[go: up one dir, main page]

TH179838A - วิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึก - Google Patents

วิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึก

Info

Publication number
TH179838A
TH179838A TH1701005550A TH1701005550A TH179838A TH 179838 A TH179838 A TH 179838A TH 1701005550 A TH1701005550 A TH 1701005550A TH 1701005550 A TH1701005550 A TH 1701005550A TH 179838 A TH179838 A TH 179838A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silicon
silicon wafer
wafer
plane
ink
Prior art date
Application number
TH1701005550A
Other languages
English (en)
Inventor
นางจิโอวาโนลา
ลูเซีย
นางบัลดี
ซิลเวีย
นางเมอเรียลโด
อันนา
นายไชนา
เปาโล
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH179838A publication Critical patent/TH179838A/th

Links

Abstract

คำขอนี้เกี่ยวข้องกับวิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึกซึ่งประกอบด้วยการจัดให้มี ซับสเตรทซิลิคอน (10) ซึ่งรวมทั้งชิ้นส่วนพ่นแบบแอกทีฟ (11); การจัดให้มีชั้นโครงสร้างไฮดรอลิก (20) สำหรับการกำหนดวงจรไฮดรอลิกที่สร้างโครงแบบเพื่อทำให้เกิดการไหลนำของหมึก; การจัด ให้มีแผ่นช่องซิลิคอน (30) ที่มีหัวฉีดจำนวหนึ่ง (31) สำหรับการพ่นหมึก; การรวมประกอบซับสเต รทซิลิคอน (10) กับชั้นโครงสร้างไฮดรอลิก (20) และแผ่นช่องซิลิคอน (30); ที่ซึ่งการจัดให้มีแผ่น ช่องซิลิคอน (30) จะประกอบด้วย: การจัดให้มีเวเฟอร์ซิลิคอน (40) ที่มีส่วนยื่นเชิงระนาบที่ถูกคั่นด้วย พื้นผิวที่หนึ่ง (41) และพื้นผิวที่สอง (42) บนด้านตรงข้ามกันของเวเฟอร์ซิลิคอน (40); การดำเนินการ ขั้นตอนการทำให้บางที่พื้นผิวที่สอง (42) เพื่อที่จะให้กำจัดส่วนกลาง (43) ที่มีความสูงที่ตั้งค่าไว้ ล่วงหน้า (H) ออกจากพื้นผิวที่สอง (42) จะขึ้นรูปเวเฟอร์ซิลิคอน (40) ต่อจากนั้นขั้นตอนการทำให้บาง โดยส่วนฐาน (44) ที่มีส่วนยื่นเชิงระนาบและส่วนรอบนอก (45) ซึ่งยื่นออกจากส่วนฐาน (44) ตามแนวขวางเทียบกับส่วนยื่นเชิงระนาบของส่วนฐาน (44); และการขึ้นรูปรูผ่านจำนวนหนึ่งอยู่ใน เวเฟอร์ซิลิคอน (40) แต่ละส่วนซึ่งกำหนดแต่ละหัวฉีด (31) สำหรับการพ่นหมึก วิธีสอดคล้องกับ การประดิษฐ์นี้จะมีลักษณะเฉพาะอยู่ที่เวเฟอร์ซิลิคอน (40) คือเวเฟอร์ซิลิคอนบนตัวฉนวน ที่ซึ่ง เวเฟอร์ซิลิคอนบนตัวฉนวนจะประกอบด้วยชั้นอุปกรณ์ซิลิคอน (38) ที่อยู่ประชิดกับพื้นผิวที่หนึ่ง (41) ชั้นจัดการซิลิคอน (37) ที่อยู่ประชิดกับพื้นผิวที่สอง (42) และชั้นตัวฉนวน (39) ที่อยู่ระหว่างนั้น:

Claims (1)

1. วิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึกซึ่งประกอบด้วย: -การจัดให้มีซับสเตรทซิลิคอน (10) ซึ่งรวมทั้งชิ้นส่วนพ่นแบบเอกทีฟ (11) -การจัดให้มีชั้นโครงสร้างไฮดรอลิก (20) สำหรับการกำหนดวงจรไฮดรอลิกที่สร้างโครง แบบเพื่อทำให้เกิดการไหลนำของหมึก -การจัดให้มีแผ่นช่องซิลิคอน (30) ที่มีหัวฉีดจำนวนหนึ่ง (31) สำหรับการพ่นหมึก แท็ก :
TH1701005550A 2016-03-10 วิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึก TH179838A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH179838A true TH179838A (th) 2018-09-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY177495A (en) Wafer thinning method
CN107006128A (zh) 用于在板状工件内加工至少一个凹槽或穿孔的方法
JP2015144197A5 (th)
JP2013028104A5 (th)
WO2018084448A3 (ko) 모판, 모판의 제조 방법, 마스크의 제조 방법 및 oled 화소 증착 방법
JP6188587B2 (ja) ウェーハの分割方法
TW200604022A (en) A method of manufacturing a nozzle plate
MY188860A (en) Substrate for mounting semiconductor element, semiconductor device and optical semiconductor device, and method for manufacturing same
WO2015134200A3 (en) Baking tool for improved wafer coating process
TW200626374A (en) Method for manufacturing droplet ejection head, droplet ejection head, and droplet ejection apparatus
TH179838A (th) วิธีของการผลิตหัวพิมพ์แบบฉีดหมึก
JP2016167573A (ja) 半導体装置の製造方法
MX2017012205A (es) Metodo de fabricacion de un cabezal de impresion de chorro de tinta.
JP2016096265A (ja) デバイスの製造方法
KR100546808B1 (ko) 세라믹 용사 코팅을 이용한 반도체 공정용 정전척
CN205217206U (zh) 喷洒涂布光阻用的晶圆载座以及光阻喷洒涂布机
JP2018137341A5 (th)
JP2014213575A5 (th)
KR101191996B1 (ko) 개선된 스프레이 방식의 패턴 형성 장치 및 방법
JP2013125855A5 (th)
CN105914291B (zh) 一种精准制备led芯片反射层的方法及led芯片
KR101212815B1 (ko) 도전성 리니어 마스크를 이용한 스프레이 방식의 패턴 형성 장치 및 방법
JP2016064540A5 (th)
EP4129693A3 (en) Reducing size variations in funnel nozzles
JP2014003201A5 (th)