TW200806976A - Apparatus for inspecting substrate and method of inspecting substrate using the same - Google Patents

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200806976 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種基板檢査裝置及使用其之基板檢査方 .法，更明確地說，係關於一種能夠正確測定基板上之圖案 不良之基板檢査裝置及使用其之基板檢査方法。 【先前技術】 近來大多使用液晶顯示裝置及有機電場發光裝置

(〇LED)等之平面顯示裝置（fht panel display)，來取代既 有之陰極射線管。 該等顯示裳置中使用到形成有各種圖案之基板。.例如 在液晶顯示裝置之彩色濾、光片基板上形成有黑色矩陣及考 色濾光片等之圖案。該等圖案必須形成為均勻之厚度。女 為彩色濾光片之情形’若未均勻形成厚度，則畫面可能名 產生斑點。 a 在顯示裝置之製造過程中，會透過基板檢査以檢杳今 圖案之厚度是否均勻形成。 一- 但是’先前之基板檢査由於是一面對形 照射光線，-面由作業者以肉眼判段有無不 正確測定之問題點。 文有難 【發明内容】 (發明所欲解決之問題） 因此’本發明之目的在於提供一種正確 基板檢査方法。 、疋圖木不良j 本發明之另一目的在於提供 確測疋圖案不良之邊 II9481.doc 200806976 板檢査裝置。 (解決問題之技術手段） W述本發明之目的係藉由以下基板檢査方法而達成，其 包含：對形成有圖案之基板施加檢査光之步騾；感測由前 述基板所反射之前述檢査光亮度之步驟；及由前述感測到 的受度判斷前述圖案有無不良之步驟。 則述檢査光較佳於同調（c〇herent)之狀態下施加於 基板。 前述檢査光較佳為線性光。 前述亮度較佳在對前述基板掃描前述檢査光之同時 得, “ 於W述掃描時，前述檢査光對前述基板之入射角較佳為 固定，且前述亮度較佳在距離前述基板之入射點固定之位 置上感測。 則述党度較佳為使用包含配置成一行的攝像單位之線列 攝像機（line camera)獲得。 前述攝像單位較佳包含CCD(charge c〇upled daia:電 荷麵合元件）。 所反射之前述檢査光較佳經由透鏡而入射至前述線列攝 像機。 ;$述基板上較佳形成有複數個像素區域，且前述各攝 像單位之光學解析度（〇ptical resuluti〇n)較佳為前述像素區 域大小（size)之100%〜300%。 前述各攝像單位之光學解析度R較佳表示為（b_f)氺 n948l.doc 200806976 D/f(在處，b係前述透鏡與前述入射點之距離，f係前.述透 祝之”、、·’沾距離’ D係如述各攝像單位之大小（size))，前述 各％像單位之光學解析度較佳係使前述透鏡與前述入射點 之距離變化而調節。 m述透鏡與前述線列攝像機之距離（a)較佳為D * R/b値 之 90%〜110% 〇 則述圖案較佳包含黑色矩陣、彩色濾光片及柱狀間隔件 中至少任一者。 前述亮度較佳隨著前述圖案之厚度而改變。 則述本發明之目的係藉由包含以下步驟之基板檢査方法 而達成·對形成有圖案之基板施加線形態之檢査光 之步驟，使用線列攝像機感測由前述基板所反射之前述檢 査光党度之步驟；及由前述感測到的亮度判斷前述圖案有 無不良之步驟。 別述党度較佳為在對前述基板掃描前述檢査光之同時測 得。 於前述掃描時，前述檢査光對前述基板之入射角較佳為 固定，丽述亮度較佳為在距離前述基板之入射點固定之位 置上感測。 所反射之前述檢査光較佳經由透鏡而入射至前述線列攝 像機’·於前述基板上較佳形成有複數個像素區域，·前述線 列攝像機較佳包含配置成一行之攝像單位；前述各攝像單 位之光學解析度（optical res〇Iuti〇n)較佳為前述像素區域大 小（size)之 1〇〇。/0〜300%。 n9481.doc 200806976 前述各攝像單位之光學解析度R較佳表示為（b-f) * D/f(此處，b係前述透鏡與前述人射點之距離’錄前述透 鏡，焦，距離’ D係前述各攝像單位之大小(㈣)，前述 。攝像單位之光學解析度較佳係使前述透鏡與前述入射點 之距離變化而調節。 、前述本發明之另一目的係藉由以下基板檢査裝置而達 成ϋ在於包含.载置部，其係載置形成有圖案之基

板者’铋及"’其係位於前述載置部之上部，&含光源部 及攝像機者；該光源部係對前述基板供給檢査光；該攝像 機係感測由前述基板所反射之前述檢査光亮度;驅動部， 其係使則述载置部與前述檢測部相對移動者·，及控制部， 其係由m述攝像機感測到的亮度判斷前述圖案有無不良 者0 :述光U5 4共給之If述檢査光較佳#同調（⑶上㈣叫。 前述檢査光較佳為線性光。 前述光源部較佳肖+ g # 角 丨平乂狂S狹縫，其係限制放射之光之放射 ^述攝像機較佳包含線列攝像機（line earn⑽）。 、，述祆測部車父佳更包含透鏡，其係位於前述攝像機與前 述載置部之間。 於刖^載置部與檢測部之相對移動時，前述基板之反射 :點與前述光源部之相對位置，及前述基板之反射地點與 則述攝像機之相對位置較佳維持固定。 丽述圖案較佳包含黑色矩陣 彩色濾光片及柱狀間隔件 11948】 .doc 200806976 中至少任一者。 【實施方式】 (發明之效果） 根據本發明，能夠提供一種正確測定圖案不良之基板檢 •査方法。 • 再者，根據本發明，能夠提供一種正確測定圖案不良之 基板檢査裝置。 赢 (實施例） § 知 以下參照附加圖式說明本發明。 於各種實施形恶中針對相同之構成要素附註相同之參照 編號，對於相同之構成要素在第1實施形態中進行代表性 說明，而在其他實施形態中可予以省略。 在以下之實施形態中，在基板方面舉液晶顯示裝置之彩 色濾光片基板為例進行說明，但本發明亦可適用於薄膜電 晶體基板。此外，本發明亦可適用於有機電場發光裝置 馨 （ED)冑冰顯示裝置（EPD)、電漿顯示裝置（PDP)等之 其他顯示裝置之基板。 以下說明中之「傻夸卩#妥,/ ·、 像素&域大小（size)」係指面積與像素 - 【域之面積相同之正方形之—邊之長度。各攝像單位係正 * ㈣’「攝像單位A小（size)」係指攝像單位之-邊之長 度。各攝像單位係拍攝攝像對象物之正方形區域者，「攝 resolution)j 正方形區域之一邊之長度。 圖1係液晶顯示裝置之剖面圖。 119481.doc -10- 200806976 液晶顯示裝置100包含薄膜電晶體基板i iO、彩色濾光片 基板120，及位於兩基板110、120之間之液晶層。 端看薄膜電晶體基板11 〇，於絕緣基板u丨上形成有複數 個薄膜電晶體112。薄膜電晶體112上覆蓋著包含無機膜或 有機膜而成之保護層113，保護層π 3之一部分被除去，形 成使薄膜電晶體112露出之接觸孔丨14。包含IT〇(indium tin oxide:銦錫氧化物 ^IZ0(indium zine〇xide:銦鋅氧 化物）等之透明導電物質而成之像素電極U5透過接觸孔 114而與薄膜電晶體112連接。 端看彩色濾光片基板120，於絕緣基板！21上形成有格子 狀之黑色矩陣122。黑色矩陣122可由含有黑色顏料之有機 物形成，其係對應於薄膜電晶體基板110之薄膜電晶體112 及配線（未圖示）而形成。 於黑色矩陣122之間形成有彩色濾光片123。彩色遽光片 123包含有機物而形成，且包含具有不同顏色之3個子層 123a、123b、lUc。於黑色矩陣122與彩色濾光片層123之 上部形成有平坦層124及包含透明導電物質而成之共用電 極125。於共用電極125上形成有柱間隔件126。柱間隔件. 126係對應於黑色矩陣122而形成，以維持兩基板11〇、12〇 之間隔。 位於兩基板110、120之間之液晶層130藉由像素電極115 〃、/、用電極125所形成之電場而決定其之排列狀態。供給 、自薄膜電晶體基板110之下部之光線由液晶層13〇調整其透 過率後’通過附接於彩色渡光片層123及彩色遽光片基板 1194gl.doc 200806976 120的外部之偏光板（未圖示），而藉此賦予對應之顏色。 以上說明之黑色矩陣122、彩色濾光片層123及柱間隔件 126等之圖案通常係於塗布感光有機層後進行曝光及顯影 而形成。 . 感光有機層之塗布可採用狹縫式塗布（slit coating)、旋 ^ 轉塗布（Spm coating)或管面塗布（screen coating)等方法·進 行。然而，於塗布前在絕緣基板上若有微粒，則感光有機 φ 層之厚度將會不均勻，而藉此形成之圖案之厚度亦將不均 勻。圖案之厚度亦有可能因為在形成圖案之過程中流入微 粒而變得不均勻。 若圖案之厚度不均勻，則顯示品質會降低，尤其當彩色 濾光片層123之厚度不均勻時，可能會在晝面上產生斑 點。 2此，需在形成各圖案後測定圖案有無不良。若測定圖 案旁不良之情形時，即重做（rework)發生不良之圖案或報 • 廢基板。 本發明即為關於測定圖案不良之檢査裝置及檢査方法 者。 _ 圖2係表示本發明之第1實施形態之基板檢査裝置之圖 - 式。 、基板榀査裝置1包含檢測部10、位於檢測部1 〇之下部而 =且基板140之載置部4〇，及使載置部仙直線運動之驅動 部50。檢査對象基板14〇包含絕緣基板i4i及形成於絕緣基 板141上之圖案142。圖案142可以採用黑色矩陣、彩色遽 119481.doc -12 - 200806976 光片層及柱間隔件中任一者。

檢測部10包含固定式而對基板140供給檢査光之光源部 20，及感測由基板140所反射的反射光之亮度之攝像機 3 0。如圖3所示，攝像機3 0是由一對構成。各攝像機3 〇具 有感測亮度之區域，即FOV(field of view :視場）。各攝像 機30之F0V之寬度dl大於基板140之寬度d2的一半。攝像 機30之F0V其一部分為重疊，一部分超出基板！4〇。於攝 像機30與基板140之間設有透鏡35。 光源部20係以檢査光與基板140之入射點成固定角度θι 之方式配置。光源部20包含發光之燈21及包圍住燈21並朝 向基板140射出光線之燈罩22而構成。燈罩22其朝向基板 140之一面為開口。 光源部20之構造只要是能夠供給強度均勻之線（Hne)型 檢査光者即可，可以做多樣化之變更。光源部2〇可採用包 含函素燈或金屬鹵素（metal-halide)燈等之點光源（p〇int light source)，及將點光源轉換成線性光源之光纖（叩 fiber)之構造。 攝像機30如圖4所示，係包含CCD(charge-c〇upled device :電荷耦合元件）之n個攝像單位31排成一列之線列 攝像棧各知1像單位3 1為正方形，其一邊之長度，亦即攝 像單位31之大小（Slze) & D表示。攝像機3〇之各攝像單位3 1 配置在能夠接受到從燈21出射而由基板14〇反射的光線之 位置攝像機3〇係以與基板140之入射點成固定角度02之 方式配置。 -13- 1 J9481.doc 200806976 驅動邛5〇係使載置部4〇移動，以便檢測部⑺掃描基板 140全體。為掃描基板14〇全體，燈21之長度較佳設為比基 板MO之寬度d2稍大。 對基板140全體進行掃描時，入射點與光源部之角度 及入射點與攝像機30之角度θ2維持固定。 於掃描日守，攝像機30中感測到之反射光之強度會因圖案 142之厚度而有所變化。 在此雖未圖不，然基板檢査裝置1可更包含控制部而構 成"亥技制部係根據感測到之亮度値而判斷圖案'142有無 不良者。 圖5係用以說明本發明之第1實施形態之基板檢査裝置所 出射之檢査光之圖式。 檢査光在靠近光源部20的部分雖非平行光，但入射到基 板140時是以實質上為平行之狀態入射。如此之故，實質 上為平行之狀恶即稱作同調（c〇herem)狀態。為產生此種 同調狀態之檢査光，入射點與光源部20之間的距離c必須 維持固定値，例如約3m以上。 為透k所反射之彳双査光來檢查基板丨，攝像機3〇必須 具有適田之光學解析度。亦即，攝像機3〇之各攝像單位η 之光子解析度必須具有適當範圍。針對此點，以彩色濾光 片基板120作為檢査對象之例示進行說明。 如圖仏所不，於彩色濾光片基板120上形成有複數個像 素區域。像素錢係㈣複數個子像素而成者，為構成晝 面之基本單位。如圖所示，像素區域包含各自表現紅色、 319481.doc -14· 200806976 藍色及綠色之3個區域，其一邊之長度耵為正方形 找各Γ像單位31係拍攝基板14G中正方形之單位攝像區 早位攝像區域之一邊之長度，也就是光學解析度R， 牧佳為像素區域之一邊之長度们，亦即像素區域之 (s i z e )之 i〇G% 〜3〇〇%〇 通常’不良會遍❹個.像㈣域解析声r 若小於像素區域大小们之100% ’亦即單位攝像區域二 於像素區域，會因為光學性的原因而無法感測不良 的，光學解析度R若大於像素區域大小们之職則 會減低，即使發生不良也無法將其辨識為不良，d 確定發生不良之位置。 疋…、法 '另一方面，如圖6b所示，為像素區域非正方形之情形。 在此情況下，像素區域大小们能夠以與像素區域具有相 面積之正四角形之一邊長度為基準。 以下說明調節光學解析度R之方法。 光學解析度R是由以下公式1決定。 (公式1) R=(b，f) * D7f 在此，b為圖2所示之透鏡35與入射點之距離，f 35之焦點距離，D為圖4所示之各攝像單位31之大小。 另方面一透鏡35與入射點之距離^^則根據公式^而以如 下之公式2表示。 (公式2) b二f* (R/D+1) 119481.doc -15- 200806976 右要於檢査中調節光學解析度R，通常不更換攝像機30 及透鏡35 ’而是變更透鏡35與入射點之距離^進行調節。 例如，没像素區域大小d3為300 μπι、攝像單位3 1大小D為 14 μιη、透鏡35之焦點距離£為6〇 μπι<情形時，若要使光 學解析度R為500 μπι，只要根據公式2，將透鏡％與入射點 之距離b調節為約22〇2 mm即可。 當然’亦可更換攝像機30及透鏡35以調節光學解析度 R。 又 另一方面，光學解析度R與攝像單位31之個數n&F〇v之 見度d 1有所闞聯。 例如，如圖3所示，假設攝像機3〇為2台，基板14〇之寬 度 d2為 15 00 mm，FOV之寬度 dl 為 800 mm。 所需之光學解析度R若為5〇〇 μιη，則攝像單位3〗之個數n 以dl/R計算，必須要有約16〇〇個。攝像機3〇之攝像單位 之個數η若小於1600個，則必須使用3台以上之攝像機3 〇， 或是調高光學解析度R。 如此之故，攝像機30之個數、攝像單位31之個數η及光 學解析度R具有密切關係。 藉由所需之光學解析度R而決定透鏡35與入射點之距離b 後，圖2所示之透鏡3 5與攝像機3 0間之距離a可透過以下公 式3決定。 (公式3) a=(D/R) * b 根據前述之例’計算出的a値約為62 mm。透鏡3 5與攝像 119481.doc •16· 200806976 機3 0之間的距離a需配合攝像機3〇之 在計算値之90%〜110%之間調節。 聚焦而進行調節 可

圖7係用以說明檢査光之繞射之圖式。 形成於基板140上之圖案142如Λ愛念▲土 '七xb 如為黑色料之情形時可設 為網格狀，如為彩色濾光片之情形時 J 6又馮依固定問隱 置之線狀，如為柱間隔件之情形時 & 』5又為均勻配置之點 此種圖案142對於入射之檢査 .· 先/、有繞射光栅 (dlffractlng grating)之作用。因此，從光源2〇入設至圖案 M2之光線會繞射，形纽波長不_區分之頻譜時 反射。 端看由圖案142所反射並繞射之光_譜，可知其強度 因波長而改變。 以下參照圖8〜圖10 ’說明因圖案142之高度而使得攝像 機30中所辨識之反射光產生亮度差之原因。 圖8係用以說明因圖案之厚度而產生之反射光偏移之圖 式；圖9a及圖9b係表示因圖案之厚度而產生之繞射頻譜之 照片；圖10係用以說明因圖案之厚度而產生之亮度變化之 圖式。 在微粒等之不良要因下，圖案142之厚度會因位置而改 變。厚度不同之圖案142在基板14〇上可以點形態表示，亦 可以線形態表示。 如圖8所示，可知圖案142之厚度會使得反射光之路徑產 生偏差。亦即，在由正常圖案142&所反射（a)之情形與由厚 119481.doc -17- 200806976 度較厚之圖案142b所反射（b)之情形中， 不同，因此造成反射光之偏差。 由於反射點之高度 圖9a係表示圖案142之厚度為固 、h形之繞射箱级， 圖9b係表示圖案142之厚度非固定的 ^ ^ ^ 月形之繞射頻级。 端看圖9b，可知在圖案142之厚庚非门 π 又F固定之情形中， 頭所示部分表示與周邊不同之形自、|。 心、亦即，因圖幸142之 厚度而造成反射光偏差，導致赛声持辦 ^ 儿度改變之部分。

端看圖10 ’在正㈣案142a即⑷之情形與較厚圖案而 之情形中，繞射頻譜之形態幾乎類似。 ’、 機30所辨識之波長互不相同。 Q疋之攝像 在⑷之情形中，於攝像㈣中辨識到具有最高㈣的波 長之光線。反之，在（b)之情形中，於攝 、攝像棧3 0中辨識到且 有較低強度的波長之光線。因此，攝像機3g在較厚圖案 142b上感測到的亮度比正常圖案M2a為低。 ^ 焭度感測係遍佈於基板14〇全體而掃描檢査光之同時進 行]透過掃描測定全體圖案142上之反射光亮度，將其進 行匹配〇 '、 從如此匹配而得的亮度資料來看，其中感測到亮度比周 圍低的部分’由此便可判斷出圖案142之厚度不均句之 分。 σ 圖8〜圖10說明圖案142厚度越高則亮度越低之原理。惟 圖案142之厚度不同之情形時，反射光之亮度高低與否將 错由光源部2〇與攝像機3〇之位置關係而決定。亦即，攝像 抽^ 3〇彳丈具有一般厚度的圖案142所反射之光線之繞射圖案 I1948i.doc -18- 200806976 上’若感測到較低強度之光線時，便能夠更強烈感測到1 有其他厚度的圖案142所反射之光線。、 根據所測得之亮度值來料圖案142之不良之基準有復 夕例如將7C度值數値化，而亮度比周圍高過超出固定 水準之部分即可判定為不良。 ^不良部分可以點或線表示。 若判定圖案m為不良，可除去圖案142再重新形成，或 將基板14 0報廢。

圖11係表示透過實驗而得之亮度影像之照片。 圖11係針對彩色濾光片測得之影像，可觀察四角所示部 刀中與周圍焭度不同之點。此種不良是由於在感光有機層 形成後，有微粒流入感光有機層之上部而產生。 除了圖1 1所不之點以外，亮度不同之部分亦可以線或面 形狀表示。 從圖11來看，明確顯示出圖案不良，容易判定不良。另 一方面，所測得之亮度資料可視需要予以多樣化變形、操 作，以供判定圖案不良之用。 圖12係表示本發明之第2實施形態之基板檢査裝置之圖 式0 如第1實施形態中之說明，光源2〇之檢査光必須以同調 狀悲入射至基板140。為使檢査光成為同調狀態，基板14〇 與光源20之間必須保有相當之距離。因此，會產生基板檢 査裝置1之體積極大化之問題。 根據第2實施形態，於光源2〇之燈罩22上設有狹縫22a。 狹缝22a會限制檢査光之出射角，如此一來，檢査光即使 11948i.doc -19- 200806976 在丁乂短之距離内也會成為同調狀態。如此—來，即可縮減 光_與基板14()之間的距離们，而能夠使基板裝 之大小減小。 以上已圖不亚說明本發明之部分實施形態，但舉凡且備 本發明所屬技術領域之_般知識之技藝人士，當可在不悻 本^ s之原貝u或精神之前提下將本實施形態進行修改。 本毛明之觀圍係根據所附之請求項及其相等物而決定。 【圖式簡單說明】 圖1係液晶裝置之剖面圖。 圖係表示本發明之第！實施形態之基板檢查裝置之圖 式。 圖3係用以說明本發明之第丨實施形態之基板檢査裝置中 之攝像機配置之圖式。 圖4係用以說明本發明之第丨實施形態之基板檢査裝置中 之攝像機構造之圖式。 圖5係用以說明由本發明之第i實施形態之基板檢査裝置 所出射之檢査光之圖式。 圖6a係用以說明像素區域之大小與光學解析度之關係之 圖式。 圖6b係用以說明像素區域之大小與光學解析度之關係之 圖式。 圖7係用以說明檢査光之繞射之圖式。 圖8係用以說明因圖案之高度而產生之反射光偏移之圖 式0 11948l.doc -20· 200806976 圖9a係表示因圖案之高度而產生之繞射頻譜之照片。 圖9b係表示因圖案之高度而產生之繞射心之照片。 圖係用以說明因圖案之高度而產生之亮度變化之圖 式。 圖π係表示透過實驗而得之亮度影像之照片。 圖係表示本發明之第2實施形態之基板檢査裝置之圖 式。 【主要元件符號之說明】 10 20 21 22 30 31 35 40 50 141 142 檢测部 光源部 燈 燈罩 攝像機 攝像單位 透鏡 載置部 驅動部 絕緣基板 圖案 119481.doc -21 -

Claims (1)

1. 200806976 十、申請專利範圍： 1 · 一種基板檢査方法，其包含： 對形成有圖案之基板施加檢査光之步驟； 感測由前述基板所反射之前述檢査光亮度之来 y鄉，及 由鈿述感測到的亮度判斷前述圖案有無不良之+驟 2.如請求項1之基板檢査方法，其中 月if述檢査光係於同調（coherent)之狀態下施加於前夷 板0 * 3·如請求項2之基板檢査方法，其中 别述檢査光係線性光。 4·如請求項1至3中任一項之基板檢査方法，其中 前述亮度係在對前述基板掃描前述檢査光之同時測 得。 、 5·如請求項4之基板檢査方法，其中 於前述掃描時， 前述檢査光對前述基板之入射角係固定，前述亮度係 在距離前述基板之入射點固定之位置上感測。 6 ·如凊求項5之基板檢査方法，其中 前述亮度係使用包含配置成一行的攝像單位之線列攝 像機（line camera)獲得。 7·如請求項6之基板檢査方法，其中 前述攝像單位包含CCD(charge c〇upled device :電荷 耦合元件）。 8·如請求項7之基板檢査方法，其中 1194gl.doc 200806976 所反射之前述檢査光係經由透鏡像機。 而 入射至前述線列攝 9.如請求項8之基板檢査方法，其中 於别述基板上形成有複數個像素區域； 前述各攝像單位之光學解析度（optical wolution)係前 述像素區域大小（size)之1〇〇%〜30〇%。 10·如請求項9之基板檢査方法，其中 刖述各攝像單位之光學解析度仏係表示為（b_f) * D/f(此 處，b係則述透鏡與前述入射點之距離，f係前述透鏡之 焦點距離，D係前述各攝像單位之大小（size)); 前述各攝像單位之光學解析度係使前述透鏡與前述入 射點之距離變化而調節。 11·如請求項10之基板檢査方法，其中 油述透鏡與前述線列攝像機之距離⑷係D *尺化値之 90% 〜11〇〇/0〇 12·如請求項4之基板檢査方法，其中 前述圖案包含黑色矩陣、彩色濾光片及柱狀間隔件中 至少任一者。 13.如請求項4之基板檢査方法，其中 前述亮度係隨著前述圖案之高度而改變。 14 · 一種基板檢査方法，其包含： 對形成有圖案之基板施加線（line)形態之檢査光之步 驟； 使用線列攝像機感測由前述基板所反射之前述檢査光 11948Ld〇G 200806976 壳度之步驟；及 由前述感測到的亮度判斷前述圖案有㈣ 1 5.如請求項14之基板檢査方法，其中 〆驟。 前述亮度係在對前述基板掃描前述檢査光之同 16·如請求項15之基板檢査方法，其中 、侍。 於前述掃描時， 雨述檢査光對前述基板之人射角係固定，前述亮 在距離前述基板之入射點固定之位置上感測。又’ 17β如請求項16之基板檢査方法，其中 所反射之前述檢査光係㈣透鏡*人射至前述線 像機； 於前述基板上形成有複數個像素區域； 前述線列攝像機包含配置成一行之攝像單位； 、前述各攝像單位之光學解析度（optical resolmicrn)係前 述像素區域大小（Size)i1〇〇%〜3〇〇%。 18·如請求項17之基板檢査方法，其中 刖述各攝像單位之光學解析度尺係表示為（b_f) * D/f(此 處，b係則述透鏡與前述入射點之距離，f係前述透鏡之 焦點距離，D係前述各攝像單位之大小（size)) ·， 則述各攝像單位之光學解析度係使前述透鏡與前述入 射點之距離變化而調節。 19· 一種基板檢査裝置，其特徵在於包含： 載置部，其係载置形成有圖案之基板者； 才双/則部，其係位於前述載置部之上部，包含光源部及 1194Sl.doc 200806976 攝像機者，該光源部係對前述基板供給檢査光，該攝像 機係感測由前述基板所反射之前述檢査光亮度； 驅動部，其係使前述載置部與前述檢測部相對移動 者；及 控制部，其係由前述攝像機感測到的亮度判斷前述圖 案有無不良者。 20·如請求項19之基板檢査裝置，其中

   前述光源部供給之前述檢査光係同調（coherent)。 21·如請求項20之基板檢査裝置，其中 荊述檢査光係線性光。 22·如請求項21之基板檢査裝置，其中 前述光源部包含狹鏠，其係限制放射之光之放射角。 23·如請求項21之基板檢査裝置，其中 w述攝像機包含線列攝像機（line came了句。 24·如請求項23之基板檢査裝置，其中 、則述{部更包含透鏡，其係位於前述攝像機與前述 載置部之間者。 2 5.如請求項23之基板檢査裝置，其中 於洳述载置部與檢測部之相對移動時， 前述基板之反射地點與前述光源部之相肖位置及前 基板之反射地點與前述攝像機之相對位置係維持固定。 26·如請求項23之基板檢査裝置，其中 前述圖案包含黑色矩陣、 ^ 々巴應光片及柱狀間隔件t 至少任一者。 119481.doc