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TW200808888A - Thermoplastic resin composition for stampered members and molded article thereof - Google Patents

Thermoplastic resin composition for stampered members and molded article thereof Download PDF

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Publication number
TW200808888A
TW200808888A TW096125001A TW96125001A TW200808888A TW 200808888 A TW200808888 A TW 200808888A TW 096125001 A TW096125001 A TW 096125001A TW 96125001 A TW96125001 A TW 96125001A TW 200808888 A TW200808888 A TW 200808888A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
molecular weight
thermoplastic resin
resin composition
range
molded
Prior art date
Application number
TW096125001A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahide Mizawa
Hiroko Tashiro
Original Assignee
Soken Kagaku Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Soken Kagaku Kk filed Critical Soken Kagaku Kk
Publication of TW200808888A publication Critical patent/TW200808888A/zh

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08L33/12Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2207/00Properties characterising the ingredient of the composition
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Description

200808888 _ 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關使用壓塑構件(stampered member)之熱 可塑性樹脂組成物,更詳細的為有關以熱奈米壓印成形或 ‘·射出壓縮成形等之熱壓著轉印製程,轉印各種圖案的精細 ·-構造時,具有優良壓印性及轉印性的壓塑構件用熱可塑性 樹脂組成物。[註:stamper為如光碟片以壓印方式形成極 鲁微細壓紋於表面之加工術語,本文中稱為「壓塑」] 此外,本發明係有關將具有如此特徵的熱可塑性樹脂 組成物應用在被壓塑構件,轉印(transfer pdnting)各種圖 案之精細構造而成為在各種產業領域中有用之機能性零件 的樹脂成形體。再者,本發明亦係有關在發揮如此特徵之 熱可塑性樹脂組成物中’《其在光透明性4憂良,並作為各 種光學零件(或光學元件)之有用的精細結構轉印而成的 明樹脂成形體。 ⑩ 【先前技術】 近年來,於光電子裝置、光學元件、半導體元件、顯 不器元#、光記錄媒體等元件構材表面所進行的精細構 造,有更加精細化及/或緻密化的傾向。作為如此技術領域 之各種先端構材,可列舉如:具有超精細構造的半導體元 件、半導體雷射、發光二極體 '受光元件、光連接二: 開關、光栅濾光鏡、波長光變換元件、光波導型濾波器、 作為攜帶電腦用光配線之光導波路、使用於波長分離:重 通讯方式之增幅器的增盃平坦化濾波器(GFF)等光學元件 319416 5 200808888 或光電元件(或非線形光電元件)等。 此外’即使作為音樂或影像的記錄媒體而被廣泛使用 的CD、DVD等光碟用讀取頭(pick up lens),作為達成以 雷射光讀取刻在次世代記錄媒體之碟片的超微米級位元資 訊之光讀取光學類的重要角色之構造構件,塑膠非球面對 物鏡等也是在相同技術領域之先端構件。再者,CD、 等光記錄媒體是在表面已轉印有精細構造之光透明性樹脂 成形體,自以往是使用在可見光範圍(波長42〇至75〇njJ) 之光穿透率為90%以上且光透明性優良的PMMA、pc、以 及PS聚合物樹脂等。而且,此等媒體係要求高密度化, 而讀取該資訊訊號的光讀取頭也要求更高精細化。此外, 作為光記錄媒體的熱可塑性樹脂,也檢討由pMMA樹脂轉 換成環狀聚烯烴樹脂。 、,為了在如此之各種元件構件表面形成超微米級乃至於
奈米級的精細構造,而開發作為LSI等半導體元件之製造 技術的光蝕刻精細化技術,作為此之基礎技術而帶來許多 的貝獻。於該元件構件表面形成凸凹狀精細構造的線、空 間、點、以及洞等各種圖案,而要求更精細地形成。二 、,在此,為對應如此精細之先端技術領域,期待採用熱 奈米壓印轉印法作為替代基礎技術的光蝕刻轉印之方法Γ 在歧熱奈米壓印轉印法中,係於熱溶融下將被壓塑構件之 熱可塑性樹脂高速射出至形成超精細構造之壓塑材(或模 具)上’或者是按壓或擠壓印而於被屋塑構件表面轉印超精 細構造者。 319416 6 200808888 ,外,該奈米壓印轉印法係由以往在柄製作時習知 的熱壓成型(hot emboss)轉印技術所發展的方法,尤其被^ 為是將重要的轉印解析度格外提高的轉印技術。亦即’,: 以往的熱壓成型轉印技術的製程中,例如藉由將聚碳酸醋 基板在較其玻璃轉移溫度高的溫度加熱下,以鎳模具按 壓,而能在基板上轉印〇.5//m左右的圖案。另—方面, 在奈米壓印轉印法中,只要模具的凹凸度小,該解析产就 可以轉印H)Gnm以下,尤其是數1Gnm以下的超精細圖又案。 因此’奈米壓印技術的導人係被期待為使轉印解析度格 飛躍的次世代轉印技術。 在如此被期待為次世代轉印技術的奈米壓印轉印中, 壓塑材(或模具)之精細構造係精度良好地轉印至被壓塑材 士 ’以及被壓塑構件容易自壓塑材離型成為重要的技術要 素。作為壓塑材者係使用Sic、石英、GaAs、以及叫半導 體)、Ta(DVD、CD㈣取頭之微小塑#光學零件的加工用 模具)。此外’在行動電話、PDA等之顯示器元件反射防 止體用模具等中,係使用於基板材料上進行〇.1/zm以下 精、、、田圖案之奈米壓印用極精細模具(精細模具)等。 作為奈米壓印轉印法之被壓塑構件,於專利文獻丨(曰 ^特開2005-331582號公報)中揭示有各種有機聚合物構 …再者於專利文獻1中提案在將含氟聚亞胺、聚石夕 聚甲基丙烯酸甲醋、聚碳酸輯等有機聚合物作為被壓 ^構件的光波導路之分歧部,藉由錢成型法進行以精細 加工而形成光栅部的光導波路型WDM合波器。 319416 7 200808888 , 此外,在專利文獻2(日本特開2001-353777號公報) .中,揭不於熱可塑性樹脂所構成之厚度1至5mm的素材板 (被壓塑構材)進行熱壓,而在素材板的轉印面配列有深度 〇·5至500// m之多數的構,且該溝的配列間距(piteh)為該 溝深度之1 ·5倍以上的精細結構樹脂板。 、。作為轉印該精細構造的壓製方法,係記載為150至180 C、壓力為40至60Kg/cm2之熱壓方法。此外,作為以熱 壓法轉印精細結溝之樹脂板,係記載為光穿透性良好且光 擴政材配a谷易之聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯_ 苯乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯等光透明性熱可塑性樹脂。 此外、在專利文獻3(日本特開2003-094445號公報) 中,係記載將在壓模(stamper)上形成之精細圖案轉印至聚 碳酸醋、聚苯⑽、丙烯酸樹脂等厚度1〇〇至2〇〇鋒的 熱可塑性樹脂基板之精細結構體的製造方法。 一在無機、有機工業構件方面要求的技術課題,係更加 籲咼功能化、多功能化的方向。CD、DVD等光記錄媒體、 發光二極體、受光^件、光連接器、光開關、光栅濾光鏡、 波長光變換元件、光導波路型濾波器等光學元件以及光電 凡件,係於其表面設有點、線、以及空間等各種圖案的超 精w、、Ό構而被廣泛地作為具有各種功能的構造構件來利 用。 由施加於如此之奈米技術構造構件的點、線、以及空 間等構成的各種圖案的大小,雖然要依據該構造構件所被 要求的功犯,但一般為6〇〇nm以下,而在要求奈米級區域 8 319416 200808888 ,的情形係為10_絲l〇〇nm。因此,在超精細級區域之 、熱奈米壓印中使用的被壓塑構件,係被要求不發生轉印缺 陷,且可精度良好並有效果地轉印。 [專利文獻1]日本特開2005-33 1582號公報 § [專利文獻2]日本特開2001_353777號公報 、[專利文獻3]日本特開2003-094445號公報 【發明内容】 (發明欲解決的課題) 士本發明之目的係提供一種在轉印各種圖案的精細構造 時,具有優良壓印性及轉印性之壓塑構件用熱可塑性樹脂 組成物。 、此外,本發明之目的是提供一種將具有如此特徵的壓 塑構件用熱可塑性樹脂組成物於被壓塑構件中使用,並轉 印各種圖案之精細構造的樹脂成形體。 再者,本發明之目的是提供一種特別在光透明性優良 馨之t塑構件用熱可塑性樹脂組成物中,轉印各種圖案之精 細構造,並於各種光學特性及/或各種光電特性優良之透= 樹脂成形體。 (解決課題的手段) 本發明的壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,包含藉由 凝膠滲透層析法(GPC法)測定之重量平均分子量(Mw9)為 60至180萬範圍且分子量分布係數(Mw/Mn)為15至5範 圍之高分子量熱可塑性樹脂成分(A),與藉由凝膠滲透層析 法測定之重量平均分子量(Mw)為1至20萬範圍且分^量 319416 9 200808888 , 分布係數(Μw/Mn)為1 · 1至5範圍之低分子量熱可塑性樹 〜 脂成分(B),該熱可塑性樹脂組成物之特徵為: 該熱可塑性樹脂組成物藉由凝膠滲透層析法之重量基 準的分子量分布圖中之[高分子量熱可塑性樹脂(A)的分子 ^ 量分布譜峰]··[低分子量熱可塑性樹脂(B)的分子量分布譜 、 峰]的比為7至9 : 3至1的範圍内。 亦即,壓塑構件用熱可塑性樹脂係要求於熱壓著轉印 魯時具有優良的延流性,並於熱壓印後從壓塑材順利地離型 ^剝離,精細構造之圖案係明確且精度良好而穩定地形成 「壓印性」。此外,壓塑構件用熱可塑性樹脂係被要求關於 被轉印之精細構造的各種圖案,在2次元方向之轉印沒有 不均,且在3次元方向(深度方向或高度方向)沒有產生轉 P缺fe的轉印性」。為了防止如此之不均或缺陷等,壓塑 構件用熱可塑性樹脂係以在熱壓著轉印時具有充分的延流 性(或流動性)為佳。此外’為了從壓塑材離型或剝離,壓 ❿塑構件用熱可塑性樹脂係對於壓塑材為低熱融合性為佳。 士本發明係根據發現含有所定之高分子量體的熱可塑性 樹月曰成分(A)與所定之低分子量體的熱可塑性樹脂成分⑻ 的熱可塑性樹脂組成物為「壓印性及 者的發明。 t I $ k & 〃根據本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,對於 :?加於壓塑材的圖案’可發揮與熱延流狀態下相同之熱壓 Θ安揮在壓印後從施加於壓塑材之精細構造 圖木順利地離型或剝離的良好「壓印性」。 319416 】0 200808888 , 此外’本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物係可 〜發揮不產生2次元方向之轉印不均以及3次元方向之轉印 缺陷的優良的「轉印性」。 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物藉由凝膠滲 ,透=析法的重量基準所圖示之分子量分布圖,係顯示高分 子里熱可塑性樹脂成分(A)以及低分子量熱可塑性樹脂成 = (Β)分別有不同的譜峰,且顯示[上述熱可塑性樹脂(A)的 _ 刀子畺刀布瑨峰]:[上述熱可塑性樹脂(B)的分子量分布譜 峰]為7至9: 3至1之特徵性的量比圖案(第1-A圖以及第 、圖即為例)。第1-八圖係依據凝膠滲透層析直接獲得 之匀子夏分布圖,X軸表示滯留時間,γ軸表示分析裝置 之吸光光度,而第i 圖係根據此_ A 分布圖,X轴為以對數表示之分子量,γ轴為二=里 在本叙、明中[上述熱可塑性樹脂(Α)的分子量分布譜峰]以 述熱可塑性樹脂(Β)的分子量分布譜峰]係使用第Μ 圖中之分子量分布譜峰的面積。 *庐it如此之鬲分子量體樹脂成分(Α)以及低分子量體 劫曰刀(Β)之知> 被性量比圖案圖的本發明之壓 =性樹脂組成物,係於熱壓印時顯現優良的「壓印」 與優良的「轉印性」。 i I氏」 透明樹脂成形體是由包含藉由凝 ^則疋之重量平均分子量(如)為6(^⑽萬 里分布係數(Mw/Mn)為1·5至5枚円 一 \ 刀 樹月曰成分㈧,與藉由凝膠參透層析法測定之重量平均分子 319416 11 200808888 里(]^為1至20萬範圍且分子量分布係數(Mw/Mn)為l.I 、至5範圍之低分子量熱可塑性樹脂成分⑻之熱可塑性樹 月旨組成物所構成的透明樹脂成形體,其特徵為: ”旦在該熱可塑性樹脂組成物之藉由凝膠滲透層析法之重 =土,的刀子里刀布圖中之[高分子量熱可塑性樹脂(A)的 •-分:量分布譜:[低分子量熱可塑性樹脂⑻的分子量分 ::峰]的比在7至9 : 3至1的範圍内之熱可塑性樹脂組 ⑩^物所構成厚度為5G咖至_/^範_之被㈣構件 中,轉印有壓塑材之精細構造。 、根據本發明,即使對於厚度5〇nm至5〇()心之廣範圍 構:樹脂面’也能在熱奈米壓印成形或射出壓縮 >等…壓著轉印製程中’發揮優良的「壓印性」以及「轉 ^生」’而提供沒有朝2次元方向之圖案轉印不均,或朝3 "'方向之轉印缺陷等的精細構造轉印之樹脂成形體。 八M、b/卜才艮據本發明,在含有高分子量熱可塑性樹脂成 ”低刀子里熱可塑性樹脂成分(B)之壓塑構件用熱可 樹脂組成物為光透明性優良之樹脂組成物(或是;見 I牙透率至少為85%以上的樹脂組成物)時,在熱奈米壓印 安形或射出壓縮成形等熱壓著轉印製程中提供轉印各種圖 木之精細構造的透明樹脂成形體。 本發明提供之透明樹脂成形體由於光透明性優良,而 到轉印之精細構造,故能發揮各種光學特性及/或各楂 =、'泉{生光電特性’作為各種光學元件或各種非線性光電元 的有用性很高。再者本發明的樹脂成形體係由包含藉由 319416 12 200808888 .凝膠滲透層析法測定之重量平均分子量(Mw)為60至18〇 .萬範圍且分子量分布係數(Mw/Mn)為ι·5至5範圍之高分 子量熱可塑性樹脂成分(Α),與藉由凝膠滲透層析法測定之 重量平均分子量(Mw)為1至20萬範圍且分子量分布係數 • (Mw/Mn)為1.1至5範圍之低分子量熱可塑性樹脂成分(B) •之熱可塑性樹脂組成物所形成,該樹脂成形體之特徵為·· 在藉由該熱可塑性樹脂組成物之凝膠滲透層析法之重 _量基準的分子量分布圖中,[高分子量熱可塑性樹脂(A)的 勿子置分布譜♦]:[低分子量熱可塑性樹脂(B)的分子量分 布谱峰]的比為7至9 : 3至1的範圍内之熱可塑性樹脂組 成物所構成厚度為50nm至500 //m範圍内之被壓塑構件 上,轉印有壓塑材之精細構造。該樹脂成形體亦可為不透 明。 (發明的效果) 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,由於所含 _有之高分子量熱可塑性樹脂成分(A)與低分子量熱可塑性 树脂成分(B)之分子量分布係數(Mw/Mn)極為明顯,而在壓 土構件用熱可塑性樹脂組成物之藉由凝膠滲透層析法所得 的刀子里分布圖中有明確的2個光譜譜峰,且此等2個光 譜譜峰的比率[高分子量熱可塑性樹脂成分(A)的分子量分 布譜峰]:[低分子量熱可塑性樹脂成分(B)的分子量分布譜 導]為7至9:3至1的範圍内。 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,由於在熱 壓印時具有適度的流動性,而具有不產生在轉印面之面方 319416 13 200808888 • 向的轉印不均與朝垂直方向的轉印缺陷之優良轉印性。再 〜者’具有不會在熱壓印後容易從壓塑材造成剝離而引起樹 脂變形的優良「轉印性」。因此,使用本發明之壓塑構件用 熱可塑性樹脂組成物並進行熱壓印的樹脂成形體,成為壓 〜塑材之精細構造被精度良好地轉印的高精度之成形體。 - 【實施方式】 以下進一步說明,有關實施在熱奈米壓印成形或射出 壓縮成形等熱壓著轉印製程中,轉印各種圖案的精細構造 攀的本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物以及其精細構 造轉印之功能性樹脂成形體的最佳形態。 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物係包含分別 具有極為明確之分子量分布係數(Mw/Mn)的「高分子量熱 可塑性樹脂成分(A)」與「低分子量熱可塑性樹脂成分 (B)」。 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物係包含藉由 ⑩凝膠滲透層析法測定之重量平均分子量(Mw)為6〇至 萬範圍且其分子量分布係數(Mw/Mn)為至5範圍之高 刀子里熱可塑性樹脂成分(A),與以相同方式測定之重量平 均分子量(Mw)為1至萬範圍且其分子量分布係數 (/Mn)為1 ·1至5範圍之低分子量熱可塑性樹脂成分 ⑻。 、有關「高分子量熱可塑性樹脂成分(A)」,藉由凝膠滲 透層析法(GPC法)測定之重量平均分子量(Mw)為在6〇至 18〇萬的範圍内,較佳為70至150萬的範圍内,更佳為9〇 319416 14 200808888 至130萬的範圍内。同日夺’該高分子量熱可塑性樹脂成分 (A)之分子量分布係數(Mw/Mn)係在15至5的範圍内,較 佳為1.5至4的範圍内’更佳是在15至3的範圍内。‘ 高分子量熱可塑性樹脂成分(A)之重量平均分子量以及分 子量分布係數脫離預定範圍時,則於熱壓印後之轉印時= 剝離性(或離型性)變成不良者。 可、 有關「低分子量熱可塑性樹脂成分(B)」,藉由凝膠參
透層析法測定之重量平均分子量㈣是在i至20萬的範 f内’較佳為3至15萬的範圍内,更佳是在5至1〇萬的 範圍内此外,其分子量分布係數(Mw/Mn)係在1.丨至5 的2圍内’較佳為hl至4的範圍内,更佳是在為U至3 的=圍内。若低分子量熱可塑性樹脂成分⑻之重量平均分 子罝以及分子量分布係數脫離預定範圍時,則於熱壓 之流動性變差而變得容易產生2次S方向之轉印不均或3 次70方向之轉印缺陷。 此外,如第1-A圖所示,本發明之壓塑構件用熱可 性樹脂組成物之籍由凝膠滲透層析法所表示的分子量 圖’顯示有2個明顯的光譜譜峰。因此,若根據該第^ 圖,換,X轴以對數表示之分子量、”由以譜峰強度 的分子罝分布圖時,便成為如第圖。第1-B圖所示之 2個譜峰係來自高分子量熱可塑性錢成分(a)之金 來自低分子量熱可塑性樹脂成分⑻之譜峰。於是,該2個 子量熱可塑性樹脂⑷的分子量分布譜峰Η低八 子量熱可純樹邮)的分子量分布譜峰】成為7至: 319416 15 200808888 • 1的範圍内之比率。在本發明中之該比率,較佳為7 5 • 8·5: 2.5至1.5。若該比率脫離預定範圍時,則熱壓印時 流動性或熱壓印後之剝離性變差。 (本發明提供之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物的調製) ” 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,係可選擇 ^具有預定之重量平均分子量以及有預定之分子量分布係數 (Mw/Mn)的「高分子量熱可塑性樹脂成分(A)」以及「低分 子置熱可塑性樹脂成分(B)」而適宜地調製^ 二 ⑩ 樹脂之分子量以及分子量分布的測定,係在預定溫度 下之凝膠滲透層析裝置管柱内展開的溶離液中,進行在預 定溫度下之樹脂溶解。例如,pMMA等丙稀酸系樹脂是使 用THF作為溶離液,在25至50°C的溫度溶解。此外,在 PP、PE等聚烯烴類樹脂中通常是使用鄰二氯苯作為溶離 液,在100至145°C的溫度溶解。在前者的情形,使用高 速凝膠滲透層析裝置(例如丁〇S〇H(株)製之 _ 8220GPC),而在後者的情形,使用高溫凝膠滲透層析裝置 (例如 TOSOH(株)製之 HLC-8121GPC/HT)。 可作為本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物使用 的樹脂,係有優良的透明性,可列舉如:苯乙烯樹脂(91%, 110°C)、PMMA(93%,107。〇或 ΡΕΜΑ 等丙烯酸樹脂、聚 乳酸(PLA)、環狀聚烯烴(90至91%,1〇〇至163。〇、聚碳 酸酯(PC’ 90%’ 145至150°c)。記載於上述括號内的數值, 係個別的可見光穿透率%及玻璃轉移溫度(Tg)。使用此等 樹脂的成形體,係因樹脂之光學特性而可適用為各種之光 319416 16 200808888 學元件或各種之非線性光電元件。 再者,作為本發明可使用之樹脂係可列舉出·· PE、PP 等聚烯烴類樹脂;丙烯腈/苯乙烯樹脂(AS);丙烯腈/丁二 烯/苯乙烯共聚合樹脂(ABS);聚氯乙烯(PVC)、聚偏氣乙 •‘ 烯、尼龍樹脂等聚醯胺(PA);超高分子量聚乙烯(UHPE); 、 聚對苯二曱酸丁二酯(PET,40至60。〇、聚對笨二曱酸乙 二酯(PET,70。〇 ;改質聚二苯醚(PPE,150。〇 ;聚縮醛 (POM);聚苯硫(PPS);聚醚醚酮 鲁(PEEK(polyetheretherketone),143°C );聚四氟乙婦(PTFE) 以及四氟乙烯·全氟烷基乙烯醚共聚物(pFA)等氟樹脂;液 晶聚合物(LCP);聚醚醯亞胺(PEI);聚砜系樹脂(psu,19〇 C );聚酿胺醯亞胺(PAI,280°C );聚芳酯(par,i93DC ); 聚砜(PSF);聚醚颯(PES,225t:);環氧丙烯酸酯;胺曱酸 乙酯丙烯酸酯·,聚酯丙烯酸酯;聚甲基戊烯(pMp);聚芳 酯樹脂等。另外,記載於上述括號内的數值是玻璃轉移溫 籲度(Tg)。此等之樹脂可單獨使用亦可混合2種以上來使用。 從熱奈米壓印成形或射出壓縮成形等熱壓著轉印製程 的處理性觀點來看,本發明使用之熱可塑性樹脂的玻 移溫度(Tg)是以40至29(TC為宜,較佺為6〇至21〇t。 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,係可在不 損害塵印性或轉印性的效果範圍内,含有後述之並他的天 加劑。在含有添加劑的情形,高分子熱可塑性樹脂成分⑷ 與低分子熱可塑性樹脂成分(B)之合計量,相對於麗塑 用熱可塑性樹脂組成物100質量份,係以95至1〇〇質量份 319416 17 200808888 . 為宜,較佳為9 8質量份以上。 • 此外,高分子量熱可塑性樹脂成分(A)與低分子量熱可 塑性樹脂成分(B)之調配量,可為高分子量熱可塑性樹脂成 •分(A)每100質量份,含有12.5至37·5質量份範圍的低分 子量熱可塑性樹脂成分(Β),但特別是從提升樹脂之流延性 •(又為流動性)的觀點來看,宜為18.8至31.3質量份的範圍。 (藉由熱壓著製程的精細構造轉印方法) _ 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,係可作為 被壓塑構件來利用。從「壓印性」以及「轉印性」的觀點 來看,被壓塑構件的厚度宜為50nm至5〇〇//m。在熱奈米 t印成形或射出壓縮成形等熱轉印製程,相對於厚度為 5〇nm至500# m之被壓塑構件,藉由壓印具有預定之精細 構造圖案的壓塑材,而可獲得轉印有精細構造圖案之樹脂 成形體。藉由此方法,可製作例如具有直徑為5〇至15〇〇nm 之凸型或凹型點、或間距有60nm至2 “ m之凸型或凹型線 •的樹脂成形體。該凹部深度或凸部高度亦可作為:此㈤至3 範圍的超精細構造。 在上述熱奈米壓印成形或射出壓縮成形等熱轉印製程 中之壓印溫度(Tp),係較壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物 之玻璃轉移溫度(Tg)稍高的溫度。以成為Tg + 1〇<Τρ〈丁g + 5〇的方式為宜,可有效地利用壓塑構件用熱可塑性樹脂 組成物之優良「壓印性」以及「轉印性」。 作為上述熱轉印製耘,係於熱壓印成形及射出壓縮成 形之外,尚可列舉如擠壓成形、吹塑、真空成形等。 319416 200808888 • 為了使壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物成為厚度 • 5〇nm至500//m的被壓塑構件,有將壓塑構件用熱可塑性 樹脂組成物加熱溶融而成形的方法,以及將溶解於溶^的 溶液藉由各種塗佈機形成板狀乾燥而去除溶劑的方法。作 為可利用的塗佈機可列舉如:旋塗、浸潰塗佈、壓鱗模塗 •佈、凹版塗佈等。溶劑係考慮與樹脂的溶解性等而選擇。 可列舉如·曱基乙基酉同或甲基異丁基嗣等嗣類;乙酸醋等 醋類;異丁醇或丁醇等醇類;甲苯、二甲苯等芳香族類; 醚類;二元醇類等。 (經精細構造轉印之功能性樹脂成形體的用途) 士本發明之樹脂成形體以及透明性樹脂成形體,係於其 樹月曰表面具有20nm至3/zm左右的凹凸。本發明之樹脂成 形,以及透明性樹脂成形體是可利用在光拇滤光鏡、波長 光蚤換元件偏光膜、全像擴散器(horographic diffuser)、 光導波路型濾波器、作為攜帶電腦用光配線之光導波路、 •透過炫耀光栅、光讀取頭部之光桃、波長分離過滤膜、 j用於波長分離多重通訊方式之增幅器的增益平坦化濾波 益(GFF)以及偏光變換元件、菲涅耳透鏡(太陽光集光透 鏡、0HP之擴大投影用透鏡)、顯微透鏡陣列、各種非球 面透鏡、射出成形非球面透鏡(場像透鏡、中繼透鏡)、穿
$型螢幕用之菲涅耳板(垂直擴散用透鏡狀板)、CD或DVD ^光記錄媒體、LED擴散膜、LED集光板、燃料電池用分 離為外部沴斷用晶片、細胞培養晶片、臟器代用構件等 各種產業領域。 19 319416 200808888 (其他的添加劑) 以下雖藉由實施例說明本發明 等實施例者。 此外,在本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物, 只要不阻礙作作為該㈣塑構件之「壓印性」及「轉印性, 便可適當摻s己公知的添加劑,例如:熱安定劑、分散劑」、 防腐劑、撥水劑、黏度調節劑、防滴落劑、表面張力調整 劑、消泡劑、抗氧化劑、抗靜電劑' 近紅外線吸收劑、紫 外線吸收別、才几菌•防黴劑、芳香劑、以及螢光劑等。
但本發明不限定於此 (參考例1至6) 使用代表性之熱可塑性樹脂的PMMA樹脂,為了調製 本毛月之[塑構件用熱可塑性樹脂組成物,而調製作為高 分子量熱可塑性樹脂成分(A)之(Mw)=8〇萬(參考例^與 113萬〇考2)以及作為低分子量熱可塑性樹脂成分⑻ 之(MW)=5萬(參考例3)、1〇萬(參考例4)、14萬(參考例 _ 5)的PMMA(參考例丨i 5)。此外,作為比較例而調製 (Mw) 14萬且分子量分布係數(Mw/Mn)廣之低分子量體與 分子量分布係數狹之低分子量體(參考例6)。 (參考例1) (南刀子1熱可塑性樹脂成分(A) ; (Mw)=8〇萬之卩以^八) 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量〗公升的四口燒 瓶中加入離子父換水9〇〇重量份與乳化劑十二烧基苯礦酸 銨I 1.5重i份,一面保持溫度在76至艺一面添加過 氧二硫酸銨(APS)0.5重量份。 319416 20 200808888 接著,花30分鐘將曱基丙烯酸曱酯(MMA) 100重量份 與乳化劑十二烷基苯磺酸銨鹽1重量份滴下。再保持76 至78°C 30分鐘後,升溫至85°C並在該溫度保持1.5小時。 所得之乳液(E-1)的聚合率約為100%,凝膠滲透層析 “ 測定的結果,重量平均分子量為84.4萬,分子量分布為 ^ 3.2。 (參考例2) (高分子熱可塑性樹脂成分(A) ; (Mw)=113萬之PMMA) ⑩ 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量1公升的四口燒 瓶中加入離子交換水900重量份與乳化劑十二烷基苯磺酸 銨鹽1.5重量份,並將溫度保持在76至78°C添加APS0.25 重量份。 接著,花30分鐘將MMA100重量份與乳化劑十二烷 基苯磺酸銨鹽1重量份滴下。再保持76至78°C 30分鐘 後,升溫至85 °C並在該溫度保持1.5小時。所得之乳液(E-2) @ 的聚合率約為100%,凝膠滲透層析測定的結果,重量平 均分子量為113萬,分子量分布為3.0。 (參考例3) (低分子量熱可塑性樹脂成分(B) ; (Mw)=5萬之PMMA) 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量1公升的四口燒 瓶中,加入離子交換水900重量份與乳化劑十二烷基苯磺 酸銨鹽1.5重量份,並將溫度保持在76至78°C添加APS0.5 重量份。 接著,花30分鐘將MMA100重量份、屮十二烷基硫 21 319416 200808888 醇(NDM)5重量份、以及乳化劑十二烷基苯磺酸銨鹽1重 量份滴下。再保持76至78°C 30分鐘後,升溫至85°C並 在該溫度保持1.5小時。 所得之乳液(E-3)的聚合率約為100%,凝膠滲透層析 - 測定的結果,重量平均分子量為5.7萬,分子量分布為2.31。 -(參考例4) (低分子量熱可塑性樹脂成分(B) ; (Mw)=10萬之PMMA) 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量1公升的四口燒 ⑩瓶中,加入離子交換水900重量份與乳化劑十二烷基苯磺 酸銨鹽1.5重量份,並保持溫度在76至78°C添加APS0.5 重量份。 接著,花30分鐘將MMA100重量份、NDM0.5重量 份、以及乳化劑十二烧基苯續酸銨鹽1重量份滴下。 再保持76至78°C 30分鐘後,升溫至85°C並在該溫 度保持1·5小時。所得之乳液(E-4)的聚合率約為100%,凝 馨膠滲透層析測定的結果,重量平均分子量為10萬,分子量 分布為2.7。 (參考例5) (低分子量熱可塑性樹脂成分(Β) ; (Mw)=14萬之ΡΜΜΑ) 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量1公升的四口燒 瓶中,加入離子交換水900重量份與乳化劑十二烷基苯磺 酸銨鹽1.5重量份,並升溫至85°C,添加過氧二硫酸銨 (APS)0.5重量份。 接著,溫度保持於76至78°C,並花30分鐘將甲基丙 319416 200808888 烯酸曱酯(MMA)IOO重量份、N-十二烷基硫醇(NDM)0.2重
A 量份、以及乳化劑十二烧基苯續酸銨鹽1重量份滴下而進 行滴下聚合。 再保持76至78°c 30分鐘後,升溫至85°c,並在該 一 溫度保持1·5小時。所得之乳液(E-5)的聚合率約為100%, 、‘ · 凝膠滲透層析測定的結果,重量平均分子量為13.9萬,分 子量分布為4.1。 (參考例6) _ ((Mw)=10萬之ΡΜΜΑ,分子量分布係數(Mw/Mn)>>5) 在安裝有溫度計與氮氣導入管之容量1公升的四口燒 瓶中加入離子交換水900重量份與乳化劑十二烷基苯磺酸 銨鹽1.5重量份,一面保持溫度在76至78°C —面添加 APS0.5重量份。 接著,花30分鐘將MMA100重量份、NDM1重量份、 以及乳化劑十二烷基苯磺酸銨鹽1重量份滴下而進行滴下 ⑩聚合。 再保持76至78°C 30分鐘後,升溫至85°C並在該溫 度保持1.5小時。所得之乳液(E-6)的聚合率約為100%,凝 膠滲透層析測定的結果,重量平均分子量為14萬,分子量 分布為10.7。 另外,在參考例1至6調製之PMMA樹脂的玻璃轉移 溫度(Tg),任一者皆為約110 t (示差掃描熱量計: Differential Scanning Calorimeter) 〇 (依本發明調製壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物以及被壓 23 319416 200808888 塑構件) 於 > 考例1至6所仔之至6,分別用噴霧乾燥 乾燥而獲得粒子狀樹脂S_〗至6。 … 再者,將S-i至6溶解到甲基乙_, 分1〇重量%之樹脂溶液叫至6。另外,樹脂 s-3之可見光穿透率,任_者皆為⑽%。 使用MIKASA工業製旋轉塗佈機m七χ2將樹脂溶液 SS-1至6製作成樹脂板,亦即「被壓塑構件」。 板膜厚係以樹脂溶解溶液黏度與塗佈機之回轉數,效 ^如,在溶液黏度為30Ρ且回轉數12〇〇11)111的條件下\二 得厚度10 // m之樹脂板)。 又 (壓塑材之製作) 朝矽基盤進行塗佈抗姓層、照射電子束、顯像、 來製作模具。 x 做好之模具係使用以圓形點型之直徑1 〇、5、2、丨m #的圖案個別規則配列之圖案,以及線寬為〇15 二二 且澡度300nm之凹凸型圖案。 條件 抗蝕層:NEB-22(住友化學製) 模具:在矽基盤上約3〇〇11111之二氧化矽處理2吋直徑 約5 cm
電子束:使用 ELIONIXELS7500M 飯刻:三氟甲烷氣體(50SCCM、2 0Pas、i〇〇w、 钱刻(去除剩餘抗蝕層):氧氣(5Pas、WOW) 319416 24 200808888 模具表面處理:DAIKIN 1業〇pT〇〇L DSX1 %溶液(全說 己烧溶液) (熱壓著轉印製程之檢討1 :轉印性之評價) 將上述樹脂S-1使用在被壓塑構件中,並使用熱轉印 裝置之明昌機工(株)製NM0彻以及東芝機械(株)製st5〇 轉印具有在上述製作之精細構造的壓塑材。 將轉印條件與轉印結果表示於表1。
攸表1的結果,將合適的轉印條件選擇為溫度13〇它、 加重10kN、轉印時間300秒。
時間(sec) 轉印結果 X轉印困難 X轉印困難 〇轉印可能 X轉印困難 〇轉印可能 〇轉印可能 X轉印困難 X轉印困難 〇轉印可能 X轉印困難 2 7 10 10 10 15 19 10 10 10 300 300 300 60 500 300 300 300 300 300 130 130 130 130 130 130
130 110 150 180 (熱壓著轉印製程之檢討2 :壓印性、轉印性之評價) 在上述裝置以溫度13〇°C、加重10kN、轉印時間300 辛y的偏件’變更樹脂的種類及厚度來進行轉印測試。從掃 描式電子顯微鏡(SEM)相片圖以及原子力電子顯微鏡 (AFM)相片圖來評估熱壓印後從壓塑材的剝離性、以及被 319416 25 200808888 壓塑構件之轉印不均或轉印缺陷。 將結果表示於表2 〇 如從表2判明的,原料 眾計之S-1至6的樹脂即使罩猸# 用也會引起剝離性不良或樹:使早獨使 以及轉印性。 ’不具有良好的壓印性 (表2) 使用樹ΙΪ (被壓塑構件) S S S-2 8^3 S-3 S^4 膜厚 Lum) ~TJ 10 50 To To 45^ To 轉印結果 _—________________ ,剝離不良痕跡,樹脂有變形 然剝離不良痕跡,樹脂有變形 差j1】離不良痕跡,樹月】_有變形 查·全〗離不良痕跡,樹脂有_形 不良痕跡裉 合有剝離不良痕跡與^脂變形
(實施例1至3以及比較例〗至7) (由本發明提供之被壓塑構件之壓印性以及轉印性的評價) 凋製變更S-l(高分子量熱可塑性樹脂成分(A))與 3(低刀子塁熱可塑性樹脂成分(B))之調配比之樹脂組成 物E-1至E-3以及m至η?,並製作任一者皆為厚度1〇 Am之板狀的被壓塑構件,且以溫度U(rc、加重1〇kN、 轉印時間300秒的條件進行熱壓印。 轉印係使用上述之明昌機工(株)製NM0401以及東芝 機械(株)製ST50。「壓印性」以及「轉印性」係以掃描式 319416 26 200808888 電子顯微鏡相片圖以及原子力電子顯微鏡相片圖進行評 價。將結果表示於表3。 此外,有關於使用之被壓塑構件的熱轉印時轉印精 度,將從圖示於附圖第6圖之原子力電子顯微鏡相片圖評 價的結果表示於表4。從表3以及表4來看,本發明之壓 塑構件用熱可塑性樹脂組成物在熱壓印時,明確地具有優 良之「壓印性」與「轉印性」。 (表3) 高分子量體(A)/低分子量體(B)調配熱壓著轉印製程之「壓印性」以及「轉 質量比;樹脂S-1 ;樹脂S-3 印性」的評價 (實施例1至3) E1 9:1 E2 8:2 E3 7:3 〇〇〇 無剝離不良,樹脂無變形 無剝離不良,樹脂無變形 無剝離不良,樹脂無變形 (比較例1至7) H1 10 0 X :無剝離不良痕跡,樹脂有變形 H2 6 4 X :無剝離不良痕跡,樹脂有變形 H3 5 5 XX:混合有剝離不良痕跡與樹脂變形 H4 4 6 XX:混合有剝離不良痕跡與樹脂變形 H5 3 7 XX:混合有剝離不良痕跡與樹脂變形 H6 2 8 XX:混合有剝離不良痕跡與樹脂變形 H7 1 9 XX :樹脂黏附於模具而無法取下 (表4) 樣品名 間距寬(nm) 溝深度(nm) 圖案之傾斜角〇 模具 410 309 85 H1 600 303 84 E2 403 294 84 H2 403 294 80 使用本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物製作被 27 319416 200808888 壓塑構件,並以平行線狀之壓塑材以及點圖案之壓塑材進 行熱壓印後之被壓塑構件的掃描式電子顯微鏡相片圖以及 原子力電子顯微鏡相片圖表示於第2圖至第6圖。 —第2圖⑷;第3圖⑷;第4圖⑻、⑻;第5圖⑷; 第6圖(c)任何一者皆為實施例2(E2)之相片。第2圖 第3圖(b);第4圖(c);第5圖(b);第6圖“)任何一者皆 為比較例2(H2)之相片。 從第2至6圖來看可知,本發明之壓塑構件用熱可塑 性樹脂組成物因剝離性優良而沒有樹脂的變形,且因樹脂 流動性優良而沒有轉印不均與轉印缺陷。 (產業上的利用可能性) 本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物係於熱奈米 壓印成形或射出壓縮成料之熱壓著轉印製程中,具有優 良壓印性及轉印性,而藉由熱壓印所得之在表面具有精細 構造之樹脂成形體,係可在光栅濾光鏡、波長光變換元件、 偏光膜、光導波路㈣波器、作為攜帶電腦用光配線之光 導波路、透過型炫耀光栅、光讀取頭部之錢、波長分離 濾波器、菲涅耳透鏡(太陽光集光透鏡、〇Hp之擴大投影 用透鏡)、顯微透鏡陣列、各種非球面透鏡、射出成形非球 面透鏡(場像透鏡、中繼透鏡)等之光學構件;非線性光電 零件;CD或DVD等光記錄媒體;咖擴散膜;咖集光 板;燃料電池用分隔器;外部診斷用晶片;細胞培養晶月; 臟器代用構件等。 ’ 【圖式簡單說明】 319416 28 200808888 • 第l-Α圖係本發明之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物 •之藉由凝膠滲透層析法直接獲得之分子量分布圖,而第 1-B圖係顯示根據第1-A圖製作之分子量分布圖。 第2圖(a)及(b)顯示使用本發明之壓塑構件用熱可塑 一性樹脂組成物製作被壓塑構件,以平行線狀的壓塑材進行 •‘熱壓印後的被壓塑構件之掃描式電子顯微鏡相片圖。特別 顯示壓印的端部。 第3圖(a)及(b)顯示使用本發明之壓塑構件用熱可塑 曝性樹脂組成物製作被壓塑構件,以點圖案的壓塑材進行熱 壓印後的被壓塑構件之掃描式電子顯微鏡相片圖。 第4圖(a)至(c)顯示使用本發明之壓塑構件用熱可塑 性樹脂組成物製作被壓塑構件,以平行線狀的壓塑材進^ 熱壓印後的被壓塑構件之掃描式電子顯微鏡相片圖。 第5圖(a)至(c)顯示使用本發明之壓.塑構件用熱可塑 性樹脂組成物製作被壓塑構件,以平行線狀的壓塑材進行 ⑩熱壓印後的被壓塑構件之原子力顯微鏡相片圖。 第6圖⑷至⑷顯示使用本發明之壓塑構件用熱可塑 性樹脂組成4勿製作被壓塑構件,α平行線狀的壓塑材進行 熱壓印後的被壓塑構件剖面之原子力顯微鏡相片圖。 319416 29

Claims (1)

  1. 200808888 十、申請專利範圍: 1 · 一種壓塑構件用熱可塑性樹脂組成物,包含藉由凝膠滲 透層析法(GPC法)測定之重量平均分子量(Mw)為6〇至 180萬的範圍且分子量分布係數⑽w/Mn)為1.5至5的 範圍之高分子量熱可塑性樹脂成分(A),與藉由凝膠滲 透層析法(GPC法)測定之重量平均分子量(河〜)為工至 2〇萬的範圍且分子量分布係數hl至5的範 圍之低分子量熱可塑性樹脂成分(B),該熱可塑性樹脂 組成物之特徵為··
    在該熱可塑性樹脂組成物之藉由凝膠滲透層析法 的重量基準的分子量分布圖中之[高分子量熱可塑性樹 月曰(A)的分子量分布譜峰]:[低分子量熱可塑性樹脂(B) 的分子量分布譜峰]的比在7至9 : 3至1的範圍内。 如申請專利範圍第1項之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成 物’其中’上述高分子量熱可塑性樹脂成分(A)以及低 分子量熱可塑牲樹脂成分(B)係包含選自由聚烯烴樹 月曰、苯乙烯樹脂、丙烯酸樹脂、聚乳酸(PLA)、環狀聚 烯烴、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚對苯 —甲酸乙二酯(PET)、改質聚二苯醚(ppE)、聚醚醚酮、 聚芳酯(PAR)、以及聚醚砜(PES)所構成群組中至少一種 的樹脂。 如申睛專利範圍第1項之壓塑構件用熱可塑性樹脂組成 物其中’有關上述高分子量熱可塑性樹脂(A)以及低 分子量熱可塑性樹脂(B)測定的可見光穿透率各為85〇/〇 30 319416 200808888 以上。 旨成形體’係由包含藉由凝膠參透層析法測 量平均分子量(Mw)為60至⑽萬的範圍且分子 心布係數(MW/Mn)為Μ至5的範圍之高分子量熱可 塑性樹脂成分⑷’與藉由凝膠滲透層析法測定之重旦 平均分子量(Mw)為mo萬的範圍且分 = (Mw/Mn). M至5的範 邱知數 〕乾圍之低刀子1熱可塑性樹脂成 二()之熱可塑性樹脂組成物所形成, 體之特徵為·· 风办 在該熱可塑性樹脂組成物之藉由凝膠渗透層析法 基準/子量分布圖中之[高分子量熱可塑性樹脂 、刀子1分布譜峰]:[低分子量熱可塑性樹脂⑻的 分子量分布譜夸]的比為7至9: 3至】的範圍内之敎可 塑性樹脂組成物所構成厚度為5_至卿心範圍内 之被屋塑構件表面,轉印有壓塑材之精細構造。 5·如申請專利範圍第4項之透明樹脂成形體,其中,該透 明樹脂成形體係在由上述高分子量熱可塑性樹脂⑷以 及低分子量熱可塑性樹脂(Β)所構成,各個的可見光穿 透率各為85%以上之麗塑構件用熱可塑性樹脂組成物 所成的厚度為5〇nm至500//m範圍内之被屢塑構件的 表面上,轉印有壓塑材之精細結構。 6.如申請專利範圍第4項或第5項之透明樹月旨成形體,其 中,上述壓塑材之精細結構係由直徑5〇至i5〇〇nm之凸 型或凹型點的圖案,及/或由寬度6〇_至之凸型 319416 31 200808888 霍挪或高度為
    旦#&^%體’由包含藉由凝膠滲透層析法測定之重 里平均分子量(Mw)為6G至⑽萬的範圍且分子量分布 =數(Mw/Mn)* h5至5的範圍之高分子量熱可塑性樹 脂成分(A)與藉由凝膠滲透層析法測定之重量平均分子 里(Mw)為1至2〇萬的範圍且分子量分布係數㈤…^^) 為1·1至5的範圍之低分子量熱可塑性樹脂成分(B)之熱 可塑性樹脂組成物所形成,該樹脂成形體之特徵為: 在該熱可塑性樹脂組成物之藉由凝膠滲透層析法 之重里基準为子里分布圖中之[高分子量熱可塑性樹脂 (A)的分子量分布譜峰]:[低分子量熱可塑性樹脂的 分子量分布譜峰]的比為7至9 : 3至1範圍内之熱可塑 性樹脂組成物所構成之厚度為50nm至500# m範圍内 之被壓塑構件,轉印有壓塑材之精細構造。 _ 8 ·如申請專利範圍第7項之樹脂成形體,其中,上述壓塑 材之精細構造係由直徑50至1500nm之凸型或凹型點的 圖案,及/或由間距寬60nm至2//m之凸型或凹型線及 空間的圖案所形成’該圖案之深度或高度為20nm至3 32 319416
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI402163B (zh) * 2008-05-02 2013-07-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 光學元件之製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009057255A1 (ja) * 2007-10-31 2009-05-07 Kaneka Corporation ポリエーテルエーテルケトン、及び、ポリマー材料の精製方法
JP2010095613A (ja) * 2008-10-16 2010-04-30 Kaneka Corp ポリエーテルエーテルケトン系樹脂組成物
JP5403371B2 (ja) * 2009-06-22 2014-01-29 綜研化学株式会社 金属製モールドの製造方法ならびに該金属製モールドを製造するための樹脂モールドおよび樹脂
CA2801372C (en) 2010-06-23 2014-12-02 Nippon Soda Co., Ltd. Process for production of replica mold for imprinting use
WO2014109172A1 (ja) * 2013-01-11 2014-07-17 富士フイルム株式会社 多層光情報記録ディスクおよびその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3588744B2 (ja) * 1998-01-06 2004-11-17 コニカミノルタホールディングス株式会社 静電荷像現像用トナーとそれを用いた画像形成方法
CN1144824C (zh) * 1999-07-01 2004-04-07 旭化成株式会社 低分子量甲醛聚合物和含有它的组合物
JP2004250555A (ja) * 2003-02-19 2004-09-09 Toray Ind Inc ポリアセタール樹脂を主成分とする成形品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI402163B (zh) * 2008-05-02 2013-07-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 光學元件之製造方法

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