[go: up one dir, main page]

SU1663599A1 - Устройство дл изготовлени периодических структур - Google Patents

Устройство дл изготовлени периодических структур Download PDF

Info

Publication number
SU1663599A1
SU1663599A1 SU894638737A SU4638737A SU1663599A1 SU 1663599 A1 SU1663599 A1 SU 1663599A1 SU 894638737 A SU894638737 A SU 894638737A SU 4638737 A SU4638737 A SU 4638737A SU 1663599 A1 SU1663599 A1 SU 1663599A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
lenses
reference structure
axis
lens
distance
Prior art date
Application number
SU894638737A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Антонович Пилипович
Александр Вячеславович Романов
Вячеслав Феликсович Ярмолицкий
Александр Иванович Богданович
Original Assignee
Институт электроники АН БССР
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт электроники АН БССР filed Critical Институт электроники АН БССР
Priority to SU894638737A priority Critical patent/SU1663599A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1663599A1 publication Critical patent/SU1663599A1/ru

Links

Landscapes

  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к оптическому приборостроению и может примен тьс  например, дл  изготовлени  шкал и дифракционных решеток. Устройство содержит последовательно установленные и оптически св занные источник 1 когерентного излучени , расширитель 2 пучка, эталонную структуру 3, размещенную на каретке 9, котора  установлена с возможностью перемещени  в направлении, перпендикул рном штрихам эталонной структуры, равноудаленные от этой структуры объективы 4 и 5 с равными фокусными рассто ни ми, оптические оси которых параллельны и лежат в плоскости, перпендикул рной штрихам эталонной структуры 3. Устройство также содержит две диафрагмы 7 и 8, размещенные в общей задней фокальной плоскости объективов 4 и 5 на пути пор дков дифракции, реализуемой на эталонной структуре, объектив 6, передн   фокальна  плоскость которого совмещена с общей задней фокальной плоскостью объективов 4 и 5. Оптическа  ось параллельна оптическим ос м объективов 4 и 5,  вл етс  осью их симметрии и пересекает эталонную структуру 3 в точке пересечени  последней с осью расширител  2. При этом оптическа  ось расширител  2 ориентирована под углом Θ относительно нормали к эталонной структуре 3, диафрагмы 7 и 8 размещены на пути симметричных относительно оси объектива 6 нулевого и первого пор дков дифракции на рассто ни х R от оси объектива 6, а сам объектив 6 расположен на рассто нии D от объективов 4 и 5. Приведены соотношени  дл  вычислени  угла Θ в зависимости от длины λ волны источника 1 и пространственной частоты ν эталонной структуры 3, а также дл  вычислени  рассто ни  D в зависимости от рассто ни  A между ос ми объективов 4 и 5 и от угла Θ и рассто ни  R в зависимости от этого угла и от фокусного рассто ни  F объективов 4 и 5. За объективом 6 на подвижной каретке 9 установлена заготовка 10 со светочувствительным слоем, на котором при перемещении каретки записываетс  периодическа  структура с частотой ν. Изобретение обеспечивает возможность тиражировани  структур с пространственной частотой, равной частоте ν эталонной структуры 3. 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к оптическому приборостроению и может быть использовано , например, дл  изготовлени  шкал и дифракционных решеток.
Цель изобретени  - обеспечение воз- можности тиражировани  структур с пространственной частотой, равной частоте эталонной структуры.
На чертеже изображена схема устройства .
Устройство содержит источник 1 когерентного излучени , расширитель 2 пучка, эталонную структуру 3, объективы 4-6, диафрагмы 7 и 8 и подвижную каретку 9, на которой за объективом 6 установлена заго- товка 10 со светочувствительным слоем.
Расширитель 2 расположен на пути пучка от источника 1 излучени . За расширителем 2 установлена оптически св занна  с ним эталонна  структура 3, Оптическа  ось расширител  ориентирована под углом О относительно нормали к эталонной структуре , определ емым из соотношени 
9 arcsin
Av Т
(D
где А - длины волны источника 1 излучени ;
v - пространственна  частота эталон- ной структуры 3.
За эталонной структурой 3 установлены равноудаленные от нее объективы 4 и 5 с равными фокусными рассто ни ми. Оптические оси объективов 4 и 5 параллельны и лежат в плоскости, перпендикул рной штрихам эталонной структуры 3: Диафрагмы 7 и 8 установлены в общей задней фокальной плоскости объективов 4 и 5 на пути симметричных относительно оптической оси объектива б нулевого и первого пор дков дифракции, реализуемой на эталонной структуре 3, на рассто ни х от оси объектива б
r ftg в ,
где f - фокусное рассто ние объективов 4 и 5.
Объектив 6 размещен на рассто нии d от объективов 4 и 5, которое определ етс  соотношением
d
TtgT
(2)
где а - рассто ние между оптическими ос ми объективов 4 и 5,
Оптическа  ось объектива б параллельна оптическим ос м объективов 4 и 5,  вл етс  их осью симметрии и пересекает эталонную структуру 3 в точке пересечени  последней с осью расширител  2. Передн   фокальна  плоскость объектива 6 совмещена с общей задней фокальной плоскостью объективов 4 и 5. Эталонна  структура 3 размещена на каретке 9, котора  установлена с возможностью перемещени  в направлении , перпендикул рном штрихам эталонной структуры 3. На подвижной каретке 9 за объективом б установлена также заготовка 10.
Устройство работает следующим образом .
Выход щий из источника 1 когерентного излучени  пучок расшир етс  системой 2 и падает на эталон ную структуру 3 под углом в к ее нормали. Величина угла в определ етс , исход  из требовани  симметричности нулевого и первого пор дков дифракции относительно оптической оси объектива 6. Дл  выполнени  этого услови  угол дифракции
пучка первого пор дка р должен быть равен углу в .
Испытав дифракцию на структуре 3, пучок проходит объективы 4 и 5, в фокальной плоскости которых формируютс  две системы дифракционных пор дков. Диафрагмы 7 и 8 пропускают два пор дка (по одному от каждой системы), диафрагма 7 - нулевой, диафрагма 8 - первый, которые попадают в объектив 6. За объективом 6 под углом 2в друг к другу распростран ютс  два колли- мированных пучка, которые формируют интерференционную картину в плоскости заготовки 10. Пространственна  частота интерференционной картины равна пространственной частоте эталонной структуры, т.е. v . Одновременно система объективов 4-6 осуществл ет оборачивание волновых фронтов дифрагировавших на эталонной структуре 3 пучков на 180°. При перемещении каретки 9 с эталонной структурой 3 и заготовкой 10 полосы в интерференционной картине остаютс  неподвижными относительно поверхности заготовки и по ее длине формируетс  периодическа  структура .
П р и м е р. В качестве источника вз т He-Ne-лазер ЛГН-215 (Я 0,633 мкм). Прой- д  расширитель 2 с увеличением-, равным 3, пучок диаметром 6 мм падает на эталонную структуру 3, период которой равен 5 мкм, под углом в, равным 3,6°. Испытав дифракцию на эталонной структуре, пучок проходит объективы 4 и 5 (фокусное рассто ние 20 мм), рассто ние между ос ми которых 10 мм. В месте фокусировки нулевого и первого пор дков дифракции после объективов 4 и 5 установлены диафрагмы 7 и 8, имеющие отверсти  диаметром 10 мкм. На рассто нии d от объективов 4 и 5 установлен объек- тив 6. Рассто ние определ етс  из выражени  (2). При а 10 мм; v 200 лин/мм;Я 0,633 мкм d 79,2 мм. Так как Передн   фокальна  плоскость объектива 6 совпадает с задней фокальной плоскостью объективов 4 и 5, его фокусное рассто ние равно 79,2 - 20 59,2 мм. В результате интерференции прошедших объектив 6 параллельных пучков в плоскости заготовки формируетс  интерференционна  картина, пространственна  частота которой равна V или 200 лин/мм. Эталонна  структура и заготовка размещены на каретке прецизионного устройства перемещени  с аэродинамическими направл ющими. При перемещении каретки, например, с помощью линейного электроддвигател  по длине заготовки формируетс  периодическа  структура.
Ф о р м у л а и з о б р е те н и  
Устройство дл  изготовлени  периодических структур, содержащее последовательно установленные и оптически св занные источник когерентного излучени , расширитель пучка, эталонную структуру , размещенную на каретке, котора  установлена с возможностью перемещени  в направлении, перпендикул рном штрихам эталонной структуры, равноудаленные
от этой структуры первый и второй объективы с равными фокусными рассто ни ми, оптические оси которых параллельны и лежат в плоскости, перпендикул рной штрихам эталонной структуры, две диафрагмы, размещенные в общей задней фокальной плоскости первого и второго объективов, третий объектив, передн   фокальна  плоскость которого совмещена с общей задней фокальной плоскостью первого и второго
объективов, а оптическа  ось параллельна оптическим ос м первого и второго объективов  вл етс  их осью симметрии и пересекает эталонную структуру в точке пересечени  последней с осью расширител , отличающеес  тем, что, с целью обеспечени  возможности тиражировани  структур с пространственной частотой, равной частоте эталонной структуры, оптическа  ось расширител  ориентирована под
углом 0 относительно нормали к эталонной структуре, равным;
0 arcsinAv/2 ,
где Я-длина волны источника излучени ;
V - пространственна  частота эталонной структуры, диафрагмы размещены на рассто ни х
45
ftg в
от оси третьего объектива, где f - фокусное рассто ние первого и второго объективов, а третий объектив располо- жен на рассто нии
d a/2tg в
от первого и второго объективов, где а - рассто ние между оптическими ос ми первого и второго объективов.

Claims (1)

  1. Формула изобретения
    Устройство для изготовления периодических структур, содержащее последовательно установленные и оптически Связанные источник когерентного излучения, расширитель пучка, эталонную структуру, размещенную на каретке, которая установлена с возможностью перемещения в направлении, перпендикулярном штрихам эталонной структуры, равноудаленные от этой структуры первый и второй объективы с равными фокусными расстояниями, оптические оси которых параллельны и лежат в плоскости, перпендикулярной штрихам эталонной структуры, две диафрагмы, размещенные в общей задней фокальной плоскости первого и второго объективов, третий объектив, передняя фокальная плоскость которого совмещена с общей задней фокальной плоскостью первого и второго объективов, а оптическая ось параллельна оптическим осям первого и второго объективов является их осью симметрии и пересекает эталонную структуру в точке пересечения последней с осью расширителя, отличающееся тем, что, с целью обеспечения возможности тиражирования структур с пространственной частотой, равной частоте эталонной структуры, оптическая ось расширителя ориентирована под углом Θ относительно нормали к эталонной структуре, равным;
    0 = arcsin Λ v/2 , где Λ-длина волны источника излучения; ν - пространственная частота эталонной структуры, диафрагмы размещены на расстояниях r= ftg Θ от оси третьего объектива, где f - фокусное расстояние первого и второго объективов, а третий объектив расположен на расстоянии d = a/2tg θ от первого и второго объективов, где а расстояние между оптическими осями первого и второго объективов.
SU894638737A 1989-01-16 1989-01-16 Устройство дл изготовлени периодических структур SU1663599A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894638737A SU1663599A1 (ru) 1989-01-16 1989-01-16 Устройство дл изготовлени периодических структур

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894638737A SU1663599A1 (ru) 1989-01-16 1989-01-16 Устройство дл изготовлени периодических структур

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1663599A1 true SU1663599A1 (ru) 1991-07-15

Family

ID=21423403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU894638737A SU1663599A1 (ru) 1989-01-16 1989-01-16 Устройство дл изготовлени периодических структур

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1663599A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2125284C1 (ru) * 1996-08-14 1999-01-20 Урвачев Виктор Иванович Способ получения отражательных голограмм (варианты)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 120561, кл. G 02 В 27/42, 04 11.85. Авторское свидетельство СССР № 1420585, кл, G 02 В 27/42, 02.12.86. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2125284C1 (ru) * 1996-08-14 1999-01-20 Урвачев Виктор Иванович Способ получения отражательных голограмм (варианты)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1102593A (en) Method of forming focusing diffraction gratings for integrated optics
US4311389A (en) Method for the optical alignment of designs in two near planes and alignment apparatus for performing this method
US8107168B2 (en) Beam splitter apparatus and system
DE69228338T2 (de) Ausrichtvorrichtung
EP0795116A4 (en) PHASE SHIFTING DIFFERENTIAL INTERFEROMETER
JP2779102B2 (ja) 多重波長干渉計装置
KR20010080342A (ko) 광유도 격자의 파장 조절
CN104765099A (zh) 一种刻写周期可调光纤光栅的装置及方法
SU1663599A1 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
SU1420585A1 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
US6990272B2 (en) Apparatus for generating an optical interference pattern
SU1280561A1 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
EP0486050B1 (en) Method and apparatus for measuring displacement
SU1620972A1 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
SU1697040A1 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
DE3632922C2 (ru)
CN112882347B (zh) 一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统
SU1345154A2 (ru) Устройство дл изготовлени периодических структур
CN120704067A (zh) 位置测量装置、测量方法及光刻设备
JP3119476B2 (ja) ホログラム作成装置
US6413702B1 (en) Method for making a holographic linear position encoder
Ludman et al. Porous-matrix holography for nonspatial filtering of lasers
Lu et al. Lens centering by using binary phase grating
JPH0439647B2 (ru)
SU1000745A1 (ru) Интерферометр дл контрол вогнутых цилиндрических поверхностей