[go: up one dir, main page]

TR201802199T4 - Surfaktanlara Sahip Olan İletken Macun - Google Patents

Surfaktanlara Sahip Olan İletken Macun Download PDF

Info

Publication number
TR201802199T4
TR201802199T4 TR2018/02199T TR201802199T TR201802199T4 TR 201802199 T4 TR201802199 T4 TR 201802199T4 TR 2018/02199 T TR2018/02199 T TR 2018/02199T TR 201802199 T TR201802199 T TR 201802199T TR 201802199 T4 TR201802199 T4 TR 201802199T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
group
aliphatic
conductive paste
feature
cmhn
Prior art date
Application number
TR2018/02199T
Other languages
English (en)
Inventor
Chao Chu-Lung
Chang Yu-Chen
Cheng Chong-Chieh
Lu Ying-Chih
Lin Cheng-Hsun
Huang Wen-Jui
Original Assignee
Giga Solar Mat Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Giga Solar Mat Corporation filed Critical Giga Solar Mat Corporation
Publication of TR201802199T4 publication Critical patent/TR201802199T4/tr

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/20Electrodes
    • H10F77/206Electrodes for devices having potential barriers
    • H10F77/211Electrodes for devices having potential barriers for photovoltaic cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/08Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/40Glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0091Complexes with metal-heteroatom-bonds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

Mevcut buluş, surfaktantlı iletken bir macun ile ilgilidir. Ve Güneş pilini sabit tutan, yüksek dönüşüm verimliliğini koruyan ve çevreye daha az zararlı hale getiren çevre dostu bir iletken macunun sağlanmasını amaçlamaktadır.

Description

Tarifname Mevcut bulus, toz formunda en az bir metal materyali, bir organik tasiyici, opsiyonel cam ve surfaktan içeren iletken bir macunu temin etmektedir. Metal malzemesi A1 tozu ya da Ag tozu olabilir. Organik tasiyici, opsiyonel yag asidi ya da diger baska katkilarla organik bir çözücü içerisinde çözünmüs reçineler olabilir. Cam, temel olarak günes pillerinin yansima önleyici daglamak için ve termal sinterleme islemi sirasinda sinterlemeye yardimci olmak için çesitli oksit formlarinda metalleri Içeren amorf bir bilesik olabilir. Farkli talepleri karsilamak için, farkli cam ilave edilebilir ya da hiçbir cam ilave edilmemistir. Mevcut bulus tarafindan temin edilen surfaktan asagidaki gibi bir temsil edilen formüle sahiptir: Mx(R)y(Q)z temsil edilen formül 1 içerisinde X ifadesi 1 ve 6 arasindadir, Y ifadesi 1 ve 20 arasindadir, Z ifadesi 1 ve arasindadir, M ifadesi, AI, Ti, Zr, Si, Ge ya da diger metal materyaller gibi bir yari iletken element ya da diger metal metaryaller ve yari iletken elementlerdir, R ifadesi, M ifadesine dogrudan baglanan hidrofilik gruptur ve R ifadesi, karsilik gelen bir hidrofilik fonksiyonel grup olusturmak için su ile hidrolize edilmis olmaktadir. Mevcut bulusun bazi uygulamalara göre, R ifadesi, bagimsiz olarak bir alkil oksit grup (-0- CmHn), karbonil grup (-(C=O)- CmHn), karboksil grup (-O-(C=O)- CmHn), karboniloksi grup (-(C=O)O- CmHn), amido grup(-(C=O)NH- CmHn), alkoksilen grup(-O- CmHn -0-) ve karboksilik ester grup(-O-(C=O)- CmHn -O-) olabilir. Genel anlamda, m ifadesi 1 ve 6 arasinda olabilir, n ifadesi 3 ve 13 arasinda olabilir ve CmHn, dallanmis ya da dallanmamis bir alkil ya da sikloalkil grubu olabilir. Alkoksilen grubu, etoksilen (-O-CH2-CH2-O-) olabilir ve karboksilik ester grubu, (-O-(C=O)-CH2- 0-) olabilir. O ifadesi, 1-24 karbon atomlu bir hidrofofobik gruptur. Q ifadesi ayni zamanda, stabil olabilir ve daha az reaktif alkil grup ya da alkoksi grup olabilir ya da vinil grup, alifatik epoksi grup, stiril grup, metakriloksi grup, akriloksi grup, alifatik amino grup, kloropropil grup, alifatik merkapto grup, alifatik sülfido grup, isosiyanato grup, alifatik üreido grup, alifatik karboksil grup, alifatik hidroksil grup, siklohekzil grup, fenil grup, alifatik formil grup, asetil grup, ya da benzoil grup gibi diger polimerik birimler ya da kisimlari ile tepkimeye girmesine haiz olan bir fonksiyonel grubu içerir. Alifatik grup, dallanmis ya da dallanmamis alkil grubu gibi 1-24 karbon atomlarina sahip olabilir. Buna ilaveten, Q ifadesi ayni zamanda N, O, P S dahil olmak üzere bir bilesik ya da bunlarin herhangi kombinasyonu olabilir. Bazi durumlarda, Q ifadesi, burada M ifadesi, bir metal oldugunda Q ifadesinin bir ligand olmasi için M ifadesinin kabul edebilecegi en az bir yalniz çifti içerebilir. Ayrica, Q ifadesi, bir polimer zincirinin, islevsel grup yoluyla kimyasal reaksiyon vasitasiyla bir yan zinciri ya da bir ucuna kimyasal olarak baglanabilmekte olup surfaktan Mx(R)y bir ya da daha fazla fonksiyonel gruplarina baglanabilen bir polimerik zincir anlamina gelir. Diger deyisle, bir polimerik zincire baglanan surfaktan, sadece bir türle sinirli degildir. Polimerik bir zincir O ile reaksiyona girdigi sürece, bu uygun bir polimerik zinciridir. Polimerik zinciri 1 ila 10000 polimerik birime sahip olabilir. SEK.1, mevcut bulusa ait surfaktanin bir polimerin bir yan zinciri ile baglanan bir reaksiyonu göstermektedir. SEK.1'de gösterildigi üzere, bir polimerin yan zinciri, hidroksil gruplar -OH sahiptir. Polimer, bir polivinil alkol (PVA) veya bir polivinil bütiral (PVB) olabilir. SEK. 1'de gösterildigi gibi PVB'yi ele alirsak, polimer, Mx(R)y'yi polimere baglanmasini yapan bir üretan grubu olan -NH-CO-O- olusturmak üzere izosiyanat grup -NCO'ya sahip O ile reaksiyona girer. Mevcut bulusa ait temsil edilen formül 1'in tercih edilen bir uygulamasi, formül 1, formül 2, formül 3 ya da formül 4*ün bilesigi olabilir. formül 1 O ifadesi (O-C(CH3)-CH-CO-O-C18H15) oldugundan, Z ifadesi 1 olmaktadir formül 1'de, bir taraftan Q ifadesi Miye baglanir. Ve diger taraftan, Q ifadesi ayni zamanda bir Iigand, bir iki disli olarak görev alir, mesela öyle ki O ve M ifadesi birbirine koordinasyon baglanmaya sahiptir. Ilaveten, talepler dogrultusunda, farkli ürünler R ifadesi, hidrofilik gruplardan seçilebilir. Örnegin, R ifadesinin biri, bir isopropoksi grup olabilir ve diger R ifadesi CH3 Ü"'CiaHss olabilir. Formül 1'de, M ifadesi, AI olarak gösterilmistir. X ifadesi 1 olmaktadir. R ifadesi, örnegin, Aliye baglanan (CH3)ZCHO- olan bir isopropoksi gruptur. Bunlarin içinde iki isopropoksi grubu bulunmaktadir, bu nedenle Y ifadesi 2 olmaktadir. Bir karbonil grup ya da bir karboksil grup gibi bir baska grup olabilir. Formül2 H3C O \0 0 0 3 CH3 Formül 2'de, X ifadesi 2 olmaktadir çünkü M ifadesi Si olarak gösterilmistir. R ifadesi bir etoksi grup, örnegin -O-C2H5 olmaktadir bu nedenle Y ifadesi 6 olmaktadir. Q ifadesi CBHGSZ olmaktadir bu nedenle Z ifadesi 2 olmaktadir. Formül 2ide, Q ifadesi, iki bagimsiz Ms'ye baglanabilmeye haiz olan iki degerlikli bir gruptur ve Q, 8 'de heteroatomlar bulunmaktadir örnegin. Formül 3 Formül 3'de, X ifadesi 1 olmaktadir çünkü M ifadesi Ti olarak gösterilmistir. R ifadesi, bir isopropoksi grubu, örnegin, (CH3)ZCHO- olmaktadir, bu nedenle Y ifadesi 1 olmaktadir. Q ifadesi, -OCZH4NH02H4NH2 olmaktadir bu nedenle 2 ifadesi 3 olmaktadir. Formül4 H3C H3C CH3 Formül 4'de, X ifadesi 1 olmaktadir çünkü M ifadesi Ti olarak gösterilmistir. R ifadesi, bir isopropoksi grup, örnegin (CH3)2CHO- olmaktadir bu nedenle Y ifadesi 1 olmaktadir. SEK. 2, Formül 1'in hidroliz reaksiyonunu göstermektedir. Örnegin Formül 1 ele alinarak, SEK. 2'de gösterildigi üzere, bir organik tasiyici içindeki su, Formül 1, organik tasiyici ile temas halinde oldugunda Formül 1'i hidrolize edebilir. Su molekülleri ile reaksiyona giren R ifadesindeki orijinal (CH3)2CO-)2 grubu, orijinal (CH3)2CO-)2 grubuna karsilik gelen (HO-)2 gruplari içerisine simdi dönüsür. Bu anda, (HO-)2 gruplari, metal tozlarinin yüzeyi üzerine adsorbe olabilir ve hidrofofobik grup Q, organik tasiyici içinde çözülür. SEK. 3, Formül 2'nin hidroliz reaksiyonu göstermektedir. SEK.3'de gösterildigi üzere, Formül 2"deki R ifadesi, bir etoksi grup, örnegin -O-CZH5 olmaktadir. Su molekülleri ile reaksiyona girdikten sonra, orijinal etoksi grubuna karsilik gelen (HO-)2 gruplari içerisine dönüsür. Bu anda, (HO-)2 gruplari, metal tozlarinin yüzeyi üzerine adsorbe olabilir ve hidrofofobik grup Q (03H682) organik tasiyici içinde çözülür. SEK. 4"de Tablo 1 ila Tablo 3, mevcut bulusa ait Formül 1'in surfaktanin ilave ile iletken macunun kompozisyonlarini göstermistir. SEK. 5'deki Tablo 4, örnekler ve Tablo 1 ila Tablo 3'deki karsilastirmali örnekler arasindaki elektriksel özellikler, gerilme ve yay indirgemesinin sonuçlarini göstermektedir. SEK.4'de gösterildigi üzere, daha yüksek cam içerigi (% 4) durumunda, surfaktant ilavesi gerilimi artirabilir. Düsük cam içerigi (% 1 - % 2) durumu altinda, surfaktant ayni zamanda, elektriksel özellikleri etkilemeden bu alanin gereksinimlerini karsilayan kabul edilebilir bir uzantiya gerilimi artirabilir. Buna bagli olarak, mevcut bulusun surfaktani, metal tozlarini etkili bir sekilde dagitmakla kalmaz, ayni zamanda iletken macunun yüzeyinde etkili olan % 10 (ag. Konvansiyonel metotlarinda, iletken macun içerisine cam ilave edilmesinin yani sira, günes pillerinin elektrotlari ve yari iletken substrat arasindaki baglantiyi arttirmanin baska bir yolu yoktur. Bununla birlikte, mevcut bulusun iletken macunun varliginda, daha az cam gereklidir. Daha az cam, çevreye daha az zarar verir ve günes pilleri ve yari iletken substrat elektrotlarinin arasindaki baglantiya zarar vermez. Ayrica, günes pillerinin etkinligi önemli ölçüde degismeden kalir. Bundan baska, mevcut bulusun iletken macunu, sadece günes pillerinde kullanilamaz, ayni zamanda seramik kapasitörler, yari iletken ambalajlar veya da baskili devre levhalari gibi diger elektronik elemanlarda da kullanilabilir. SEKILLER 1 . / c: A 1 :c , . .. _. Tablo 1 Örnek 3 ve Karsilastirmali Örnek arasindaki kompozisyonlar Karsilastirmali Karsilastirmali Örnek __ .. Karsilastirmali 1 1_1 1_2 Ornek 1-3 Organik tasiyici (ag. %) 24 24 24 24 A1 gücü (ag. %) 69 69 69 69 Formül 1 (ag. %) 0 1 3 Bütil Asetat (ag. %) 3 2 1 0 Tablo 2 Örnek 2 ve Karsilastirmali Örnek arasindaki kompozisyonlar Karsilastirmali Karsilastirmali Karsilastirmali 2 2-1 2-2 2-3 Organik tasiyici (ag. %) 24 24 24 24 A1 gücü (ag. %) 71 71 71 71 Formül 1 (ag. %) O 1 2 3 Bütil Asetat (ag. %) 3 2 1 O Tablo 3 Örnek 3 ve Karsilastirmali Örnek arasindaki kompozisyonlar Örnek Karsilastirmali Karsilastirmali Karsilastirmali 3 3-1 3-2 3-3 Formül 1 (ag. %) 0 1 2 3 Bütil Asetat (ag. %) 3 2 1 O Tablo 4: Elektrik Özellikleri, Gerilim ve Yay Indirgenmesi Dönüsüm Gerilim . . .w Açik devre voltaji Yay Verimliligi n (%) (N/cm) (mm) Grup Voc (V) Gerilim : A, 3 N/cm, Düsük; 0, 3~5NIcm arasinda, Normal ; :4' , 5N/cm, Ya da daha fazla (iyi) Yay: 1 mm'den TR TR TR TR TR TR

Claims (5)

ISTEMLER
1. Bir iletken macun olup, en az bir metal tozunu; bir organik tasiyici; bir cam içermekte olup, ve özelligi; asagidaki gibi bir temsil edilen formüle sahip bir surfaktana sahip olup, MX(R)y(Q)Z, içerisinde M ifadesi, bir metal materyali ya da bir yari iletken elementtir; R ifadesi, asagidaki grup arasindan seçilmektedir: alkil oksit grup (-0- CmHn), karbonil grup (-(C=O)- CmHn), karboksil grup (-O-(C=O)- CmHn), karboniloksi grup (-(C=O)O- CmHn), amido grup (-(C=O)NH- CmHn), alkoksilen grup (-0- CmHn -O-) ve karboksilik ester grup (-0- (C=O)- CmHn -0-); ve O ifadesi, asagidaki grup arasindan seçilmektedir: vinil grup, alifatik epoksi grup, stiril grup, metakriloksi grup, akriloksi grup, alifatik amino grup, kloropropil grup, alifatik merkapto grup, alifatik sülfido grup, isosiyanato grup, alifatik üreido grup, alifatik karboksi grup, alifatik hidroksil grup, siklohekzil grup, fenil grup, alifatik formil grup, asetil grup ve benzoil grup, içerisinde X ifadesi 1- ve -6 arasindadir, Y ifadesi 1 ve 20 arasindadir ve Z ifadesi 1 ve 20 arasindadir.
2. istem 1'e göre iletken macun olup, özelligi; ayrica Q ifadesinin, bir Iigand olmasi için M ifadesinin kabul edebilecegi en az bir yalniz çifte sahip olmasi ile karakterize edilir.
3. Istemler 1 ya da 2`ye göre iletken macun olup, özelligi; ayrica M ifadesinin, AI,Ti, Zr ve Si'nin en az birini içermesi ile karakterize edilir.
4. Istem 1'e göre iletken macun olup, özelligi; ayrica m ifadesinin 1 ve 6 arasinda
5. Istem 1'e göre iletken macun olup, özelligi; ayrica n ifadesinin 3 ve 13 arasinda . istem 1'e göre iletken macun olup, özelligi; ayrica bir alifatik grup, Q olarak seçildiginde bahsi geçen alifatik grubun 1 ila 24 arasinda karbon atomlari ile karakterize edilir. . Istemler 1,2, 3, ya da 6”ya göre iletken macun olup, özelligi; ayrica Q ifadesinin, bir polimerin bir kimyasal reaksiyon vasitasiyla bir yan zinciri ya da bir ucuna kimyasal olarak baglanmasi ile karakterize edilir. . Istem 7'ye göre iletken macun olup, özelligi; ayrica bahsi geçen polimer zincirin 1 ila 10000 polimerik birimlere sahip olmasi ile karakterize edilir. . Istemler 1, 2, 3, 6, 7 ya da 8'e göre iletken macun olup, özelligi; ayrica bahsi geçen surfaktanin % 10 ya da daha azini içermesi ile karakterize edilir.
TR2018/02199T 2009-10-29 2010-10-28 Surfaktanlara Sahip Olan İletken Macun TR201802199T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW098136633A TW201114876A (en) 2009-10-29 2009-10-29 Conductive paste with surfactants

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201802199T4 true TR201802199T4 (tr) 2018-03-21

Family

ID=43618250

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/02199T TR201802199T4 (tr) 2009-10-29 2010-10-28 Surfaktanlara Sahip Olan İletken Macun

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20110101285A1 (tr)
EP (1) EP2327741B1 (tr)
JP (1) JP2011096663A (tr)
TR (1) TR201802199T4 (tr)
TW (1) TW201114876A (tr)

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6128543A (ja) * 1984-06-19 1986-02-08 Takeda Chem Ind Ltd 樹脂組成物
CA1337545C (en) * 1988-02-01 1995-11-14 Yoshinobu Nakamura Copper powder for electroconductive paints and electroconductive paint compositions
JPH08259847A (ja) * 1995-03-17 1996-10-08 Daiken Kagaku Kogyo Kk 被覆無機粉体およびその製造方法
JP3510761B2 (ja) * 1997-03-26 2004-03-29 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル
JP3920449B2 (ja) * 1998-03-13 2007-05-30 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン
KR100402154B1 (ko) * 1999-04-01 2003-10-17 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 이방 도전성 페이스트
JP4103270B2 (ja) * 1999-11-01 2008-06-18 Jsr株式会社 導電性ペースト組成物、その使用方法、および回路基板
US6370013B1 (en) * 1999-11-30 2002-04-09 Kyocera Corporation Electric element incorporating wiring board
TWI332024B (en) * 2000-03-31 2010-10-21 Hitachi Chemical Co Ltd Method for making a semiconductor device
JP3452033B2 (ja) * 2000-07-05 2003-09-29 株式会社村田製作所 導電性ペーストおよび積層セラミック電子部品
JP3534684B2 (ja) * 2000-07-10 2004-06-07 Tdk株式会社 導電ペーストおよび外部電極とその製造方法
JP3915387B2 (ja) * 2000-08-29 2007-05-16 昭栄化学工業株式会社 導体ペースト
CN1319075C (zh) * 2000-10-25 2007-05-30 播磨化成株式会社 导电金属膏
JP3564089B2 (ja) * 2001-01-24 2004-09-08 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 導体ペースト及びその製造方法
KR100855169B1 (ko) * 2001-09-06 2008-08-29 가부시키가이샤 노리타케 캄파니 리미티드 도체 조성물 및 그 제조방법
JP2004139838A (ja) * 2002-10-17 2004-05-13 Noritake Co Ltd 導体ペーストおよびその利用
AU2003289277A1 (en) * 2002-12-09 2004-06-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electronic part with external electrode
JP4071171B2 (ja) * 2003-08-21 2008-04-02 太陽インキ製造株式会社 感光性導電組成物およびプラズマディスプレイパネル
WO2006041030A1 (ja) * 2004-10-08 2006-04-20 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 導電性インク
US7998370B2 (en) * 2006-08-04 2011-08-16 I.S.T. Corporation Conductive paste as well as conductive coating and conductive film prepared from same
KR100829667B1 (ko) * 2006-09-07 2008-05-16 엘지전자 주식회사 전극용 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 상판구조 및 그 제조방법
JP5339733B2 (ja) * 2007-01-26 2013-11-13 京セラ株式会社 ペースト組成物
CN101295739B (zh) * 2007-04-26 2010-09-29 比亚迪股份有限公司 太阳能电池正面电极用导电浆料及其制备方法
JP4600429B2 (ja) * 2007-05-28 2010-12-15 日立化成工業株式会社 樹脂ペースト組成物及びこれを用いた半導体装置
US20090266409A1 (en) * 2008-04-28 2009-10-29 E.I.Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
JP5699447B2 (ja) * 2009-10-09 2015-04-08 東洋インキScホールディングス株式会社 導電性インキ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011096663A (ja) 2011-05-12
US20110101285A1 (en) 2011-05-05
TW201114876A (en) 2011-05-01
EP2327741A1 (en) 2011-06-01
EP2327741B1 (en) 2017-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100538915C (zh) 糊组合物及使用该糊组合物的太阳能电池元件
TWI630246B (zh) 水性防汙鍍劑、防汙鍍層、積層體以及太陽電池模組
KR20070066938A (ko) 태양 전지 전극용 페이스트, 태양 전지 전극의 제조 방법,및 태양 전지
WO2016178386A1 (ja) Perc型太陽電池用アルミニウムペースト組成物
JP6043302B2 (ja) 酸化アルミニウムペーストおよびその使用方法
CN111480206B (zh) 导电性糊剂
KR102390548B1 (ko) 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 필름, 표면 보호 필름
JP2025124722A (ja) 帯電防止表面保護フィルムの製造方法、及び帯電防止表面保護フィルム
KR102390561B1 (ko) 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 필름, 표면 보호 필름
TR201802199T4 (tr) Surfaktanlara Sahip Olan İletken Macun
WO2006103882A1 (ja) ペースト組成物、電極およびそれを備えた太陽電池素子
KR20140117399A (ko) 패시베이션막 형성용 조성물, 패시베이션막이 있는 반도체 기판과 그 제조 방법, 및 태양전지 소자와 그 제조 방법
CN102559090B (zh) 具有表面活性剂的导电胶
JP2015170548A (ja) 電極形成用ペースト組成物並びにこれを用いた電極の製造方法及び太陽電池
CN104685611B (zh) 表面被覆膜的形成方法和具有表面被覆膜的太阳能电池
KR20150057457A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자
CN103959394A (zh) 太阳能电池和该太阳能电池所使用的膏材料
KR20150057453A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자
JP2023129974A (ja) TOPCon型太陽電池電極用導電性アルミニウムペースト組成物及びその焼成物である電極が積層されているTOPCon型太陽電池
KR20120056308A (ko) 태양 전지 전극용 페이스트 및 태양 전지 셀
TW201230064A (en) Aluminum paste composition and solar cell device using the same
KR20140053431A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자
KR20150057473A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자
KR20140053430A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자
KR20150057455A (ko) 알루미늄 페이스트 조성물 및 이를 이용한 태양전지 소자