TW200300936A

TW200300936A - Fabrication method of parent template for information medium, fabrication method of child template for information medium, fabrication device of parent template for information medium, and fabrication device of child template for information medium

Info

Publication number: TW200300936A
Application number: TW091134806A
Authority: TW
Inventors: Hiroaki Takahata; Hisaji Oyake
Original assignee: Tdk Corp
Priority date: 2001-11-30
Filing date: 2002-11-29
Publication date: 2003-06-16
Also published as: AU2002349665A1; TWI236013B; WO2003046904A1; EP1460625A1; US20050006336A1

Description

200300936 五、發明說明（1) 【發明所屬之技術領域】本發明’係關於藉由乾式姓刻形成凹凸圖案之資訊媒體用母模板之製造方法以及製造裝置，與使用該資訊媒體用母模板而製造資訊媒體用子模板之製造方法以及製造裝置。【先前技術】在製造作為資訊媒體之光記錄媒體（CD及DVD等）時，首先’製造為了將執道控制用之指示溝與凹部等複寫於光記錄媒體用 (以下，作與碟片模板（以凹凸圖案製造方法用光束來凸圖案之所知。另為了縮小板之製造碟片基也稱為基材幾下，也複寫於，以在形成潛母模板一方面指示溝方法。刊i风子模板）乎同形狀稱為母模子模板形作為支持影後，藉 (光阻母 ’為了順之形成節了凹凸圖案。在製造此之具有凹凸板），接著成材上。在部材之基材由顯影而在模板）之製應光記錄媒距與凹部之之光記錄媒子模板之時圖案之光記，將所製作此情況，作上形成光阻光阻層之厚造方法以從體之高密度大小而開發篮用子模扳，首先，製錄媒體用母之母模板之為母模板之 ’照射曝光度内形成凹以往即為人化之要求，了各種母模藉由乾式钱刻利特開平10一241213號公報中’揭示了 )上形成凹C母模板（10、相當於上述基材之元件述光記錄媒體用2了凹凸圖案之玻璃基板（20、相當於上製造金屬子模拓Γ杈板）之製造方法，以及使用坡璃基板之〈 1 5、相當於上述光記錄媒體用子模板）之

^00300936 五、發明說明（2) -_ 衣化方法。在此製造方法中，首先，在玻璃母模板上涂阻（1 1 )後照射曝光用光束來曝光記錄凹凸圖案。接基… ，阻頌衫使玻璃母模板之表面之—部份（曝光記錄之夸 i各出。接著，藉由用玻璃母模板上光阻作為光罩而二，璃母模板上形成凹部。接著，除去殘留於玻璃柘^在，。藉由此，t作形成凹凸圖案之玻璃基板。接 ^作之玻璃基板之表面上形成導電膜（13)，以此導命= :電，來將金屬材料電鍍。藉由此，在玻璃基板上形：全 :二之後’將金屬子模板從玻璃基板上剝離，將此果凹凸圖案複寫於例如樹脂材料，而形成碟片基。另方面，在特開2 0⑽—4 0 2 6 7號公報中，揭示 =钱刻成膜於玻璃基板⑴表面之下層膜之：：了了 = 圖卞，母模板之製造方法，以及使用此母模之製造方法。在此製造方法中，首先，:破= 旋轉塗布光阻而形成薄膜⑴，料^摇接者在下層膜」 H㈣⑴，對邊溥膜照射曝光用朿曝先§己錄凹凸圖案後顯影。接著，藉由在下厗胺/ 阻作為光罩來乾式㈣，而在下層；形；上二 ΐ層膜之積層體形成母模板你所衣之母杈板表面上藉由丨夂声。蕤出士士、稭由Wl/賤鍛或電每來形成金屬材半二：後，將光j : $ 土形成了由金屬材料組成之光碟子卷板之凹凸圖宰==母模板剝離，藉由將此光碟子指 «柔稷寫於例如樹脂材料，而形成碟片基材。第6頁 2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 200300936

【發明内容】、^月者义才双4上述之以往之資訊媒體用母模板之製造方 ί、"果，現如以下之問題點。亦即，在日本專利特開平力士2 412丨+3號公報中所記載之製造方法中’藉由乾式飯刻而离母模板（合成石英母模板）上形成凹部來形成凹凸圖 ^ 在此幵y中’已知合成石英母模板之蝕刻速率（使用既疋ί率ί蝕刻用光束時，平均既定時間之#刻可能之厚度） =而5 I低。因此，為形成所希望之深度之凹部之乾式蝕刻而^的日守間比較長之故，有很難降低玻璃基板（資訊媒體用母，板之製造成本之問題點。又，光阻一般而言，與合成石英母杈板相較，其蝕刻速率高之故，會在將石英母模板蝕刻到所希望之深度以前消失。因此，必須將高阻形成到某種私度以上之厚度。在此情況，形成了充分之光阻厚度時，光阻材被大里的消費，玻璃基板之製造成本之降低變得很困 '另一=面，在特開2 0 0 0 —40 26 7號公報中所記載之製造方法中，藉由在玻璃基板之表面上濺鍍Cr之下層膜後乾式蝕刻，成凹部來形成凹凸圖案。在此製造方法中，由於蝕刻較石ΐί模板還柔軟之Cr之故，與上述在石英母模板形成凹部之衣仏方法相比，可以短時間形成凹部。然而，為了濺鍍 "r，必須要高價之大型真空成膜裝置之故，由於此，存在著要減低資訊媒體用母模板之製造成本為困難之問題點。又，為了乾式蝕刻由Cr形成之下層膜，必須使用氯系之蝕刻氣

2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd

200300936

ZUUJU0936 五、發明說明（5) 母模板之製造方法以及製造裝置，盥造方法以及製造裝置。一貝讯媒體用子模板之製飯刻ί : ϊ Π :月J資訊媒體用母模板之製造方法，係在被後顯影，：ίί::=光阻層照射曝光用光束形成潛影前述光阻層作為光罩乾崎述：：：； = = = 形成了凹凸圖案之資訊媒體用母爾=阻層而製造述光阻層之银刻速率之選擇比能^對5\其餘刻速率，使用前成之被姓刻體。又，在本發明中「上之樹脂材料所形率之光阻層之蝕刻速率之選擇比 =於破蝕刻體之蝕刻速除以光阻層之蝕刻速率之值。」糸拍破蝕刻體之蝕刻速率又，與本發明有關之資訊媒體包括：在被蝕刻體上形成光阻層、果反之衣造I置，係光阻層照射曝光用光束形成潛&阻1形成裝置、對前述潛影之前述光阻層使前述被蝕刻‘光ι置、顯影形成前述置、將前述顯影之前述光阻層作=出之顯影裝刻體在該被蝕刻體型成凹部之蝕列2罩來乾式蝕刻前述被勒蝕刻體上之前述光阻層之光阻;置、除去殘留於前述被圖案之資訊媒體用母模板之製:壯衣置，，而製造形成了凹凸置，係使用相對於其钱刻速=前述光阻層形成裝比在0. 5以上之樹脂材料所形34先阻層之蝕刻速率之選擇體而構成的。 3餘刻體作為前述被I虫刻

200300936

發明說明（6) 在此貢訊媒體用母模板之製造方法以及製造 ^ 由以相對於被银刻體之钱刻速率，光、中，錯成希望凍度之凹部之時點，也可使在已凡成形因此，可有效避免在凹部形成結束前起=光阻層殘留，使溝形狀帶圓形或是其深度變淺之不佳 a光阻層之消失而此資訊媒體用母模板來製造資訊媒體=么，。因此，使用製得正確軌道之蝶片基材之資訊媒體用，反，可形成能可使用濺鍍Cr而形成被蝕刻體之以往之掣、告二反。又，相較於材料可容易的形成之被钱刻體之故，;==，使用以樹月苢造成本可充分的降低。、σ ，、體用母模板之製在此情況，關於本發明之資訊媒體用中，作為前述被蝕刻體，以使用前述選擇比=板之製造方法下之樹脂材料所形成之被蝕刻體為佳。又，1 · 〇以上3· 〇以訊媒體用母模板之製造裝置中，前二於本發明用前述選擇比在丨·◦以上3.◦以下之樹裝置，4 體為佳。猎由此，即使在已完成形成希望深乂成之被蝕割點，也可使作為光罩之光阻層殘留之故，因^之凹部之時」在凹部开々成結束前起因於光阻層之消失而、〃可有效避是其深度變淺之不佳之情況。 /形狀帶圓形或又’在關於本發明之資訊媒體用母模板制以使用包含吸收前述曝光用光束之光束吸收^造方法中，光用光束反射之光束反射防止素材所形成之被才或防止該曝述被蝕刻體為佳。又，關於本發明之資 2刻體作為體用母模板之五、發明說明（7) 造裝置中，前用光束之光束防止素材所形此，可有致防形成明顯之潛用母模板所製 s己錄資料之記而且，在中，作為前述述光束吸收素為佳。又，在光阻層形成裝吸收素材之4，之被餘刻體作時，透過光阻層吸收，且即之情況中，也有效的防止光阻層上形成明光罩來乾式蝕又，在關將前述被蝕刻述凹部為佳。材料來形成前述光阻屑π丄 % ^ 1㈢形成裝置，成之1材或防止該曝 ^蝕刻體作為前以f阻層之多重曝光，：（凹部）。因此，仏之資訊媒體用子模錄密度充分的提高二ΐ發明之資訊媒树月曰材料，以使用含材之4，4’〜雙（I I 關於此資訊媒體用母糸’以使用含有三聚雙（二乙胺基）」為刚述被蝕刻體為佳層（形成潛影）之雷使是在沒有被吸收= 無法到達光阻層而被阻層之多重曝光之結顯之潛影（凹部）。刻可明顯的形成母於本發明之資訊媒體體在基材上層狀形成在此情況中’在前述述被蝕刻體為佳。又以使用包含吸枚前述曝光光用光束反射之光束反射述被钱刻體為佳。藉由之結果，可以很窄的節距藉由基於使用此資訊媒體板來製造碟片基材，可使體用母模板之製造方法有三聚氰胺樹脂與作為前胺基）二苯甲g同之混合物模板之製造裝置中，前述氰胺樹脂與作為前述光束二苯曱酮之混合物所形成。藉由此，光阻層曝光射光束之大部分由光吸屯通過之雷射光束反射回身光吸收層吸收。因此，$ 果，可以很窄的節距在j 因此，使用此光阻層作j 模板之凹部。用母模板之製造方法中，，在該被蝕刻體上形成育基材上旋轉塗布前述樹月; ，在關於本發明之資訊变

2186-5346-PF(Nl)；ahddub. Ptd 第11頁 200300936 五、發明說明（8) ==製造裳製中，在基材上，以包含將前述被姓刻俨=::月曰材料層狀形成之被蝕刻體形成裝置而構成者a :’可不需要高價的大型真空成膜裝置等之結果之；二

資訊媒體用母模板）之製造成本。又，相。的製造母;：:不需使用氯系崎體之故，可安全且容易I 材，以為了形成前述凹部深度^厂曰产=材料所形成之前述基I 在前述乾式蝕刻時使前述基：之：ς份：體，藉由而形成前述凹部來形成前述凹凸目案為二餘刻體露出明之資訊媒體用母模板之製造裝置中7 ί二又，在關於本發置，係使用前述#刻速率較前述被钱二r#刻體形成裝基材作為前述基材之同時，以應形^體低的材料所形成之形成被钱刻體，前述钱刻裝置f 述f部深度之厚度來丽述基材之一部份從前述被蝕刻體^在刖述，式蝕刻時使成前述凹凸圖案為佳。藉由此，以=而形成前述凹部來形之材料（石英玻璃）形成基材之同日^、/吸收層之蝕刻速率低之深度之厚度來形成光吸收層，且在形成以為了形成凹部之一部份從光吸收層露出來形成凹L式蝕刻時藉由使基材在餘刻時，只蝕刻到| 第12頁 2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd 200300936 五、發明說明（9) 材表面鉻出於光吸收層之部分，可容易的形成所希望深度之凹4。在此情況中，蝕刻處理之時間即使略為過長，由於低j刻速率之基材不會被蝕刻的太嚴重’可避免形成比凹部之洙度還深之過度的深度，其結果，蝕刻處理時之時間管理變的極為容易。、、關於本發明之資訊媒體用子模板之製造方法中，係依照上述貧訊媒體用母模板之製造方法用前述資 ^反^製造資訊媒體用子模板之製造方法，在前述資訊媒體I W 2杈板中在七述凹凸圖案之形成面上形成子模板形成材， =“子模板形成材去除作為該資訊媒體用母模板之前刻體。 ^又’貧訊媒體用子模板之製造裝f，係使用藉由上述實 =j體用母模板之製造裝置所製造之資訊媒體用母模板來製這資汛媒體用子模板之資訊媒體用子模板之製造裝置，係包括·、在W述資訊媒體用母模板中在前述凹凸圖案之形成面 I成=模板形成材之形成裝置、與從該子模板形成材去除^ 為该貧訊媒體用母模板之前述被蝕刻體之除去裝置來構成（ ^，關於本發明之資訊媒體用子模板之製造方法，係名 …、上过之資汛媒體用母模板之製造方法所彭造之資訊女i 板巧造：訊媒體用子模板之資M媒體用子模板: 二二= 别述貧說媒體用母模板中在前述凹凸圖案之难 ^ 形成子模板形成材，在將前述基材從談次部媒#用" 杈板：離$ ’將前述被蝕刻體從該子模板形成：除去：於本發明之資訊媒體用子模板之製造装置，係第13頁 2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 200300936

五、發明說明（10) 用藉由用母模造裝置案之形儀刻體模板形在藉由將來製造案形成圖案亦來製造基材。上述資板來製，係包成面上從被剝成材之這些資資訊媒資訊媒的非常可非常資訊媒汛嫘體用造資訊媒括：在前形成子模離前述基積層體除訊媒體用體用母模體用子模明顯，因明顯的形體用碟片體用子模述資訊媒板形成材材之前述去之除去子模板之之凹凸板，由於此複寫於成。因此基材，可製造裝板之資體用母之形成資訊媒裝置來製造方圖案複資訊媒此資訊使用訊媒體模板中巢置、體用母構成。法以及寫於子體用母媒體用此資訊形成正在前述凹凸層以及將前述初模板與前述彳製造裝置中，模板形成材上模板之凹凸圖子模板之凹凸媒體用子模板確軌道之碟片又 ^ s明之資訊媒體用子模板之製造方法中，進仃〇2電水灰化來除去前述被蝕刻體為佳由此，貼附於貧訊媒體用子模板之樹脂材料可確實且容易的除去。一再者使作為别述子模板形成材之金屬材料析出於前述謂體用母模板’來製造該資訊媒體用子模板為佳。藉由 t ’相較於使用樹脂等作為子模板形成材之製造方法，可正確的複寫母模板之凹凸圖案。又關於本叙明之資訊媒體用子模板之製造方法，係使用依照上述資訊媒體用子模板之製造方法而製造之該資訊媒體用子模板作為主子模板，藉由將該主子模板之前述凹凸圖案複寫而製造為了複寫前述凹凸圖^於前述資訊媒體之第1

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd — 弟14頁 200300936 五、發明說明（11) 子模板。藉由此，在量產資訊媒體用碟片基材時，可依序以新的資訊媒體用子模板來交換使用過之資訊媒體用子模板之故，所以可量產指示溝之溝形狀更明顯之碟片基材。【實施方式】明之資訊媒體用母模板以及各製造裝置之適當於本發明中作為資訊媒母模板1。造子模板20 (參照圖6 層光吸收層1 2全體以平本發明中凹凸圖案之中’凹部2、2 ···之形成盤40 )中之指示溝3〇a 其深度D之深度使其對 (成為光吸收層1 2之榇] ，係以蝕刻速率6〇nm/分刻速率係在本發明中用 ’之後之蝕刻速率值也以下，參照附圖，說明關於本發以及資訊媒體用子模板之各製造方法之實施形態。最初，參照圖面說明關於在相當體用母模板之光記錄媒體用母模板之〜圖1所示母模板.1，係作為為了製 )等之模子而被使用，在基層11上積板狀構成。又，在母模板1之表面上、: :部2、2···以螺旋狀形成。在此情況即距係對應於在碟片基材30中（或母 (或指示溝形成用之凹部）之節距，應於指示溝30a等之深度。基材11係塗布了丄 Η匕奋职门〇、了如後述之樹脂R1 月日0苓照圖2 )之古4士 & 支持體，舉例而言左右之石英以平板妝以下俨杜* a 反狀形成。又，此钱以下較佳之蝕刻條相同。畑件中的值所表示者 (蝕刻條件）

2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd 第15頁 200300936

钱刻氣體：CF4、C2F6、C3F8、chf3 添加氣體：02、A r、H2 氣體壓力：1. OPa RF蝕刻功率：5 0 0W 氣體流量·· 1 〇〇 c c / m i η 又破斑其„ 時所使用之基材11，並不限定於，也可使用金屬基材、，金屬基材以及陶莞基材等 =重^。在此情況中，如後述’為了藉由本發明而得到顯者之效果，基材u之蝕刻速率以較光吸收層12之蝕刻迷以^ 為佳（舉例而言，6〇nm/分以下之蝕刻速率。在3〇nm/分以下之蝕刻速率更佳）。光吸收層1 2，相當於本發明中作為被蝕刻體之被餘刻層，舉例而言，使用硬化後之蝕刻速率為 3OOnm/分左右之樹脂材料，其厚度τ (參照圖2 )以能成為 1 5 0nm左右層狀的形成。又，光吸收層丨2之蝕刻速率並不限定於上述之值，可對應前述基材1 1之蝕刻速率與後述製程中所形成之光阻層1 3 (參照圖3 )之蝕刻速率來適當的變更。具體而言，相對於此光吸收層1 2之#刻速率，光阻層1 3之钱刻速率之選擇比在〇 · 5以上為佳，在丨· 〇以上更加。在此情況’選擇比在1.5以上3·〇以下之範圍内愈大，如後述藉由本發明所得之顯著的功效便能愈充分的得到。又，以蝕刻速率過南之素材形成光吸收層12之情況中，由於此光吸收層12在短時間被蝕刻之故，蝕刻處理之時間管理變的困難之結果，形成希望深度之凹部2、2…有變的困難之傾向。相反的，以钱刻速率低之素材來形成光吸收層1 2之情況中，即使飯刻時

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd

200300936 五、發明說明（13) 間稍微有誤差發生，由於此時間之故，蝕刻處理之時間管理變的：：：之蝕刻量少之 3· 〇還大，也可形成所希望深度之二:2果，即使選擇比較二’光，收層12之厚度並沒有特艮定/ 1C能充分吸收曝光用雷射光束L之程度的厚产 :體：光吸收層12係使用相對於；在〇. 〇1以上之材料，而以〇,丨以上木及收係數k 收曝光用雷射光束L之厚度來形成為：情：能 Ϊΐ層3? Ϊ不充分時’無法充分吸收雷射光束L而使光阻層13夕重曝光而使潛影有崩壞的傾肖。另一方面

超過300nm之厚度時，對於雷身十本 J 的樺加，而日、田射先束L之光吸收性也並非顯著的曰力^而疋不必要的消1為了形成光吸收層12之材料。 ^f形成了超過3 0 0nm2厚度之情況時，照射雷射光束匕枯，先吸收層12積蓄過剩的熱，由於此，光阻層13熱分解之，果，=定的曝光有變的困難之傾向。因此，光吸收層丨2之厚度規定於inm以上30〇11111以下為佳，更以在1〇聽以上2〇〇nm 以下之厚度來形成為佳。在此情況，起因於上述光吸收層12 之蓄熱之光阻層1 3之熱分解之程度，對應於照射之雷射光岸 L之照射功率而變化.。因此，使用比較小功率之雷射光束[來曝光時’光吸收層12之厚度也可超過300 nm而在500 nm以下。又，為了使凹部2、2…之形成製程（蝕刻處理）容易，如前述之光吸收層1 2之蝕刻速率叫基材11之蝕刻速率大之條件，其厚度T以相等於之後形成之凹部2之深度D來形成為佳。藉由此，如後述，只要進行將基材丨丨之表面露出的部分

2186-5346-PF(N1);ahddub.p t d 第17頁 200300936 發明說明（14) 之乾式韻刻，即可彡厚度τ)之凹部2、/·..所希望之深度D (亦即光吸收層12 所照射之雷射光束L :此光吸收層12，係有含對於嗓光當於本發明中之= 長具有光吸收性之有機化合物 ^ ^ ^ ^ ^ „ #] ^ ί J ° ^ I ^ ^ # 4 ^ ^ ^ #1 ), 合物。在此情況，来„ μ木枓，或疋光開始助劑與染料之、、曰化合物所構& 先開始助劑，係以吸收紫外線等光之

物盥人成“：本甲，系化合物」），將此二苯甲酮夺化A )^物作為在本發明中之樹脂材料。 …、更化型之穿：ί晉,照圖17，說明關於本發明之資訊媒體用母掇* 衣乂衣置（以下，亦稱為「母模板製造裝置」）100杈核母模板衣造裝置丨〇〇，係包括光吸收層形成裝置〗n 晉=形成uiQ2、曝光裝置1G3、顯影裝置m、麵刻壯、置105以及光阻除去裝置1〇6，以可使丹i衣 1來構成。土木衣k母模拓製作母模板i之時，首先，在三聚氰胺樹脂中溶融一 * 曱酮糸化合物，製作為了形成光吸收層丨2之塗布液（r—本亦稱為「樹脂R1」）。又，將所製作之樹脂R1，貯二I，成裝置101内。此時，也可使用紫外線硬化型樹脂取；一光取月氰胺樹脂。又，為了使之後形成之光阻層丨3之間之接〜二聚、

加，也可添加接著劑、吸光劑、界面活性劑等各種天丨A 製作塗布液。又，也可使用將各種光吸收材混合於熱1物3f 樹脂或光硬化型樹脂等之混合物來代替二笨二石化3 IT j糸化合物扁

200300936 五、發明說明（15) 二I氣fee知丨脂之合成物。在母模板製造裝置1 〇 0，首告，在表面平坦的研磨過後之基材丨丨上吸收層形成裝置1 〇 1 , 後，如圖2所示，藉由旋轉塗布 / ^合劑層（無圖示） η上。接著，光吸收層形成裝m::Ri層狀塗布於基材 11，施以150。〇〜2 0 0。〇，舉例而士2〇 ^於此狀態之基材硬化。又，在使用紫外線硬：：：：： =使樹時，塗布塗布液後照射硬化曰=為塗布液之情況在基材11上形成光吸收層丨2。” 、、使主膜硬化。藉由此，接者’光阻層形成裝署·». 布使光阻之厚度為30_左右之，光^收層12上以旋轉塗發。藉由此，如圖3所*，光Λ’ ,;、乾燥來使殘留溶劑！光阻層1 3係在之後乾式蝕列 /形成光阻層1 3。此之層，使用乾燥後之餘刻逮率為2〇料。因此，相對於前述樹脂R 性材 3 0 0nm/分左右）’光阻層革（在此丨月況，又，在本發明之實施形離中之=選擇比為h 5。光阻（日本ΖΕΟΝ股份有限八_Ί 2為感光性材料之一例，使用接著，曝光裝1QQ )。 2...之部纟（碟片基材3 斤=切割機）在應形成凹部2、如經由數值孔徑（NA) 〇 9 =' a應形成之部位）上，你成用雷射光束L (曝光用‘光支Ί波* ( λ ) 351_之圖案开 (ι〜…大態切片例而言，以高峰強度由此，在光阻層U上以例如=〇〇· 32=之雷射光束）。藉 U戈u · 3 m左右之形成節距來形成

2186'5346-PF(N1);ahddub.ptd 弟19頁 200300936 五、發明說明（16) 巧.15㈣左右之螺旋狀潛影…匕情況，由於在基材n 山、光阻層1 3之間形成光吸收層丨2之故，從曝光裝置丨〇3射出’透過光阻層13 (形成潛影）之雷射光束L之大部分不會到達基材11，而被光吸收層12吸收。另一方面，無法吸收層1 2完全吸收而到達基材丨丨後被反射的微量雷射^束其，二會到達光阻層1 3 ’而被光吸收層1 2吸收。0此，藉由土材11反射被阻止而防止光阻層丨3之多重曝光之故， j很窄（很細）的節距來形成明 :1束L之照射部位之凹部3、3 ...。在此情況，光吸收層厂2 2感士性材料’且不溶融於顯影液之故曰之表面成為凹部3之底部3a。又，由於照射雷射光常明顯所以藉由顯影形成之凹部3 3·.·亦必然, ^13 ΐ ^ ^ III' /c216^ *** ^ ^ ^ 或是在其中添…咖⑶2、a/、h ) 3之氣疋體其氣體體t進行…離子㈣，如圖5所示2，形；ΞΙ為，刻氣之故，所以使用形成了 T :部3、3...非常明1 可形成非常明顯之凹部2、2." 作為光罩’ 度T對應凹部2之深度D之同時，規^使光吸收層12之/ 光吸收層！ 2之餘刻速率小之似^/二由$ ^遠比左右…英破璃平板，在綠夸羊藉=先兄=

200300936 五、發明說明（17) 到^材11之表面露出（亦即，直到凹部2之底面2a為基材Η 之、面可开》成所希望的深度D之凹部2、2…^在此情況:使韻刻處理時間略為過長，由於低韻刻速率之基材11 不：被钱刻的太嚴重，所以可避免凹部2形成的較深度㈣冰因此，蝕刻處理之時間管理變的非常容易 ^二於以往之在玻璃母模板（合成石英母模板）上形成凹邛之光記錄媒體用母模板置106，藉由將蝕刻結束之^住之情況。接著，光阻除去裝 1 3之積層體浸於光阻剝離液土 4才1 1、光吸收層1 2以及光阻層光阻層1 3。藉由此，如圖j所—，除去殘留於光吸收層i 2上之接著，參照圖面，說明示’製作母模板1。用子模板之子模板20之製造$ 2本發明中相當於光記錄媒磨圖6所示之子模板2〇，去。 (參照圖11 )之射出成形時鱼為了光記錄媒體用碟片基材30 之模具，使用依照上述製造;^了製造母盤40 (參照圖12) 此子模板20係在無電解鎳層法所製造之母模板丄來製造。較大之樹脂材料（光吸收：方法，错由以蝕刻速率刻，可在短時間形成所“i:為被蝕刻體進行乾式姓況，由於作為光罩而使用:广之凹部2、2…。在此情 1 2之蝕刻速率小之故，如圖5且-層1 3之韻刻速率較光吸收層深度D之凹部2、2 ···之時點回所示’即使在形成完所希望之光吸收層1 2上。因此，可有六作為光罩之光阻層1 3仍殘留於前作為光罩之光阻層丨3消失j避免凹部2、2 .··之形成結束以圓形，或是其深度D變淺等不^\起+之凹部2、2…之溝形狀帶 (導電層）上積層電解鎳層2:

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 200300936

而構成，全體以平板狀形成。又成凹凸P!安+太9 ，為了在碟片基材30上面形 =凸圖广塗布，以螺旋狀形成在子模板2〇下面。在此月况斟=之凸部20a、20a之節距（凸部2〇a之形成節距 )，對應在碟片基材3 0中指示溝3 〇 a之带出々々ί 口 , 為0.32 "。 W0a之形成即距’例如規定之制ί ΐ w參照® 17說明關於本發明中之資訊媒體用子模板之衣w I置（以下，亦稱為「子模板製造裝置」）2〇〇。此子模板製造裝置2 0 0，係包括導電層付盥裝置2〇1、子，，形成材形成裝置202以及除去裝置2〇3，可使用母模板i 來J造子模板2 〇來構成。、在製造此子模板2〇時，導電層付與裝置2〇1，首先，藉由例如無電解電鍍（析出），如圖7所示，沿著母模板丄之曰凹 Λ圖案形成由金屬材料鎳所形成之無電解鎳層21 (導電層 )。藉由此，母模板1之表面（基材11之表面以及光吸收曰層 1 2之表面）變成具有導電性。在此情況，形成為了對母曰 1之表面付與導電性之層（導電層）之素材並不限於鎳，可使用各種金屬材料。又，導電層之形成方法也不限定於無解電鍛，也可藉由蒸鍍法或濺鍍法等各種成膜方法來二屬材料層（例如，鎳層）。接著，子模板形成材形成襞置至 2 0 2#’藉由使用無電解鎳層21作為電極施以電解電鍍處理 (藉由析出），如圖8所示，在無電解鎳層21上形成（積芦 ),電解鎳層2 2。在此情況，由子模板形成材形成裝置2 s 形成之電解鎳層2 2，係本發明中之子模板形成材，而盔^斤” 層2丨與電解層22之積層體（以下，亦稱為「子模板侧二:解

200300936 五、發明說明（19) 體」）之後構成子模板2 〇 ^ 、蔣ί U ΐ 9所不’以人手或專用之剝離裝4 (無圖示 1 〇徒知、層丁子模板侧積層體之母模板1剝離後，除 Γι #展_將光吸收層丨2從剝離了基材11之母模板1與子模對剝離基材u之面進體而言’除去裝置2°3，藉由 ^ a ^ ^ ^ 進仃％電水灰化，來除去貼附於子模板側 ?貝、^二、1二收層1 2。藉由此，如圖6所示，母模板1之凹部 π & Λ ;金屬材料（無電解鎳層21以及電解鎳層22 形成凸部2 0 a、2 0 a…，也制a 7 M , r; - ^ . 末衣作子模板20。在此情況，前述子、刚、，〔母模板1為基礎，該凹凸圖案複寫於金屬材凹凸圖案。因此，由於基礎之母模宰板;== :頌的形成’所以複寫於此子模板20之凹以、常明顯的形狀形成。因此，4 1 + ^ 口系也以列光記錚用之碟Κ I # 如後述，使用此子模板20來製道 =1片基材’可形成執道可為正確之碟片基材。媒體用：碟面來說明關於使用子模板2°來製作光記銻 1。所ΐ使：錄媒體時’舉-例而言，如圖射出成形碟片i:3=:rr=;内注入樹脂R2，來 20之凸部2〇a、2na...、-二由圖所不，藉由將子模栖 on 稷寫於樹脂R 2，而形成指示溝3 〇 .^ ^ 。，如圖17所不，在子模板製造裝置2 0 0上再、自Λ =裳置m，藉由複寫裝置⑽來再追加明中第1子掇柘夕一也丨、Λ 人卞接板（本發、幻）A、A ···製作可能來構成為佳。在此

Λ· 第23頁

2186-5346-PF(Nl);ahdd

200300936 五、發明說明（20) ' -- 情況，複寫裝置2 0 4，如圖1 2所示，首先，使用子模板2 〇作為主子模板，將其凹凸圖案複寫於例如金屬材料來製作母盤 40 °接著，複寫裝置204，將此母盤40之凹凸圖案複寫製作^ 複數之次子模板A、A…。在製造碟片基材3 0時，使用此次子模板A、A…。藉由此，次子模板a在摩耗前便可依序與新的次子模板A交換之故，所以可量產碟片基材3 〇。在此情況，根據不同用途，亦可將上述之母盤4〇作為子模板（本發明中第1子模板之另一例）來使用。在此時，'如圖13所示，使用母盤4〇作為子模板，在設置好子模板之金屬模内注入樹脂R 2。藉由此，如同圖所示，相對於碟片基材 3〇 ’形成了凹凸圖案反轉之碟片基材50。如此，使用^盤4〇作為子模板來製造碟片基材5〇之方法，可有效適用在製造近年來檢討中之高密度光記錄媒體用之碟片基材。在此情況， f此高密度光記錄媒體中，由於使用藍色雷射光作為^放用雷射光束以及記錄用雷射光束之故，在記錄播放時，需使讀取頭接近記錄層。因此，雷射光之入射方向與既存之光記錄媒體方向相反，由於從比碟片基材柏之光透過層侧來使雷射 $入射之故’相對於通常之碟片基材，需使凹凸圖案反轉來製造碟片基材。因此，相對於子模板2〇，使用凹凸圖案反轉 =母盤4 0作為子模板來使用可容易的製造高密度光記錄媒用之碟片基材。 ^如此，根據與本發明之實施形態有關之母模板丨以及母模板製造裝置丨〇〇，相對於光吸收層12之蝕刻速率（ 3 0 0 nm/ 秒）就由光阻層1 3之#刻速率（2 0 0 n m /秒）之選擇比在1

2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd

200300936 五、發明說明（21) =上3 · 〇以下（在此例為1 · 5 )之樹脂材料（樹脂R 1 )來形成光吸收層12 ’在希望深度之D之凹部2、2··.形成結束之時點，也可使作為光罩之光阻層1 3殘留之故，而可在凹部2、 2、,···之形成結束前，有效的避免起因作為光罩之光阻層”之 /肖=而使凹邛2、2 ···之溝形狀帶圓形、其深度])變淺之不佳的b況口此，可形成能製得軌道正確之碟片基材之子模板 2〇。在此情況，藉由使用較合成石英盤之蝕刻速率還大之樹脂材料（光吸收層12)來作為被蝕刻體，可在短時間内形成所希望之深度D之凹邬？、9 甘&田 , 夕制、生Λ、士又之凹口M 2…，其結果，可充分降低母模板1 衣=成本。右，不同於蝕刻以往之製造方法中由Cr形成之下層膜之方法，由於不需要使用氯系氣體之故，可容易的製造母模板1 ' 又+，根據此母模板1之製造方法以及母模板製造裝置 100，藉由以含有三聚氰胺與4， 4，一雙（二乙胺基）二<苯甲嗣之混合物作為樹脂材料來形成光吸收層丨2，光阻層1 3曝光時、，通過光阻層13 (形成潛影）之雷射光束L之大3部分*不會到達基材11而被光吸收層丨2吸收，且即使是沒有被吸收而到達基材11而被反射之極微量之雷射光束1也不會到達光阻層 13而被光吸收層12吸收之故，可有效防止光阻層13之多重曰曝光，其結果，可以狹窄的節距在光阻層丨3形成明顯之潛影 (凹部3、3…）。因此，使用此光阻層13作為光罩來乾式蝕刻’可明顯的形成母模板1之凹部2、2…。又，使用複寫了此母杈板1之凹凸圖案之子模板2 〇來製造碟片基材3 〇，可在碟片基材30上形成能得到良好之執道錯誤信號等之指示溝。

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 第25頁 200300936 五、發明說明（22) 在此情況，在此製造方法以比雷射光束L之點栌還敍』？板製造裝置1 00中，即使光吸收層12之吸收而;t多二^ 之潛影。因此，使用以b / 之故，所以形成比較明顯來製造碟片基』；==為基礎而製造之子模板2。而且，根據此母Kr之的Λ§=資料之記錄密度增加。 100，藉由在作為支持元件法以及母模板製造裝置脂漏來形成光吸收二，基可被蝕刻體（光吸收層J 2 )。夕斤希主厚度膜作為被蝕刻體之以往之f方、广二異於Cr所組成之下層空成膜裝置等，苴4 法，可不需要高價之大型真ί 用母模板）之製造成本。又（貝訛媒體在以較光吸收層i 2還低之蝕母杈板1之製造方法，形成基材11之同時9之材料（石英玻璃）1 來形成光吸收層1 2，且了在乾弋：2 # :味度D之厚度9 部份從光吸收層12露出來形成凹部2、2n 银刻到基材η從光吸收層12之表面露出，即 1 ί ΐ f ^ ^ ^ ^ ^ ^'Λ =為=，由於錢刻速率之基材n不會被麼、大此可避免被蝕刻的較凹部2之深度D還過深而米成十主况，其結果，蝕刻處理中之時間管理變的極為容易二月又，根據與本實施形態有關之子模板20之子模板製造裝置2 0 0，藉由將母模板凹凸圖^複於板形成材（無電解鎳層21以及電解鎳層22)來製造^模^核1 Μ 第26頁 2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 200300936 五、發明說明（23) ^ 2 〇，可將母模板1之凹凸圖案非常明顯的形成之故，複寫於此子模板2 0之凹凸圖案也可以非常明顯之形狀形成。因此，使用此子模板20來製造光記錄用媒體，可形成正確之執道為可能之碟片基材。又，根據此子模板2 〇之製造方法，藉由進行〇2電漿灰化來除去光吸收層1 2，可容易且確實的去除貼付於子模板2 0之光吸收層1 2。又，根據與本實施形態有關之母盤4 〇 (本發明中之第i 子模板）之製造方法以及子模板製造裝置2〇〇，&藉由以凸部 l〇a、2 0a…以狹小的節距形成之子模板20作為主子模板，难該凹凸圖案複寫於母盤4〇來製造，可明顯的形成母盤4〇之名凹部（藉由凸部20a、20a·.·而形成於母盤4〇之凹部）。因此，藉由使用此母盤40來製造複數之子模板（次子模板），新的子模板之故’可量產指示溝之溝形狀明顯4 ，二基材30。又，藉由使用此母盤4〇來製造碟片基材⑼，3 ^碟片基材50上形成可得到良好之軌道錯誤信號等之指示屏。此結果，可使記錄資料之記錄密度充分的增加。更。=本！明並不限於上述發明之實施形態，可適當的《姓刻體之Α Ϊ本發明之貫施形態中，舉例說明了包含作為本吸收層形成裳置1〇1之之方法^具包含另程來吸：層12之基材11，而省略光吸收層12之$ 模板製造装ΐ丄’又可V各光吸收層形成裝置101來構成母明中作在本發明之實施形態中，以在本發月中作為基材（支持體）之石英玻璃板上（基材u)形：

200300936 五、發明說明（24) ' " 一 ~~ 吸收層1 2之母模板1為例來說明，但本發明中之光記錄媒體用之母模板之製造方法並不限定於此，舉例來說，如圖Η所示母模板1 A，也可只在由光吸收層丨2 (樹脂材料）形成之蝕刻體上形成凹部來製造光記錄媒體用母模板。在製造此母模板1A時，首先，由例如母模板1之製造時使用之樹脂ri (本發明中之樹脂材料）來形成平板狀之光吸收層12 (樹脂板），如圖15所示’在此光吸收層12上形成光阻層13。接著，藉由對光阻層13照射雷射光束L後顯影，如圖16所示，在光阻層1 3上形成凹部3、3 ...。之後，以此光阻層i 3作罩’進行希望時間份之乾式蝕刻&，藉由除去光阻層13 : 圖14 =不，在光吸收層12上形成深度D之凹部2、2…。藉由此，完成母模板1。使用此母模板i製造子模板2 〇時，在之發明之實施形態中所說明之藉由〇2電漿灰化之^ :除去所需要之時間會些微變長，但在子模；^ 中可不需要基材11之剝離製程。方法又，在本發明中之凹凸圖案（形成於母模板1之案與複寫於子模板20之圖形態舉例所示之蟫斿此口系^ 个丨艮疋於本發明貫施案以及其他各狀凹凸圖案’也可是同心圓狀之凹凸圖於為了形成指：盖凹凸圖案。又，本發明，並不只限定母模板之製造之：模板之製造以及為了製造該子模板之母模板之情況中，二在為了形成貢汛凹部之子模板以及形成蝕刻層，並不:有效的適用。再加上，在本發明中之被光束吸收素材2 2包含吸收曝光用光束（雷射光束^)之光吸收層12，也町以防止曝光用光束反射之

第28頁 200300936 五、發明說明（25) 光束反射素材來形成被蝕刻層。又，雖以作為資訊媒體之光記錄媒體為例來說明，但對於磁碟（不連續媒體等）本發明也當然可適用。【產業上之利用可能性】如上述，根據此資訊情報用母模板之製造方法，藉由以相對於被蝕刻體之蝕刻速率光阻層之蝕刻速率之選擇比為0. 5以上之樹脂材料來形成被蝕刻體，即使在所希望之深度之凹部已形成終了時，也可使作為光罩之光阻層殘留。因此，可有效的避免由於凹部之形成終了前之光阻層之消失所引起之凹部之溝形狀帶圓形、其深度變淺等不佳的情況，而實現凹凸圖案明顯形成之資訊媒體用母模板之製造方法。

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 第29頁 200300936 圖式簡單說明圖ί係與本發明之實施形態有關之母模板1之剖面圖。圖2係在母模板1之製程中在基材丨丨上形成光吸收 2 狀態之剖面圖。圖3係在母模板1之製程中對在光吸收層丨2上之光阻声工 fc1、射曝光用雷·射光束L之狀態之剖面圖。之圖4係在母模板i之製程中光阻層13之顯影結束之狀態剖面圖。 u 圖5係在母模板丨之製程中對光吸收層丨2蝕刻結束之狀雜之剖面圖。〜圖6係與本發明之實施形態有關之子模板2〇之剖面圖。圖7係在子模板2〇之製程中在母模板丨上層 2 1之狀態之剖面圖。％肝綠增圖8係在子板板2 〇之製程中在無電解鎳i上鎳層22之狀態之剖面圖。 X % ^ 圖0 圖9係在子模板20之製程中剝離基材1 1之狀態之剖面圖10係在碟片基材30之製程巾，將子模板2ϋ之凹凸圖案複寫於樹脂R 2之狀態之剖面圖。圖11係使用子模板20而製造之碟片基材3〇之剖面圖。 ⑽ΓΛ2 !“冬子模板2 0之凹凸圖案複寫於金屬材料來製作母盤4 0日f之剖面圖。於朽= 片基材50之製程中將母盤40之凹凸圖案複寫於Μ月曰Κ Ζ之狀怨之剖面圖。圖1 4係與本發明之另—培^ At 知月之另貝、知形恶有關之母模板1 A之剖面

200300936 圖式簡單說明圖。圖1 5係在母模板1 A之製程中對在光吸收層1 2上之光阻層 1 3照射曝光用雷射光束L之狀態之剖面圖。圖1 6係在母模板1 A之製程中光阻層1 3之顯影結束之狀態之剖面圖。圖1 7係母模板製造裝置1 0 0以及子模板製造裝置2 0 0之構成圖。【符號說明】 1〜母模板； 1 A〜母模板； 2〜凹部； 2a〜凹部2之底面； 3〜凹部； 3a〜凹部3之底面； 11〜基材； 1 2〜光吸收層； 1 3〜光阻層； 2 0〜子模板； 2 0 a〜凸部； 2卜無電解鎳層； 2 2〜電解鎳層； 3 0〜碟片基材； 3 0 a〜指示溝； 40〜母盤； 5 0〜碟片基材； R 1〜樹脂； R2〜樹脂； 1 00〜母模板製造裝 101〜光吸收層形成裝置； 1 0 2〜光阻層形成裝置 1 0 3〜曝光裝置； 1 04〜顯影裝置； 1 0 5〜蝕刻裝置； 1 0 6〜光阻除去裝置 2 0 0〜子模板製造裝置；

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 第31頁 200300936 圖式簡單說明 2 0 1〜導電層付與裝置； 2 0 2〜子模板形成材形成裝置； 2 0 3〜除去裝置； 2 0 4〜複寫裝置； L〜雷射光束； A〜次子模板； D〜凹部之深度； T〜樹脂材料之厚度。

2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 第32頁

Claims

200300936 六、申請專利範圍士土 1 · a種貧訊媒體用母模板之製造方法，在被蝕刻體i π 乂、f =二’對該光阻層照射曝光用光束形成潛影後，顯爭= 該光阻層之一部份露出，…述光阻= 获 ^〈蝕刻前述被蝕刻體，在該被蝕刻體上形成凹部 ^ ^ ^留在該蝕刻體上之前述光阻層，來製造形成圖案之貢訊媒體用母模板，凹其特徵在於：使用其蝕刻速率對前述光阻層之蝕刻速率之選擇以^之樹脂材料形成之被钱刻體作為前述被餘刻體。〇· *如申請專利範圍第丨項之資訊媒體用母模板之 tir中，使用其餘刻速率對前述光阻層之姓刻速率二'方 =以上3·°以下之樹脂材料形成之被㈣體作41: 3# =申请專利範圍第1項之資訊媒體用母模板之 >、、中’使用含有吸收前述曝光用光束之光束吸=方防止該曝光用光束反射之光束反射防止素材之樹 ^才吴成之被餘刻體作為前述被蝕刻體。料所巧 4·如申請專利範圍第2項之資訊媒體用母模板法，其中，使用含有吸收前述曝光用光束之光束衣造方防止該曝光用光束反射之光束反射防止素材之=素枒写成之被蝕刻體作為前述被蝕刻體。 3才料所$ 、5·如申請專利範圍第3項之資訊媒體用母模板法，其中，前述樹脂材料，係三聚氰胺樹脂盥 ^造方吸收材之4, 4’ 一雙（二乙胺基）二苯甲_之混合物4别述光3

200300936 六、申請專利範圍 6 ·如申睛專利範圍第4項之資法，其中，前述樹脂材料，係三ΥΛ體用母模板之製造方, 吸收材之4，4,一雙（二乙胺基）_ +乱胺樹脂與作為前述光束| 7.如申請專利範圍第，項2:…之混合物。刻體上形成前述凹部。 I成在基材上，在該被韻| 8·如申請專利範圍第7項之資法，其中，係在前述基材上旋轉^媒體用±母模板之製造方被蝕刻體。土來刖述樹脂材來形成前过 9 ·如申请專利範圍第7項次“ 法，其中，使用較前述被蝕刻貝訊二媒體用母模板之製造方形成之前述基材，形成應成為^之4述蝕刻速率低之材料所來形成前述被蝕刻體，在前述Z述形成之凹部之深度之厚度之一部份從前述被蝕刻體露^ l式蝕刻時，藉由使前述基材凸圖案。而形成前述凹部來形成前述凹I 10 · —種資訊媒體用子模專利範圍第1〜6項中之任_項戶之製造方法，使用依照申請製造方法所製造之前述資訊媒所記载之資訊媒體用母模板之子模板，，、體用母模板來製造資訊媒體用| 其特徵在於：在前述資訊媒體用母模板成子模板形成材，將作為該次，前述凹凸圖案之形成面上形| 體從該子模板形成材除去。x貝祇媒體用母模板之前述被蝕刻| 之製造方法，使用依照申請 11 · 一種資訊媒體用子模板 I麵第34 2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd 200300936 六、申請專利範圍 __ — 專利範圍第7〜9項中之任_項一製造方法所製造之前述資％婼Is己载之貧訊媒體用母模板之子模板，、σ媒體用母模板來製造資訊媒體用其特徵在於·· 在前述資訊媒體用母楹起二成子模板形成#，將作為該料凹凸圖案之形成面上开體從該子模板形成材除去。貝α㈣用母模板之珂述被蝕商 1 2 ·如申請專利範圍第1 — 方法，其中，#由進行0電將太育訊媒體用子模板之製造 13·如中言青專利範圍2第除去前述被钱刻體。方法，苴中，萨由進疒〇 “ 、之貝成媒體用子模板之製造 /如申二裝灰話來除去前… 方法，其中，使作為前述子楹故/某體用子核板之製造述資訊媒體用母模板上來制、:形成材之金屬材料析出在前訊媒f用子模板。古、土 * 士视固弟11項之資訊媒體用子模板之萝造、f::: 為前述子模板形成材之金屬材料析出、在前返育訊媒體用母模板上來製造該資訊媒體用子^出在 16. —種資訊媒體用子模板之製造方法，其使用依照申請專利笳If]赞！ η π ^ ^ ^ 法斛制、二：圍弟10項之資訊媒體用子模板之製造方主子Ρ Ξ之二、r媒體用子模板作為主子模板，藉由複寫該主子杈板之刚述凹凸圖案來製造為了在資訊媒體凹凸圖案之第1子模板。後禺別L ^ 17. 一種貧訊媒體用子模板之製造方法，其特徵在於：用依恥申明專利範圍第11項之資訊媒體用子模板之製造方

2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd 第35頁 200300936 六、申請專利範圍 —____ 法所製造之該資訊媒體用子模板作為主子模板，# 1 主子模板之前述凹凸圖案來製造為了在資气错由複寫該| 凹凸圖案之第1子模板。，、體上複寫前 1 8. —種資訊媒體用母模板之製造裝置，包括· 光阻層形成裝置，在該被蝕刻體上形成光阻· 曝光裝置，對前述光阻層照射曝光用光士、顯影裝置，將形成了前述潛影之前述光阻^潛影；述被蝕刻體之一部份露出； 9頒影，使邴蝕刻裝置，使用前述顯影之前述光阻層作蝕刻珂述被蝕刻體在該被蝕刻體上形成凹部·以2罩，乾式除去光阻除去裝置，將殘留於前述被.刻體上之前述光阻層凹凸圖案之資訊媒體用母模板，银刻裝5置二使用其钱刻速率對前述光… 為前述被餘；Γ.5以上之樹脂材料形成之被餘刻體作裝置19·其如中申Λ專么範®第;8、項之資訊媒體用母模板之製造光阻層之钱刻：率之::丨裝置係使用其姓刻速率對前対成之被钱刻體作為前述被钱刻體。以上3·0以下之樹脂材料用裝置2 W _8項之資訊媒體用母模板之製这用光束之光束：收素：：：裝置係使用含有吸收前述曝： ” 或方止δ亥曝光用光束反射之光束反j

2186-5346-PF(Nl)；ahddub.ptd 六、申請專利範圍防止素材之樹脂材料所形成之被蝕刻體… 2 1.如巾請專利範圍第2 0項之資訊* '用月^被钱刻體裝置，其中，前述光阻層形成裝置係使某用？㈣板之製造 ”為前述光束吸收材之4, 4,κ =二聚亂胺樹脂混合物所形成之被蝕刻體。胺基）二本甲酮之裝置22其如中申二專前利8:之上^某體用母模板^ 蝕刻體上形成前述凹部。成在基材上，在該補 -置23.Λ申料利範圍第22項之資訊媒體用母模板之,迭之前述钱刻速率低之材料所形成之基以遷體；…述形成凹部之深度之厚度來形成前述被㈣ -部置：藉由在前述乾式钱刻時使前述基材之圖^…權刻體露出而形成前述凹部而形成前述凹凸直；^.二種資訊媒體用子模板之製造裝置，使用藉由申請之制t壯弟18〜21項中^之任;項所記載之資訊媒體用母模板二二广置所製造之珂述資訊媒體用母模板來製造資訊媒體用于模板，其特徵在於包括： I_板形成材形成裝置’在前述資訊媒體用母模板中前 u凹凸圖案之形成面上形成子模板形成材；以及除去裝置，將料該資訊媒體用母模板之前述被餘刻體

200300936 六、申請專利範圍 k刖述子模板形成材除去。專利種賁訊媒體用子模板之製造裝置，使用藉由，申置所：、4'2或第23項所記載之資訊媒體用母模板之i Ρ衣丨 =所衣垅之两述資訊媒體用母模板來製造資訊媒體用子杈其特徵在於包括子模板形成材形成裝置，在前述資訊媒體用母模板中前1 Λ ill 电 i ^ ^ 尺衣1，在前述資訊妳之形成面上形成子模板形成材；丨、，除去裝置，將作為該資訊媒體用母模板之前述被蝕刻體從前述子模板形成材除去丨以及 2186-5346-PF(Nl);ahddub.ptd 第38頁