TH9201B - Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma - Google Patents
Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasmaInfo
- Publication number
- TH9201B TH9201B TH9501000234A TH9501000234A TH9201B TH 9201 B TH9201 B TH 9201B TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9201 B TH9201 B TH 9201B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- temperature
- sensitive
- vapor
- container
- coating
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 24
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims 5
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
Abstract
การพอกผิวเคลือบด้านในบาง ๆ ภายในภาชนะพลาสติก หรือโลหะด้วยการใช้พลาสมา สามารถดำเนินการให้ลุล่วงด้วยการใช้สารอนินทรีย์เฉื่อยที่ไม่ละลาย เช่น ซิลิกา หรือโลหะออกไซด์ที่ไม่ละลายหรือ ด้วยการใช้ของผสมของสาร เช่น โลหะ โลหะออกไซด์ เกลือโลหะ และคาร์บอน หรืออนุมูลอินทรีย์เพื่อสร้างโครงผลึกยึดหยุ่น หรือด้วยการใช้ชั้นที่แตกต่างกันของโครงผลึกเหล่านั้น วิทยาการนี้เกี่ยวข้องกับ การจัดวางตำแหน่งของภาชนะภายในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยขององค์ประกอบด้านในภาชนะที่กำหนดไว้ก่อน การสร้างไอของวัสดุที่กล่าวแล้ว การสร้างพลาสมาของไอที่กล่าวแล้ว และการพอกผิวเคลือบบางของวัสดุที่กล่าวแล้ว บนบริเวณที่กำหนดไว้ก่อนของผิวด้านในของภาชนะที่กล่าวแล้ว ที่ซึ่งอนุภาคของผิวเคลือบที่กล่าวแล้ว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวที่กล่าวแล้ว เนื่องจากพลังงานความร้อนของอนุภาคเหล่านั้น แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องด้วยการไหลของมวลน้อย ๆ Application of thin inner coating inside plastic containers. Or metal with the use of plasma This can be carried out with the use of inert inert inorganic substances such as insoluble silica or metal oxides, or By using a mixture of substances such as metals, metal oxides, metal salts and carbon or organic radicals, to form a flexible crystal lattice. Or by using different layers of those lattice This technology involves Placement of containers within airtight enclosures Placing the vapor generator Which is filled with the inert inorganic material of the pre-defined elements inside the container Vaporization of the material already mentioned Creation of the aforementioned vapor plasma And thin coating of the material already mentioned On a pre-defined area of the inner surface of the said container Where the particles of the said coating High temperature Can penetrate into the skin already mentioned Due to the thermal energy of those particles But does not increase the temperature at the entire surface Due to the small mass flow
Claims (3)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH25071A TH25071A (en) | 1997-05-12 |
| TH9201B true TH9201B (en) | 1999-11-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BR9505647A (en) | Process and apparatus for coating the inner surface of a temperature-sensitive container | |
| KR20100053631A (en) | Vapor emission device, organic thin-film vapor deposition apparatus and method of organic thin-film vapor deposition | |
| EP0740710B1 (en) | Magnetron sputtering apparatus for compound thin films | |
| KR200342433Y1 (en) | Crucible for deposting organic matter of high pressure spouting type | |
| JP2007520854A (en) | Method to increase the azimuthal resolution of organic vapor jet deposition by using limited protective fluid | |
| JP2002516920A (en) | Thermal spray method for forming thick coatings and resulting product | |
| EP0714999A1 (en) | Method for sublimating a solid material and a device for implementing the method | |
| US20130160712A1 (en) | Evaporation cell and vacuum deposition system the same | |
| KR960034479A (en) | METHOD FOR MANUFACTING OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME | |
| TH9201B (en) | Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma | |
| TH25071A (en) | Processes and equipment for glazing hollow vessels By means of inorganic masking with the use of plasma | |
| JPS5766625A (en) | Manufacture of film | |
| KR100358727B1 (en) | Apparatus and method for depositing organic matter of vapor phase | |
| JPH05311446A (en) | Powder supply device and vaporization supply device for organometallic compound | |
| JPH10158820A (en) | Vapor deposition device, organic vaporization source and production of organic thin film | |
| JP6512543B2 (en) | Vapor deposition cell, thin film production apparatus and thin film production method | |
| EP1696049B1 (en) | Vacuum evaporation apparatus | |
| JP4344631B2 (en) | Molecular beam source for organic thin film deposition | |
| JP2000239846A (en) | Thin film forming device | |
| JP2719282B2 (en) | Knudsen cell for low temperature | |
| KR100503425B1 (en) | Apparatus and method using cold wall type low vacuum organic vapor transport deposition for organic thin film and organic devices | |
| JP4949644B2 (en) | Method for manufacturing Josephson element | |
| JP2000234163A (en) | Evaporating device for organic compound | |
| JPS59197563A (en) | Substrate heating apparatus | |
| JP2005320572A (en) | Organic compound vapor deposition apparatus and organic compound vapor deposition method |