[go: up one dir, main page]

SE534346C2 - Integrated chip including trench - Google Patents

Integrated chip including trench Download PDF

Info

Publication number
SE534346C2
SE534346C2 SE0950937A SE0950937A SE534346C2 SE 534346 C2 SE534346 C2 SE 534346C2 SE 0950937 A SE0950937 A SE 0950937A SE 0950937 A SE0950937 A SE 0950937A SE 534346 C2 SE534346 C2 SE 534346C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
chip
waveguide
trench
ditch
waveguides
Prior art date
Application number
SE0950937A
Other languages
Swedish (sv)
Other versions
SE0950937A1 (en
Inventor
Christofer Silfvenius
Marcin Swillo
Original Assignee
Ekklippan Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ekklippan Ab filed Critical Ekklippan Ab
Priority to SE0950937A priority Critical patent/SE534346C2/en
Priority to PCT/SE2010/051326 priority patent/WO2011068459A1/en
Publication of SE0950937A1 publication Critical patent/SE0950937A1/en
Publication of SE534346C2 publication Critical patent/SE534346C2/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0262Photo-diodes, e.g. transceiver devices, bidirectional devices
    • H01S5/0264Photo-diodes, e.g. transceiver devices, bidirectional devices for monitoring the laser-output
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12004Combinations of two or more optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4296Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with sources of high radiant energy, e.g. high power lasers, high temperature light sources
    • H01L27/15
    • H01L31/02327
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0265Intensity modulators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/40Optical elements or arrangements
    • H10F77/413Optical elements or arrangements directly associated or integrated with the devices, e.g. back reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/12107Grating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0262Photo-diodes, e.g. transceiver devices, bidirectional devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/20Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
    • H01S5/22Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers having a ridge or stripe structure
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H29/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one light-emitting semiconductor element covered by group H10H20/00
    • H10H29/10Integrated devices comprising at least one light-emitting semiconductor component covered by group H10H20/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Description

534 346 utan skarvar i vågledaren. Chippet innefattar ett antal våg- ledare och komponenter, vilka alla är utbildade genom etsning av denna grundstruktur. Ett sådant chip erbjuder låg till- verkningskostnad i kombination med ett högt tillverkningsut- byte, så kallat yield. 534 346 without joints in the waveguide. The chip includes a number of waveguides and components, all of which are formed by etching this basic structure. Such a chip offers low manufacturing cost in combination with a high manufacturing yield.

Ett problem vid sändning och mottagning av optiska signaler är risken för optisk och elektrisk överhörning mellan olika komponenter. Detta är i synnerhet sant i det fall laserkompo- nenter och ljusdetektorkomponenter är anordnade i samma in- tegrerade chip. Det kan förekomma problem med oönskade re- flektioner i skarvar eller gränssnitt som inkopplingsporten till den optiska fibern eller från annat störande ströljus.One problem with transmitting and receiving optical signals is the risk of optical and electrical crosstalk between different components. This is particularly true when laser components and light detector components are arranged on the same integrated chip. There can be problems with unwanted reflections at joints or interfaces such as the connection port to the optical fiber or from other interfering stray light.

Dessutom kan det förekomma oönskat sådant ljus från externt anordnade komponenter av typen lasrar, lysdioder och motsva- rande, såväl som spritt (scattered) ljus från imperfektioner i vågledare och gitter samt spontanemission fràn optiskt aktivt material i själva chippet.In addition, there may be unwanted light from externally arranged components such as lasers, LEDs and the like, as well as scattered light from imperfections in waveguides and gratings and spontaneous emission from optically active material in the chip itself.

Speciellt vid integrationstillämpningar är det fysiska av- ståndet mellan komponenter ofta litet, och risken för både elektrisk och optisk överhörning är därför stor.Especially in integration applications, the physical distance between components is often small, and the risk of both electrical and optical crosstalk is therefore high.

Således hänför sig uppfinningen till ett integrerat chip för data- eller telekommunikation eller optisk analys för en, två eller fler våglängder, där chippet har en grundstruktur som är lika från en bärare och uppåt över chippets hela yta, där utbildade vid chippets övre yta, och där chippet innefattar monolitiskt grundstrukturen innefattar uppskjutande vågledare, integrerade komponenter, och utmärks av att att ett dike förefinns nedetsat längs med åtminstone en av sidorna hos en av vågledarna och ned till ett etsdjup som är åtminstone så stort att diket är optiskt isolerande och av att åtminstone 10 15 20 25 534 346 en vägg hos diket som är anordnad närmast en vågledare uppvi- sar åtminstone en av egenskaperna för det första att den är korrugerad, varvid den korrugerade väggen utgör en gitterba- serad optisk komponent, och för det andra att den är vinklad så att ljus som faller in mot vågledaren reflekteras mot dikesväggen och in mot chippets substrat alternativt ut från chippet.Thus, the invention relates to an integrated chip for data or telecommunications or optical analysis for one, two or more wavelengths, where the chip has a basic structure that is the same from a carrier and upwards over the entire surface of the chip, where formed at the upper surface of the chip, and where the chip comprises monolithically the basic structure comprises protruding waveguides, integrated components, and is characterized in that a trench is etched down along at least one of the sides of one of the waveguides and down to an etching depth that is at least so great that the trench is optically insulating and in that at least 10 15 20 25 534 346 a wall of the trench that is arranged closest to a waveguide has at least one of the properties firstly that it is corrugated, whereby the corrugated wall constitutes a grating-based optical component, and secondly that it is angled so that light incident on the waveguide is reflected towards the trench wall and towards the substrate of the chip alternatively out of the the chip.

Uppfinningen kommer nu att beskrivas i detalj, med hänvisning till exemplifierande utföringsformer av uppfinningen och de bifogade ritningarna, där: Figur ]. är en perspektivvy över ett monolitiskt integrerat chip för optiska signaler enligt en första föredragen utfö- ringsform av föreliggande uppfinning; Figur 2 är en vy uppifrån av' det integrerade chippet som visas i figur 1; Figur 3 är en perspektivvy över ett monolitiskt integrerat chip för optiska signaler enligt en andra föredragen utfö- ringsform av föreliggande uppfinning; Figur 4 är en vy uppifrån av' det integrerade chippet som visas i figur 3; och Figurerna 5a-5c är tvärsnittsvyer genom A-A i figur 2, som illustrerar den detaljerade utformningen av en dikesvägg i enlighet med föreliggande uppfinning.The invention will now be described in detail, with reference to exemplary embodiments of the invention and the accompanying drawings, in which: Figure 1 is a perspective view of a monolithic integrated chip for optical signals according to a first preferred embodiment of the present invention; Figure 2 is a top view of the integrated chip shown in Figure 1; Figure 3 is a perspective view of a monolithic integrated chip for optical signals according to a second preferred embodiment of the present invention; Figure 4 is a top view of the integrated chip shown in Figure 3; and Figures 5a-5c are cross-sectional views through A-A in Figure 2, illustrating the detailed design of a trench wall according to the present invention.

I figur 1 visas schematiskt ett monolitiskt integrerat chip 1, före metallisering, med en inkopplingsvågledare 2, en Ett chip med sådana egenskaper är känt från det svenska patentet 0501217- optisk kopplare 6 och två utgångsvågledare 4, 5. 4. En eller båda av vågledarna 4, 5 kan även fungera som ingângsvågledare till kopplaren 6. 10 15 20 25 30 534 345 Enligt uppfinningen är chippet l avsett för data- eller tele- kommunikation eller optisk analys för en, två eller fler våglängder.Figure 1 schematically shows a monolithic integrated chip 1, before metallization, with an input waveguide 2, an optical coupler 6 and two output waveguides 4, 5. 4. One or both of the waveguides 4, 5 can also function as input waveguides to the coupler 6. 10 15 20 25 30 534 345 According to the invention, the chip 1 is intended for data or telecommunications or optical analysis for one, two or more wavelengths.

Chippet l innefattar en vågledare 2 med en första port 3, där porten 3 är anordnad att leda ljus in i eller ut ur vägleda- ren 2. Vàgledaren 2 är expanderad, i en expanderad del i form av en optisk kopplare 6, från den första porten 3 i riktning mot en andra vågledare 4 och en tredje vågledare 5. Chippets l olika komponenter är monolitiskt integrerade. Med andra ord har chippet en grundstruktur som är lika från en bärare och uppåt över chippets hela yta, och vågledarna 2, 4, 5 är ut- bildade vid chippets övre yta genom att grundstrukturen et- sats ned så att uppskjutande vågledare bildats.The chip 1 comprises a waveguide 2 with a first port 3, where the port 3 is arranged to guide light into or out of the waveguide 2. The waveguide 2 is expanded, in an expanded part in the form of an optical coupler 6, from the first port 3 in the direction of a second waveguide 4 and a third waveguide 5. The various components of the chip 1 are monolithically integrated. In other words, the chip has a basic structure that is the same from a carrier upwards over the entire surface of the chip, and the waveguides 2, 4, 5 are formed at the upper surface of the chip by etching the basic structure down so that protruding waveguides are formed.

Figur 2 visar ett integrerat chip som liknar det i figur 1.Figure 2 shows an integrated chip similar to that in Figure 1.

Motsvarande delar har samma hänvisningssiffror i samtliga figurer.Corresponding parts have the same reference numerals in all figures.

De i chippet 1 ingående monolitiskt integrerade komponenterna delar ett gemensamt jordplan, nämligen substratet i chippet 1, som utgör strukturens n-sida. Däröver förefinns material- lager som utgör en p-sida hos chippet 1, varvid en pn- övergång uppkommer.The monolithically integrated components included in chip 1 share a common ground plane, namely the substrate in chip 1, which constitutes the n-side of the structure. Above this are layers of material that constitute a p-side of chip 1, whereby a pn junction arises.

Längs med àtminstone en av sidorna hos en av vågledarna före- finns ett dike 7. Diket 7 är framställt genom etsning av den monolitiskt integrerade materialstrukturen i chippet 1 från chippets l ovansida och ned till ett etsdjup som är åtminsto- ne så stort att ett dike åstadkoms som är optiskt och före- trädesvis även elektriskt isolerande. Enligt en föredragen utföringsform etsar man åtminstone ned till ett n-lager hos chippet 1. Enligt en annan föredragen utföringsform etsar man 10 15 20 25 534 346 till åtminstone ett djup där alla p-lager i strukturen ovan- för själva pn-övergången har etsats igenom, eller åtminstone till ett djup som når ned till själva pn-övergången eller ned till själva pn-övergången sånär som på endast ett fåtal, företrädesvis maximalt 3, nmteriallager, alternativt åtmin- stone ned till det först förekommande, i etsriktningen ned genonx materialet, n-lagret sånär soul på endast ett fåtal, företrädesvis maximalt 3, materiallager, alternativt till ett djup som åtminstone passerar själva pn-övergången.Along at least one of the sides of one of the waveguides there is a trench 7. The trench 7 is produced by etching the monolithically integrated material structure in the chip 1 from the top of the chip 1 down to an etching depth that is at least so great that a trench is created that is optically and preferably also electrically insulating. According to a preferred embodiment, etching is carried out at least down to an n-layer of the chip 1. According to another preferred embodiment, etching is carried out to at least a depth where all p-layers in the structure above the pn junction itself have been etched through, or at least to a depth that reaches down to the pn junction itself or down to the pn junction itself so that only a few, preferably a maximum of 3, material layers, alternatively at least down to the first occurring, in the etching direction down through the material, n-layer so that only a few, preferably a maximum of 3, material layers, alternatively to a depth that at least passes through the pn junction itself.

Speciellt föredraget är att diket 7 når ned till ett djup av mellan 50 och 5000 nm, företrädesvis mellan 200 och 2000 nm.It is particularly preferred that the trench 7 reaches down to a depth of between 50 and 5000 nm, preferably between 200 and 2000 nm.

Sådana etsdjup medför goda isoleringsegenskaper optiskt såväl som elektriskt (se nedan).Such etching depths result in good insulating properties optically as well as electrically (see below).

Det i figurerna illustrerade diket 7 löper på båda sidor om chippets l samtliga vågledare 2, 4, 5. Emellertid kan diket 7 löpa antingen längs med endast delar av en eller flera vågle- dare, omge en eller flera vågledare alternativt omge en eller flera komponenter på chipet l. Detta framgår av det nedanstå- ende.The trench 7 illustrated in the figures runs on both sides of all waveguides 2, 4, 5 of the chip 1. However, the trench 7 can run either along only parts of one or more waveguides, surround one or more waveguides or surround one or more components on the chip 1. This is evident from the following.

Med hjälp av diket 7 uppnås en effektiv optisk isolering av den berörda vågledaren beträffande ströljus som faller in mot vågledaren från riktningar som avskärmas med hjälp av diket 7. Sådant ströljus kan härstamma från närliggande komponenter eller delkomponenter såsom från en integrerad laser, men kan även utgöras av exempelvis spontanemitterat ljus från koppla- ren 6 själv eller ljus som faller in mot chippet l utifrån.With the help of the trench 7, effective optical isolation of the relevant waveguide is achieved with respect to stray light incident on the waveguide from directions that are shielded by the trench 7. Such stray light may originate from nearby components or subcomponents such as from an integrated laser, but may also consist of, for example, spontaneously emitted light from the coupler 6 itself or light incident on the chip 1 from the outside.

Figur 5a illustrerar i tvärsnitt en föredragen utföringsform av ett dike 7 enligt föreliggande uppfinning. En vågledare, i detta fall den tredje vågledaren 5, är försedd med ett dike 10 15 20 25 30 534 346 7. Figuren är av förtydligande skäl inte skalenlig. Enligt en föredragen utföringsform är åtminstone en vägg 55 hos diket 7 som är anordnad närmast vågledaren 5 vertikal.Figure 5a illustrates in cross-section a preferred embodiment of a trench 7 according to the present invention. A waveguide, in this case the third waveguide 5, is provided with a trench 7. The figure is not to scale for clarity. According to a preferred embodiment, at least one wall 55 of the trench 7 which is arranged closest to the waveguide 5 is vertical.

I detta fall utformas chippet 1 med fördel i absorberande material 8 på den sida om diket 7 på vilken vågledaren 5 inte finns.In this case, the chip 1 is advantageously formed in absorbing material 8 on the side of the trench 7 on which the waveguide 5 is not located.

Eftersom infallande, oönskat ströljus L på grund av den vertikala väggen 55 återreflekteras in i det absorberande materialet 8, kan sådant ströljus L hindras att sprida sig vidare. Det är föredraget att mängden absorberande material 8 mellan från varandra isolerade komponenter eller delkomponen- ter i chippet l är tillräckligt för att utsläcka väsentligen allt sådant återreflekterat ströljus L. Enligt en föredragen utföringsform är således det minsta avståndet mellan två närliggande, parallella diken, som vardera är anordnade för att isolera varsin vågledare, åtminstone 25 pm. Det är även föredraget att jordade alternativt backspända kontaktytor används med chippet l för att förbättra absorptionen av oöns- kat ljus L i det absorberande materialet 8.Since incident, unwanted stray light L is reflected back into the absorbing material 8 by the vertical wall 55, such stray light L can be prevented from spreading further. It is preferred that the amount of absorbing material 8 between mutually isolated components or sub-components in the chip 1 is sufficient to extinguish substantially all such re-reflected stray light L. According to a preferred embodiment, the minimum distance between two adjacent, parallel trenches, each of which is arranged to isolate a respective waveguide, is thus at least 25 pm. It is also preferred that grounded or reverse biased contact surfaces are used with the chip 1 to improve the absorption of unwanted light L in the absorbing material 8.

Figur 5b illustrerar, på motsvarande sätt som figur Sa, en andra föredragen utformning av väggen 55. Åtminstone en vägg hos diket 7 som är anordnad närmast vågledaren 5 är således vinklad så att ljus L som faller in mot vågledaren 5 reflek- teras mot dikesväggen 55 ut från chippet l.Figure 5b illustrates, in a similar manner to Figure 5a, a second preferred design of the wall 55. At least one wall of the trench 7 which is arranged closest to the waveguide 5 is thus angled so that light L which falls onto the waveguide 5 is reflected towards the trench wall 55 out of the chip 1.

På motsvarande sätt illustrerar figur 5c en tredje föredragen utföringsform av väggen 55, vari åtminstone en vägg hos diket 7 som är anordnad närmast vàgledaren 5 är vinklad så att ljus L som faller in mot vågledaren 5 reflekteras mot dikesväggen 55 ned mot chippets l substrat, som i allmänhet inte är ab- sorberande. Detta kan i många fall leda till att det oönskade ströljuset fördelas över en större materialvolym, vilket är 10 15 20 25 30 534 346 önskvärt. Å andra sidan riskerar ljuset att återreflekteras till känsliga områden i chippet. att Dessutom finns det en risk störande interferensmönster uppstår mellan chipets l väggar. Därför är det i vissa tillämpningar föredraget att använda antingen den första eller den andra föredragna ut- formningen hos väggen 55 såsom beskrivits ovan.Correspondingly, Figure 5c illustrates a third preferred embodiment of the wall 55, wherein at least one wall of the trench 7 which is arranged closest to the waveguide 5 is angled so that light L incident on the waveguide 5 is reflected against the trench wall 55 down towards the substrate of the chip 1, which is generally not absorbent. This can in many cases lead to the unwanted stray light being distributed over a larger volume of material, which is desirable. On the other hand, there is a risk that the light will be reflected back to sensitive areas of the chip. In addition, there is a risk that disturbing interference patterns will arise between the walls of the chip 1. Therefore, in certain applications it is preferable to use either the first or the second preferred design of the wall 55 as described above.

Såsom framgår av det svenska patentet 0501217-4 kan material- systemet i ett monolitiskt integrerat chip 1 enligt förelig- gande uppfinning utformas med olika material. Materialstruk- turen består dock vanligen av ett antal lager av olika halv- ledande material, huvudsakligen bestående av As, P, Ga, In och/eller Al. Det finns flera lämpliga sätt att tillverka ett monolitiskt integrerat gitter som kan användas som laserkavi- tet eller filter i enlighet med föreliggande uppfinning. Det aktiva materialet kan vidare bestå av ett bulklager, en MQW- struktur (Multiple Quantum Well) eller en kombination av QD (Quantum Dots).As is apparent from Swedish patent 0501217-4, the material system in a monolithically integrated chip 1 according to the present invention can be designed with different materials. However, the material structure usually consists of a number of layers of different semiconducting materials, mainly consisting of As, P, Ga, In and/or Al. There are several suitable ways to manufacture a monolithically integrated grating that can be used as a laser cavity or filter in accordance with the present invention. The active material can further consist of a bulk layer, an MQW structure (Multiple Quantum Well) or a combination of QDs (Quantum Dots).

För att uppnå en god isolering av en viss vâgledare är det föredraget att ett respektive dike löper längs med båda si- dorna av åtminstone en vâgledare. isoleras Med andra ord vågledaren ifråga optiskt med hjälp av ett dike i enlighet med uppfinningen längs med sina båda sidor, varför påverkan från infallande ströljus i vågledaren och på komponenter som är anordnade längs med vågledaren minskar betydligt.In order to achieve good insulation of a particular waveguide, it is preferred that a respective trench runs along both sides of at least one waveguide. In other words, the waveguide in question is optically isolated by means of a trench in accordance with the invention along both its sides, so that the influence of incident stray light in the waveguide and on components arranged along the waveguide is significantly reduced.

Enligt en speciellt föredragen utföringsform, vilken även illustreras i figurerna l-4, är diket 7 anordnat att löpa längs med och runt samtliga i en komponent anordnade vâgleda- re 2, 4, 5, så att alla dessa vâgledare 2, 4, 5 är omgivna av diket 7. 10 15 25 30 534 346 I själva verket beskriver diket 7 såsom det illustreras i figurerna l och 2 inte en sluten kurva. Anledningen till detta är att ljus leds in och ut ur den första vågledaren 2 genom porten 3, varför en öppning i diket 7 måste anordnas framför porten 3. Att diket 7 "omger" samtliga vågledare 2, 4, 5 är häri ämnat att även omfatta utformningar där diket 7 har sådana öppningar där anslutningar till en eller flera vågledare förefinns. Såsom nämnts ovan kan även vågledarna 4, 5 innefatta portar för att leda in och ut ljus, i vilket fall diket 7 är anordnat med öppningar framför sådana portar.According to a particularly preferred embodiment, which is also illustrated in Figures 1-4, the trench 7 is arranged to run along and around all waveguides 2, 4, 5 arranged in a component, so that all these waveguides 2, 4, 5 are surrounded by the trench 7. In fact, the trench 7 as illustrated in Figures 1 and 2 does not describe a closed curve. The reason for this is that light is guided in and out of the first waveguide 2 through the port 3, which is why an opening in the trench 7 must be arranged in front of the port 3. The fact that the trench 7 "surrounds" all waveguides 2, 4, 5 is herein intended to also encompass designs where the trench 7 has such openings where connections to one or more waveguides are found. As mentioned above, the waveguides 4, 5 may also include ports for conducting light in and out, in which case the trench 7 is arranged with openings in front of such ports.

Ifall flera komponenter är anordnade bredvid varandra med transportvågledare anordnade för att leda ljus mellan kompo- nenter är det föredraget att ett dike är anordnat att omge samtliga dessa komponenter inklusive transportvågledare, emellertid med öppningar för eventuella externa portar. I det fall ett chip skall klyvas är det föredraget att inget dike är anordnat längs med en vågledare vid stället för klyvning, eftersom ett sådant dike kan orsaka klyvfel.In the case where several components are arranged side by side with transport waveguides arranged to conduct light between components, it is preferred that a trench is arranged to surround all of these components including the transport waveguides, however with openings for any external ports. In the case where a chip is to be cleaved, it is preferred that no trench is arranged along a waveguide at the site of cleavage, since such a trench may cause cleavage defects.

De oönskade strömmar som orsakar elektrisk överhörning mellan olika komponenter i chippet 1 sker till stor del i p- materialet alternativt via pn-övergången. I det fall diket 7, när det omger gruppen vågledare 2, 4, 5, skär av p-sidan och pn-övergången i chippet 1 runt hela gruppen, kommer således gruppen att vara väsentligen elektriskt isolerad från störan- de elektrisk överhörning från andra delar av chippet 1. Ett sådant arrangemang medför således att en mycket god optisk såväl som elektrisk isolering kan åstadkommas av en grupp vågledare 2, 4, 5 på chippet l.The unwanted currents that cause electrical crosstalk between different components in the chip 1 occur largely in the p-material or via the pn-junction. In the case where the trench 7, when surrounding the group of waveguides 2, 4, 5, cuts off the p-side and the pn-junction in the chip 1 around the entire group, the group will thus be substantially electrically isolated from disturbing electrical crosstalk from other parts of the chip 1. Such an arrangement thus means that a very good optical as well as electrical isolation can be achieved by a group of waveguides 2, 4, 5 on the chip 1.

Enligt en speciellt föredragen utföringsform anordnas en array av komponenter på ett och samma chip l. Ett sådant chip kan exempelvis innefatta ett antal komponenter av den typ som 15 20 25 30 534 346 illustreras i figurerna 1 och 2, vari varje komponent inne- fattar en första vågledare 2, en andra vàgledare 4 och en tredje vågledare 5. Den andra vågledaren 4 innefattar en laser för att sända ut ljus. Den tredje vågledaren 5 innefat- tar en ljusdetektor för att detektera ljus. Delkomponenterna kan i detta fall med fördel vara monolitiskt integrerade.According to a particularly preferred embodiment, an array of components is arranged on one and the same chip 1. Such a chip may, for example, comprise a number of components of the type illustrated in Figures 1 and 2, wherein each component comprises a first waveguide 2, a second waveguide 4 and a third waveguide 5. The second waveguide 4 comprises a laser for emitting light. The third waveguide 5 comprises a light detector for detecting light. The subcomponents may in this case advantageously be monolithically integrated.

Genom en expanderad del i form av en optisk kopplare 6 leds ljus från lasern till den första vàgledaren 4 och vidare ut genom porten 3, samt leds ljus från porten 3, via den första vàgledaren 2 och fram till ljusdetektorn i den tredje vågle- daren. Olika komponenter är anordnade med respektive lasrar och ljusdetektorer för att utsända och ta emot ljus med olika respektive våglängd.Through an expanded part in the form of an optical coupler 6, light is guided from the laser to the first waveguide 4 and further out through the port 3, and light is guided from the port 3, via the first waveguide 2 and up to the light detector in the third waveguide. Various components are arranged with respective lasers and light detectors to emit and receive light with different respective wavelengths.

Varje komponent är i detta fall företrädesvis isolerad från övriga komponenter med hjälp av ett respektive omgivande dike i enlighet med det ovan beskrivna, vilket medför att en mängd sådana komponenter kan framställas på ett och samma chip l och kan drivas där utan väsentlig överhörning mellan kompo- nenter. Sådan tillverkning av ett flertal komponenter vägle- dare på ett och samma chip medför låga tillverkningskostna- der, exempelvis för tillämpningar i vilka ljus med ett fler- tal olika våglängder skall hanteras parallellt.Each component is in this case preferably isolated from the other components by means of a respective surrounding trench in accordance with the above-described, which means that a number of such components can be manufactured on one and the same chip 1 and can be operated there without significant crosstalk between components. Such manufacturing of a plurality of components guides on one and the same chip entails low manufacturing costs, for example for applications in which light with a plurality of different wavelengths is to be handled in parallel.

Fackmannen inser att ett flertal komponenter kan anordnas på ett och samma monolitiskt integrerat chip 1 på flera olika sätt. Exempelvis kan ett flertal lasrar och/eller ljusdetek- torer för olika våglängder anordnas i separata från varandra isolerade vàgledare på ett och samma chip 1. Vissa komponen- ter på chipet l kan även vara kaskadkopplade efter varandra, med hjälp av optiska kopplare, där varje respektive komponent är optiskt och elektriskt isolerad från övriga komponenter på det sätt som beskrivits ovan, med öppningar i diket för transportvågledare och så vidare. På detta sätt kan exempel- 10 15 20 25 534 346 10 vis triplexrar byggas upp, med två lasrar och en fotodekektor som är verksamma på varsin separat våglängd.The skilled person will recognize that a plurality of components can be arranged on one and the same monolithic integrated chip 1 in several different ways. For example, a plurality of lasers and/or light detectors for different wavelengths can be arranged in separate waveguides isolated from each other on one and the same chip 1. Certain components on the chip 1 can also be cascaded one after the other, using optical couplers, where each respective component is optically and electrically isolated from the other components in the manner described above, with openings in the trench for transport waveguides and so on. In this way, for example, triplexers can be built up, with two lasers and a photodetector each operating at a separate wavelength.

De individuella komponenterna på chipet kan sedan kapslas in var och en för sig utan att själva materialet delas. Ett chip med arrayer av komponenter kan sedan paketeras (upplinjeras optiskt) mot en fiber-ribbon, eller en bandkabel av parallel- la optiska fibrer, vilket gör att alla komponenter i arrayen kan anslutas till en gemensam flerkanalig styrelektronik- krets, vilket är kostnadsbesparande och dessutom sparar fy- siskt utrymme. Detta medför i sin tur att mindre lokaler krävs och innebär därför en energibesparing.The individual components on the chip can then be encapsulated individually without the material itself being divided. A chip with arrays of components can then be packaged (optically aligned) onto a fiber ribbon, or a ribbon cable of parallel optical fibers, which allows all components in the array to be connected to a common multi-channel control electronics circuit, which is cost-saving and also saves physical space. This in turn means that less premises are required and therefore means energy savings.

I många tillämpningar används optiska filter som komponenter i monolitiskt integrerade chip 1 av föreliggande typ. Enligt en föredragen utföringsform åstadkoms åtminstone ett sådant optiskt filter i chippet 1 genom modifiering av ett dike som löper längs med den vågledare i vilken filtret skall anord- nas.In many applications, optical filters are used as components in monolithically integrated chips 1 of the present type. According to a preferred embodiment, at least one such optical filter is provided in the chip 1 by modifying a trench running along the waveguide in which the filter is to be arranged.

Detta illustreras i figurerna 3 och 4, i vilka ett op- tiskt filter 52 är anordnat längs med den tredje vågledaren 5.This is illustrated in Figures 3 and 4, in which an optical filter 52 is arranged along the third waveguide 5.

Således är den del av diket 7 som löper längs med det avsnitt av den tredje vågledaren 5 vid vilket filtret 52 är anordnat beläget på sådant avstånd från vågledaren 5 att den optiska moden i vågledaren 5 påverkas av dikets 7 närmast mot vågle- daren 5 anordnade innervägg 53, samt även möjligen dikets 7 botten. 54, så Dikesväggen 53 och/eller dikets botten är korrugerad att en första ordningens filterfunktion åstadkoms.Thus, the part of the trench 7 that runs along the section of the third waveguide 5 at which the filter 52 is arranged is located at such a distance from the waveguide 5 that the optical mode in the waveguide 5 is influenced by the inner wall 53 of the trench 7 arranged closest to the waveguide 5, and also possibly the bottom of the trench 7. 54, so the trench wall 53 and/or the bottom of the trench is corrugated so that a first-order filter function is achieved.

Korrugeringen 54 hos dikesväggen 53 eller dikets botten åstadkoms, i likhet med diket 7 självt, företrädesvis med hjälp av etsning, på i sig känt sätt. 10 15 20 25 30 534 346 ll Dikets 7 avstånd från vàgledaren 5 och den fysiska geometrin hos den korrugerade väggen 53 avgör filtrets 52 funktionali- tet beträffande filtreringsstyrka, pass-/spärrband, etc., på i sig konventionellt sätt.The corrugation 54 of the trench wall 53 or the trench bottom is, like the trench 7 itself, preferably produced by means of etching, in a manner known per se. The distance of the trench 7 from the waveguide 5 and the physical geometry of the corrugated wall 53 determine the functionality of the filter 52 in terms of filtration strength, pass/stop band, etc., in a manner that is conventional per se.

Föreliggande uppfinnare har överraskande upptäckt att storle- ken, i chippets 1 plan 2 och 4), (det plan som illustreras i figurerna hos dikets 7 bortetsade area samt den totalt bort- etsade materialvolymen påverkar kvaliteten hos den korrugera- de sidoväggen 53 eller dikesbotten. En alltför liten area gör det svårt för processgaserna att komma åt etsfronten, vilket resulterar i försämrad fysisk struktur hos den korrugerade väggen. Detta är naturligtvis inte önskvärt, eftersom detta påverkar filtrets 52 egenskaper. En för stor totalt bortetsad materialvolym, å andra sidan, leder till kraftig återväxt under etsningen, vilket också försämrar strukturen hos den korrugerade sidoväggen 53 eller dikesbotten.The present inventors have surprisingly discovered that the size, in the plane 2 and 4 of the chip 1), (the plane illustrated in the figures of the etched away area of the trench 7 and the total volume of material etched away affect the quality of the corrugated side wall 53 or trench bottom. Too small an area makes it difficult for the process gases to access the etching front, which results in a deteriorated physical structure of the corrugated wall. This is of course not desirable, since this affects the properties of the filter 52. Too large a total volume of material etched away, on the other hand, leads to severe regrowth during etching, which also deteriorates the structure of the corrugated side wall 53 or trench bottom.

Det har visat sig att goda etsresultat kan erhållas beträf- fande korrugeringen hos dikesväggen 53 om diket 7 är minst 0,1 um, helst minst 0,5 um, brett och maximalt 1000 um, helst maximalt 250 pm brett. Dikets 7 bredd är den dimension hos diket 7 som syns i figur 4 vinkelrätt mot den tredje vågleda- rens 5 längdriktning.It has been found that good etching results can be obtained with respect to the corrugation of the trench wall 53 if the trench 7 is at least 0.1 µm, preferably at least 0.5 µm, wide and at most 1000 µm, preferably at most 250 µm wide. The width of the trench 7 is the dimension of the trench 7 that is visible in Figure 4 perpendicular to the longitudinal direction of the third waveguide 5.

Det har även visat sig att speciellt goda etsresultat kan uppnås i det fall tvärsnittsarean för diket 7, vinkelrätt mot dess huvudsakliga utbredningsriktning, är mellan 0,005 och 5000 umf, företrädesvis mellan 0,1 och 500 umz.It has also been found that particularly good etching results can be achieved in the case where the cross-sectional area of the trench 7, perpendicular to its main direction of propagation, is between 0.005 and 5000 µm, preferably between 0.1 and 500 µm.

För att uppnå god filtreringsförmåga är det föredraget att ett sådant monolitiskt integrerat filter 52 innefattar åtmin- stone cirka 100 gitterperioder, där varje gitterperiod är cirka mellan 50 och 300 nm. 10 15 20 25 30 534 345 12 Avståndet mellan diket 7 och vågledaren 5 är företrädesvis mellan 0 och 10 um vid stället för filtret 52, och på andra ställen företrädesvis mellan O och 500 um.In order to achieve good filtering performance, it is preferred that such a monolithically integrated filter 52 comprises at least about 100 grating periods, each grating period being about between 50 and 300 nm. 10 15 20 25 30 534 345 12 The distance between the trench 7 and the waveguide 5 is preferably between 0 and 10 µm at the location of the filter 52, and at other locations preferably between 0 and 500 µm.

I enlighet med en föredragen utföringsform kan diket vara exponerat mot luft, vilket ger hög brytningsindexskillnad.In accordance with a preferred embodiment, the trench may be exposed to air, which provides a high refractive index difference.

Det kan även täckas in av ett dielektrikum såsom SiO,, SiNm BCB eller motsvarande, vilket ger lägre brytningsindexskill- nad men à andra sidan bättre fysiskt skydd för filtret och/eller diket. Detta val beror till exempel på den kapsling som används för chippet 1.It can also be covered by a dielectric such as SiO,, SiNm BCB or equivalent, which provides lower refractive index difference but on the other hand better physical protection for the filter and/or trench. This choice depends, for example, on the packaging used for the chip 1.

Det är även möjligt att åstadkomma andra gitterbaserade op- tiska delkomponenter genom att anpassa en vägg hos diket 7 som är närmast en viss vågledare. Exempel innefattar lasrar och diffraktiva kopplare, vilka sistnämnda kan användas för att koppla ur ljus ur vågledaren till en angränsande vågleda- re.It is also possible to achieve other grating-based optical sub-components by adapting a wall of the trench 7 that is closest to a particular waveguide. Examples include lasers and diffractive couplers, the latter of which can be used to couple light out of the waveguide into an adjacent waveguide.

Genom att åstadkomma gitterbaserade optiska delkomponenter i väggen i det befintliga diket 7 snarare än som fristående, separat framställda, antingen monolitiskt integrerade eller inte, komponenter, uppnås att framställningen av chippet l blir enklare och därför billigare. Specifikt kan i många fall diket 7 och filtret 52 tillverkas i ett och samma steg.By providing grating-based optical sub-components in the wall of the existing trench 7 rather than as stand-alone, separately manufactured, either monolithically integrated or not, components, it is achieved that the manufacture of the chip 1 becomes simpler and therefore cheaper. Specifically, in many cases the trench 7 and the filter 52 can be manufactured in one and the same step.

Ovan har föredragna utföringsformer beskrivits. Emellertid är det uppenbart för fackmannen att många förändringar kan göras av de beskrivna utföringsformerna utan att frångà uppfinning- ens tanke. Sålunda skall uppfinningen inte vara begränsad av de beskrivna utföringsformerna, utan kan varieras inom ramen för de bifogade kraven.The above has described preferred embodiments. However, it is obvious to those skilled in the art that many changes can be made to the described embodiments without departing from the spirit of the invention. Thus, the invention should not be limited by the described embodiments, but can be varied within the scope of the appended claims.

Claims (10)

10 15 20 25 30 534 346 13 P A 1? E N T IC R A V10 15 20 25 30 534 346 13 P A 1? E N T IC R A V 1. Integrerat chip (1) för data- eller optisk analys för en, eller telekommunikation två eller fler våglängder, där chippet (1) har en grundstruktur som är lika från en bärare och uppåt över chippets hela yta, där grundstrukturen inne- fattar uppskjutande vågledare (2;4;5), utbildade vid chippets (1) övre yta, och där chippet (1) innefattar monolitiskt integrerade komponenter, k ä n n e t e c k n a t a v att ett dike (7) förefinns nedetsat längs med åtminstone en av sidor- na hos en av vågledarna och ned till ett etsdjup som är åt- minstone så stort att diket är optiskt isolerande och av att (53:55) närmast en vågledare uppvisar åtminstone en av egenskaperna åtminstone en vägg hos diket (7) som är anordnad för det första att den är korrugerad, varvid den korrugerade väggen utgör en gitterbaserad optisk komponent, och för det andra att den är vinklad så att ljus som faller in mot vågle- (55) (1) substrat alternativt ut från chippet (1). daren reflekteras mot dikesväggen och in mot chippetsIntegrated chip (1) for data or optical analysis for one, or telecommunication two or more wavelengths, wherein the chip (1) has a basic structure which is equal from a carrier and upwards over the entire surface of the chip, where the basic structure comprises suspension waveguides (2; 4; 5), formed at the upper surface of the chip (1), and where the chip (1) comprises monolithically integrated components, characterized in that a trench (7) is present etched along at least one of the sides of a of the waveguides and down to an etching depth which is at least so large that the ditch is optically insulating and that (53:55) closest to a waveguide has at least one of the properties at least one wall of the ditch (7) which is arranged first to it is corrugated, the corrugated wall constituting a lattice-based optical component, and secondly that it is angled so that light incident on wave (55) (1) substrate or out of the chip (1). the daren is reflected against the ditch wall and towards the chips 2. Integrerat chip (1) enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t a v att etsdjupet är åtminstone så stort att ett dike åstad- koms som även är elektriskt isolerande.An integrated chip (1) according to claim 1, characterized in that the etching depth is at least so large that a ditch is provided which is also electrically insulating. 3. Integrerat chip (1) enligt krav 1 eller 2, k ä n n e - t e c k n a t a v att chippet (1) är anordnat för data- eller telekommunikation eller optisk analys för en, två eller fler våglängder och kan utnyttjas för att utsända ljus och för att kunna detektera ljus, och av att chippet (1) innefat- (3), är expanderad från den första porten tar en första vågledare (2) med en första port där den första vågledaren (2) (3) i riktning mot åtminstone en andra vågledare (4) och en tredje vågledare (5). 10 15 20 25 30 35 534 345 14Integrated chip (1) according to claim 1 or 2, characterized in that the chip (1) is arranged for data or telecommunication or optical analysis for one, two or more wavelengths and can be used to emit light and to be able to detect light, and since the chip (1) comprises- (3), is expanded from the first port, a first waveguide (2) takes a first port where the first waveguide (2) (3) in the direction of at least a second waveguide (4) and a third waveguide (5). 10 15 20 25 30 35 534 345 14 4. Integrerat chip (l) enligt krav 1, 2 eller 3, k ä n n e - t e c k n a t a v att åtminstone en vägg (55) hos diket (7) som är anordnad närmast en vågledare är vertikal.An integrated chip (1) according to claim 1, 2 or 3, characterized in that at least one wall (55) of the trench (7) arranged closest to a waveguide is vertical. 5. Integrerat chip (1) enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k n a t a v att dikets (7) bredd är mellan 0,1 och 1000 pm.Integrated chip (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the width of the ditch (7) is between 0.1 and 1000 μm. 6. Integrerat chip (1) enligt något av föregående krav, k ä. n n e t e c k n a t a v att dikets (7) bredd är mellan 0,5 och 250 pm.Integrated chip (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the width of the ditch (7) is between 0.5 and 250 μm. 7. Integrerat chip (l) enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k n a t a v att dikets etsdjup är mellan 50 och 5000 nm.An integrated chip (1) according to any one of the preceding claims, characterized in that the etching depth of the ditch is between 50 and 5000 nm. 8. Integrerat chip (1) enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k n a t a v att diket (7) är anordnat att löpa längs med båda sidorna av åtminstone en vågledare.Integrated chip (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the trench (7) is arranged to run along both sides of at least one waveguide. 9. Integrerat chip (l) k ä n n e t e c k n a t enligt något av föregående att diket (7) krav, a v är anordnat att löpa längs med samtliga vågledare (2;4;5) i en komponent i chippet (1) , på samtliga sidor om alla dessa vågledare (2;4;5), så att vågledarna (2;4;5) är omgivna av diket (7) sånär som på öppningar för portar i komponenten.An integrated chip (1) characterized according to any one of the preceding that the ditch (7) claims, is arranged to run along all waveguides (2; 4; 5) in a component of the chip (1), on all sides of all these waveguides (2; 4; 5), so that the waveguides (2; 4; 5) are surrounded by the ditch (7) except for openings for ports in the component. 10. Integrerat chip (1) enligt något av föregående krav, k a n n e t e c k n a t a v att åtminstone en vägg (53) hos diket (7) som är anordnad närmast en vågledare är korrugerad, varvid den korrugerade väggen (53) och att den gitterbaserade optiska kompo- utgör en gitterbaserad optisk komponent, nenten är ett optiskt filter.An integrated chip (1) according to any one of the preceding claims, characterized in that at least one wall (53) of the ditch (7) arranged closest to a waveguide is corrugated, the corrugated wall (53) and that the grating-based optical component a grid-based optical component, nenten is an optical filter.
SE0950937A 2009-12-04 2009-12-04 Integrated chip including trench SE534346C2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0950937A SE534346C2 (en) 2009-12-04 2009-12-04 Integrated chip including trench
PCT/SE2010/051326 WO2011068459A1 (en) 2009-12-04 2010-12-01 Integrated chip comprising a ditch

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0950937A SE534346C2 (en) 2009-12-04 2009-12-04 Integrated chip including trench

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE0950937A1 SE0950937A1 (en) 2011-06-05
SE534346C2 true SE534346C2 (en) 2011-07-19

Family

ID=44115156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE0950937A SE534346C2 (en) 2009-12-04 2009-12-04 Integrated chip including trench

Country Status (2)

Country Link
SE (1) SE534346C2 (en)
WO (1) WO2011068459A1 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5729563A (en) * 1994-07-07 1998-03-17 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for optically and thermally isolating surface emitting laser diodes
EP0704913B1 (en) * 1994-09-28 1999-09-01 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Optical semiconductor device and method of fabricating the same
US7006719B2 (en) * 2002-03-08 2006-02-28 Infinera Corporation In-wafer testing of integrated optical components in photonic integrated circuits (PICs)
JP2003338664A (en) * 2002-05-20 2003-11-28 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device
SE528653C2 (en) * 2005-05-30 2007-01-09 Phoxtal Comm Ab Integrated chip

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011068459A1 (en) 2011-06-09
SE0950937A1 (en) 2011-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4860294A (en) Integrated-optical arrangement for bidirectional optical message or signal transmission
JP4800974B2 (en) Optical device and method of manufacturing an integrated laser and detector for bidirectional optical operation on a single chip
EP0672924A1 (en) Optical switching device
KR101415648B1 (en) CMOS MOEMS sensor device
JPS62139383A (en) Integrated optical multiplex/demultiplex module for optical communications
KR20140112012A (en) Integrated sub-wavelength grating system
US6828541B2 (en) Light receiving element array having isolated pin photodiodes
US6908235B2 (en) Sub-mount and optical receiver using the same
JP2008543077A (en) Integrated chip
US6493483B2 (en) Integrated circuit photonic signal matrix
SE534346C2 (en) Integrated chip including trench
KR20100035933A (en) Optical module and fabrication method of the same
CN113273043B (en) Optical semiconductor integrated components
KR102388885B1 (en) Optical semiconductor device, optical module and manufacturing method of optical semiconductor device
US7324718B2 (en) Optical device and optical module
SE534300C2 (en) Integrated chip including laser and filter
US6838658B2 (en) Simple and compact laser wavelength locker
CN100405538C (en) Integrated Photonic Devices
JP2002100796A (en) Photodetection element array
KR100265858B1 (en) Wavelength Division Multiplexing with Integrated Semiconductor Laser and Photodetector on a Single Chip
KR101501139B1 (en) Planar Lightwave Circuit Module having an improved Structure of an Optical Power Monitor
WO2004017428A1 (en) Wavelength-demultiplexer with integrated monolithic photodiodes
JP7099395B2 (en) Optical Waveguide Parts and Their Manufacturing Methods
WO2022161965A1 (en) Photonic integrated circuit
KR20100039839A (en) Optical module and fabrication method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed