SU470977A3 - Предсенсибилизированна литографска пластина - Google Patents
Предсенсибилизированна литографска пластинаInfo
- Publication number
- SU470977A3 SU470977A3 SU1774201A SU1774201A SU470977A3 SU 470977 A3 SU470977 A3 SU 470977A3 SU 1774201 A SU1774201 A SU 1774201A SU 1774201 A SU1774201 A SU 1774201A SU 470977 A3 SU470977 A3 SU 470977A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- plate according
- coating
- plate
- weight
- resin
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 claims description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 claims description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 hexamethylenediamine salt adipic Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims 3
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-amine Chemical compound NC1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims 1
- 150000003330 sebacic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 5
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-M 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(Cl)C(S([O-])(=O)=O)=C1 GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1S(O)(=O)=O XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGMVBPQOACUDRU-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,3,4-thiadiazole-2-sulfonamide Chemical compound NC1=NN=C(S(N)(=O)=O)S1 VGMVBPQOACUDRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012375 Elvamide® 8061 Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000007256 Nevus Diseases 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D177/00—Coating compositions based on polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D177/02—Polyamides derived from omega-amino carboxylic acids or from lactams thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D177/00—Coating compositions based on polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D177/06—Polyamides derived from polyamines and polycarboxylic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polyamides (AREA)
Description
их смеси с водой или хлорированными углеводородами , бензиловый спирт, фурфурол, муравьина кислота и фенол.
Покровна композици может включать одну или более добавок. Красители в количестве , необходимом дл обеспечени видимой окраски после экспонировани , эпоксидные смолы, бутират ацетилцеллюлозы и др. смолы дл повышени износостойкости.
Органофильный светочувствительный слой наноситс в виде раствора, растворитель удал етс сушкой.
Про вление пластины после экспонировани осуществл етс в водном растворе натриевой соли технического сульфата лаурилового спирта (4-8% этой соли в пересчете на вес про вител ). Врем про влени 15-20 с.
Разрешаюш,а способность светочувствительного покрыти описанной литографской пластины составл ет более 5230 штрихов на 2,54 см.
Благодар .высокому содержанию сильно олеофильной диазосмолы обеспечиваетс более ровна укладка краски, что позвол ет получать не только отличные оттиски, но и обеспечивает большую гибкость в рецептуре красок .
Пример 1. 2%-ный покрывной раствор получают при следующем процентном содержании ингридиентов, г:
Диазосоединение - продукт конденсации параформальдегида с триизопропилнафталинсульфонатом
1,26 (63% сухого остатка)
0,50 (25% сухого остатка)
0,10 (5% сухого остатка)
0,14 (7% сухого остатка)
49 г
49 г
Общий вес покровного раствора 100 г.
Каждое твердое вещество хран т и употребл ют в виде раствора (см. табл. 1)
Таблица 1
В процессе получени покрывного раствора все ингредиенты выдерживают при 50°С, а загрузку ведут при аккуратном перемешивании во избежание осаждени . 1 г исходиого раствора САБ и 1,4 г исходного раствора оразол неви бл у приливают к 25,2 г исходного диазораствора. Затем приливают 22,90 г 2-метоксиэтанола, 39,5 г н-пропанола, и 10 г исходного раствора полиамида. Покрывной раствор фильтруют через микронный фильгр и перенос т в резервуар.
Литографскую пластину получают очисткой гладкого алюминиевого листа толщиной 3, мм тринатрийфосфатом, затем обрабатывают раствором азотной кислоты и наконец прополаскивают водой. Затем лист обрабатывают раствором водорастворимого силиката (силиката натри ) и хорошо промывают от остатков водорастворимых материалов. Затем алюминиевую ленту (в виде непрерывной полосы) покрывают, пропуска ее вокруг роллера, частично погруженного в покрывной раствор, со скоростью 1,8-2,1 м/мин. Температура покрывного раствора в резервуаре 20°С. Покрытие нанос т из расчета, чтобы вес сухого покрыти достигал 320,5 мг/м, точный вес наносимого покрыти определ ют, исход из скорости продвижени ленты (полосы ), температуры в помещении и покрывного раствора.
Лепту с нанесенным покрывным раствором сушат в выт жном шкафу. При нормальной комнатной температуре покрытие высыхает за несколько минут. Полученную при м гком освещении ленту разрезают на пластины стандартных размеров и упаковывают в не пропускающие свет контейнеры, в которых они доставл ютс потребителю. Всю операцию провод т при м гком освещении.
Потребитель освобождает пластину от упаковки при м гком освещении и экспонирует ее под действием актиничного облучени через фотографический негатив или трафарет.
Экспонирование пластины провод т под 5 действием вольтовой дуги 140 А па рассто нии 135 см в течение 1,5-3 мин, обеспечива соответствующую экспозицию дл светочувствительной диазосмолы.
После экспонировани на поверхность плиты выливают водный раствор про вител состава , вес. %:
Вода89
Дюпонол ME8
Формальдегид (37%)0,8
Виннокаменна кислота0,425 Азотнокислый магний1,775.
После про влени пластина готова к печаПример 2. Аналогично готов т исходные растворы: 5%-ный раствор продукта конденсации параформальдегида с 5-нитро-о-толуолсульфонатом п-диазодифепиламина в 2-метоксиэтаноле , 5%-ный раствор элвамида 8061 в диметилформамиде и 10%-ный раствор неоцапои бл у HFL в 2-метоксиэтаноле. Исходные растворы и растворители смешивают в необходимых количествах при 50°С при перемешивании и получают покрывной раствор, приведенный в табл. 2.
Таблица 2
Таблица 3
Диазосоединение Полиамид
Обш;ий вес покрывной композиции 100 г.
Использу описанную покрывную композицию , получают хорошую литографскую печатную пластину описанным в примере 1 способом .
Пример 3. Аналогично описанному в примере 1, получают исходные растаоры: 10%-ный продукта конденсации параформальдегида с 2-хлор-5-нитробензолсульфонатом п-диазодифениламина в дихлорметане и 2%ный элвамида 8062 в метаноле. Покрывной раствор получают из исходных растворов и дополнительного количества растворител путем смешени при 50°С.
При помощи указанной покрывной композиции получают аналогично описанному в примере 1 хорошую литографскую печатную пластину.
Общий вес покрывной композиции 100 г.
Пример ы 4-9. Полученные в примере 1 пластины подвергают про влению в водных растворах дюпонола ME, вз того в различных весовых концентраци х.
Таблица 4
Во всех случа х было получено удовлетворительное изображение по всей площади. При более низких концентраци х, ниже 0,1%, необходимо незначительное протирание. Однако это не приводит к заметной потере экспонированного диазо-полиамидного покрыти . При концентрации выше 30 вес. % отмечаетс значительна желатинизаци про вител , а также ценообразование, поэтому подобные концентрации непригодны.
Таблица 5
Пример
Примеры 10-16. Дл установлени вли ни концентрации описанных в цримере 1 диазо- и цолиамидной смолы готов т их смеси.
Кажда формул ци (рецептура) содержит следующие ингредиенты, г:
Метилвиолет0,4 Тетрагидрофурфуриловый
спирт0,7
Формальдегид (37%-ный)0,7
Метанол291,8
Метилцеллозольв97,3
Всего 400,9
Каждой формул цией покрывают гладкий лист алюмини , предварительно обработанный силикатом, из расчета 1 -1,5 г/м Примеры 10-16 сравнивают пресс-тестом на обыкновенном литографском станке (прессе, печатном станке) до по влени первых трещин (разрыва) и на легкость про влени сразу и после ускоренного старени . После про влени изображение не лакируют и не закрепл ют .
Предмет изобретени
Claims (6)
1. Предсенсибилизированна литографска пластина, содержаща размеростойкий субТаблица 6
страт, например стекло, с нанесенными на одну его поверхность светочувствительной и органофильной смол, отличающа с тем, что, с целью упрощени процесса изготовлени пластины -и улучщени ее печатных свойств, в качестве органофильной и светочувствительной смол использована гомогенна смесь, содержаща , вес. %: диазосмолы 50- 90 и полиамидной смолы 10-50.
2. Пластина по п. 1, отличающа с тем, что субСтратом служит металл.
3.Пластина по п. 1, отличающа с тем, что суб-стратом служит бумага.
4.Пластина по п. 1, отличающа с тем, что диазосмола содержитс преимущественно в количестве 60-70% от веса покрыти , а полиамидна смола в количестве 30- 40% от веса покрыти .
5.Пластина по п. 1, отличающа с тем, что полиамидна смола представл ет собой сополимер капролактама и гексаметилендиаминовой соли адипиновой и себациновой кислот, а диазосмола - соль продукта конденсации параформальдегида с п-диазофениламином .
6.Пластина по п. 1, отличающа с тем, что одна поверхность субстрата обработана силикатом с целью пассивировани и вл етс гидрофильной.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13461571A | 1971-04-16 | 1971-04-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU470977A3 true SU470977A3 (ru) | 1975-05-15 |
Family
ID=22464158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU1774201A SU470977A3 (ru) | 1971-04-16 | 1972-04-14 | Предсенсибилизированна литографска пластина |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3751257A (ru) |
| AR (1) | AR200838A1 (ru) |
| AU (1) | AU451277B2 (ru) |
| BE (1) | BE782095A (ru) |
| BR (1) | BR7202239D0 (ru) |
| DE (1) | DE2218821A1 (ru) |
| ES (1) | ES401505A1 (ru) |
| FR (1) | FR2133728A1 (ru) |
| GB (1) | GB1392061A (ru) |
| IT (1) | IT957633B (ru) |
| SU (1) | SU470977A3 (ru) |
| ZA (1) | ZA721353B (ru) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3891438A (en) * | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| US3891439A (en) * | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| US4147545A (en) * | 1972-11-02 | 1979-04-03 | Polychrome Corporation | Photolithographic developing composition with organic lithium compound |
| JPS527364B2 (ru) * | 1973-07-23 | 1977-03-02 | ||
| US4225663A (en) * | 1974-08-26 | 1980-09-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Driographic printing plate |
| US4191573A (en) * | 1974-10-09 | 1980-03-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive positive image forming process with two photo-sensitive layers |
| GB1523762A (en) * | 1975-02-25 | 1978-09-06 | Oce Van Der Grinten Nv | Photocopying materials |
| US4272604A (en) * | 1975-06-09 | 1981-06-09 | Western Litho Plate & Supply Co. | Base plate and lithographic plate prepared by sensitization thereof |
| US4198470A (en) * | 1975-06-09 | 1980-04-15 | Western Litho Plate & Supply Co. | Base plate and lithographic plate prepared by sensitization thereof |
| US4272605A (en) * | 1975-06-09 | 1981-06-09 | Western Litho Plate & Supply Co. | Base plate and lithographic plate prepared by sensitization thereof |
| DE2725307A1 (de) * | 1976-06-10 | 1977-12-22 | Hoechst Co American | Verfahren zur aufzeichnung von bildern mit laserstrahlung |
| DE2652304C2 (de) * | 1976-11-17 | 1987-04-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Negativ arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und damit hergestellte lichtempfindliche Flachdruckplatte |
| US4414315A (en) * | 1979-08-06 | 1983-11-08 | Howard A. Fromson | Process for making lithographic printing plate |
| CA1155707A (en) * | 1979-08-06 | 1983-10-25 | Robert F Gracia | Lithographic printing plate and process |
| US4391897A (en) * | 1979-10-12 | 1983-07-05 | Howard A. Fromson | Diazo lithographic printing plate developing process |
| EP0051080A1 (en) * | 1980-11-03 | 1982-05-12 | Howard A. Fromson | Aluminum lithographic plate with visible image and process |
| US5279917A (en) * | 1991-05-09 | 1994-01-18 | Konica Corporation | Light-sensitive composition comprising a fluorine copolymer surfactant |
| JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
| US5747217A (en) * | 1996-04-03 | 1998-05-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Laser-induced mass transfer imaging materials and methods utilizing colorless sublimable compounds |
| US5691098A (en) * | 1996-04-03 | 1997-11-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Laser-Induced mass transfer imaging materials utilizing diazo compounds |
| JP3567402B2 (ja) * | 1996-06-12 | 2004-09-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法、その製造方法で得られる平版印刷版用支持体及びその支持体を用いた感光性平版印刷版 |
| WO2008070029A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-12 | Avery Dennison Corporation | Ink-receptive coating composition |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3660097A (en) * | 1969-11-28 | 1972-05-02 | Polychrome Corp | Diazo-polyurethane light-sensitive compositions |
-
1971
- 1971-04-16 US US00134615A patent/US3751257A/en not_active Expired - Lifetime
-
1972
- 1972-02-29 ZA ZA721353A patent/ZA721353B/xx unknown
- 1972-04-06 ES ES401505A patent/ES401505A1/es not_active Expired
- 1972-04-13 AU AU41114/72A patent/AU451277B2/en not_active Expired
- 1972-04-14 BR BR2239/72A patent/BR7202239D0/pt unknown
- 1972-04-14 BE BE782095A patent/BE782095A/xx unknown
- 1972-04-14 AR AR241491A patent/AR200838A1/es active
- 1972-04-14 SU SU1774201A patent/SU470977A3/ru active
- 1972-04-14 FR FR7213152A patent/FR2133728A1/fr not_active Withdrawn
- 1972-04-14 DE DE19722218821 patent/DE2218821A1/de active Pending
- 1972-04-14 GB GB1746972A patent/GB1392061A/en not_active Expired
- 1972-04-15 IT IT49668/72A patent/IT957633B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES401505A1 (es) | 1975-10-01 |
| BR7202239D0 (pt) | 1973-06-14 |
| GB1392061A (en) | 1975-04-23 |
| AU451277B2 (en) | 1974-07-17 |
| US3751257A (en) | 1973-08-07 |
| IT957633B (it) | 1973-10-20 |
| BE782095A (fr) | 1972-10-16 |
| AR200838A1 (es) | 1974-12-27 |
| AU4111472A (en) | 1973-10-18 |
| ZA721353B (en) | 1972-11-29 |
| FR2133728A1 (ru) | 1972-12-01 |
| DE2218821A1 (de) | 1972-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SU470977A3 (ru) | Предсенсибилизированна литографска пластина | |
| US2835576A (en) | Light-sensitive polyvalent metal alginate photolithographic element | |
| CA1090189A (en) | Lithographic plate finisher comprising a solvent phase and an aqueous phase containing tapioca dextrin | |
| US3189451A (en) | Light sensitive reproduction material comprising a colloid containing an aldehyde and a diazotized phenyl amine compound and use thereof | |
| US3110596A (en) | Process for simultaneously developing and fixing printing plates | |
| US2566709A (en) | Diazotype photoprinting materials containing colloidal silica | |
| US2772160A (en) | Light-detached resists or reliefs for printing plates | |
| US3161517A (en) | Presensitized lithoplate with coated metal base and method of preparing same | |
| JPS627595A (ja) | 平版印刷版用版面保護剤 | |
| US3933499A (en) | Printing plate comprising diazo-borofluoride and diazo resin layers | |
| EP0394874B1 (en) | Lithographic printing plate material improved in water retention characteristics | |
| US2739889A (en) | Process for fixing lithographic diazotype printing foils having been exposed to light | |
| US2233573A (en) | Coating composition for lithograph plates and method of applying the same | |
| US3899332A (en) | Printing plate and method of making the same | |
| JPH01244892A (ja) | 平版印刷版の製版方法及びバーニング前処理液 | |
| US2122404A (en) | Processes of making lithographic reproductions | |
| US2824000A (en) | Photographic stencil particularly for diffusion printing | |
| US3326685A (en) | Lithographic process using a stop bath | |
| US3455688A (en) | Lacquer emulsion for presensitized lithographic plates | |
| JPH02113997A (ja) | 平版印刷版用版面保護剤 | |
| US3146105A (en) | Lithographic process using a stop bath | |
| US3837858A (en) | Printing plate and method of making the same | |
| JPS5879249A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| US3143415A (en) | Method of preparing positives comprising a hydrophilic nitrocellulose layer for printing and platemaking use | |
| US133701A (en) | Improvement in photo-mechanical printing |