA1、RWA3......RWA15共有。 第 2,新設置構成讀/寫電路RW0〜RW1 5之改寫電路 PRGMA0〜PRGMA15之控制用之改寫遮罩信號匯流排 PMKBS。以下依據圖13 - 15說明圖12之相變化記憶體模 組之構成及動作。 圖13爲圖1 2之相變化記憶體模組中讀/寫電路 RWA0之構成例。該電路和圖5之讀/寫電路RW0之差異 在於改寫電路PRGMA0之構成。具體言之爲,在重置電路 RCKT及設定電路SCKT與共通資料線CD0之間插入遮罩 控制電路MKCTL。遮罩控制電路MKCTL,係由PMOS電 晶體MP3 0 0構成,於閘極連接改寫遮罩信號匯流排 PMKBS之其中之一之改寫遮罩信號pMKO。該改寫遮罩信 號ΡΜΚ0被驅動於接地電壓VSS時,重置電路RCKT及設 定電路SCKT被連接於共通資料線cd 0,進行改寫動作。 圖1 4爲圖1 2之相變化記憶體模組中改寫控制電路 PCTL1之構成例。該電路由移位暫存器SREG、改寫信號 產生電路群PGBK1、改寫遮罩驅動群PmkDBK構成。移 -23- 200814055 位暫存器SREG,係和圖6說明之功能同樣,接收改寫起 動信號WEB及改寫時脈WCLKB而輸出不同相位之改寫位 元控制信號Q0〜Q15。改寫信號產生電路群PGBK1係由 改寫信號產生電路PGEN0〜PGEN1構成。改寫信號產生 電路PGEN0,係接收偶數號之改寫位元控制信號q〇、 Q 2.....Q 1 4而產生改寫控制信號群P P 0。同樣,改 寫信號產生電路PGEN1,係接收奇數號之改寫位元控制信 號Q1、Q3.....Q15而產生改寫控制信號群PP1。改 寫遮罩驅動群PMKDBK,係由遮罩驅動器MKD0〜MKD15 構成。遮罩驅動器MKD0〜MKD15,係接收對應之改寫控 制信號Q0〜Q 1 5使其反轉,而分別輸出週期時間大致等 於設定時間 TS之改寫遮罩信號ΡΜΚΒ0〜PMKB15。又, 改寫遮罩信號ΡΜΚΒ0〜PMKB15之一群總稱爲改寫遮罩信 號匯流排PMKBS。 圖1 5爲圖1 2之相變化記憶體模組之改寫動作之時序 圖之一例。該動作爲,改寫時脈 WCLKB之週期時間 TCKW2較設定時間TS短的圖1 1之動作之變形例。其 中,著眼於改寫控制電路PCTL1之動作而說明,但是亦 可實現圖7之動作。 首先,和改寫時脈WCLKB之下降邊緣同步地,以由 移位暫存器S REG輸出之改寫控制信號Q0〜Q15爲基準, 使脈寬等於設定時間 TS的改寫遮罩信號 ΡΜΚΒ0〜 PMKB15,於每隔改寫時脈WCLKB之週期時間TCKW2的 間隔依序產生。又,改寫控制信號群ΡΡ0及PP 1,係於週 -24- 200814055 期時間TCKW2的間隔交互產生。讀/寫電路rWA0,係 接收被驅動於接地電壓VSS之改寫遮罩信號pmkbo及改 寫控制信號群P P 〇,對記憶格M C 0 〇施加重置電流I r或第 1設定電流IS1及第2設定電流IS2。之後,讀/寫電路 RWA1,係接收被驅動於接地電壓VSS之改寫遮罩信號 ΡΜΚΒ1及改寫控制信號群ΡΡ1,對記憶格Mc〇8施加重置 電流IR或第1設定電流IS 1及第2設定電流IS 2。之後, 讀/寫電路RWA2,係接收被驅動於接地電壓VSS之改寫 遮罩信號ΡΜΚΒ2 (未圖示)及改寫控制信號群ρρο,對記 憶格MC016施加重置電流IR或第1設定電流IS1及第2 設定電流IS 2。以下同樣進彳了改寫動作。最後,讀/寫電 路RWA15,係接收被驅動於接地電壓VSS之改寫遮罩信 號ΡΜΚΒ15及改寫控制信號群ΡΡ1,對記憶格MC0120施 加重置電流IR或第1設定電流IS1及第2設定電流IS2。 藉由上述構成及動作,可減少序列改寫動作之控制信 號數。亦即,於圖1之相變化記億體模組,48條改寫控制 信號群(相當於1個改寫控制信號群平均3個控制信 號)。相對於此,本實施形態中,導入改寫遮罩信號匯流 排 PMKBS (其中包含 16條改寫遮罩信號 ΡΜΚΒΟ〜 ΡΜΚΒ15 ),而達成減少改寫控制信號群之數目(於此爲 2個),藉由合計2 2條控制信號可進行序列改寫動作。因 此,除第1、第2實施形態之效果以外,藉由配線數之減 少可以小面積實現序列改寫動作。 以上依據實施形態說明本發明,但本發明不限定於上 -25- 200814055 述實施形態,在不脫離其要旨情況下可做各種變更實施。 例如設定動作中第1段之設定電流I S 1無須和設定電流I S 爲相同之値,可設爲使記憶元件保持於高於圖2所示結晶 化溫度的溫度之値,如此則,更能抑制消費電流。改寫時 間有餘裕度時,設定動作可設爲以能實現如圖2所示溫度 波形之1階段脈衝驅動。另外,相變化記憶體模組之適用 對象之改寫電流上限値夠大時,同時改寫之位元數可設爲 多數位元數,此情況下,可縮短序列改寫動作之時間,更 能提升電晶體系統之作業時間。 又,本實施形態中,以感測放大器S A 0〜S A 1 5作爲 寫入緩衝器使用而實現面積之減少,但亦可另外設置和讀 出感測放大器不同之寫入緩衝器。寫入緩衝器分別設於輸 出入匯流排IOBS與改寫電路PRGM0〜PRGM15之間,可 使輸出入匯流排I 〇 B S開放。亦即,將分別取入、保持和 輸出入匯流排IΟ B S被並列傳送之資料的資訊保持電路, 對應於改寫電路設置而可設定輸出入匯流排I 〇 B S爲開 放。 (產業上可利用性) 本發明,係以感測放大器作爲改寫緩衝器使用,藉由 不同相位之控制信號設定多數改寫電路爲活化狀態而進行 分時改寫動作,如此則,可提升相變化記憶體模組內外之 資料匯流排之使用效率,可進行改寫電流之抑制之同時, 可實現高速且低消費電流之相變化記憶體系統。 -26- 200814055 (發明效果) ί衣據本發明,於相變化記憶體模組可實現低消費電流 改寫動作。 【圖式簡單說明】 圖1爲本發明第1實施形態之半導體裝置中,其包含 之相變化記憶體模組之重要部分電路方塊之構成例之圖。 圖2爲使用相變化材料之電阻元件之相變化必要之脈 寬與溫度間關係分布圖。 圖3爲專利文獻記載之下降時間延遲之格電流脈衝產 生電路之例之構成圖。 圖4爲使用圖3之電路產生之格電流脈衝之圖。 圖5爲本發明第1實施形態之半導體裝置中,其包含 之圖1之讀/寫電路之詳細構成另一例之圖。 圖6爲本發明第1實施形態之半導體裝置中,其包含 之改寫控制電路之方塊構成例之圖。 圖7爲圖1之相變化記憶體模組之改寫動作之時序圖 之例。 圖8爲圖1之相變化記憶體模組之讀出動作之時序圖 之例。 圖9爲圖1之相變化記憶體模組之全體構成例。 圖1 0爲圖1之相變化記憶體模組之全體構成例。 圖11爲本發明第2實施形態之半導體裝置中’其包 -27- 200814055 含之圖1之相變化記憶體模組之改寫動作之時序圖之另一 例。 圖12爲本發明第3實施形態之半導體裝置中,其包 含之相變化記憶體模組之重要部分電路方塊之構成例之 圖。 圖1 3爲本發明第3實施形態之半導體裝置中,其包 含之圖1 0之讀/寫電路之詳細構成另一例之圖。 圖14爲本發明第3實施形態之半導體裝置中,其包 含之改寫控制電路之方塊構成例之圖。 圖1 5爲本發明第3實施形態之半導體裝置中,其包 含之圖1 0之相變化記憶體模組之改寫動作之時序圖之另 —*例° 【主要元件符號說明】 MCA、記憶格陣列;MUX0〜MUX15、多工器; WDA、字元驅動器歹[];RW0〜RW15、讀/寫電路; PCTL、改寫控制電路;IOBUF、輸出入資訊緩衝器; -28-
Claims (1)
- 200814055 十、申請專利範圍 1·一種半導體裝置,其特徵爲: 具備: 多數字元線; 第1位元線,和上述多數字元線呈交叉; 第2位元線,和上述多數字元線呈交叉; 多數記憶格,配置於上述多數字元線與上述第1及第 2位元線之交叉點; 多數共通資料線,包含第1共通資料線及第2共通資 料線; 桌1資訊保持電路及第1改寫電路,對應於上述第1 共通資料線及上述第1位元線而設; 第2資訊保持電路及第2改寫電路,對應於上述第2 共通資料線及上述第2位元線而設;及 改寫控制電路,用於控制上述第1及第2改寫電路; 上述第1及第2資訊保持電路,係取入被並列傳送至 上述弟1及弟2共通資料線之資料之同時予以保持; 上述弟1及弟2改寫電路’係依據保持於上述第1及 第2資訊保持電路的資訊對上述第1及第2位元線供給改 寫電壓; 上述改寫控制電路產生和上述第1改寫電路及第2改 寫電路之各個對應之多數控制信號。 2 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述多數控制信號之相位各爲不同。 -29- 200814055 3 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述改寫控制電路,係對上述第1改寫電路及上述第 2改寫電路之各個輸出多數控制信號, 上述多數控制信號之脈寬互爲不同。 4 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述多數記憶格分別含有對應於記憶資訊而變化電阻 値之記憶元件及電晶體。 5 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述第1及第2資訊保持電路,在由上述多數記憶格 讀出資訊時,係放大、保持由上述多數記憶格讀出之信 號。 6.如申請專利範圍第5項之半導體裝置,其中, 上述另具備: 讀出閘極,連接於上述第1資訊保持電路與上述第1 位元線之間;及 預充電電路,介由上述讀出閘極連接於上述第1位元 線; 上述預充電電路係對上述第1位元線供給讀出用之預 充電電壓。 7 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述第1資訊保持電路,係介由第1選擇電路連接於 包含上述第1位元線的多數位元線; 上述第1選擇電路,係選擇上述多數位元線之其中之 一而連接於上述第1資訊保持電路。 -30- 200814055 8 ·如申請專利範圍第1項之半導體裝置,其中, 上述改寫控制電路,係藉由上述第1改寫電路及上述 第2改寫電路之各個共通的第1控制信號,及上述第1改 寫电路及上述第2改寫電路之各個固有的第2控制信號之 組合進行控制。 9·一種半導體裝置,其特徵爲: 具備: 多數字元線; 多數位元線; 多數記憶格,設於上述多數字元線與上述多數位元線 之交叉點; 多數共通資料線,對上述多數記憶格傳送寫入資料; 多數改寫電路,對上述多數位元線供給改寫電壓;及 多數資訊保持電路,對應於上述多數改寫電路而設; 上述多數資訊保持電路,係取入被並列傳送至上述多 數共通資料線之資料之同時予以保持; 上述多數改寫電路,係依據保持於上述多數資訊保持 電路的資料,而於各不同之時序輸出上述改寫電壓。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之半導體裝置,其中, 上述多數記憶格之各個,係具有藉由產生之熱而改寫 資訊的元件。 1 1 .如申請專利範圍第9項之半導體裝置,其中, 上述多數資訊保持電路爲感測放大器,在由上述多數 記憶格讀出資訊時,放大、保持由上述多數記憶格讀出之 -31 - 200814055 信號。 1 2 ·如申請專利範圍第9項之半導體裝置,其中, 另具備控制電路,其輸出多數控制信號用於控制上述 多數改寫電路之上述改寫電壓之供給時序; 上述控制電路,係使同一信號之相位成爲不同的方式 產生上述多數控制信號。 1 3 ·如申請專利範圍第9項之半導體裝置,其中, 具有多數區塊,連接於上述多數共通資料線,其之各 個具有上述多數資訊保持電路; 上述多數區塊之中1個區塊進行改寫動作期間,可對 上述多數區塊之中未進行改寫動作的區塊進行存取。 -32-
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2006/318335 WO2008032394A1 (en) | 2006-09-15 | 2006-09-15 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200814055A true TW200814055A (en) | 2008-03-16 |
| TWI449041B TWI449041B (zh) | 2014-08-11 |
Family
ID=39183465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW096124459A TWI449041B (zh) | 2006-09-15 | 2007-07-05 | 半導體裝置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7885102B2 (zh) |
| JP (1) | JP4958244B2 (zh) |
| TW (1) | TWI449041B (zh) |
| WO (1) | WO2008032394A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102834868A (zh) * | 2010-04-05 | 2012-12-19 | 莫塞德技术公司 | 具有三维结构的半导体存储装置 |
Families Citing this family (28)
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| JP5100292B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2012-12-19 | 株式会社東芝 | 抵抗変化メモリ装置 |
| JP5100554B2 (ja) * | 2008-07-30 | 2012-12-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| JP5268481B2 (ja) | 2008-07-31 | 2013-08-21 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
| JP2010044827A (ja) | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
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| JP5426438B2 (ja) | 2009-04-30 | 2014-02-26 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
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| US9007822B2 (en) * | 2012-09-14 | 2015-04-14 | Micron Technology, Inc. | Complementary decoding for non-volatile memory |
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| US20160260481A1 (en) * | 2013-10-25 | 2016-09-08 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor Device |
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| US10762961B2 (en) | 2015-07-29 | 2020-09-01 | Nantero, Inc. | Resistive change element arrays using a reference line |
| KR102431206B1 (ko) * | 2015-12-23 | 2022-08-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 전자 장치 |
| KR20180047835A (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-10 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 저항성 메모리 장치 |
| US12488821B2 (en) * | 2022-05-02 | 2025-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device including reference cells and a method of operating thereof |
| CN118212947B (zh) * | 2022-12-15 | 2025-10-10 | 兆易创新科技集团股份有限公司 | 存储装置及电子设备 |
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Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2006
- 2006-09-15 WO PCT/JP2006/318335 patent/WO2008032394A1/ja not_active Ceased
- 2006-09-15 US US12/377,271 patent/US7885102B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-09-15 JP JP2008534196A patent/JP4958244B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-07-05 TW TW096124459A patent/TWI449041B/zh not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-01-07 US US12/986,178 patent/US8248843B2/en not_active Expired - Fee Related
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| CN102834868A (zh) * | 2010-04-05 | 2012-12-19 | 莫塞德技术公司 | 具有三维结构的半导体存储装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100214828A1 (en) | 2010-08-26 |
| JP4958244B2 (ja) | 2012-06-20 |
| US8248843B2 (en) | 2012-08-21 |
| WO2008032394A1 (en) | 2008-03-20 |
| TWI449041B (zh) | 2014-08-11 |
| JPWO2008032394A1 (ja) | 2010-01-21 |
| US7885102B2 (en) | 2011-02-08 |
| US20110103142A1 (en) | 2011-05-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |