[go: up one dir, main page]

TW200534006A - Method for manufacturing display panel having micro-lenses, display device, and exposure apparatus - Google Patents

Method for manufacturing display panel having micro-lenses, display device, and exposure apparatus Download PDF

Info

Publication number
TW200534006A
TW200534006A TW093138196A TW93138196A TW200534006A TW 200534006 A TW200534006 A TW 200534006A TW 093138196 A TW093138196 A TW 093138196A TW 93138196 A TW93138196 A TW 93138196A TW 200534006 A TW200534006 A TW 200534006A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
display panel
pixels
manufacturing
incident angle
Prior art date
Application number
TW093138196A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI307434B (en
Inventor
Hiroshi Nakanishi
Kuniaki Okada
Original Assignee
Sharp Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Kk filed Critical Sharp Kk
Publication of TW200534006A publication Critical patent/TW200534006A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI307434B publication Critical patent/TWI307434B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00365Production of microlenses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00432Auxiliary operations, e.g. machines for filling the moulds
    • B29D11/00442Curing the lens material
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0012Arrays characterised by the manufacturing method
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/0006Arrays
    • G02B3/0037Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/005Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along a single direction only, e.g. lenticular sheets

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)

Description

200534006 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係,關於附微透鏡陣列之顯示面板之製造方法及 顯示裝置以及曝光裝置。 【先前技術】 以液晶顯示裝置所代表之非自發光型之顯示裝置,一般 係藉由驅動4號變化顯示面板之透過率(或反射率),調變由 照射顯示面板之光源之光強度來顯示圖像或文字。於如此 之顯不裝置,有直接觀察顯示於顯示面板之圖像等之直視 型顯示裝置’及藉由投影透鏡將顯示於顯示面板之圖像等 放大投影於影幕上之投影型顯示裝置(投影機)。又,作為液 晶顯示面板以外之非自發光型之顯示面板,習知有電致變 色』不面板、電冰型顯不面板、色粉顯示面板或凡z丁面板 等。現在,液晶顯示裝置,廣泛地使用於監視器、投影機、 手持資訊終端機、行動電話等。 液晶顯示裝置係’藉由對於矩陣狀規則排狀像素分別 施加對應像素信號之驅動電I,使各像素之液晶層之光學 特性變化’顯示像素或文字等。作為對上述像素施加獨立 的驅動電壓之方式’有單純矩陣方式,及主動矩陣方式。 於主動矩陣方式之液晶顯示面板,f要設置供給開關元件 與像素電極驅動電壓之導^作為開關元件,使㈣im(金 屬-絕緣體-金屬)元件等之非線形2極元件或tft(薄膜電晶 體)元件等3極元件。 關元件(特別是TFT)則, 當強光入射設於顯示元件之開 96159.doc 200534006 OFF狀悲之兀件阻抗下降,於施加電壓時充電於晝素電容 之電荷被放電,無法得到特定之顯示狀態,故有即使在黑 狀態光漏出而降低對比之問題。 於此,於液晶顯示面板,例如,為了防止光入射TFT(特 別是通道區域),於TFT或設有像素電極之TFT基板或經由 TFT基板與液晶層相對之對 對之對向基板设置遮光層(稱為黑矩 陣)。於反射型液晶顯示裝置,將反射電極作為遮光層使 用’則不會降低有效像素面積,惟於利用透過光進行顯示 之液晶顯示裝置’因除不透光之TFT、閘極匯流排及源極匯 流排還加上設置遮光層而降低有效面積,對於顯示區域之 全面積之有效像素面積之比率,即開口率會降低。 再者,隨著液晶顯示面板之高精細化、小型化之進行其 傾向更顯著。此係,即使縮小像素之間隔,T F T或匯流排等、, 因電性或製造技術之制約無法小於某種程度的大小。 特別是,近年,作為行動電話等之行動機器之顯示裝置 ,曰及之半透過型之液晶顯示裝置,由於在各個像素具有以 =模式顯示之顯示區域(反射區域)及以透過模式顯示之 區域(透過區域)’故縮小像素間隔,將使顯示區域對全面積 之===:之:率(透過區域之開°率)顯著地降低。 顯== 係’於暗的照明下利用透過-經 之背光之光進行顯示’於亮的照明下藉由從周圍 的先反射已進行顯示,故不拘於周圍的亮度 高的顯示,惟當透過區域之開口率氏 問題。 ’冗度降低之 96159.doc 200534006 特別是在於,為進行彩色顯示,利用彩色濾光片之光吸 收之直視型液晶顯示裝置或單板式透影機,光利用效率(即 亮度)將進一步降低。 作為改善光利用效率之一個方法,於投影型液晶顯示裝 置,已實用化,於液晶顯示面板設置在各個像素將光聚光 之微透鏡,以提升液晶顯示面板之開口率之方法。先前之 微透鏡,幾乎是形成於液晶顯示面板之對向基板内者,具 有微透鏡夾於兩片玻璃板之間之構造。 參照圖20(a)及(b)’說明先前之具備微透鏡之對象基板之 典型的兩個製造方法。再者,規則排列的複數微透鏡總稱 為微透鏡陣列。 第1製造方法係,藉由於圖20⑷模式地表示工序 (a_l)〜(a-4),製造具備微透鏡陣列之基板(微透鏡基板陣列 基板)。 (a-Ι):圖案化玻璃基板上之光阻層。 加熱圖案化之光阻層,使之發生熱流動,形成具 有微透鏡形狀之光阻層。 (心3广與微透鏡形狀之光阻層一起將玻璃基板藉由乾式 韻刻將光阻層之形狀形成於玻璃基板(回钮),得到微透鏡陣 列基板。 # (a_4) ’於所得微透鏡陣列基板經由接著層將蓋玻璃接 著’將蓋玻璃之表面研磨,得到對向基板。再者,因應需 要,形成電極或配向膜等。 〜而 第2製造方法係,藉由於圖20(b)模式地顯示之工序 96159.doc 200534006 (b-1)〜(b-4)製造具備微透鏡陣列之對向基板。 (b -1 )·將玻璃基板上之光阻層例如以電子束曝光圖案 化,形成具有微透鏡形狀之光阻層。將此作為母版(原版) (b-2):使用母版,藉由例如鍍敷法,製作金屬模版。 (b-3):使用金屬模版,將微透鏡之形狀轉印到玻璃基板, 得到微透鏡陣列基板。 (b-4):經由接著層於所得微透鏡陣列基板接著蓋玻璃, 將該玻璃之表面研磨,得到對向基板。 又,專利文獻1係揭示,利用液晶顯示面板之像素,將塗 布於對向基板表面之感光材料曝光,對像素自己整合地形 成微透鏡之方法。根據該方法,不會在微透鏡與像素之間 產生對位偏離,又,有可以低成本製造之優點。 [專利文獻1]特開2002-628 18號公報 【發明内容】 但是’記載於專利文獻1之方法,由於為將感光性材料曝 光使用紫外線,故於不使用彩色濾光片之顯示面板(例如3 板式投影機用之液晶顯示面板)可以使用,但是無法適用於 具有彩色濾光片之顯示面板。因為,由於彩色濾光片會吸 收紫外線’無法經由彩色濾光片對感光性材料照射紫外 線。實際上,專利文獻1,未言及在具有彩色濾光片之顯示 面板形成微透鏡之方法。 再者’雖可於製作液晶顯示面板之前之階段,即,於對 向基板形成彩色濾光片之前,於對向基板(或TFT基板)以上 述方法’形成微透鏡,惟於貼合兩基板之工序會受對位偏 96159.doc 200534006 離之影響,有損上述方法之優點之一部分。又,為充分發 揮微透鏡之效果,使形成微透鏡之玻璃基板之厚度較〇.5 mm薄為佳,惟以多面取製作之液晶顯示面板係,使用數十 cm2以上之母玻璃基板製造,若使該母玻璃基板薄則,操作 上會產生問題。再者,於TFT基板製作微透鏡之情形,由於 會對基板施加高達數百度之溫度,故感光性材料本身無法 負荷。因此,於製作液晶顯示面板之後(即,貼合兩基板之 後)’將玻璃基板蝕刻或研磨為所望之厚度後,形成微透鏡 為佳。 以液晶顯示裝置為例說明先前之附微透鏡陣列之顯示面 板之製造方法之問題點,惟上述問題並非限於液晶顯示裝 置’係共通於其他的非自發光型顯示裝置之問題點。又, 例不了具備彩色濾光片之構成,惟並非限定於此,如賓主 液晶顯示裝置,使用混合顯示媒體層(液晶層)之色素等進行 彩色顯示之顯示裝置亦有同樣的問題。 本發明係,有鑒於上述諸點進行者。其主要目的係,提 供自己整合地於彩色顯示面板上製作微透鏡之方法。 [解決課題之手段] 本發明之附微透鏡陣列之顯示面板之製造方法係,具備 顯不面板及設於顯示面板之光入射侧之複數微透鏡之附微 透鏡陣列之顯示面板之製造方法,其包含:⑷準備具有矩 陣狀配置之複數像素之顯示面板之卫序,其係準備顯示面 板之工序,該顯示面板具備複數晝素,複數晝素之各個包 3 ·透過第1色光之第1畫素,透過與第1色光相異之第2色 96159.doc 200534006 光之第2畫素之複數晝素;⑻於顯示面板之互相相對之—對 主面之-邊的主面形成光硬化性材料層之工序;⑷經由顯 不面板將硬化性材料層曝光之工序,其係藉由至少透過& 畫素之光使光硬化性材料層至少部分地硬化之工序;⑷藉 由去除曝光之光硬化性材料層之未硬化部分形成複數微^ 鏡之工序。 再者,於本發明之說明,「像素」係,各個透過特定之色 光之複數「畫素」所構成者。典型係,由透過紅色光之紅 色畫素(R畫素)、透過綠色光之綠色畫素(G晝素)、透過藍 色光之藍色畫素(B畫素)構成各像素。但是,各像素所具有 的畫素,並非限定於此例,加上透過R畫素、G畫素、及B 晝素,亦可進一步具有透過其他色光(例如白色光)之w畫 素、亦可具有透過C(青色)、M(紫紅色)、γ(黃色)之各色光 之畫素、1個像素亦可含有複數透過同色光之畫素。再者, 於本說明書,稱光透過畫素内之區域為「晝素之開口部」。 於某實施形態,上述工序(a)係,準備上述第1色光之中心 波長較上述複數之畫素所透過之色光之中心波長之中最短 之波長之上述顯示面板之工序。 於某實施形態,上述工序(b)係,形成對較上述第1色光 之中心波長為短之波長之光具有感光性之上述光硬化性材 料層之工序。 於此’透過畫素之色光之中心波長係指決定分別透過晝 素之可見光(380 nm以上800 nm以下)之色之波長範圍之中 心之波長,例如,紅色光為600 nm〜650 nm、綠色光為520 96159.doc 11 200534006 nm〜580 nm、藍色光為430 nm〜490 nm之範圍内具有中心波 長。但是,即使是透過晝素之可見光之波長範圍,不考慮 透過率以相對值為10%以下之波長之光。 〜 於某實施形態,上述工序(c)係包含,藉由透過上述第i 晝素之光,使上述複數之像素之各個所具有對應於上述複 數之畫素之上述光硬化性材料層至少部分地硬化之工序; 上述工序⑷係包含,形成因應上述顯示面板之上述複數之
像素之排列所排列之複數微透鏡之工序。複數微透鏡陣列 係,例如,對應各個排列為矩陣狀之複數像素之列排列之 複數之雙凸透鏡亦可’分別對應各個複數像素之複數微透 鏡亦可。再者,對應矩陣狀排列之複數像素所具有之畫素 排列之複數微透鏡亦可。於各個畫素具有透過區域與反射 區域之半透過型顯不裝置,為對應各個透過區域(畫素之開 4 )之U透鏡亦可。又,複數微透鏡係,矩形透鏡(包含正 方透鏡)作為獨立的透鏡形成亦可,_體形成如雙凸透鏡之 複數微透鏡亦可。
於某貝施形悲’上述工序⑷係,準備於上述複數像素之 各個略中央具有上述素之上述顯示面板之工序。 於某實施形悲’上述工序⑷係,準備上述複數晝素包含 紅色畫素、藍色書夸、^ λ 一京 、4色畫素之上述顯示面板之工序, 上述工序(c)係藉由至少读ρ 主^透過上述藍色晝素之光使上述硬化 性材料層之至少部分地硬化之工序。 以 於某實施形態,上述工序(^係 下之波長範圍之光具有感光性 ’形成對380 nm以上420 nm 之上述光硬化性材料層之 96159.doc 12 200534006 工序。 ,藉由透過上述藍色畫素 色畫素及上述綠色畫素之 部分硬化之工序。 於某實施形態,上述工序(c)係 之光,使上述紅色晝素、上述藍 區域之上數光硬化性材料層至少 於某實施形態,上述工序⑷係,以略平行光曝光之工序, 包含使對於上述-邊的主面之略平行光之人射角變化之工 序 於某實施形態,上述工序⑷’包含形成分別對應排列為 上述矩陣狀之上述複數像素之列排列之複數雙凸透鏡的方 式,使上述略平行光掃描之工序。 於某實施形態',上述工序⑷,&含形成分別對應排列為 上述矩陣狀之上述複數像素所具有之複數畫素排列之複數 微透鏡的方式,使上述略平行光掃描之工序。 於某實施形態,上述工序(C),包含調整光的配光分布之 工序。 於某實施形態,上述工序(C),包含利用具有特定透過率 分布之光罩調整上述配光分布之工序。 於某實施形態,上述微透鏡,具有於頂上部不具有光之 聚光效果之平坦部。 於某實施形態’上述微透鏡係雙凸透鏡,上述平坦部之 尺寸,較對上述雙凸透鏡之聚光方向之上述顯示面板之上 述畫素之開口部之尺寸略同或小。 於某實施形態,上述微透鏡分別對應上述顯示面板之複 數晝素之開口部,上述平坦部之尺寸,與上述晝素之開口 96159.doc 200534006 部之尺寸略同或小。 本發明之顯示裝置之製造方法係,包含:準備藉由上述 任一製造方法所製造之附彳政透鏡陣列之顯示面板之工序; 及於上述顯示面板之上述微透鏡側配置面光源之工序。 本發明之顯示裝置具備··附微透鏡陣列之顯示面板,其 係藉由上述任一製造方法所製造;及面光源,其係向上述 顯示面板之上述微透鏡陣列射出光。 本發明之曝光裝置係’為曝光感光性樹脂層之曝光裝 置,其具備:光學系,其射出略平行光;載置台,其具有 受容形成上述感光性樹脂層之被曝光物之受容面;及入射 角控制機構,其係使由上述光學系射出之上述略平行光之 上述載置台之上述受谷面之入射角連續地或階段地變化。 本發明之曝光裝置,可適用於上述附微透鏡陣列之顯示面 板之製造方法。 於某實施形態,上述入射角控制機構,可對上述受容面 之入射角以特定速度變化。上述特定之速度係由使用者設 定。 於某實施形態,可變化上述速度。上述速度,連續地或 階段地變化。 於某實施形態,上述入射角控制機構,可使上述速度與 上述入射角關聯階段地變化。 於某實施形態,上述入射角控制機構,可與照射時間關 聯地變化上述入射角。 於某實施形態,上述入射角控制機構,包含以配置於上 96159.doc 200534006 中心旋 述受容面之上述被曝光物之特定方向所延伸之 轉上述受容面之機構。 ^ 於呆貫施形 八月·尤源、邵;鏡部,係 反射由光源部之光,上述入射角控制機構,包含改變: 光於上述鏡部之反射角之機構。 於某實施形態’上述入射角控制機構,包含改變上 學系對上述載置台之上述受容面之位置之機構。 本發明之微透鏡陣列之形成方法,其特徵為使用上述之 任一曝光裝置’曝光光硬化性樹脂。 ' [發明之效果] 本發明之附微透鏡陣列之顯示面板之製造方法係,藉由 特定之色光(例如第!色光:M色光)曝光硬化之光硬化^材 料(典型係光硬化性樹脂)形成微透鏡,故可利用透過特定色 畫素之光對於彩色顯示面板之像素(或畫素)自己整合地形 成微透鏡。 根據本發明之製造方法,例如,對應R、G、及b晝素所 成之像素,可使用透過B畫素之光形成微透鏡,或者,亦可 形成分別對應R畫素、G晝素及B畫素之微透鏡。 因此,可以非常低的成本形成微透鏡的同時,由於可對 像素或畫素自己整合地配置微透鏡,故可充分地發揮微透 鏡之聚光功能,結果可製造可高亮度的顯示之顯示裝置。 又,藉由微透鏡聚光之光通過畫素後,由於保持該聚光角 為放各可得擴大可視角之效果。即,根據本發明之直視 形顯示裝置,具有高亮度且廣視角之特徵。 96I59.doc 15 200534006 又,作為使光硬化性材料感光(硬化)之光,於構成像素 之複數畫素之中,只要利用透過之色光之中心波長為最短 波長之晝素之光,即使有光硬化性材料(光反應起始劑)之吸 收,其影響甚微,可抑制於顯示色再線性之降低。典型地 為利用透過藍色畫素之光為佳,較藍色光之中心波長(例如 450 nm)為短之波長之光更佳。特別是,使用38〇nm〜42〇nm 之範圍之波長之光為佳。 【實施方式】 以下參照圖示,說明根據本發明之實施形態之附微透鏡 陣列之顯示面板之製造方法及具備其之液晶顯示裝置,惟 本發明並非限定於此者。 以下參照圖1說明根據本發明之實施形態之附微透鏡陣 列之顯示面板100之製造方法。圖i(a)〜(d)係,為說明根據 本發明之實施形態之微透鏡之製造方法之模式地剖面圖。 首先,如圖1(a)所示,準備彩色液晶顯示面板1(H。於此, 準備液晶顯示面板101,其對應晝素形成有r、G、及b之彩 色濾光片104R、104G、104B。再者,於此,為簡單,稱分 別對應彩色濾光片104R、104B、及104G之晝素為R書素 104R、B晝素104B及G晝素104G。又,於此為簡單,對應 於各畫素之開口部(透過區域)之區域作為畫素l〇4R、 1 04G、104B圖示。再者,表示了畫素之開口部配置於晝素 之大致中央之例,惟並非限定於此。 液晶顯示面板101具有:TFT基板102 ;及對向基板1〇3, 其形成有彩色濾光片104R、104G及104B。TFT基板1〇2與對· 96159.doc 16 200534006 向基板103之間形成有特定之液晶層(無圖示)。於打丁基板 102之液晶層側,形成有對應於矩陣狀排列之晝素而設之像 素電極,連接像素電極之TFT、閘極匯流排及源極匯流排等 電路要素(均無圖示)又,對向基板1〇3之液晶層側形成有 杉色濾光片104R、104G及1 04B,與配置於該等間之遮光層 BM及對向電極(無圖示)。又,因應需要於TFT基板ι〇2及對 向基板103接觸液晶層之面,形成配向膜(無圖示)。 如圖1(b)所示’於液晶顯示面板1〇1之11?丁基板1〇2上,塗 布光硬化樹脂’形成光硬化樹脂層丨〇5。於此係使用於3 8〇 nm至420 nm之波長範圍内具有感光波長之光硬化性樹脂。 再者’為提高光硬化性樹脂層1〇5與7]?丁基板1〇2之接著 性’於塗布光硬化樹脂之前,TFT基板102之玻璃表面塗布 矽烷耦合劑等,將表面改質為佳。 於此,參照圖2A說明彩色濾光片i〇4R、l〇4G、104B之分 光透過率特性。 形成彩色濾光片104R、104G之畫素,由於幾乎不透過4〇〇 nm附近之光’故即使由液晶面板ι〇1之對向基板ι〇3側入射 400 nm附近之曝光用照射光1〇6,光硬化性樹脂幾乎不會以 通過該等之光感光(硬化)。 藉由使用於藍色彩色濾光片1〇4B之透過波長域之短波長 侧(特別是,由380 nm至420 nm)具有感光波長之感光性材 料層’以由彩色濾光片1 〇4B之透過光使感光性材料感光的 同時’可形成於可視域之透過率非常高的微透鏡。即,通 常’感光性材料為吸收其感光波長之光,例如,使用於紅 96159.doc -17- 200534006 (R)或者綠(G)具有感光波長之光硬化性材料則,由於會吸 收R或者B之光之一部分,會降低顯示之色再現性。藍(b) 之情形雖亦會發生同樣的顯像,但對色再現性之影響小。 特別是,使用於例如,行動電話或Pda、數位相機等液晶 顯示裝置之背光用光源之LED光源等,發光光譜如圖⑼所 不使用較420 nm附近為長之波長側存在之光源之情形,使 用380 nm〜420 nm之範圍之波長之光則可更有效地抑制色 再現性之降低。 再者,一般,幾乎沒有透過未滿38〇nm之波長之光(紫外 線)之色;慮光片(色素或顏料),為使用紫外線,如上所述, 於形成彩色濾光片之前之階段,需要光照射。 通過形成彩色濾光片104B之畫素之光,由於如圖2A所示 含有400 ^^付近之光,透過該畫素(藍色畫素)之光入射光 硬化性樹脂層105則,因應光亮光硬化樹脂感光、硬化。照 射守間為疋之情形因應配光分布硬化。即,會形成硬化 度之分布。因此,藉由調整光量(配光分布及/或照射時間) 之分布,可於光硬化樹脂層形成硬化度之分布。再者,所 明「配光分布」係,為曝光入射於顯示面板之感光性材料 層之光,對顯示面板之面法線所成之角度(入射角度)之強度 刀布,向藍色晝素之入射角與向感光性材料層之入射位置 以1:1對應。 藉由顯影曝光之光硬化樹脂層去除未硬化部分,得到對 應硬化度之分布之形狀之微透鏡。配光分布,可藉由例如, 文化曝光用妝射光之入射角來調整。χ,使曝光用照射光 96159.doc 200534006 與光硬化性樹脂層105相對地移動,例如,藉由使曝光用照 射光掃描,調整照射時間分布亦可,亦可組合該等。再者, 亦可使用具有特定透過率分布之光罩調整配光分布。又, 藉由將曝光用照射光經由藍色晝素104B斜斜地入射光硬化 樹脂層105,對應包含於與B晝素1〇4B同像素之尺晝素1〇4r 及G畫素1 〇4G之微透鏡(即對應像素之微透鏡),例如可形成 雙凸透鏡,亦可行成分別對應B晝素1〇4B、R晝素1〇4R&G 畫素104G之微透鏡(即,對應各畫素之開口部之微透鏡)。 只要將透過曝光用照射光之晝素之開口部配置於像素之略 中央,可簡便地調整光量之分布而佳。例如,以紅色畫素、 I色畫素及綠色畫素之順序對秤排列之像素之情形,以藍 色畫素為中心將曝光用照射光對秤掃描則,可容易地形成 對像素之中心線對稱形狀之微透鏡。 參照圖3(a)至(c),說明形成對應像素之雙凸透鏡之例。 圖3(a)係,對應附微透鏡陣列之顯示面板1〇〇之一個像素之 部分模式地顯示之平面圖及剖面圖,省略對向基板1〇3。圖 3(b)及(c)係,詳細說明製作示於圖3(a)之附微透鏡陣列之顯 示面板之曝光工序(圖1(c))之圖,圖3(b)係沿著圖3(約之 A-A’線模式地剖面圖,圖3(c)係圖3(a)2B_B,線模式地剖面 圖。 如圖3(a)所示,該顯示面板100之一個像素係,以R畫素 l〇4R、B畫素104B及G晝素104G所構成。於各畫素之周圍 设有黑矩陣BM(遮光區域)。像素係形成列(χ方向)及行(γ 方向)的方式排列為矩陣狀,於此,X方向之像素間隔匕及γ 96159.doc 19 200534006 方向之間隔Ργ均例示150 _之情形。TFT型顯示裝置之情 形,典型地為,歹,J方向(χ方向)平行於間極匯流排,行方向 (Υ方向)平行於源極線(影像線)。 顯示面板100所具有之微透鏡陣列包含對應複數像素之 列排列之複數雙凸透鏡1G7。雙凸透鏡1()7係向列方向(灯 向)延伸’於列方向(丫方向)具有聚光力,而於列方向(乂方 向)沒有聚光力。 參照圖3(b)及(c)說明形成雙凸透鏡1〇7之曝光工序。 Θ (b)所示,使照射光丨〇6對於液晶顯示面板之入 射方向,於包含A.A,線之面内以入射角_定之方向向以 入射角Θ2規定之方向變化,如圖3⑷所示於包含Β·Β,線之面 内以入射角03規定之方向向以入射角料規定之方向變化。 Ρ使照明光106之入射角,於包含Α_Α,線之面内由η至们 連續地或階段地變化,於包含Β_Β’線之面内由8至料連續 地或階段地變化。作為曝光照射光1G6使用平行光為佳。曝 光用照射光之平行度為,士3。以内為佳,為精度佳地控制微 透鏡之形狀,以士 1 〇以内更佳。 此%,照射光106之入射角度01與^2、及Μ與料係以沒有 間隙地形成的方式,設定為佳。例如,入射角01與係, 如圖3(b)所不’彡過鄰接像素之Β畫素之光,肖鄰接之像素 之門之中央(圖3 (b)中之點a) _致,使對應相鄰之像素之 雙凸透鏡間之膜厚呈相同的方式,因應液晶顯示面板⑼ 之像素間格Px及對向基板1Q3之厚度,適宜設定。又,入射 角。與料係,如圖3(c)所示,透過鄰接像素之B晝素之光, 96159.doc -20- 200534006 與補之像素之間之中央部(圖3⑷中之點b)-致,於透 ,形成境界的方式(於鄰接像相之中央部透鏡之模=
取薄之狀態的方式),因應液晶顯示面板HH之像素間袼p 及對向基板103之厚度,適宜設定。 ° Y 於此例不之液晶顯示面板1〇1係,列方向(彩色濾光片之 排列方向)之像素間隔h為150 μιη,正交於歹,J方向之行方向 之像素間隔1\為15〇 μηι,對向基板1()3之物理厚度為彻 μπι(以空氣換算400/1 52=26〇μηι),故㊀咖、㊀埃
ei=e2,,=tan-i(75/260),16。。 又,由於越是使光傾斜地入射(入射角越大)於照射面之 …、射面積越寬,照射強度變弱。因此,上述入射角Θ1與Θ2(Θ3 ” Θ4)有因應應形成之光硬化樹脂層1〇5之硬化分布(微透 鏡之形狀),需要由上述計算所得之角度調整之情形。 其次說明照射光106之掃描方向。於此所謂「掃描」係, L έ曝光用照射光丨〇6所照射之區域之2維掃描,及變化照 射光之入射角度。又,掃描係,照射光106與光硬化性樹脂
曰5之位置關係及角度相對地變化即可,故可移動形成有 光硬化性樹脂層1〇5之液晶面板1〇1,亦可移動照射光(光 源)〇 於本實施形態,為於彩色濾光片l〇4R、l〇4G、1〇4B之排 列方向(列方向:X方向),形成沒有聚光力之雙凸透鏡1〇7, 對X方向(平行於A-A,線),光量(照度X時間)之分布呈均勻的 方式進行掃描,對於Y方向(平行於B-B,線),使照射光之入 射角度越大掃描速度越快,入射角度越小(越接近顯示面板 96159.doc -21 - 200534006 之法線方向)’使掃描速度變慢。例如,將入射角對顯示面 板之法線由-30。掃描至+30。之情形,於_3〇。至_ι〇。之角度範 圍以5°/sec之速度掃描,_1()。至+ 1〇。之角度範圍幻。⑻之 速度掃描,再者,+1 〇。至+3G。之角度範圍以5。/似之速度掃 描0 如此地,藉由邊使照射光1〇6掃描,曝光光硬化性樹脂層 105’如於圖4模式地所示,可使對乂方向沒有曲率,僅於γ 方向具有曲率之雙凸透鏡107之部分1〇5,硬化。 又,作為使照射光106於X方向及丫方向掃描之方法,如 於圖5模式地表示,對X方向及γ方向之兩方向進行掃描。 圖5係表示藉由照射光106照射之區域1〇仏對光硬化樹脂層 105掃描之軌跡。又,照射光之入射角度,可連續地變化, 亦可階段地變化。 曝光工序之後,於顯影工序,藉由去除光硬化性樹脂層 105之未硬化部分,得到具有硬化部分1〇5,之形狀之雙凸透 鏡107。再者,於顯影工序之後,藉由對光硬化性樹脂丨〇5 之硬化部分105,(雙凸透鏡107)再度,照射曝光用照射光, 使光硬化性樹脂之硬化進一步進行,接近完全硬化狀態為 佳。又,與光硬化之同時亦可併用熱硬化。 其次,參照圖6、圖7及圖8說明適用於上述之製造方法之 曝光工序之曝光裝置之例。 圖6〜8所示根據本發明之實施形態之曝光裝置,具備··光 學糸’其係射出為曝光形成於顯示面板之主面之光硬化樹 脂層之略平行光;載置台,其具有受容顯示面板之受容面; 96159.doc -22- 200534006 及入射角控制機構,其係使由光學系射出之略平行光對載 置台之森〜 又谷面之入射角連續地或階段地變化。入射角控制 、再’以特定之速度變化對於受容面之入射角為佳,特定 之速度’因應入射角及光量等,由使用者設定。 再者’入射角控制機構,可將上述速度連續地或階段地 麦化(作為可變)為佳。例如,如上所述,於形成微透鏡之一 連過程調節光量,使速度與入射角關聯階段地變化為佳。 藉由调整入射角之變化速度,可得更接近所望形狀之微透 鏡形狀。 再者’入射角控制機構,可與照射時間關聯地變化上述 入射角為佳。照射時間,例如,藉由設於光學系與受容面 間之快門控制開關,入射角控制機構,以快門為開狀態之 時刻為基準變化入射角。 示於圖6(a)之曝光裝置具有:光學系(光源部)31〇,其係 射出略平行光;載置台32〇,其係具有受容液晶面板1〇丨之 收容面;及載置台控制裝置324。於顯示面板1〇1之主面形 成有光硬化性樹脂層105。載置台32〇,依照載置台控制裝 置324之信號,以向配置於載置台32〇之受容面之顯示面板 101之面内之特性方向延伸之軸為中心使受容面旋轉。惟, 並無需要完全旋轉,描繪如圖6(a)中之6(:所示圓弧特定角 度範圍動作即可。 使受容面旋轉之軸係,如圖6(b)所示’顯示面板ι〇ι之矩 陣狀排列之像素列方向延伸之6冬6八,軸及/或與向此正交 之方向(典型的為像素行方向)延伸之6B_6B,軸。載置台 96159.doc -23- 200534006 320 〃要可以至少一個軸為中心旋轉受容面即可,口要將 顯示面板⑻配置為可對受容面於特定方向旋轉的方、式即 可。又,此時,旋轉軸位於硬化性樹脂層1〇5中的方式配置 為佳。 圖7所示曝光裝[具有:㈣部31〇;及鏡部’其係反 射由光源部310之光。鏡部,具有:鏡子332;鏡驅動部^心 其係使在於鏡部332之反射角度豺(對鏡之熱射角度^相 等);及鏡控制部336,其係控制鏡驅動部334,該等使配置 於載置台320之受容面之顯示面板1〇1對光之入射角變化。 即,藉由變化鏡子332之表面(即反射面)之角度,改變對於 顯示面板1 〇 1之光入射角。鏡子3 3 2係,描繪例如,圖7中所 不圓弧7C的方式,及/或對紙面垂直的面内描繪圓弧的方式 動作。 於該曝光裝置,僅改變鏡子332之角度則,不僅對於顯示 面板1 〇 1之光入射角度變化,照射位置亦會變化。因此,於 所有鏡子332之可動角度範圍為照射顯示面板101之全面, 需使照射區域較顯示面板101為大,為使光源部310大型化 將提鬲成本。為防止此,藉由與鏡子332之角度描繪7C的方 式變化連動,藉由設置使鏡子332向圖7所示7A-7A,方向移 動之機構,可修正伴隨鏡子332之角度變化之照射區域之偏 離。使鏡子3 3 2之角度對紙面垂直之面内描繪圓弧的方式變 化之情形·,只要設使鏡子332向對紙面垂直的方向7B、7B, 移動之機構即可。 圖8所示曝光裝置,具有使光學系310改變對載置台320 96159.doc -24- 200534006 之受容面之位置之機構。光學系31〇,依照由光學系控制部 3U之’例如,描緣圖8中的^所示圓弧的方式 改變向載置台320之受容面之顯示面板射出之略平行光之 該曝光裝置亦與示於圖7之曝光裝置同樣地,僅 部310之角度則,不僅改變光對顯示面板ι〇ι之入射角心 照射位置亦會變化。因此,對於圖8中之8A-8A,方向^
之方向’以顯示面板1Q1之顯示部之中心軸(參照圖亡 中之 6A-6A,、6Β-6ΒΊ A 由,、、、+ 门 ^ μ )為中〜之同心圓上旋轉的方式 光源部3 1 0之角度與位置為佳。 上述之入射角控制機構’可與照射時間關聯地變化上述 入射角為佳。照射時間(曝光時間),例如,藉由設於光學系 (光源部)31〇與載置台32〇之受容面間之快門(無之開 關來控制。因& ’只要使快門之開關動作與 機構連動即可。
“ 士 #載置台设定為呈特定入射角(例如〇。)之位 後,以使快門為開狀態之時刻為基準,至_1〇。之角产範 以5°/sec之速度變化。此後,-10至+10。之角度範圍以又3。1 之速度變化,再者,+10。至+30。之角度範圍以5o/sec之速 變化。於人射角+30。之時點’關閉快n。該等—連動作 以I·夬P’呈開狀態之時刻為基準’可基於時間控制。 、:,由圖6至圖8所示曝光裝置之入射角度控制機構,可 適宜組合。進行如參照圖5說明之2軸掃描之情形,藉由組 合圖6至圖8所示曝光裝置之入射角度控制機構,例如,2 96159.doc -25- 200534006 軸之中將1軸以載置台320之控制進行(圖6),另一方之軸可 以鏡子3 32之控制進行(圖7)。藉由如此之構成,由於無須以 一個部位具備使兩軸動作之機構,故可使曝光裝置之設計 變容易。 再者,曝光工序,可於每一顯示面板1〇1進行,亦可對於 包含複數片顯示面板之大板,一次進行。 於圖6〜圖8,表示經由顯示面板1〇1曝光硬化性樹脂層ι〇5 之例准,並非限定於此者。例如,相反的,由硬化樹脂 層1〇5側曝光亦可。惟,於此情形,於與硬化性樹脂層1〇5 之顯不面板1 〇 1相反側之表面附近,配置可將硬化性樹脂層 105以所望之圖案曝光之光罩,以通過該光罩之光曝光。 上述曝光裝置係,不限於使用光硬化性樹脂形成微透鏡 之用途’可廣泛地使用於曝光感光性樹脂(不問負片型,正 片型)之用途。 於上述實施形態,藉由掃描照射光1〇6,將光硬化性脂層 105成所望微透鏡形狀的方式曝光,事先,藉由使照射光1〇6 具有可得所望微透鏡形狀的方式之配光分布地調整,可不 進行掃描來形成微透鏡。於該方法,由於可削減掃描所需 之時間,故可以短時間形成微透鏡,可提升生產性。 例如,製作圖9(b)所示雙凸透鏡107之情形,只要將照射 光106調整為具有於圖9(勾模式地表示之配光分布即可。 即,對X方向,由至02之範圍内(參照圖3(b)),具有一定 強度,對於Y方向’隨著入射角度變大,具有強度變弱的配 光分布之照射光即可。 96159.doc -26- 200534006 例如,圖10(a)所示,由光源7〇1之光一旦聚光,於其聚光 點插入階段地(或連續地)具有透過率相異之區域之光罩 702,可調整配光分布。 作為光罩702,雖依存由光源7〇1之光之配光分布,例如, 製作通常的圓形的透鏡之情形係,如圖1〇(b)所示,透過光 罩702之光之配光分布越接近中心部呈越強的分布的方 式,使用透過率橫跨由中心區域7〇2&至週邊區域7〇孔階段 地(或連續地)變化者。製作上述雙凸透鏡1〇7之情形,僅於 一方向(Y方向)光的強度分布越向中心部越強的方式的配 光分布即可。 又,亦可併用以掃描之曝光與配光分布之控制之曝光之 雙方。於此情形,亦可掃描例如χ方向或γ方向之任一方 向,調整另一方之配光分布。 如上所述’對於具有條狀排列之像素之顯示面板,使用 僅於行方向(Υ方向)具有聚光效果之雙凸透鏡1〇7則,如圖9 所示,列方向(X方向)之強度分布只要一定即可,故只要使 用射出均勻的配光分布之光之光源,幾乎無須調整配光分 布’故可比較容易地控制微透鏡(雙凸透鏡)之形狀。 再者,使用雙凸透鏡1〇7則,由於在彩色濾光片之排列方 向(X方向)無聚光效果,故會降低因這部分微透鏡之亮度提 升效果,但液晶顯示面板,通常,如圖1 1所示,相較於列 方向(X方向)鄰接像素(及畫素)間之間隔Wx,於行方向(延 設源極匯流排(影像線)之方向)鄰接像素間之間隔(Wy)較 寬。即,雖使用於Y方向具有聚光效果之透鏡,惟較使用於 96159.doc -27- 200534006 χ方向具有聚光效果之透鏡提升亮度之效果高,於x方向不 具有聚光效果而降低亮度提升效果小。 使用僅於-方向具有聚光效果之微透鏡之情形,彩色濾 光片之顏色排列並不限定於如圖u所示條狀排列之情形, 例如,如圖〗2所示傾斜排列之情形’因與上述同樣的理由, 使微透鏡具有聚光效果之方向為顯示面板之行方向(影像 線方向)為佳。 當然,根據本發明之實施形態,並不限於僅於一方向具 有聚光效果之雙凸透鏡,亦可製作χ方向與γ方向均具有聚 光效果之微透鏡之液晶顯示面板。
例如,如於圖^^)及(b)模式地表示,使用透過藍色晝素 104B之光,如上述地藉由調整曝光用照射光之掃描速度或 配光分布,可形成分別對應綠色畫素1〇4G、藍色晝素i〇4B 及紅色晝素104R,於X方向及γ方向具有曲率之硬化部分 W5"。此後,藉由歷經顯影工序,得到於每一畫素形成在X 方白及Y方向具有聚光效果之微透鏡(例如矩形透鏡)之微 透鏡陣列。 再者,曝光工序,可於將液晶材料灌入液晶面板之前進 行准,於此情形,灌入液晶材料後,於配向液晶材料之 熱處理工序,由於微透鏡陣列會被加熱至一百數十。C,故 作為光硬化樹脂,使用不因熱處理產生形狀變化或剝落等 影響微透鏡之聚光效果之變化之樹脂為佳。 又’於上述實施形態,如圖2A所示,以使用幾乎不會透 過作為曝光用照射光使用之400 nm附近之光之紅色彩色濾 96159.doc -28- 200534006 光片104R及綠色彩色濾光片1〇4G,而只有藍色彩色濾光片 104B可充分亦透過4〇〇 近之光之例進行說明,惟,並 非限定於此者。 例如,如圖14所示使用具有分光透過率特性之彩色濾光 片,亦可藉由上述方法,形成特定形狀之微透鏡。即,藍 色彩色濾光片104B與紅色彩色濾光片1〇4R透過曝光用*㈧ 麵附近之光之情形,只要考慮藍色彩色濾光片1G4B及紅色 彩色濾光片104R之透光率,調整曝光用照明光之掃描速 度及/或凋整照明光之配光分布即可。於圖丨4,表示了 藍與紅兩色之彩色濾光片透過曝光用光之情形,惟於該與 綠兩色之情形亦相同,進一步,M、綠、及紅之所有:色 滤光片透過曝光用的光之情形亦相同。 / 於上述實施形態,於TFT基板1〇2側形成微透鏡,惟亦可 形成於對向基板H)3側。當然,不限於加型液晶顯示裝置, 亦可使用MIM之液晶顯示裝置,或不具有開關元件之被動 型液晶顯示裝置。 如上述所付附微透鏡陣列之淡 ― κ,夜日日顯不面板100,例如,如 於圖15模式地表示,與指向性古 — 门注呵的背光120組合使用為佳。 藉由將指向性高之光入射微透锫 成边鏡,可得高的聚光效果。 圖1 5所示液晶顯示裝置2〇〇 1借· 一 備·液晶顯示面板1 〇〇,其 具備微透鏡107 ;高指向性背本〗 注月先120,其配置於液晶顯示面 板100之微透鏡107側。背光12〇1 士 ι 具有:光源122;導光板124, 其係接受光源122所射出之朵私甘丄 九於其中傳播向液晶顯示面板 1 〇 〇射出;及反射板12 6,JL得士 "係由導光板124之背面將出射之 96159.doc -29- 200534006 光向導光板124反射。再者,於圖15僅記載主要零件,省略 設於液晶顯示面板101之前後之偏光板等。 做為適用於液晶顯示裝置200之背光,可舉例如,IDW’02 「於照明系統使用光學微構造導光板之行動用透過式LCD 模組之可視角控制:Viewing Angle Control using Optical
Microstructures on Light-Guid Plate for Illumination System of Mobile Transmissive LCD Module」K. KALANTAR p549-552或特開 2003-35824號公報、M. Shinohara,et al.: 美國光學學會年會會議議程:Optical Scociety of American Annual Meeting Conference Program, Vol. 10, p. 189 (1998),特表平8-5 11129號公報等記載之背光。 如上所述,於半透過型液晶顯示裝置,透過光之區域(畫 素之開口部)較透過型為小,故使像素間隔變小,透過區域 之面積對顯示區域之全面積之比率(晝素之開口部之面積 比率)之降低較透過型為顯著。因此,可說於半透過型液晶 顯示裝置使用微透鏡提升有效開口率之效果較透過型為 大。於上述貫施形悲之液晶顯示裝置之晝素開口部’於半 透過型液晶顯示裝置亦對應於晝素開口部。惟,於半透過 型液晶顯示裝置’於晝素内之開口部(透過區域)可有各種配 置,惟使用如上述於列方向延伸之雙凸透鏡之情形,使列 方向鄰接之畫素之開口部(位於透過區域間之遮光區域(包 含反射區域))盡量變細的方式配置開口部(透過區域)為佳。 例如,如於圖16(a)模式地表示之晝素204,於畫素204之 中央部設透過區域(畫素之開口部)2〇4t,於其週邊配置反射 96159.doc -30- 200534006 區域204r則,鄰接之畫素之透過區域2〇射間,不僅源極匯流 排,由於存在反射區域204r,故鄰接之透過區域2〇4t間之間 隔(遮光區域之寬度)變寬。對此,如於圖16(b)模式地表示, 於透過區域204t,之週邊配置成不設反射區域2〇4r,則,可使 鄰接之透過區域204t,間之遮光區域之寬度變細而佳。再 者’透過區域,典型地為,以形成於TFT基板之透明像素電 極規定,反射區域係以反射像素電極規定。 於上述實施形態,使用具有彩色濾光片之液晶顯示面 板,惟並非限定於此,例如如賓主液晶顯示裝置,使用於 顯示媒體層(液晶層)混合之色素等進行彩色顯示之顯示裝 置等亦可同樣地適用。再者,並非限定於液晶顯示面板, 亦可適用於其他非自發光型顯示面板(例如,電致變色顯示 面板、電泳型顯示面板、色粉顯示面板或PLZT面板)等。 又’藉由於上述實施形態之液晶顯示裝置所使用之微透 鏡之頂點部射平坦部,可進一步增大由微透鏡之亮度提升 效果。 例如,圖17所示附微透鏡陣列之顯示面板1〇〇,,具備: 於頂點部具有平坦部l〇7’f之微透鏡1〇7,,故可使其正面亮 度較圖3之附微透鏡陣列之顯示面板i 〇〇為高。 如圖17所示,微透鏡為雙凸透鏡之情形,平坦部1〇7彳之 寬度為,畫素之開口部(104R、104G、104B)之透鏡之極光 方向之寬度略同為佳。當然,平坦部l〇7,f之寬度可較晝素 之開口部(104R、l〇4G、104B)之透鏡聚光方向之寬度為小, 惟設置平坦部l〇7,f之效果會變小。再者,於此為求簡單, 96159.doc -31 - 200534006 將對應各畫素之開口部(透過區域)作為畫素l〇4R、、 1 04B圖示。 如此地使用具有平坦部!07吁之微透鏡丨〇7,則,通過平坦
部107'f之光,如圖18(a)所示,不會被微透鏡1〇7,彎曲,直 接通過畫素之開π冑。因此,若使用正面亮度高的高指向 性背光則’可得高的正面亮度。另一方面,入射於微透鏡 1〇7,之平坦部1〇7,f以外之區域(微透鏡107,之曲面部)之 光,在微透鏡107,折射通過畫素之開口部。入射微透鏡1〇7, 之曲面部之光係,於未設微透鏡1〇7,之情形被腹等踢除之 光,故可提升光的利用效率。 對此,使用如圖3所示未設平坦部之微透鏡1〇7則,雖光 的利用效率會提升,但是如圖18(b)所示,由高指向性之背 光所射出之平行度咼的光幾乎全部(通過光軸之光以外)合 被微透曲,故會多少降低正面亮度。即,因使用^ 指向性之背光,使正面亮度之提升效果降低。
設平坦部所得到的正面亮度提升效果並不限於上述: 例例如如圖19所不附微透鏡陣列之顯示面板^ 可在對應顯示面板之各畫素之開口部 聚光效果之微透鏡1G7,,設平坦部1G7,,卜於此情形,平坦告 之尺寸為,縱橫均使之為與畫素之開口部之縱㈣ 寸略同為佳。藉由採 ^ 用如此之構成,可於縱·橫兩方向靖 到如參照圖1 8(a)及日日々4班 ()及(b)成明之效果。於此情形, 之寬度,雖可較晝素開口部之寬产 一丨 低效果。 卩之I度為小’惟如上所述會障 96159.doc -32- 200534006 [產業上利用的可能性] 根據本發明,由於利用透過顯示面板之畫素之開口部(透 過區域)之光形成微透鏡,故以自己整合地形成微透鏡。因 此,無須光罩的對位,可簡化製造步驟之優點的同時,可 得微透鏡與畫素之開口部之對位精度高的優點。 根據本發明,可使物理地畫素之開口率低之直視型顯示 裝置之亮度提升及廣視角化。例如,不會使作為行動機器 之…員示袁置之透過型及半透過型液晶顯示裝置之可視角變 窄地,提高亮度。特別是,藉由使用於透過區域之開口率 低之半透過型液晶顯示裝置,可邊實現廣視角,得到高亮 度。 【圖式簡單說明】 圖1 (a)〜(d)係說明本發明之實施形態之附微透鏡陣列之 液晶顯示面板1 〇〇之製造方法之模式地剖面圖。 圖2A係表示本發明之實施形態之液晶顯示裝置1〇1所具 有之彩色濾光片之分光透過率特性之圖表。 圖2B係表示LED光源之發光光譜之例之圖表。 圖3(a)〜(c)係說明本發明之實施形態之附微透鏡陣列之 液晶顯不面板100之微透鏡之構成及曝光工序之模式圖。 圖4係說明於本發明之實施形態之附微透鏡陣列之液晶 顯示面板之製造方法之曝光方法之模式圖。 圖5係說明於本發明之實施形態之附微透鏡陣列之液晶 顯示面板之製造方法之曝光方法之模式圖。 圖6(a)、(b)係模式地表示本發明之實施形態之曝光裝置 96159.doc -33- 200534006 之構成之圖。 圖7係杈式地表示本發明之其他實施形態之曝光裝置之 構成之圖。 圖8係杈式地表不本發明之進一步其他實施形態之曝光 裝置之構成之圖。 圖9〇)、(b)係說明使用於本發明之實施形態之附微透鏡 陣列之液晶顯示面板之製造方法之曝光工序之光的配光分 布之模式圖。 圖10(a)、(b)係說明調整使用於本發明之實施形態之附微 透鏡陣列之液晶顯示面板之製造方法之曝光工序之光的配 光分布之方法之圖,係表示光學系之模式圖,係表示 光罩之構成之模式圖。 圖Π係表示本發明之實施形態之附微透鏡陣列之液晶顯 示面板之像素配列之例之模式圖。 圖12係表示本發明之實施形態之附微透鏡陣列之液晶顯 示面板之像素配列之其他例之模式圖。 圖13(a)、(b)係說明本發明之實施形態之附微透鏡陣列之 液晶顯示面板之微透鏡之其他構成及曝光工序之模式圖。 圖14表示本發明之實施形態之附微透鏡陣列之液晶顯示 面板所具有之其他彩色濾光片之分光透過率特性之圖表。 圖1 5係模式地表示本發明之實施形態之液晶顯示裝置之 構成圖。 圖16(a)、(b)係表示在於本發明之實施形態之半透過型液 晶顯示裝置之晝素之透過區域與反射區域之配置例之模式 96159.doc -34- 200534006 圖 圖17係杈式地表示本發明之其 一 、他π %形悲之附微透鏡陣 列之液晶顯示面板之微透鏡之構成之圖。 圖18⑷、⑻係說明藉由於微透鏡設平坦部所得之效果之 模式圖,⑷係表示設平坦部之情形,⑻係、表示未設平坦部 之情形之光的行進方向。 圖1 9係模式地表示本發明之進一 、 、 逆少具他貫施形態之附微 透鏡陣列之液晶顯示面板之微透鏡之構成之圖。 圖20⑷、⑻係說明先前之微透鏡之製造方:之模式圖。 【主要元件符號說明】 100 101 102 103 104R 104G 104B 105 附微透鏡陣列之液晶顯示面板 液晶顯示面板 TFT基板 對向基板 紅色晝素(紅彩色濾光片) 綠色畫素(綠彩色遽光片) 藍色晝素(藍彩色濾光片) 光硬化性樹脂層 10 5、1 0 5 光硬化樹脂層之硬化部分 107 微透鏡 96159.doc -35-

Claims (1)

  1. 200534006 十、申請專利範圍: 1· 一種製造方法,其係具備顯示面板及設於上述顯示面板 之光入射側之複數微透鏡之附微透鏡陣列之顯示面板之 製造方法,且包含: (a) 準備具有矩陣狀配置之複數像素之顯示面板之工 序’且準備具備複數畫素之顯示面板之工序,該複數書 素係上述複數像素各個包含:透過第1色光之第丨晝素及 透過與第1色光相異之第2色光之第2畫素者; (b) 於上述顯示面板之互相相對之一對主面之一方的主 面形成光硬化性材料層之工序; (c) 經由上述顯示面板使上述光硬化性材料層曝光之工 序且藉由至少透過上述第1畫素之光使上述光硬化性材 料層至少部分地硬化之工序;及 (d) 藉由去除上述曝光之上述光硬化性材料層之未硬化 部分而形成複數微透鏡之工序。 2·如請求項1之製造方法,其中上述工序(a)係準備上述第i 色光之中心波長在上述複數之畫素透過之色光之中心波 長之中為最短之波長之上述顯示面板之工序。 3·如請求項1或2之製造方法,其中上述工序(b)係形成對較 上述第1色光之中心波長為短之波長之光具有感光性之 上述光硬化性材料層之工序。 4.如請求項1至3中任一項之製造方法,其中上述工序(幻包 含藉由透過上述第1畫素之光,使上述複數像素之各個具 有之對應上述複數畫素之上述光硬化性材料層至少部分 96159.doc 200534006 硬化之工序; 上述工序((1)包含形成按照上述顯示面板之上述複數像 素之排列而排列之複數微透鏡之工序。 5.如請求項⑴中任一項之製造方法,其中上述工序⑷係 準備於上述複數像素之各個略令央具有上述第丨畫素之 上述顯示面板之工序。 6_如凊求項1至5中任一項之製造方法,其中上述工序⑷係 準備上述複數畫素包含紅色畫素、藍色畫素、綠色晝素 之上述顯示面板之工序,上述工序⑷係藉由至少透過上 述藍色畫素之光使上述光硬化性材料層至少部分地硬化 之工序。 7. 如⑭求項6之製造方法,其中上述工序⑻係形成對38〇咖 以上420 nnm下之波長範圍之光具有感光性之上述光硬 化性材料層之工序。 8 :請求項6或7之製造方法’其中上述工序⑷包含藉由至 二透過上述藍色畫素之光,使上述紅色畫素、上述藍色 ”上述、.亲色晝素之區域之上述光硬化性材料層至少 部分硬化之工序。 9. 如明求項1至8中任一頂之制;皮古土 * 以略η/ 法’其中上述工序⑷係 以略+仃光曝光之包含使對於上述—方的主面之 略平仃光之入射角變化之工序。 10·=項9之製造方法,其中上述工序⑷包含以形成分別 數i二述矩陣狀之上述複數像素之列而排列之複 鏡的方式,掃描上述略平行光之工序。 96159.doc 200534006 11. 12. 13. 14. 15. 16. 17. 18. 如請求項9之製造方法,其中上述工序(c)包含以形成分別 對應排列為上述矩陣狀之上述複數像素所具有的複數畫 素之各個而排列之複數微透鏡的方式,掃描上述略平行 光之工序。 如請求項1至11中任一項之製造方法,其中上述工序(c) 包含調整光的配光分佈之工序。 如請求項12之製造方法,其中上述工序(c)包含利用具有 特定透過率分佈之光罩調整上述配光分佈之工序。 如請求項1至13中任一項之製造方法,其中上述微透鏡具 有於頂上部不具有光之聚光效果之平坦部。 如請求項14之製造方法,其中上述微透鏡係雙凸透鏡, 上述平坦部之尺寸與對上述雙凸透鏡之聚光方向之上述 顯不面板之上述畫素之開口部之尺寸略同或較小。 如請求項14之製造方法,其中上述微透鏡對應上述顯示 板之上述複數畫素之開口部之各個,上述平坦部之尺 寸與上述畫素之上述開口部之尺寸略同或較小。 -種顯示裝置之製造方法,其包含:準備以請求項 中任—項之製造方法所製造之附微透鏡陣列之顯示面板 之工序;及 一;上述顯示面板之上述微透鏡側配置面光源之工序。 -種顯示裝置’其具備:附微透鏡陣列之顯示面板,里 係以請求項1至17中任-項之製造方法所製造;及 光面光源’其係向上述顯示面板之上述微透鏡陣列射出 96159.doc 200534006 19. 一種曝光裝置 置,且具備: 其係用以使感光性樹脂層曝光之曝光裝 光學系統,其射出略平行光; 之被曝光 載置台,其具有受容形成上述感光性樹脂層 物之受容面;及 入射角控制機構,其係使由上述光學系統射出之上述 略平行光對上述載置台之上述受容面之人射角連續地^ 階段地變化。 20. 如請求項19之曝光裝置,其中上述入射角控制機構可使 對上述受容面之入射角以特定速度變化。 21. 如請求項20之曝光裝置,其中上述入射角控制機構可使 上述速度變化。 22. 如請求項21之曝光裝置,其中上述入射角控制機構可使 上述速度與上述入射角關聯而階段地變化。 23·如請求項20至22中任一項之曝光裝置,其中上述入射角 控制機構可與照射時間關聯而使上述入射角變化。 24.如請求項19至23中任一項之曝光裝置,其中上述入射角 控制機構包含以向配置於上述受容面之上述被曝光物之 特疋方向延伸之某軸為中心而使上述受容面旋轉之機 構0 25·如請求項19至24中任一項之曝光裝置,其中上述光學系 統具有:光源部;鏡部,其係反射來自光源部之光;上 述入射角控制機構包含使上述光於上述鏡部之反射角度 變化之機構。 96159.doc 200534006 26.如請求項19至25中任一項之曝光裝置,其中述入射角控 制機構包含使上述光學系統對上述載置台之上述受容面 之位置變化之機構。 27_ —種方法,其係使用請求項19至26中任一項之曝光裝 置,使光硬化性樹脂曝光,藉此形成微透鏡陣列。
    96159.doc
TW093138196A 2003-12-09 2004-12-09 Method for manufacturing display panel having micro-lenses,and method for manufacturing display device TWI307434B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003410735 2003-12-09
JP2004344493A JP3708112B2 (ja) 2003-12-09 2004-11-29 マイクロレンズアレイ付き表示パネルの製造方法および表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200534006A true TW200534006A (en) 2005-10-16
TWI307434B TWI307434B (en) 2009-03-11

Family

ID=34680618

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW095114178A TW200632454A (en) 2003-12-09 2004-12-09 Method of producing micro-lens-carrying display panel and display unit and exposure system
TW093138196A TWI307434B (en) 2003-12-09 2004-12-09 Method for manufacturing display panel having micro-lenses,and method for manufacturing display device

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW095114178A TW200632454A (en) 2003-12-09 2004-12-09 Method of producing micro-lens-carrying display panel and display unit and exposure system

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7646452B2 (zh)
EP (1) EP1701202B1 (zh)
JP (1) JP3708112B2 (zh)
KR (2) KR20080040051A (zh)
CN (1) CN101685262A (zh)
TW (2) TW200632454A (zh)
WO (1) WO2005057274A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI421583B (zh) * 2008-12-05 2014-01-01 Univ Nat Chunghsing Variable angle of the liquid crystal display

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3769575B1 (ja) * 2004-12-15 2006-04-26 シャープ株式会社 表示パネルの製造方法および表示パネルの製造装置
JP2007005014A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 照明装置及び液晶表示装置
JP4011591B2 (ja) * 2005-07-20 2007-11-21 シャープ株式会社 マイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法
CN101238408B (zh) 2005-08-03 2011-06-01 夏普株式会社 液晶显示装置和具有该液晶显示装置的电子设备
WO2007108268A1 (ja) 2006-03-23 2007-09-27 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
KR101268954B1 (ko) * 2006-06-29 2013-05-30 엘지디스플레이 주식회사 시야각 제어가 가능한 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법
WO2008001595A1 (fr) * 2006-06-30 2008-01-03 Sharp Kabushiki Kaisha Dispositif d'affichage à cristaux liquides et procédé de fabrication du dispositif d'affichage à cristaux liquides
WO2008032490A1 (fr) 2006-09-12 2008-03-20 Sharp Kabushiki Kaisha Panneau d'affichage à cristaux liquides muni d'une matrice de microlentilles, procédé de fabrication du panneau d'affichage à cristaux liquides, et dispositif d'affichage à cristaux liquides
EP2071390B1 (en) 2006-09-27 2010-12-01 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device comprising a microlens array and method for manufacturing the same.
US8174641B2 (en) * 2006-09-28 2012-05-08 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel with microlens array, its manufacturing method, and liquid crystal display device
EP2085814A4 (en) * 2006-10-18 2010-05-19 Sharp Kk Liquid crystal display arrangement and method for producing a liquid crystal display
US8243236B2 (en) 2006-10-18 2012-08-14 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display and method for manufacturing liquid crystal display
US8068201B2 (en) * 2006-12-18 2011-11-29 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display having particular auxiliary electrode
US8300188B2 (en) 2007-01-11 2012-10-30 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel with micro-lens array and liquid crystal display device
JP2007264640A (ja) * 2007-04-05 2007-10-11 Sharp Corp 表示パネルの製造方法
JP2009258582A (ja) 2007-09-05 2009-11-05 Toshiba Corp 三次元画像表示装置、三次元画像表示装置の製造方法及び三次元画像表示装置の製造装置
NL1034496C2 (nl) 2007-10-10 2009-04-16 Anteryon B V Werkwijze voor het vervaardigen van een samenstel van lenzen, alsmede een camera voorzien van een dergelijk samenstel.
WO2009081534A1 (ja) * 2007-12-21 2009-07-02 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示パネル、液晶表示装置、及び液晶表示パネルの製造方法
JP4987767B2 (ja) 2008-03-18 2012-07-25 株式会社東芝 三次元画像表示装置の製造装置及び三次元画像表示装置の製造方法
JP5075693B2 (ja) * 2008-03-18 2012-11-21 株式会社東芝 三次元画像表示装置の製造装置及び三次元画像表示装置の製造方法
CN101999093A (zh) 2008-04-16 2011-03-30 夏普株式会社 液晶显示装置
US8477263B2 (en) 2008-05-20 2013-07-02 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
KR20100030795A (ko) * 2008-09-11 2010-03-19 주식회사 동부하이텍 이미지센서 및 그 제조방법
JP4792077B2 (ja) 2008-12-17 2011-10-12 株式会社東芝 三次元画像表示装置の製造装置及び三次元画像表示装置の製造方法
TWI397744B (zh) * 2009-04-03 2013-06-01 Au Optronics Corp 顯示裝置與多重顯示裝置
JP5486838B2 (ja) * 2009-05-12 2014-05-07 シャープ株式会社 レンズの形成方法、半導体装置の製造方法および電子情報機器
WO2011081041A1 (en) 2009-12-28 2011-07-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device
US8830424B2 (en) 2010-02-19 2014-09-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device having light-condensing means
US9000438B2 (en) 2010-02-26 2015-04-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2012242588A (ja) * 2011-05-19 2012-12-10 Sumitomo Electric Ind Ltd レンズ部品および画像表示装置
CN102662208B (zh) * 2012-03-15 2015-05-20 京东方科技集团股份有限公司 柱透镜光栅、液晶光栅及显示器件
US10215895B2 (en) 2012-03-15 2019-02-26 Boe Technology Group Co., Ltd. Liquid crystal grating forming lenticular lenses
JP6237070B2 (ja) * 2013-10-01 2017-11-29 セイコーエプソン株式会社 マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器
KR20180108676A (ko) * 2016-01-29 2018-10-04 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. 집적기판, 이의 제조 방법, 및 집적기판을 포함하는 광학 장치
CN109143795B (zh) * 2018-09-30 2020-10-27 联想(北京)有限公司 一种光刻镜片的制作方法和镜头
KR102696436B1 (ko) * 2019-01-08 2024-08-22 한국전자통신연구원 마이크로 렌즈 어레이의 제작 방법
CN111523440B (zh) * 2020-04-21 2023-10-27 上海思立微电子科技有限公司 屏下光学指纹识别装置
CN112054131B (zh) * 2020-09-14 2022-09-20 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及显示设备
EP4653177A1 (en) * 2022-03-04 2025-11-26 Changwon National University Industry Academy Cooperation Corps Apparatus for manufacturing high-aspect-ratio, high-resolution fine pattern, and manufacturing method using same
JP2023178681A (ja) 2022-06-06 2023-12-18 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06258642A (ja) 1993-03-05 1994-09-16 Fujitsu General Ltd 液晶プロジェクタ用マイクロレンズの形成方法
US5396350A (en) 1993-11-05 1995-03-07 Alliedsignal Inc. Backlighting apparatus employing an array of microprisms
JP3776483B2 (ja) * 1995-07-27 2006-05-17 大日本印刷株式会社 集光性フィルタ−およびその製造法
JPH09166701A (ja) 1995-12-15 1997-06-24 Toray Ind Inc マイクロレンズアレイシートおよびその製造方法
US6219113B1 (en) * 1996-12-17 2001-04-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for driving an active matrix display panel
JPH11251220A (ja) 1998-03-02 1999-09-17 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JPH11295504A (ja) 1998-04-10 1999-10-29 Sumitomo Electric Ind Ltd 平板マイクロレンズの作製方法
JP2000292862A (ja) 1999-04-09 2000-10-20 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシートの製造方法およびその装置
JP2002062818A (ja) * 2000-08-16 2002-02-28 Sony Corp マイクロレンズおよび画像表示装置の製造方法
JP2002117756A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Fujitsu Ltd 隔壁転写用元型の作製方法及び隔壁形成方法
JP2002196106A (ja) 2000-12-27 2002-07-10 Seiko Epson Corp マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置
JP2002350974A (ja) * 2001-03-19 2002-12-04 Sharp Corp 投影型画像表示装置
JP4138276B2 (ja) 2001-07-23 2008-08-27 日本ライツ株式会社 導光板および平面照明装置
GB0119176D0 (en) * 2001-08-06 2001-09-26 Ocuity Ltd Optical switching apparatus
JP4311205B2 (ja) * 2002-01-23 2009-08-12 ソニー株式会社 画像表示素子及び画像プロジェクタ装置
JP4097508B2 (ja) * 2002-11-19 2008-06-11 シャープ株式会社 マイクロレンズ基板の作製方法およびマイクロレンズ露光光学系

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI421583B (zh) * 2008-12-05 2014-01-01 Univ Nat Chunghsing Variable angle of the liquid crystal display

Also Published As

Publication number Publication date
EP1701202A1 (en) 2006-09-13
JP2005196139A (ja) 2005-07-21
EP1701202B1 (en) 2012-09-05
WO2005057274A1 (ja) 2005-06-23
KR20080040051A (ko) 2008-05-07
KR20060033815A (ko) 2006-04-19
EP1701202A4 (en) 2008-03-26
KR100861285B1 (ko) 2008-10-01
TW200632454A (en) 2006-09-16
US20070097293A1 (en) 2007-05-03
CN101685262A (zh) 2010-03-31
TWI307434B (en) 2009-03-11
US7646452B2 (en) 2010-01-12
JP3708112B2 (ja) 2005-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200534006A (en) Method for manufacturing display panel having micro-lenses, display device, and exposure apparatus
TWI317039B (en) Display panel and manufacturing method thereof
CN100517017C (zh) 显示装置和电子设备
EP2071390B1 (en) Liquid crystal display device comprising a microlens array and method for manufacturing the same.
US8111356B2 (en) Liquid crystal display panel provided with microlens array, method for manufacturing the liquid crystal display panel, and liquid crystal display device
TW200827777A (en) Method for manufacturing optical element
CN107357130B (zh) 掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板
TWI300493B (zh)
JP2002062818A (ja) マイクロレンズおよび画像表示装置の製造方法
JP4000802B2 (ja) 半透過反射表示パネル及びこれを用いた電気光学装置
TWI308973B (zh)
CN100523939C (zh) 带微透镜阵列的显示面板的制造方法和显示装置以及曝光装置
TWI243265B (en) Method for forming a reflection-type light diffuser
JPH049922A (ja) 投影型カラー液晶表示装置
JP2007264640A (ja) 表示パネルの製造方法
JP2005266820A (ja) 露光装置およびそれを用いたマイクロレンズアレイを形成する方法
JP2677436B2 (ja) カラー画像表示装置
JP2001109403A (ja) 反射型表示素子及び反射型表示装置
JP2001022284A (ja) 電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置
JP2004212846A (ja) 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法
JP2002333620A (ja) 反射型表示素子

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees