TW200301829A - Structured optical element and production thereof - Google Patents

Description

200301829 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明） 1 .發明所屬之技術領域 本發明關心的是一種如申請專利範圍第1項之結構式光 學元件以及如申請專利範圍第1 0項中用以製作該結構式 光學元件的方法。 2 .先前技術 該結構式光學元件可爲例如一種用於單片式彩色碟片的 結構式彩色濾光片。這些都是用於彩色影像投影的重要組 件。如同此中用到的，可將單片式理解爲意指在至少一個 基板的表面上設置有結構式塗層，且依這種方式在此基板 表面的不同區域上設置有不同的功能性層，使得基板上呈 區域定界的表面將會擁有至少兩個淸楚定義的光學功能。 因此必須使單片式彩色碟片可與分段式彩色碟片區分開。 在後者的例子裡，係配置兩個或更多個基板以構成彩色碟 片，其中都只在每一個基板的整個表面上設置有單一功能 性層。 另一方面，基板表面的結構化使吾人能夠選擇落在微米 (μιη)範圍內甚至更小的結構尺寸。這種微型結構式光學元 件目前可在投影技術中找到廣泛的應用，有一種例子是用 在必須使光依相鄰畫素受到不同波長範圍之光撞擊的方式 抵達造影元件（光閥）的觀點上。 可藉由結構化達成的是，光會取決於在表面上撞擊到的 特定區域而根據其在通道上遇到的特定功能性層以其他方 -6- 200301829 式受到反射、透射、吸收、折射或散射。基本上應該可在 單一基板上施行數個區域。然而依這種連接方式，一區域 不需要是由一連續區域構成的，而是也可由多個非連接區 域構成的。施行數個區域可免除配置數個互爲相鄰之基板 的需求。 如同習知設計中所熟知的，可藉由表面塗覆法及S p e r g e r 等人於美國專利申請案第6 2 3 8 5 8 3號文件中所說明之石印 昇空程序的組合方法製作出這種結構式塗層。首先淸潔各 基板。之後，進行光敏阻抗層的塗覆、遮蔽、曝光及顯影 作業。接著塗覆用於第一結構的第一塗層。然後，藉由溼 式化學溶解程序將該光敏阻抗層連同落在其頂部的塗層一 起移除。因此，只在那些當塗覆有光敏阻抗層時受到遮蔽 的位置內保留該塗層，以致可將塗層直接塗覆於基板上。 然後淸潔基板以便塗覆下一個塗層系統。重複此一程序以 便形成所需要的全部功能性層。假如該結構式光學表面上 包括有除了透射該光之外不發揮任何作用的區域亦即包括 只施行中性功能層的區域，則一般而言必需在這類區域內 施行減低反射用塗層亦即所謂的抗反射塗層（AR塗層）。依 這種連接方式，必須小心確保只在基板上未預先塗覆的區 域內設置該AR塗層，因爲無論任何時候若在未作適當預 防措施下將這種塗層重疊於其他區域之功能性層上，則一 般而言將會干擾它們的其他特徵。因此如前所述的遮蔽程 序也會在塗覆這種A R塗層時變得很重要。 這類程序既屬高成本且依照一般法則是和遠低於1 〇 〇 % 200301829 的產量有關聯的。事實證明所有這類程序都會耦合在一起 而顯得特別地不利。有關這一點吾人必須加上使各塗層曝 露在環境中會在各區域的邊緣上產生影響的事實。 德國未驗證專利申請案第D E 1 9 6 4 1 3 0 3 A 1號文件中說 明了一種結構式光學元件的製作方法，其中首先塗覆一蝕 刻防止層以塗覆住隨後將於其上進行功能性層之塗覆及結 構化的整個光學表面。至於需要中性元件的區域，明白地 將注意力拉到該鈾刻防止層至少在由氟化鎂構成時也會扮 演著減低反射層角色的事實上。進一步將注意力拉到各功 能性層的設計能允許該鈾刻防止層產生光學效應的事實上 。這可取代各中性區域所需要的結構化步驟。 不過，氟化鎂這種塗層材料可能引致諸如層膜破裂之類 美觀上的問題，特別是當時必須塗覆額外的功能性層時更 是如此。一般而言係在昇空程序的輔助下將其他塗層材料 用於實際的功能性層，這使得大多數例子可在沒有任何蝕 刻防止層下形成各功能性層。特別是，在很多應用中單一 的氟化鎂層無法擁有充分的減低反射性質。因此，只能在 邏輯上放棄使用氟化鎂。 這類已知程序的另一缺點係由該昇空技術會使相當部分 之塗層溶解掉的事實構成的。這會使該塗層本身變得既沒 效率成本又高。 當然，吾人總會嘗試在進行結構化之前以習知材料塗覆 一抗反射層。不過，吾人發現實際上這種塗層系統很難用 在其他功能性層上，因爲這種塗層必須順應（符合）從基板 200301829 到空氣的躍遷同時必須順應從基板到其餘塗層系統的躍遷 。此外，當使用這種型式的結構化技術時可依先前方式露 出各區域邊緣。因此如同一般規則。這種濾光片對環境影 響具有相當有限的阻抗。 3 .發明內容 本發明係在排除習知設計之相關缺點的目的下提出的。 特別是，本發明係將本身設定在使製作該結構式光學元件 所需要之步驟數目最小化且儘可能使它們解耦合的工作上 ，以致能夠製作出具有高品質特別是和光學及機械性質且 特別是和最佳成本有關的結構式光學元件。 根據本發明此一目的係藉由說明如下之申請專利範圍第 1和1 0項的內容施行而達成的。 根據本發明的製作方法總是要求將塗層系統上具有不同 光學功能的區域再分割成兩個局部塗層系統，亦即各區域 上互不相同的內側局部塗層系統以及塗覆住所有區域的互 補式局部塗層系統。根據本發明，首先將各內側局部塗層 系統塗覆到不同區域上，而各塗層系統會在每一個區域內 呼叫結構化程序。隨後在未施行結構化程序下以單一步驟 於所有區域內塗覆該互補式局部塗層系統。必然地，該互 補式局部塗層系統至少是所有區域之塗層系統的組成。因 此經常能夠在某一區域內以和該互補式局部塗層系統完全 相同的塗層系統獲致必要的光學功能。因此，該第一局部 塗層系統並不包括任何落在此區域內的層，且必然地不再 需要用於此區域的結構化程序。這種可能性會最先達成， -9- 200301829 特別是當該基板包括能夠使光有效穿透該基板的區域時。 此例中可將該互補式局部塗層系統設計成一減低反射層。 本發明的基本特徵之一爲可將各內側局部塗層系統配置 在基板與各內側局部塗層系統之間。這意指這種製作方法 係在塗覆該全蓋式互補局部塗層系統之前完成所有結構化 程序且因此不致在此系統上施加任何有害的影響。此外， 相當令人訝異的是薄膜設計上的硏究顯示可將之當作終結 塗層而依比在進行結構化之前所塗覆之共同塗層更快速的 方式施行這種共同局部塗層系統。這種順序的特殊優點是 由最後塗覆之塗層系統會連續地覆蓋在整個表面且因此提 供了機械性保護作用的事實構成的。 假如在一個由各具有非中性光學功能之區域構成的基板 上設置有對應於該特定區域之結構式第一局部塗層系統， 則這種製作方法也能夠使所有結構化程序解耦合。這種解 耦合作用意指和各單獨結構化程序相關的產量會同樣被解 耦合，而能夠顯著地階梯放大和整體程序相關的產量。該 第一局部塗層系統的塗覆步驟總是跟隨著在整個基板上塗 覆一互補式局部塗層系統步驟，該互補系統指的是使那些 未預先施行塗覆的區域具有減低反射的性質。當組合各基 板時，事物的配置方式是使一個或更多個具有非中性光學 功能的區域落在光徑內（除了必需得到兩個或更多個光學 功能之總和效應的情形之外）。 4 .實施方式 第一實例係用以說明一種製作如第1圖所示之結構式光 -10- 200301829 學元件的方法。此結構式光學元件只包括一個基板3。在 此上方，該結構式光學元件1係包括一只能透射藍光的第 一區5。該結構式光學元件1也包括一只能透射綠光的第 二5 ’區。該結構式光學元件1的第三區5 ”可同時透射藍光 和綠光而只反射紅光。在可獲致這種結果的觀點下，吾人 首先定出一塗層系統使之在塗覆於基板3上時具有可反射 紅光並透射藍光和綠光的效應。吾人可藉由使用例如一種 薄膜設計用之最佳化程式定出適當的塗層系統。如同一般 規則及給定的一組特殊材料特徵，這種最佳化程式能夠依 對應於必要光譜特徵之特定標靶函數的關係使塗層系統的 層膜數目及厚度分布最佳化。這種軟體是熟悉習知設計的 大多數人所熟知且能夠透過商業管道取得的（名爲 Opti layer的套裝軟體是此一觀點下的例子）。在本發明的 濾光片觀點下的例子特別適合使用這種軟體。但是當必須 同時定出各塗層系統時也能夠使用部分數値分析的程序。 在任意例子裡，當塗覆於基板3之上時依這種方式定出的 塗層系統都具有可反射紅光並透射藍光和綠光而對應於該 互補式局部塗層系統1 1的效應。表1的第一行顯示的是對 應於諸如折射係數n= 1 . 5的玻璃基板、光學折射係數 nH = 2.4的高折射性材料（例如氧化鈦）和光學折射係數 n L = 1 · 4 8的低折射性材料（例如二氧化矽）之類透明基板3之 互補式局部塗層系統1 1的設計資料亦即以奈米量測的實 體厚度。針對垂直入射的光使這種塗層系統最佳化。下一 個步驟是定出可透射藍光而反射紅光和綠光的塗層系統。 吾人可再次將已知最佳化程式之一用於這個目的。不過， -11- 200301829 此塗層系統的訂定方法會受限於含有與該互補式局部塗層 系統1 1完全相同之終端塗層系統的邊界條件。此塗層系統 需要配置在基板與互補式局部塗層系統之間而對應於第一 內側局部塗層系統的額外層膜。表1的第二行列舉的是這 種用於反射紅光和綠光之塗層系統的設計資料再次指的是 以奈米量測的實體厚度。進一步的步驟係致力於定出只透 射綠光而能反射紅光和藍光的塗層系統，其中再次含有與 該互補式局部塗層系統1 1完全相同之終端層。此例中的各 額外層都是對應於一第二內側局部塗層系統9 ’。對應於這 種用於反射紅光和藍光之塗層系統的設計資料係列舉於表 1的第三行內且再次指的是以奈米量測的實體厚度。 跟隨著設計資料之訂定作業的是，首先令基板3覆蓋以 一光敏阻抗層。然後對此層施行遮蔽、曝光及顯影，以致 在基板上產生不受覆蓋而只能透射藍光的區5而所有其他 區仍然受到光敏阻抗層的覆蓋。然後以第一內側局部塗層 系統9塗層該基板。移除剩餘的光敏阻抗材料完成已塗覆 於其頂部上的各層，然後依需求確保只在區5內保留該第 一內側局部塗層系統9。 再次由光敏層的塗覆步驟構成下一個步驟，然後再對該 層進行遮蔽、曝光和顯影，最終僅只在第二區5 f內露出只 能透射綠光的基板3。然後塗覆對應於此第二區5 1的第二 內側局部塗層系統9 ’。移除剩餘的光敏阻抗材料完成已塗覆 於其頂部上的各層，然後依需求確保只在區5內保留該另 一內側局部塗層系統9 ’。到這個步驟爲止，吾人尙未在基 -12- 200301829 板上的任何區域內設置必要的光學功能。這只能在將互補 式局部塗層系統1 1塗覆於整個基板3上的進一步處理步驟 之後得到。這不僅完成了分別只能透射藍光或綠光之區5 和5 ’上的塗層系統，同時也在基板3之完全露出區5 ”上設 置有一只能反射紅光並透射藍光或綠光的塗層系統。這麼 做省略了一個結構化程序。有關這一點，添加了只須移除 局部塗層系統的事實，以致整個塗覆程序變得更有效率。 第二實例係用以說明一種製作包括四個區5、5 1、5 ”和 5 ’’’之結構式光學元件的方法。此結構式光學元件係如第2 圖所示。第一區5不能透射除藍光以外的任何光，第二區 5 ’可透射綠光，第三區5 ”可透射紅光，而第四區5…則可 透射整個可見光譜。於其他元件中，這種元件指的可能是 以系列彩色分割爲基礎之投影機操作中所用型式的彩色碟 片。 再次藉由各塗層系統之必要設計的訂定以進行這種元件 的製作。此時由塗層系統之訂定程序構成的第一步驟會在 將之塗覆於基板上時具有減低反射效應。這會對應到第四 區5…所要求的光學中性功能。此塗層系統也會構成其他 區內的共同互補式局部塗層系統1 1。之後進行可反射藍光 並透射紅光或綠光之塗層系統的設計。然後設計另一塗層 系統以反射綠光並透射藍光或紅光，接著定出可反射紅光 並透射藍光或綠光的第三塗層系統。這三個塗層系統全都 設計成受到各終端層都對應到該互補式局部塗層系統1 1 的條件限制。 -13- 200301829 一旦定出其設計資料，吾人可藉由適當的塗覆及結構化 程序開始塗覆不致形成各區上部分互補式局部塗層系統 1 1的各層；也就是說於第一區內塗覆第一內側局部塗層系 統9，於第二區內塗覆第二內側局部塗層系統9 ’，並於第 三區內塗覆第三內側局部塗層系統9 ”。然後於進一步的處 理步驟內將互補式局部塗層系統1 1塗覆於整個基板3上方 。現在基板3的一個表面上包括有各光學中性區以及總能 反射紅、藍或綠色光之一的各區。然後接著在基板3的背 面施行類似程序，雖則必須小心以確保位於互爲相對處的 各塗層系統，總是兩者都呈光學中性亦即可透射整個可見 光譜，或者總是兩者都呈非光學中性但是不會反射相同的 色光。例如，可於第一區5內塗覆第二內側局部塗層系統 91，於第二區5 1內塗覆第三內側局部塗層系統9 ”，並於第 三區5 ”內塗覆第一內側局部塗層系統9 ;在此之後將互補 式局部塗層系統1 1塗覆於整個區域上方。這爲該元件產生 擁有必要光學功能的各區。表2顯示的是此元件上所需要 的每一個濾光片設計。吾人假定光會沿著垂直方向撞擊基 板表面。同時吾人假定其周遭媒體爲空氣且基板的折射係 數爲n= 1 . 5。同樣地吾人假定高折射性材料的折射係數爲 η = 2.4，而低折射性材料的折射係數爲n=l .48。如上所述， 該高折射性材料可能是氧化鈦，而該低折射性材料可能是 二氧化砂。 第三實例意圖說明如何能夠藉由根據本發明的程序使製 造彩色碟片所需要的結構化程序完全去耦合。這可以三個 -14- 200301829 基板3、3 ’和3 ”爲基礎而達成，雖則此例中不須要塗覆各 基板的背面。此元件係如第3圖所示。再次由各必要塗層 設計之訂定程序構成第一步驟。此例中需要下列設計：各 減低反射層，也可用來當作各互補式局部塗層系統（1 1 , 1 1 ’） ;一第一內側局部塗層系統9，可連同該互補式局部塗層 系統1 1用以反射藍光；一第二內側局部塗層系統9 ’，可連 同另一互補式局部塗層系統1 1用以反射紅光；以及一塗層 系統1 7，不會反射除了綠光之外的任何色光，雖則此例中 的設計必須將其入射媒體並非由空氣而是光學黏著劑構成 的事實列入考量。然後根據本發明，將該第一內側局部塗 層系統9塗覆於基板3上將要反射藍光的區域5和5 1上。 之後，在具有結構式塗層的基板表面上塗覆以預先定出的 互補式局部塗層系統1 1，以致基板3的已塗覆表面現在會 在區域5和5 ’內反射藍光，因此在所有其他區內可透射幾 乎整個可見光譜。 然後將用以反射綠光的塗層系統塗覆於另一基板3 ’上將 要反射綠光的區域5和5 ”上。 然後根據本發明，將該第二內側局部塗層系統塗覆於又 一基板3 ”上將要反射紅光的區域5 '和5 ”上。該塗層在基板 3 ”側面上的塗覆方式是使之依基板3、3 ’和3 ”的順序佔據 其最外層的位置亦即使之構成該元件與空氣之間的邊界。 然後在具有結構式塗層的基板3 ”表面上塗覆以預先定出 的另一互補式局部塗層系統1 1 ’，以致基板3 ”的已塗覆表 面現在會在區域5 ’和5 ”內反射紅光，因此在所有其他區域 -15- 200301829 內可透射幾乎整個可見光譜。 此步驟順序中可製造一具有用以反射藍光之區域5和5 f 的基板、一具有用以反射紅光之區域5 ’和5 ”的基板以及一 具有用以反射綠光之區域5 ”和5的基板。然後依光學方式 使這三個基板黏結有例如一光學黏著劑2 1。當完成此程序 時，各基板的配置方式是承載有藍光反射用塗層系統的側 邊會構成該元件上會接觸空氣的端子之一，而承載有紅光 反射用塗層系統的側邊會構成該元件上的另一端子。各基 板上塗覆有反射用塗層系統之各區幾何形狀的選擇方式是 當它們相互重疊時，將要在任一區域內透射出去的光束總 是必須穿透兩個不同的彩色濾光片。因此第一區5內只會 透射紅光，第二區5’內只會透射綠光，而第三區5”內只會 透射藍光。吾人應該了解的是第四區5…內會透射整個可 見光譜，也就是說光在進入及離開該元件時分別只會穿透 該互補式局部塗層系統1 1及另一互補式局部塗層系統1 Γ。 吾人應該注意的是已使上述製作方法中所有結構化程序 去耦合且不須要對各基板的背面進行塗覆。 此中已在三個不同實施例的輔助下對本發明作了顯示和 討論。當然吾人也能夠且甚至可明顯地應用這些實施例的 變型。例如，可使用該製作方法製作的不只是彩色碟片同 時也能夠以此製作基本上係設置有結構式彩色濾光片之玻 璃管的色鼓。這類色鼓同樣可用在投影機內。吾人已在兩 個實例內給出用以實現該塗層系統設計的具體方法。不過 依這種關係，吾人應該謹記的是當選擇其塗層材料時可考 -16- 200301829 慮薄膜技術中已知的其他材料，正如可根據本發明施行並 使用具有其他層膜厚度的結構一般。特別是，構成該薄膜 系統的各層也可能並非藉由具有淸楚定義之邊界表面加以 界定，而是可藉由使其折射係數從某一層到其相鄰層產生 逐漸躍遷並由一實例給定其特徵。 因此當與習知設計作比較時，本發明可獲致的優點是可 在結構式光學元件的製作方法中節省結構化程序。根據本 發明，各互補式局部塗層系統會延伸塗覆住一個以上的區 。這意指整體的塗覆程序會變得更有效率且該結構式光學 元件會在機械及化學上變得更穩定，特別是在各結構區的 邊緣上更是如此。 如同已解釋的，本發明的一種實施例使吾人能夠爲各結 構化程序去耦合且因此也能夠使各單獨程序的產量去耦合 ，以致能夠顯著改良該製作程序的經濟槪念。 5 .圖式簡單說明 現在吾人將藉由實例在各附圖的輔助下顯示本發明並進 行討論。 第1圖顯示的是穿越一種根據本發明之結構式光學元件 的截面圖示，其中基板上的各結構式塗層都含有三個呈現 出不同光學功能的區域。 第2圖顯示的是穿越一種光學元件的截面圖示，其中係 在基板的兩側設置有如第1圖所示之結構式塗層，且各區 域內的光學功能指的總是該基板兩側之光學功能的總和。 第3圖顯示的是穿越一種光學元件的截面圖示，其中含 -17- 200301829 有三個只在某一側施行結構化的基板。 主要部分之代表符號說明 1 結構式光學元件 2 基板 3 基板 3’ 基板 3丨， 基 板 5 第 一 區 5， 第 一 1^ 5丨， 第 二 5 ' M 第 四 區 9 第 一 內 9， 第 一 內 9，， 第 二 內 11 互 補 式 1 1 f 另 一 互 17 塗 層 系 2 1 光 學 黏 側局部塗層系統 側局部塗層系統 側局部塗層系統 局部塗層系統 補式局部塗層系統 統 著劑

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Claims (1)

1. 200301829 拾、申請專利範圍 1 . 一種結構式光學元件（1 )，其所含的基板（3 )表面上包括有 第一區（5)和第二區（5’），且該第一區（5)含有由一第一內 側局部塗層系統（9 )和一互補式局部塗層系統（11 )構成的 第一光學功能塗層系統，其中該第一內側局部塗層系統 (9 )係包括至少一個層且不會延伸到該第二區（5 ’）上方， 而該互補式局部塗層系統（1 1 )係包括至少一個層且會延 伸到該第一區（5)和第二區（5’）上方，落在該第二區（51) 內之第二塗層系統中至少有一組成的光學功能是不同於 該第一塗層系統的光學功能，此結構式光學元件（1 )的特 徵爲該第一內側局部塗層系統（9 )係配置在該基板（3 )與 互補式局部塗層系統（1 1 )之間。 2 .如申請專利範圍第1項之結構式光學元件（1 )，其中該基 板（3)表面的第一區（5)內具有構成與包含一個或更多個 波長間隙之第一波長範圍有關之第一光學濾光片的第一 塗層系統，該基板（3)表面的第二區（5')內具有構成與包 含一個或更多個波長間隙之第二波長範圍有關之第二光 學濾光片的第二塗層系統，且該基板（3 )表面包括至少另 一區（5 ”，5 1 內具有構成與包含一個或更多個波長間隙 之另一波長範圍有關之另一光學濾光片的另一塗層系統 ，其中不致有一個以上的波長範圍會包括整個可見光譜 且每一個光學濾光片都會透射或反射落在與之有關波長 範圍內的光，反之會反射或透射落在與之無關波長範圍 內的光。 -19- 200301829 3 .如申請專利範圍第2項之結構式光學元件（1 )，其中該互 補式局部塗層系統（η )總會構成該第一、第二和另一塗 層系統或是落在面朝遠離該基板（3 )且用以形成相對於 周遭媒體之邊界表面一側上各系統的端子部位。 4 . 一種結構式彩色濾光片，如申請專利範圍第2或3項之 結構式光學元件所構成，其特徵爲該第一波長範圍實質 上包括的只是對應於藍光和綠光的波長，該第一波長範 圍實質上包括的只是對應於藍光和紅光的波長，且該另 一波長範圍實質上包括的只是對應於綠光和紅光的波長。 5 .如申請專利範圍第1到4項中任一項之結構式光學元件 (1 )，其中該基板（3 )表面的至少一個區（5 , 5 '，5 ”，5…）內係 將該第二局部塗層系統（1 1 )直接配置在該基板（3 )上且用 以構成一具有光學功能的塗層系統較佳的是一減低反射 用的塗層系統。 6 .如申請專利範圍第1到4項中任一項之結構式光學元件 (1 )，其中該第一、第二和適當的第三塗層系統的配置方 式是在該基板（3 )表面上且可能在該基板（3 )的兩側表面 上沿著至少大槪與該基板（3 )表面夾直角的光軸給出該 基板（3 )的透射率，該透射光會穿透至少兩個具有不同光 學功能的塗層系統。 7 . —種結構式光學彩色濾光片，由至少兩個較佳的是依光 學及機械方式接合之三個基板所構成，其中係在至少一 個基板（3，3 3 ”）上形成如申請專利範圍第1到5項中任 一項之結構式光學元件（1 )，此結構式光學彩色濾光片的 -20- 200301829 特徵爲未在任意一個基板（3 , 3 1，3 ”）上塗覆一個以上的結 構式塗層系統。 8 .如申請專利範圍第1到7項中任一項之結構式光學元件 (1 )，其中該基板（3 )係一種透明的圓形碟片特別是指一種 環狀碟片，在存在有各接合基板（3 , 3 |，3 ”）時以各接合基 板（3，3 1 , 3 ”）構成圓形碟片特別是指一種環狀碟片，且該 結構式光學元件指的是一種光學的彩色碟片。 9 . 一種色鼓，包括如申請專利範圍第1到6項中任一項之 結構式光學元件（1 )，該色鼓的特徵爲該基板（3 )的幾何形 狀係對應到一種玻璃圓柱體或是一種玻璃管。 1 〇 . —種結構式光學元件（1)的製作方法，用於如申請專利 範圍第1到4項中任一項之結構式光學元件，包括下列 步驟： a)定出基板上每一個區的塗層系統，其中該塗層系統會 執行每一個區內所需要的光學功能且係包括由各區 內完全相同之一個或更多個層構成的局部塗層系統 ，並構成各塗層系統上用以接觸其周遭媒體的端子部 位； b )將各塗層系統再分割成一含區域特性的內側局部塗 層系統（9，9 ’，9 ”）以及一爲所有區所共用的互補式局部 塗層系統（1 1); c)較佳的是藉由真空塗覆法以及昇空程序在與各內側 局部塗層系統（9,9 ’，9 ”）有關的每一個區（5，5 ’，5 ”）內塗 覆各內側局部塗層系統（9，9 ’，9 ”）； -2 1 - 200301829 d)較佳的是藉由真空塗覆程序於一塗覆步驟內同時在 該基板上所有的區內塗覆該互補式局部塗層系統（1 1 ) 以覆蓋住所有的區。 1 1 . 一種用於結構式光學元件的製作方法，其特徵爲該基板 (3 )具有平板形狀且在其兩側表面上設置有如申請專利 範圍第1 〇項之結構式塗層，其中該必要塗層的設計揭發 了各相對區的光學功能會在穿透此結構式光學元件時結 合而構成一總和功能。 1 2 . —種用於結構式光學元件的製作方法，其特徵爲兩個由 至少完全相同之區域構成的像平板的基板（3，3 ')係在某 一側上設置有如申請專利範圍第1 0項之結構式塗層，且 各基板上未塗覆的一側上則以光學黏著劑（2 1 )依光學及 機械方式接合，其中必要時可將另一個具有較佳結構式 塗層系統（1 7)的基板平板配置在兩個基板平板之間。 胃

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