TW200303390A - Arrangement for a urinal - Google Patents

Description

200303390 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係相關於一種根據申請專利範圍第1項之前言 而用於運用真空之尿斗的配置。 【先前技術】 先前爲吾人所知的解決方案係通常包括有一種複雜的 結構，其係包括有一個多部式殼體，並具有許多操作部件 於一個支承尿斗殼體之壁部的背部側面上。另一種可能性 係必須具有一個用於操作機構之分離式箱體或是容器於尿 斗殼體旁。再者，已知尿斗亦設置有一個聚水器於尿斗殼 體之內。因此，已知尿斗之配置係需要相當大的空間，並 且此等尿斗之組合及安裝係爲費力及費時的，繼而任何維 護或相應措施便極爲困難。 【發明內容】 本發明之目的係爲避免前述缺點，並達成一種提供可 靠功能之流線型尿斗組件。此一目的係藉由根據申請專利 範圍第1項之用於一尿斗的配置所達成。 本發明之基本槪念係爲提供一種用於尿斗之配置，其 中，一組操作機構係可以被包圍且支承於一大致上爲單一 的尿斗殼體部分之內，該殼體部分係包括有一個碗體部9 以及一個位於該碗體部份中的排放開口，藉此，操作機構 係包括有一個準位感測器機構，以及一個與一管件系統相 互流體連通的真空操作排放閥體機構。以此方式，尿斗係 可以被裝設並支承在一個壁部之上，藉此，尿斗係基本上 200303390 僅需要一個可連接至管件系統之外部真空排水管排放連接 部分以及一個電源供應連接部分。 排放開口係較佳被配置爲與一個被提供有準位感測器 機構之感測器容室相互流體連通，藉此，感測器容室係與 真空操作排放閥體機構相互流體連通。 尿斗配置之一有利實施例更包括有一個被支承在殻體 部分之內的沖水機構。 操作機構係被有利地裝設在一個可被固定至殻體部分 之一背部板件上。 真空操作排放閥體機構係藉由可經由一第一真空供應 閥體機構而從管件系統所導出之真空而有利地操作。 真空係藉由一個真空產生機構以及真空排水管管線而 被提供至管件系統。 爲了方便尿斗配置之操作，操作機構係被連接至一個 被提供有一致動器機構的控制單元。 在下文中，本發明係參照隨附描繪圖式，而藉由僅爲 示例方式來加以更詳細地描述。 【實施方式】 本發明係相關於一種用於運用真空之尿斗的配置，# 操作係相關於第四圖而被加以討論。 在圖式中，尿斗之殼體部分係整大體上藉由元件符:號 1所標示。根據本發明而包括有一個例如是由陶瓷或金屬 材料所製成之大致上單一主體的殻體部分1，係以傳統方 式而被裝設頂靠於一壁部或類似物件（在圖式中並未顯示 200303390 出來）。 操作機構3係被裝設在一個背部板件2上，其係藉由 例如是螺絲5或類似部件之固定用機構而被固定至殼體部 分1之背部側面4上，藉此，操作機構3係被包圍在藉由 殼體部分1及背部板件2所形成的外側邊界之內。殼體部 分係包括有一個尿斗碗體部分1 1，其帶有一個大略位於 碗體部分1 1之底部處的排放開口 1 2。背部板件當然可 以被固定至相同於殻體部分所固定至之壁部。 在第二圖中所顯示的實施例之中，操作機構3係包括 有一個感測器容室3 1、一個用於監視通過感測器容室之 沖洗操作的準位感測器3 2、一個真空操作排放閥體3 3 以及一個管件系統3 4，其係被配置以藉由一個位於尿斗 之位置處的排放連接部分（在圖式中並未顯示出來）而被 連接至一個真空排水管管線90(參見第四圖）。 操作機構3更包括有一個第一真空供應閥體3 5，其 係經由一個被接入至管件系統3 4中之吸引管線3 6而與 管件系統3 4相互流體連通，並且經由一個閥體管線3 7 而與真空操作排放閥體3 3相互流體連通。部分真空係藉 由一個間歇操作之真空產生機構1 0 0 (參見第四圖）而 被產生於管件系統3 4中。部分真空係被使用以藉由該第 一真空供應閥體3 5以及該吸引管線3 6和該閥體管線3 7來操作該真空操作排放閥體3 3。 顯示在第三圖中之操作機構3的第二實施例係相應於 相關第二圖所揭示者，並更包括有一個被提供有一沖水供 200303390 應管線3 9之沖水機構3 8。沖水機構3 8係於沖水程序 中提供沖水至尿斗碗體部分1 1。沖水機構3 8係較佳爲 藉由一個第二真空供應閥體4 0而以真空方式所操作者， 而控制真空係經由真空管線4 1而從真空產生機構1 〇 〇 處被提供至該第二真空供應閥體4 0。 尿斗配置之操作在下文中係主要相關於第四圖來加以 討論。 當尿斗係已被使用，且可丟棄之廢物係已被接收於尿 斗碗體部分1 1中之時，一個例如是沖水按鈕6之致動機 構係由一使用者致動，用以開始沖水程序。藉此，一個訊 號係經由一個控制單元7而被送至例如是一噴射器機構之 真空產生機構1 0 0。此係會致動該間歇操作式真空產生 機構1 0 0，而在真空排水管管線9 0 (可選擇性地包括 有一個保持槽體9 1 )以及管件系統3 4中產生一給定部 分真空，例如是從大約_18kPa至大約-35kPa。部分真空準位 係藉由一個被連接至控制單元7之真空開關7 1所控制。 當所希求之真空準位係已被達到之時，真空產生機構1 〇 0之操作係被關閉。兀件符號8係標不一個用於控制單元 7之電源供應連接部分。 當給定真空程度係已被達到之時，藉由一個經由真空 管件4 1而被連接至真空產生機構1 〇 〇的第二真空供應 閥體4 0，控制單元7係會作動沖水機構3 8。藉此，尿 斗碗體部分1 1係由例如大約0.2至〇·3公升之一^給定沖水 量而被沖洗。在同時，控制單兀7係會作動第一真空供應 200303390 閥體3 5，以使來自管件系統3 4處而通過吸引管線3 6 、該第一真空供應閥體3 5以及閥體管線3 7之部分真空 係被引朝向真空操作排放閥體3 3。此係會開啓該排放閥 體3 3，藉此，可丟棄之廢物係從尿斗碗體部分1 1處經 由排放開口 1 2並更進一步地經由感測器容室3 1即排放 閥體3 3，而被排入引導至真空排水管管線9 0及保持槽 體9 1的管件系統3 4之中。 在沖水程序係已被完成之後，被提供有一時間控制之 控制單元7，將會關閉通過第一真空供應閥體3 5之部分 真空連接部分，用以關閉排放閥體3 3。 或者，沖水程序係可以藉由被提供在感測器容室3 1 中的準位感測器機構3 2所致動。準位感測器機構係較佳 爲被製作成響應於收集在尿斗碗體部分11以及排放開口 1 2中之給定量之丟棄廢物，例如是大約0.15至0.2公升 的流體。準位感測器機構3 2係被連接至控制單元7，並 且係被配置以前述用於開始沖水程序之沖水按鈕6相應的 方式而提供一個訊號至控制單元7。 圖式以及其相關描述係僅意欲用於闡明本發明之基本 槪念。本發明係可以在以下申請專利範圍的範疇內予以更 詳細地改變。 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 第一圖係顯示出一個尿斗殻體部分； 第二圖係顯示出一組操作機構的第一實施例； 200303390 第三圖係顯示出一組操作機構的第二實施例；以及 第四圖係顯示出用於尿斗之配置的一個總體流程圖。 (二）元件代表符號 1 殼體部分 2 背部板件 3 操作機構 4 背部側面 5 螺絲 6 沖水按鈕 7 控制單元 8 電源供應連接部分 11 碗體部分 12 排放開口 31 感測器容室 32 準位感測器 33 真空操作排放閥體 3 4 管件系統 35 第一真空供應閥體 3 6 吸引管線 3 7 閥體管線 3 8 沖水機構 39 沖水供應管線 40 第二真空供應閥體 4 1 真空管線 200303390 71 真空開關 90 真空排水管管線 91 保持槽體 1 0 0真空產生機構

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Claims (1)

1. 200303390 抬一輪專利範圍 一種用於運用真空之尿斗的配置，其係包括有一 個殼體部分（1 操作機構（3 )、以及真空排放機構 其特徵係在於：該殻體部分（1 )係包括有一個大致 上單一的主體， 該操作機構（3 )係包括有一個準位感測器機構（3 2 )以及一個與一管件系統（3 4 )相互流體連通之真空 操作排放閥體機構（3 3 )， 又其特徵係在於：該殻體部分（1 )係被配置以支承 該操作機構（3 )於殼體部分之內。 2、 根據申請專利範圍第1項所述之配置，其特徵係 在於：該殼體部分（1 )係包括有一個帶有一排放開口（ 1 2 )之碗體部分（1 1 )。 3、 根據申請專利範圍第2項所述之配置，其特徵係 在於：該排放開口（ 1 2 )係與一感測器容室（3 1 )相 互流體連通，該容室設置有該準位感測器機構（3 2 )， 又其特徵係在於：該感測器容室（3 1 )係與真空操作排 放閥體（3 3 )相互流體連通。 4、 根據申請專利範圍第1項所述之配置，其特徵係 在於：該操作機構（3 )更包括有一個被支承在該殼體部 分（1 )之內的沖水機構（3 8 )。 5、 根據申請專利範圍第1項或第4項所述之配置， 其特徵係在於：該操作機構（3 )係被裝設在一個背部板 12 200303390 件（2 )上，其係被配置成被固定於該殼體部分（1 )的 背部側面（4 )上。 ‘ 6、 根據申請專利範圍第1項所述之配置，其特徵係 在於：該真空操作排放閥體機構（3 3 )係經由一個第一 真空供應閥體機構（3 5 )而與該管件系統（3 4 )相互 流體連通。 7、 根據申請專利範圍第6項所述之配置，其特徵係 在於：流體連通係經由一個介於該管件系統（3 4 )與該 第一真空供應閥體機構（3 5 )間的吸引管線（3 6 ) ， · 以及一個介於該第一真空供應閥體機構（3 5 )與該真空 操作排放閥體機構（3 3 )間的閥體管線（3 7 )而被建 立。 8、 根據申請專利範圍第1項所述之配置，其特徵係 在於：該管件系統（3 4 )係被配置以被設定爲經由真空 排水管管線（9 0 )而與一真空產生機構（1 0 0 )相互 流體連通。 9、 根據申請專利範圍第8項所述之配置，其特徵係 鲁 在於：該真空排水管管線（9 0 )係包括有一個保持槽體 (91)° 1 0、根據申請專利範圍第8項所述之配置，其特徵 係在於：沖水機構（3 8 )係爲以真空操作者，又其特徵 係在於：沖水機構（3 8 )係藉由一個第二真空供應閥體 機構（4 0 )以及一個真空管線（4 1 )而被連接至真空 產生機構（1 0 0 )。 13 200303390 1 1、根據申請專利範圍第1項所述之配置，其特徵 係在於：該配置係被提供有一個控制單元（7 )，而該控 制單元（7 )係被提供有一致動機構（6 )。 拾壹、圖式 如次頁

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