SA07280502B1 - طريقة لإنتاج حمض (ميث) أكريليك - Google Patents
طريقة لإنتاج حمض (ميث) أكريليك Download PDFInfo
- Publication number
- SA07280502B1 SA07280502B1 SA07280502A SA07280502A SA07280502B1 SA 07280502 B1 SA07280502 B1 SA 07280502B1 SA 07280502 A SA07280502 A SA 07280502A SA 07280502 A SA07280502 A SA 07280502A SA 07280502 B1 SA07280502 B1 SA 07280502B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- acrylic acid
- meth
- acid
- mass
- water
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 120
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 269
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 145
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 142
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 102
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 85
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 78
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims abstract description 61
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims abstract description 59
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 70
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 20
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 20
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 19
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 7
- RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 50867-57-7 Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 claims 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 248
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 26
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 229940114077 acrylic acid Drugs 0.000 description 223
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 190
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 54
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 33
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 24
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 18
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001136792 Alle Species 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000015107 ale Nutrition 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYARBIJYVGJZLB-UHFFFAOYSA-N 7-amino-4-hydroxy-2-naphthalenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(N)=CC=C21 KYARBIJYVGJZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N Methacrolein Chemical compound CC(=C)C=O STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 1
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
الملخـــص يتعلق الاختراع الحالي بطريقة إنتاج حيث يتم تعريض المحلول المحتوي على acrylic acid الذي تم الحصول عليه من غاز محتوٍ على acrylic acid (أو سائل يحتوي على acrylic acid يتم الحصول عليه ببساطة بواسطة إخضاع المحلول المحتوي على acrylic acid لعملية فصل separation process لنواتج التفاعل الثانوية) إلى عملية بلورة crystallization process، ولا يمكن إجراء عملية البلورة crystallization بسلاسة في حالة عدم الاستقرار (عندما يكون تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid عاليًا). يهدف الاختراع الحالي لتوفير طريقة لتجميع حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid ذي درجة نقاء عالية وبناتج جيد حتى في حالة عدم الاستقرار. عندما تكون المحاليل المحتوية على acrylic acid (18) و(16) بتركيز ماء أعلى من 10٪ بالكتلة mass (حالة غير مستقرة)، يتم خلط acrylic acid النقي (20) و(22) أو المحلول المحتوي على acrylic acid (23) المحتوي على 10٪ بالكتلة أو أقل من الماء بها للحصول على تركيز ماء 10٪ بالكتلة أو أقل [أ] [ب]. بطريقة أخرى، عندما تكون المحاليل المحتوية على acrylic acid (18) و(16) بتركيز ماء أعلى من 10٪ بالكتلة، فيتم استخدامها في صورة سائل امتصاص absorption liquid [ج]. وبعد ذلك، يتم إجراء عملية البلورة crystallization.
Description
Y — _— طريقة لإنتاج حمض (ميث) أكريليك Method for producing (meth) acrylic acid الوصف الكامل خلفية الاختراع: يتعلق الاختراع الحالي بطريقة لإنتاج حمض (methjacrylic ويتعلق على وجه الخصوص بطريقة لإنتاج حمض acrylic بناتج جيد دون إجراء أية عملية خاصة حتى في حالة عدم الاستقرار والتي تحدث عند eds التشغيل أو بسبب حادث ما أو ما ald © يعتبر كل من 8010 methacrylic acid 5 acrylic (المشار إليه في هذا الوصف وعناصر الحماية باسم ((meth)acrylic (aes مواد Suis raw materials ala مستخدمة في صورة مواد خام raw materials للمنتجات (Ales) وهناك العديد من طرق الإنتاج المقترحة. على سبيل Jal) فمن الطرق المستخدمة لإنتاج acrylic acid بصورة صناعية؛ هناك طريقة مستخدمة على نطاق واسع يتم فيها إخضاع ال propylene و/أو اذ acrolein إلى عملية أكسدة 0 ذات طور ٠ غازي حفزي catalytic gas phase وطريقة يتم فيها تكثيف أو امتصاص الغاز المحتوي على acrylic acid الذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة ذات الطور الغازي الحفزي في سائل امتصاص absorption liquid لعمل محلول sine على acrylic acid متبوعًا بإخضاعه إلى عمليتي تقطير distillation وبلورة crystallization للحصول على حمض أكريليك نقي .purified acrylic بكونها عملية تتقية process 00111502000 فبالإضافة للطريقة الموضحة أعلاه؛ على سبيل Jad ١١ فيقترح طلب براءة الاختراع الياباني رقم ١69/8 7٠٠6 أ ٠ طريقة يتلامس Led الغاز المحتوي على acrylic acid مع محلول مائي aqueous solution لامتصاصه في عمود امتصاص absorption
داس column _للحصول على محلول محتوٍ على glad) sus cacrylic acid المحلول المحتوي على acrylic acid في صورة حمض أكريليك خام crude acrylic مباشرةٌ إلى عملية بلورة crystallization ail yas Sg «process التقطير 0 الذي تم الحصول عليه بواسطة تقطير السائل الأصلي distilling mother liquid المتبقي المتفرغ في Adee البلورة في عمود امتصاص. ينتج عن © عملية التدوير circulation تلك التي تتم بغرض إدخال محلول محتوي على acrylic acid بتركيز Jle في عملية بلورة الحصول على حمض أكريليك نقي جدا highly purified acrylic بفعالية امتصاص absorption efficiency جيدة» بل والأكثر من ذلك؛ فإن عملية الإنتاج production process تكون سهلة وبسيطة. في طلب براءة الاختراع الياباني رقم 7976-750507+*2 of يتم اقتراح تنقية acrylic acid باستخدام ٠ عمود تنظيف cleaning column يشتمل على وظيفة النقل الفعال للبلورات forcible transport Ales lay crystal بلورة .acrylic acid الوصف العام للاختراع: Gy للطرق الموضحة في طلب براءة الاختراع اليابانية رقم ١8 4973-1٠0٠06 أو طلب براءة الاختراع alll رقم 07776-7007؟* of فمن الممكن الحصول على حمض acrylic ذي درجة نقاء عالية Andy ٠ عمليات سهلة وبسيطة؛ ولكن كلتا العمليتين تكونان فعالتين فقط عندما تكون عملية التنقية purification process التي تتم على acrylic acid في حالة استقرار ؛ وعندما تكون في Ala عدم استقرارء على سبيل المثالء عندما يكون تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid أعلى عند بدء التشغيل أو بسبب وقوع حادثٍ ماء فلا يتم إجراء عملية البلورة بسلاسة وسيكون من
— ب الصعب الحصول على حمض أكريليك نقي purified acrylic ذي درجة نقاء عالية وسيصبح الناتج أقل؛ وفي الحالة cou) سيكون من الصعب مواصلة عملية التشغيل نفسها. وبالتالي؛ عندما يكون تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid عالياً ٠ فيجب التخلص من المحلول المحتوي على acrylic acid دون إخضاعه لعملية بلورة «crystallization process أو يجب أن © يتم إخضاعه من جديد لعملية فصل separation process الماء لتقليل تركيز الماء قبل إمداده لجهاز إجراء عملية البلورة. وكنتيجة لذلك؛ يقل ناتج acrylic acid في العملية بأسرهاء وتتزايد التكاليف بسبب عملية فصل الماء الإضافي .additional water separation operation لا تحدث المشكلة الموضحة أعلاه في الطريقة التي يتم فيها إجراء عملية البلورة بعد تقطير المحلول solution distilled المحتوي على WS cacrylic acid تم وصفه woe فهي مشكلة جديدة aay في ٠ طريقة الإنتاج التي يتم فيها إخضاع المحلول المحتوي على acrylic acid الذي تم الحصول عليه بتكثيف الغاز condensing gas المحتوي على acrylic acid أو تلامسه مع سائل امتصاص absorption liquid مباشرةً لعملية بلورة. وهناك أيضًا الحالة التي يتم فيها glad) السائل المحتوي على acrylic acid الذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي على acrylic acid إلى عملية فصل متبوعةً بعملية بلورة لفصل نواتج 6 التفاعل الثانوية؛ ولكن بغض النظر Le إذا تم إجراء عملية الفصل أم لاء فلا يمكن إجراء idee البلورة بسهولة عندما يكون تركيز الماء عالياً في المحلول المحتوي على acrylic acid الذي سيتم إخضاعه لعملية البلورة. لقد تم إنجاز الاختراع الحالي في ضوء الظروف الموضحة أعلاه. لذاء يهدف الاختراع الحالي؛ حتى عندما يكون تركيز الماء عالياً في المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic الذي يعتبر
- - المادة السائلة الخام raw liquid material في عملية البلورة ecrystallization process إلى التمكين من الحصول على حمض dau purity al) (meth)acrylic نقاء عالية وزيادة ناتج حمض
(meth)acrylic على مدار العملية بأسرها ٠ دون زيادة التكاليف زيادة باهظة.
لقد قام المخترع الحالي بفحص ودراسة المشكلات سابقة الذكر بتمعن؛ ثم قام بإنجاز الاختراع Jae بالاكتشافات التالية Lovie )١( يحتوي المحلول المحتوي على acrylic acid الذي سيتم إخضاعه لعملية البلورة على أكثر من 7٠ بالكتلة mass من الماء؛ سيقل كل من درجة نقاء حمض الأكريليك purified acrylic acid (ill وناتجه؛ أو (7) من خلال خلط المحلول المحتوي على acrylic acid المشتمل على درجة تركيز منخفضة بصورةٍ كافية من الماء أو حمض الأكريليك النقي في المحلول المحتوي على acrylic acid المحتوي على أكثر من 7٠١ بالكتلة من old) ٠ فيمكن أن يكون تركيز الماء به 7٠١ بالكتلة أو أقل؛ وإذا تم إخضاع المحلول الناتج لعملية بلورة؛ فيمكن الحصول على حمض أكريليك نقي بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد؛ أو (©) إذا كان المحلول المحتوي على acrylic acid يحتوي على أكثر من 72٠0 بالكتلة من الماء؛ فيمكن استخدامه في صورةٍ سائل امتصاص absorption liquid في عملية الامتصاص absorption process وتدويره في Jie هذه الصورة حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على acrylic acid والمحتوي على 2٠١ Ve بالكتلة أو أقل من coll وإذا تم إخضاع المحلول الناتج لعملية بلورة؛ يمكن: الحصول على حمض الأكريليك El بدرجة_نقاء Alle وبناتج جيد؛ بالإضافة إلى ذلك؛ وفيما يتعلق ب methacrylic acid فيمكن الحصول على methacrylic acid النقي بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد
أيضًا باتباع الطريقة نفسها المستخدمة مع acrylic acid تشتمل الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض Gy (methacrylic للاختراع Jal على الحصول على Ye الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic من مادة خام raw material لحمض (meth)acrylic
بواسطة Jeli أكسدة reaction 0 ذي طور غازي حفزي catalytic gas phase والحصول على المحلول المحتوي على حمض (methacrylic من الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic متبوعًا بإخضاع المحلول المحتوي على حمض (methjacrylic لعملية بلورة crystallization process أو إخضاع المحلول المحتوي على حمض (methacrylic الذي تم الحصول عليه بعد فصل نواتج © التفاعل الثانوية منه لعملية بلورة؛ وبالتالي يتم إنتاج حمض 011600807116 نقي؛ وتتميز هذه الطريقة بخلط المحلول المحتوي على حمض (methjacrylic أو المحلول المحتوي على حمض (methacrylic القبلي له (على سبيل Jad المحلول المحتوي على حمض (methjacrylic قبل إجراء عملية الفصل separation process طريقة الإنتاج المشتملة على خطوة لإجراء عملية فصل نواتج التفاعل الثانوية) مع So (methacrylic (aes و/أو المحلول المحتوي على حمض (methacrylic Ve والمشتمل على 727٠0 بالكتلة أو أقل من الماء لعمل تركيز للماء بقيمة ٠١ بالكتلة mass أو أقل متبوعًا بإجراء عملية بلورة عندما يكون تركيز الماء في المحلول المحتوي على حمْضش (methacrylic والمراد إخضاعه لعملية بلورة أعلى من 7٠8 بالكتلة. تشتمل الطريقة المستخدمة للحصول على المحلول المحتوي على oe (methiacrylic aes غاز fae على حمض (methacrylic على طريقة لتكثيف الغاز condensing gas المحتوي على حمض (meth)acrylic ٠ وطريقة للحصول على المحلول المحتوي على حمض ©060000011) بواسطة تلامس الغاز المحتوي على حمض (methacrylic مع سائل امتصاص absorption liquid يشتمل سائل الامتصاص على الماء ومذيبات ذات نقطة غليان عالية. ض بما أن حمض (meth)acrylic النقي المراد خلطه في المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic يكون ذا درجة تركيز للماء أعلى من 7٠١0 بالكتلة؛ فيمكن استخدام حمض (methacrylic نقي يتم أ الحصول عليه بصورة منفصلة (على سبيل المثال ؛ يمكن تخزين حمض (meth)acrylic النقي الذي تم إنتاجه في أثناء التشغيل في Alla استقرار في خط الإنتاج production line بغرض استخدامه
ا في وقتٍ لاحق؛ أو يمكن استخدام حمض (methacrylic نقي يكون قد تم الحصول عليه في خط إنتاج آخر (بالإضافة إلى ذلك الذي تم الحصول عليه بواسطة عملية البلورة crystallization 5 فيمكن أن يكون هو ذلك الحمض الذي تم الحصول عليه بعملية التقطير (distillation أو يمكن تدوير حمض (methacrylic نقي يكون قد تم الحصول عليه في عملية البلورة بغريض © استخدامه عندما تكون Adee الإنتاج production process قيد التشغيل. عندما يكون حمض (methacrylic النقي المراد خلطه هو ذلك الذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الإنتاج نفسها (أي؛ حمض (methacrylic النقي الذي تم الحصول عليه من خلال إخضاع المحلول المحتوي على (methjacrylic aes الناتج من الغاز المحتوي على (meth)acrylic (aes الذي تم الحصول عليه بواسطة تفاعل الأكسدة oxidation reaction ذي الطور الغازي الحفزي catalytic ٠ #قفقطم gas لعملية بلورة أو إخضاع المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic الذي تم الحصول عليه بعد فصل نواتج التفاعل الثانوية منه لعملية بلورة)؛ فيكون ذلك مفضلاً نظرًا لأن الشوائب impurities يحتوي عليه بكمية قليلة لا تؤثر على عملية الإنتاج. بالإضافة إلى ذلك؛ Sigh مميزات تنبع عند استخدام ما يلي في صورة حمض (meth)acrylic النقي )١( -purified تفريغ حمض (methjacrylic النقي الذي تم الحصول عليه في بداية عملية Ve التشغيل بينما يتم تنظيف كل جزء Jie الأنبوب والصهريج tank وبالتالي فهو يحتوي على العديد من القاذورات. وبالتالي؛ فعلى الرغم من أن حمض (methyacrylic النقي المراد التخلص منه أولاً في ظل الظروف العادية؛ فيمكن أن تتم إعادة تنقيته بواسطة تمريره مرة أخرى بالخطوة السابقة للاستخدام كما في الاختراع الحالي؛ ووفقًا لذلك؛ يمكن تقليل نسبة الخسارة في العملية بأسرها. (Y) عندما يتم وقف خط الإنتاج production line بسبب Alls طارئة أو ما شابه لسبب ماء فلا يتم نقل AK حمض (meth)acrylic إلى الصهريج tank المحدد مسبقًا (أي؛ أنه لا يتم إخضاعه لعملية معالجة Yvia
م - مانعة للبلمرة «(polymerization-prevention treatment ولكن يتم تخزينه في خط الإنتاج line 020000008. وعند يصبح زمن التراكم accumulation time (زمن التوقف)؛ يمكن أن يتكون بوليمر وما شابه لتقليل درجة نقاء (meth)acrylic (aes النقي 0. ومع «ld فبإرجاع الحمض للخطوة السابقة للاستخدام دون التخلص منه كما في الاختراع الحالي؛ ستقل نسبة الخسارة © في العملية بأكملها. بالإضافة إلى ذلك؛ فبما أن المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic يحتوي على ٠١ بالكتلة أو أقل من الماء المراد خلطه في المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic المحتوي على أكثر من 7٠١ من الماء « يمكن تخزين المحلول المحتوي على حمض (methacrylic المحتوي على ٠ بالكتلة أو أقل من الماء الذي تم الحصول عليه في عملية إنتاج حمض (methacrylic بغرض ٠ استخدامه لاحقًا. بالإضافة إلى ذلك؛ تشتمل الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض Gy (meth)acrylic للاختراع الحالي على الحصول على الغاز المحتوي على حمض 00160086116 _من_مادة ola لحمض (meth)acrylic بواسطة تفاعل أكسدة sh sd oxidation reaction غازي حفزي catalytic gas phase والحصول على محلول sae على حمض (methacrylic من الغاز المحتوي على حمض gladly Gia (meth)acrylic ١ المحلول المحتوي على حمض (methacrylic لعملية بلورة crystallization process إخضاع المحلول المحتوي على حمض (methacrylic الذي تم الحصول عليه بعد فصل نواتج التفاعل الثانوية منه لعملية بلورة «crystallization process وبالتالي يتم إنتاج حمض (meth)acrylic نقي؛ وتتميز هذه الطريقة باستخدام المحلول المحتوي على حمض (methacrylic أو المحلول المحتوي على حمض a) (meth)acrylic له في صورة سائل ٠ الامتصاص Lovie يتم يحتوي المحلول المحتوي على (meth)acrylic pass على أكثر من 17٠١ بالكتلة الماء.
: a
في هذه Aad) وبكونه سائل امتصاص absorption liquid يستخدم لإجراء Adee الامتصاص cabsorption process يمكن استخدام المحلول المحتوي على حمض (methacrylic المشتمل على أكثر من 7٠0 بالكتلة من الماء؛ بطريقة أخرى؛ يمكن استخدام المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic المشتمل على ST من 7٠١ بالكتلة من الماء جنبًا إلى جنب مع سائل امتصاص o عادي. بالإضافة إلى استخدامه لإجراء عملية الامتصاص بواسطة تدويره في أثناء تشغيل عملية الإنتاج؛ يمكن استخدام المحلول المحتوي على حمض (methacrylic المشتمل على أكثر من ٠ بالكتلة من الماء في صورةٍ سائل امتصاص بعد تخزينه لفترة مؤقتة. Sle على ذلك؛ ففي الحالة التي يتم فيها استخدام المحلول المحتوي على حمض 0:61(8607116) في صورة سائل امتصاص بعد تخزينه لفترة مؤقتة كما تم توضيحه أعلاه؛ فيمكن أن يتم استخدامه كسائل امتصاص Ve بعد الحصول على المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic المشتمل على 7٠١ بالكتلة من الماء أو أقل بطريقة ثابتة؛ (في هذه (Als يفضل استخدام الكمية اللازمة من السائل بكميات صغيرة حتى الوصول إلى الحد الذي يمكن من خلاله أن يحافظ المحلول المحتوي على حمض (methacrylic عملية الإنتاج على تركيز الماء البالغ 7٠١8 بالكتلة أو أقل)؛ أو يمكن أن يتم أستخدامه في صورة سائل امتصاص في الحالة التي يمكن الحصول فيها على المحلول المحتوي
على حمض (methacrylic المشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة من الماء. بما أن الطريقة المستخدمة لإمداد عمود الامتصاص absorption column بمحلول sine على حمض (methacrylic يشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة من الماء؛ يمكن توصيل خط إمداد للمحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic والمشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة من الماء بخط إمداد سائل امتصاص عادي بهدف إمداد عمود الامتصاص absorption column بالمحلول؛ ٠ بطريقة أخرى» يمكن وضع خط إمداد المحلول المحتوي على حمض 060(3©/1:6) والمشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة من الماء في عمود الامتصاص (بطريقة تتيح أن يكون لخط الإمداد supply
Zh. - line فتحة عند موضع أعلى من مدخل تغذية الغاز gas feed inlet الموجود في عمود الامتصاص (absorption column وذلك بهدف إمداد عمود الامتصاص absorption column مباشرةٌ بالمحلول. بالإضافة إلى ذلك؛ تشتمل الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (methjacrylic وفقًا للاختراع الحالي على الحصول على الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic من مادة خام raw material لحمض (meth)acrylic © بواسطة تفاعل أكسدة oxidation reaction ذي طور غازي حفزي catalytic gas phase والحصول على المحلول المحتوي على حمض 0161(86/11)_من الغاز المحتوي على حمض 0160(8611:6)؛ متبوعًا بإخضاع المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic لعملية بلورة crystallization process أو إخضاع المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic الذي تم الحصول عليه بعد فصل نواتج التفاعل الثانوية منه لعملية بلورة» وبالتالي يتم إنتاج حمض (meth)acrylic Ve 8 ¢ وتتميز هذه الطريقة Lexie asl يحتوي المحلول المحتوي على حمض (methacrylic على أكثر من 2٠0 بالكتلة mass من الماء؛ فيتم تخزينه لفترة مؤقتة؛ وعندما يكون من الممكن الحصول على المحلول المحتوي على حمض :0060861 المشتمل على ٠١ بالكتلة من الماء أو أقل بطريقة ثابتة؛ فيمكن خلط المحلول المحتوي على حمض (methacrylic الذي تم تخزينه والمشتمل على أكثر من 27٠0 بالكتلة من الماء فيه إلى الحد الذي يتم فيه الحفاظ على تركيز VO الماء عند 72٠ بالكتلة أو أقل؛ متبوعًا بإخضاع المحلول لعملية بلورة. في الحالة التي يشتمل led المحلول المحتوي على حمض (methacrylic على أكثر من Ie بالكتلة من الماء؛ فيتم تخزينه مؤقتًاء وعندما تصل عملية التنقية purification process إلى ala الاستقرار؛ يتم خلط المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic المشتمل على أكثر من Ive بالكتلة من الماء والذي تم تخزينه في المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic والمشتمل على 2٠0 Ye بالكتلة mass أو أقل من الماء. ومع ذلك؛ يتم إجراء عملية الخلط 8 إلى الحد الذي يتم
١١ - - فيه الحفاظ على تركيز الماء عند 7٠١ بالكتلة أو أقل ٠» ويتم glad) المحلول الناتج المحتوي على حمض (methacrylic والمشتمل على 7٠١ بالكتلة أو أقل من الماء لعملية بلورة crystallization .process فيما يتعلق بطرق الإنتاج؛ تشتمل الطرق المستخدمة للحصول على المحلول المحتوي على حمض ll Ge (methacrylic © المحتوي على حمض (methacrylic على طريقة لتكثيف الغاز condensing gas المحتوي على حمض :0160(8©1) وطريقة للحصول على المحلول المحتوي على حمض (methjacrylic بواسطة تلامس الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic مع سائل امتصاص absorption liquid وما شابه. ide على ذلك؛ يمكن استخدام الاختراع Jal بالاشتراك مع JS من الطرق الموضحة أعلاه. Ve في الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (methacrylic فعندما يتم استخدام الطريقة الخاصة بالحصول على المحلول المحتوي على حمض (methacrylic بواسطة تلامس الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic مع سائل امتصاص حيث يتم استخدام الماء في صورةٍ سائل الامتصاص؛ يميل تركيز الماء oF يكون عالياً وبالتالي فتكون مفيدة لتطبيق الاختراع الحالي عليها. تشتمل نواتج التفاعل الثانوية على ال methacrolein s «acrolein (المشار إليه Gal فيما بعد في Vo هذه الوثيقة باسم ((meth) acrolein وما شابه ذلك. بالإضافة إلى old يطلق على الحالة التي يحتوي فيها المحلول المشتمل على حمض (meth)acrylic المراد إخضاعه لعملية بلورة على 21٠١ بالكتلة أو أقل من الماء (عندما يحتوي على 77٠0 بالكتلة أو أقل من الماء حتى دون تنفيذ هذا الإجراء Gy للاختراع الحالي) اسم Alla الاستقرارء Lay يطلق على الحالة التي يحتوي فيها المحلول المشتمل على حمض (meth)acrylic المراد إخضاعه لعملية بلورة crystallization
le process أكثر من 7٠١ بالكتلة 5 من الماء (عندما يحتوي على أكثر من ٠١ بالكتلة حتى دون تنفيذ هذا الإجراء Gy للاختراع الحالي) اسم Alls عدم الاستقرار. شرح مختصر للرسومات: الشكل )١( عبارة عن رسم تخطيطي إطاري block diagram يعرض مثالاً على طريقة لإنتاج © حمض Gg acrylic للاختراع الحالي. الوصف التفصيلي: الشكل )١( عبارة عن رسم تخطيطي إطاري يعرض مثالاً على طريقة لإنتاج حمض Qf acrylic سيتم شرح الطريقة المستخدمة لإنتاج acrylic acid (عملية تنقية (purification process في حالة استقرار بالإشارة إلى الشكل .)١( Ye يتم إنتاج الغاز المحتوي على VY ) acrylic acid ( داخل مفاعل ١١ ) reactor ( من مادة J ala (VY) acrylic acid بواسطة تفال أكسدة oxidation reaction ذي طور غازي حفزي catalytic gas phase ويتم إدخال الغاز المحتوي على acrylic acid في عمود امتصاص absorption Y¢ ) column ( (الخط (YY وداخل عمود الامتصاص ) ١ 1 يتلامس كل من سائل الامتصاص (Yo) والغاز المحتوي على (VY) acrylic acid للحصول على محلول sine على acrylic acid )١١( ٠ (خطوة الامتصاص (absorption step تشتمل الطرق المستخدمة للتلامس على تلادمس التدفق العرضي cross-flow contact وتلامس التدفق المعاكس counter-flow contact وما als وفي النموذج الحالي؛ اسيتم وصف طريقة الامتصاص التي يتم خلالها إمداد سائل الامتصاص absorption liquid من خارج النظام في صورة طريقة للحصول على المحلول المحتوي
سج على (V1) acrylic acid ؛ ومع ذلك؛ على سبيل المثال؛ ففي طريقة التكثيف condensing method لا تتم إضافة سائل الامتصاص من خارج النظام. ob يتم إدخال المحلول المحتوي على acrylic acid إلى عمود فصل الأكرولين acrolein (VV) separation column (الخط ¢(Y ويتم إخضاع ال acrolein إلى عملية فصل separation process © (الخطوة الخاصة بعملية فصل acrolein ). تشتمل الطرق المستخدمة لإجراء idee الفصل على التقطير distillation والانتشار أو ما ald ويمكن انتقاؤها على نحوٍ ملائم بناءً على معدلات تركيز acrylic acid وال acrolein الموجودة. يمكن التغاضي عن إجراء الخطوة الخاصة بعملية فصل الأكرولين عندما لا يشتمل المحلول المحتوي على acrylic acid )11( على .acrolein علاوةً على ذلك؛ إذا تم إخضاع المحلول المحتوي على )١١( acrylic acid إلى idee ٠ بلورة crystallization process (جهاز التبلور (V4 crystallizer عبر الخطوة الخاصة بعملية فصل الأكرولين» سيكون من المتوقع انخفاض تركيز الماء في الخطوة الخاصة بعملية فصل الأكرولين. وفي هذا الصدد؛ ففي الطريقة التي يتم فيها إخضاع المحلول المحتوي على acrylic acid (VT) الذي تم الحصول عليه من تكثيف الغاز condensing gas المحتوي على acrylic acid (VY) أو بواسطة تلامسه مع سائل امتصاص cabsorption liquid مباشرةً لعملية بلورة (أي؛ دون ٠ أن يمر بالخطوة الخاصة بعملية فصل الأكرولين)؛ يفضل أن يتم الحصول على السائل المحتوي على acid عا _بحيث يكون ذا معدل تركيز Jie ل acrylic acid في خطوة الامتصاص absorption step مقارنةً بذلك الذي يمر بالخطوة الخاصة بعملية فصل الأكرولين. يتم إمداد جهاز التبلور )١ 4) crystallizer (الخط (YA بالمحلول المحتوي على (VA) acrylic acid الذي تم الحصول عليه بواسطة عملية الفصل separation process أو بالمحلول المحتوي على ٠ لام (V1) acrylic لكي يتم الحصول على حمض أكريليك نقي .)7١( purified acrylic في هذا
Pa محدودة؛ ويمكن أن يتم استخدام جهاز crystallization method الوقت؛ لا تكون طريقة البلورة ولا يقتصر جهاز التبلور على cbatch-type أو نمط دفعي continuous type تبلور ذي نمط مستمر النوع ذي المرحلة الواحدة؛ ولكن يمكن أن يكون ذا مرحلتين أو أكثر للاستخدام في تنفيذ الطريقة. على سبيل المثال؛ فيمكن استخدام جهاز التبلور المتخذ شكل عمود والمشتمل على جزء بلورة وجزء تنقية solid-liquid separation part وجزء فصل السائل من الصلب cseparation part © صورة جهاز التبلور ذي النمط المستمر. وفي الشكل؛ يشير (crystal purification part البلورات السائل الأصلي المتبقي الذي تم تفريغه من جهاز التبلور )19( وفي (YY) الرقم المرجعي جزء على الأقل من distillation يتم تقطير of VOEVA=Y eo طلب براءة الاختراع الياباني رقم absorption ويتم إمداد ناتج التقطير إلى عمود الامتصاص (YY) السائل الأصلي المتبقي .)١( column ٠ purification (عملية التنقية acrylic acid وبعد ذلك؛ سيتم تناول الطريقة المستخدمة لإنتاج حالة عدم الاستقرار بالشرح. (process ١٠١ acrylic acid (المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid عندما يحتوي المحلول المشتمل على 2٠١ على أكثر من (acrolein separation process عندما لا يتم إجراء عملية فصل الأكرولين من الماء؛ يمكن استخدام أي من العمليات التالية من (أ) إلى (د) أو توليفة من اثنين mass بالكتلة Ne منها أو أكثر وما شابه (المشار إليها أحياثًا فيما بعد في هذه الوثيقة باسم الإجراءات من لأ] إلى المراد إمداده إلى جهاز acrylic بحيث يكون تركيز الماء في المحلول المحتوي على حمض ال (I بالكتلة أو أقل. 79١ (14) التبلور الذي تم تفريغه من جهاز التبلور )٠١( purified acrylic acid يتم خلط حمض الأكريليك النقي [] الذي تم الحصول عليه في عملية إنتاج أخرى (YY) أو حمض الأكريليك النقي (V4) crystallizer ٠٠
و١ في المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid (المحلول المحتوي على حمض ال ١١ acrylic عندما لا يتم إجراء عملية فصل الأكرولين (acrolein separation process الناتج من الخط (FA) ويتم إمداد جهاز التبلور (V8) بهذا الخليط. بطريقة أخرى؛ يتم خلط حمض الأكريليك النقي )7١( أو (YY) في المحلول المحتوي على acrylic acid )11( الناتج من الخط )١( © متبوعًا بإخضاع الخليط لعملية فصل cacrolein ويتم بعد ذلك dad) جهاز التبلور )14( بالمحلول الناتج المحتوي على (YA) acrylic acid [ب] يتم تخزين المحلول المحتوي على acrylic acid المشتمل على تركيز_ ماء منخفض والذي تم الحصول عليه من عمود الامتصاص (V¢ ) absorption column في حالة ١ لاستقرار (المشار إليه Lad بعد في هذه الوثيقة باسم سائل مستخلص (extracted liquid في صهريج (Yo) tank يتم ٠١ استخدامه للسائل المستخلص (الخط 4 3) مسبقًاء وعندما يتم تفريغ المحلول المحتوي على acrylic acid )11( والمشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة mass من الماء من عمود الامتصاص (4١)؛ يتم خلط السائل المستخلص (YF) في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid (الخط TY وعند الضرورة؛ يتم إخضاع الخليط لعملية فصل الأكرولين متبوعة بإمداد جهاز التبلور )19( به. [ج] يتم الحصول على المحلول المحتوي على (YA) acrylic acid أو (V1) المشتمل على تركيز ماء VO عالٍ من مدخل تغذية سائل الامتصاص absorption liquid feed inlet الخاص بعمود الامتصاص )١٠( absorption column (أي؛ يتم إمداد عمود الامتصاص VE بالمحلول المحتوي على acrylic VA acid أو ١ المشتمل على تركيز ماء عالٍ من خط تفريغ الصهريج الوسيط 77 عبر خط إمداد سائل الامتصاص (YY absorption liquid supply line أو من مدخل التغنية feed inlet الخاص بإرجاع المحلول المحتوي على acrylic acid (يتم وضع مدخل التغذية الخاصة بإرجاع المحلول Ye المحتوي على acrylic acid عند موضع أعلى من مدخل تغذية الغاز (gas feed inlet المتصل بعمود
- ١١ -
الامتصاصض )١٠١( absorption column (أي؛ يتم إمداد عمود الامتصاص ٠4 بالمحلول المحتوي على ١8 acrylic acid أو ٠١ المشتمل على تركيز ماء Jie من خط تفريغ الصهريج الوسيط ٠ (YA intermediate tank discharge line وبهذه الطريقة؛ يتم تدوير المحاليل المحتوية على acrylic
(V1) (VA) acid والمشتملة على تركيز ماء عالٍ في صورة سوائل palatial وبالتالي يتم تكثيف
© مكون acrylic acid وهكذا يمكن الحصول على محلول محتوٍ على (V1) acrylic acid ذي تركيز ماء منخفض. إذا كانت كمية المحلول amount solution المحتوي على (VA) acrylic acid أو )1\(
ذي تركيز الماء العالي أكبر من الكمية المطلوبة في سائل الامتصاص absorption liquid داخل
عمود الامتصاص ¢(V¢) absorption column فيفضل أن يتم تخزين المحلول المحتوي على
(YA) acrylic acid أو ise (V1) في صهريج وسيط oY £) intermediate tank ويتم إمداد عمود ٠ الامتصاص )١( بالكمية المطلوبة للامتصاص على أجزاء ٠ وعندما تكون كمية المحلول المحتوي على حمض ال (VA) acrylic أو (V1) ذي تركيز الماء العالي أقل بصورةٍ كبيرة من الكمية المطلوبة
في سائل الامتصاص داخل عمود الامتصاص (4١)؛ يمكن إمداد المحلول المحتوي على حمض ال (YA) acrylic أو (VY) إلى مدخل تغذية سائل الامتصاص absorption liquid feed inlet دون مروره بالصهريج الوسيط (74). Ble على (dd لمعرفة الوقت المناسب لإمداد المحلول المحتوي
٠ على acrylic acid المشتمل على تركيز ماء Je في الصهريج الوسيط (YE) إلى عمود الامتصاص aa ؛)٠( absorption column أنه عندما يصبح تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic
(V1) acid الذي تم تفريغه من عمود الامتصاص 7٠١ )١٠( absorption column بالكتلة mass أو
أقل؛ أو قبل أن يصل تركيز الماء إلى ٠١ بالكتلة أو أقل Lee) يكون أعلى من 7٠١ بالكتلة). Love [3 يتم تخزين المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid أو )01( والمشتمل على تركيز Yo ماء Je مؤقتاً في الصهريج الوسيط (Y£) intermediate tank (الخط (VV وعندما تصل عملية ARAN!
١7 - - تنقية acrylic acid purification process لحالة الاستقرار يتم إرجاع المحلول مرة أخرى إلى الصهريج الوسيط (YE) عبر الخط (Ve) إلى الخط الأصلي (الخط 38)؛ وبعدها يتم خلطه مع المحلول المحتوي على (0A) acrylic acid أو )11( في حالة pied ويتم إمداد جهاز التبلور (V4) crystallizer بالخليط الناتج. ومع ذلك؛ لكي لا يصبح تركيز الماء في المحلول المحتوي © على acrylic acid بعدما يتم خلطه أعلى من 72٠١ بالكتلة؛ فيجب أن يتم ضبط كمية المحلول المحتوي على acrylic acid الناتجة من الصهريج الوسيط (؟؛ 7). (aay للإجراءات من لا] إلى [د] الموضحة diel فمن خلال جعل المحلول المحتوي على acrylic 0 الذي سيتم إمداده إلى جهاز التبلور (V9) crystallizer يحتوي على 7٠١ بالكتلة أو أقل من celal يمكن إجراء الخطوة الخاصة بالبلورة crystallization بسلاسة دون الحاجة لتنفيذ أية عملية ٠ خاصة؛ وبالتالي يمكن إنتاج حمض الأكريليك النفقي purified acrylic acid بحيث يكون بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد. لتحديد الوقت المناسب للتحول من نمط تشغيل لتنفيذ الإجراءات من لأ] إلى [د] (طريقة باستخدام أي من الإجراءات من لأ] إلى []» أو توليفة من اثنين منها أو أكثر) (نمط تشغيل حيث يتم تنفيذ الإجراءات المتبعة في حالة عدم (LEY) إلى نمط التشغيل المتبع في حالة الاستقرار (عملية ٠5 تشغيل مستقرة)؛ فيمكن تحويل عملية التشغيل إلى عملية تشغيل مستقرة ليس فقط بعدما يصل تركيز الماء في المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid (المحلول المحتوي على acrylic acid في الحالة التي يتم فيها إجراء عملية لفصل الأكرولين (acrolein separation process إلى ٠ بالكتلة mass أو أقل؛ ولكن Unf في المرحلة التي يصل فيها تركيز الماء في المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid (أو المحلول المحتوي على acrylic acid 0( 28 بالكتلة أو Ye أقل؛ وكذلك عندما يصل إلى To بالكتلة أو أقل.
- ١ بالكتلة أو أقل 7٠١ يشتمل على (V1) VA acrylic acid على الرغم من أن المحلول المحتوي على من الماء؛ فلا يمكن القول إن العملية تتم في ظروف مستقرة بدرجة كافية بمجرد أن يصل تركيز بالكتلة أو أقل؛ وبالتالي ستكون هناك حاجة لتحويل نمط التشغيل المستخدم في 7٠0 الماء إلى تنفيذ الإجراءات من [ا] إلى [د] مرة أخرى وفي فترة زمنية قصيرة. ووفقًا لما سبق؛ ومن ناحية يفضل أن يتم التحويل إلى نمط switch operation التعقيدات التي تبرز خلال عملية التحويل © التشغيل المستقر بعدما يصل تركيز الماء إلى 78 بالكتلة أو أقل؛ أو عندما يصل إلى 75 بالكتلة تعد ظروف التشغيل الأكثر استقرارًا. بالإضافة إلى ذلك؛ فمن خلال تنفيذ الإجراءات Ally أو أقل ؛ والذي يكون بتركيز acrylic acid من 1[ إلى [د]؛ يكون من الممكن إدخال المحلول المحتوي على crystallization وبالتالي يمكن إجراء عملية بلورة ccrystallizer ماء منخفض في جهاز التبلور المحلول ذي تركيز الماء المنخفض بصورة أكثر تيسيرًا؛ وستصبح مواصفات المنتج أفضل process) وبالتالي؛ فمن الناحية الخاصة بتركيز الماء؛ يفضل أن يتم التحويل إلى نمط التشغيل المستقر © Lad
Jodi بالكتلة أو ZA (V1) ١8 acrylic acid بعدما يصل تركيز الماء في المحلول المحتوي على عندما يصل إلى 75 أو أقل. من الناحية الأخرى؛ لكي يتم تقليل تركيز الماء؛ فستستغرق عملية تنفيذ الإجراءات من لأ] إلى [د] حيث سيستغرق تركيز ASI TA أو ٠١ أطول (مقارنة بالحالة التي يصبح فيها تركيز الماء GE, ٠ أطول كذلك Gy أطول لكي يصل إلى ما يتراوح من 8 إلى 75 بالكتلة؛ بل سيستغرق Ga, الماء أو أقل)؛ وبالتالي؛ ستكون هناك حاجة للاستمرار في نمط التشغيل mass لكي يصبح 75 بالكتلة لفترة زمنية (unsteady operation (تشغيل غير مستقر [J المستخدم لتتفيذ الإجراءات من 1[ إلى وجهة النظر تلك يفضل أن يتم الانتقال إلى التشغيل المستقر في المرحلة pedo Jilly طويلة. بصورة كبيرة (على (11) VA acrylic acid التي لا يقل فيها تركيز الماء في المحلول المحتوي على ve بالكتلة). ZA إلى ٠١ سبيل المثال؛ يكون تركيز الماء من + إلى 75 بالكتلة؛ ويفضل أن يكون من
ya - cla سيتم تتاول طريقة الامتصاص absorption المستخدمة للحصول على المحلول المحتوي على acrylic acid من الغاز المحتوي على acrylic acid باستخدام سائل امتصاص absorption liquid الموضحة أعلاه بالشرح. يمكن استخدام مجموعة كبيرة من المحاليل المائية aqueous solutions في صورة المحلول المائي © للامتصاص Wa aqueous solution for absorption أنها تمتص acrylic acid ويفضل أن يتم استخدام ناتج التكثيف الذي تم الحصول عليه بواسطة تبريد وتكثيف الغاز condensing gas الذي تم تفريغه من أعلى عمود الامتصاص absorption column (الذي تم تفريغه لتقليل الفاقد من acrylic 0 المفرغ_خارج النظام)_ في صورة المحلول_المائي المستخدم shay عملية الامتصاص .absorption process غالبًا ما يحتوي ناتج التكتيف على acrylic acid وبالتالي إذا تم استخدامه في Ve صورة محلول امتصاص مائي؛ يمكن الحصول على المحلول المحتوي على acrylic acid ذي تركيز عالٍ ل acrylic acid من النماذج المفضلة ad أن تتم إعادة تدوير الغاز الذي تم تصريفه من أعلى عمود الامتصاص absorption column إما Wa أو GIS في المفاعل reactor يفضل أن يتم إدخال المحلول المائي للامتصاص aqueous solution for absorption في عمود الامتصاص absorption column عند درجة حرارة تتراوح من صفر إلى - م» والأكثر تفضيلاً أن ٠ تتراوح درجة الحرارة من ٠١ إلى 56 م. يمكن اختيار نسبة معدل التدفق الكتلي ratio of mass flow rate للمحلول المائي المستخدم لعملية الامتصاص absorption process الذي سيتم إمداده مجددًا من الخارج إلى الغاز المحتوي على acrylic acid على نحو ملام وفقًا لتركيز acrylic acid المستهدف» ويفضل أن تكون هذه النسبة أكبر من معدل التدفق الكتلي mass flow rate ل acrylic acid المتضمن في الغاز المحتوي على
ل
aonylic acid بما يتراوح من 0.١ إلى 1,5 مرة؛ والأكثر تفضيلاً أن تتراوح من 01 إلى
١ مرة» بل والأكثر تفضيلاً أن تتراوح من ١.١8 إلى A مرة. im يتم إخضاع المحلول المائي المستخدم لعملية الامتصاص والذي يتضمن معدل التدفق الكتلي هذا إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow contact مع الغاز المحتوي على acrylic acid لكي يتم امتصاص .acrylic acid إذا كانت نسبة معدل التدفق الكتلي أقل من ١,١ مرة؛ ستتخفض فعالية عمود امتصاص acrylic acid بالإضافة إلى ذلك؛ بما أن acrylic acid عبارة عن مادة قابلة للبلمرة «polymerizable material فلكي يتم منع البلمرة eprevent polymerization يمكن تضمين واحد أو أكثر من المركبات المنتقاة selected 5ه من المجموعة التي تتألف من مركب «N-oxyl ومركب «phenol وملح
Jw dialkyldithiocarbamate copper وملح «lly وما إلى manganese acetate Jie manganese | ٠ في المحلول phenothiazine 5 amine ومركب nitro وما شابه؛ ومركب dibutylcarbamate copper (يمكنك الرجوع إلى absorption process المستخدم لعملية الامتصاص aqueous solution المائي SY) وطلب براءة الاختراع الياباني رقم of ؟ 48776 0-70٠01 طلب براءة الاختراع الياباني رقم وما شابه). TY EATOA=Y 0) ميا وطلب براءة الاختراع الياباني رقم
\o يتم تشغيل عمود امتصاص acrylic acid absorption column بوجهٍ عام في Jb ظروف ضغط عادي أو أعلى ٠ وفي أثناء عملية التشغيل المستقرة steady operation يفضل أن يتراوح ضغط الجزء العلوي من العمود column-top pressure (ضغط المقياس (gauge pressure من صفر إلى 4 ميجا باسكال؛ والأكثر تفضيلاً أن يتراوح من صفر إلى ١,١ ميجا باسكال؛ بل والأكثر تفضيلاً أن ibs من صفر إلى © ميجا باسكال. إذا كان الضغط أقل من صفر ميجا باسكال إضغط
٠ المقياس)؛ يصبح من الضروري استخدام جهاز إزالة الضغط وهذا agp يزيد من تكاليف المعدات
والمرافق؛ بينما إذا كان الضغط أعلى من ١4 ميجا باسكال (إضغط المقياس)؛ ستكون هناك حاجة لزيادة درجة حرارة عمود الامتصاص absorption column بصورة كبيرة حتى يتم تفريغ المواد ذات نقطة الغليان المنخفضة dow boiling point وبالتالي قد تقل فعالية الامتصاص absorption .efficiency © تتراوح درجة حرارة الجزء العلوي من عمود الامتصاص dng عام من Tr إلى AS م؛ ويفضل أن تتراوح من 50 إلى 80 م. في ظل ظروف الامتصاص الموضحة أعلاه؛ ففي النموذج الحالي؛ يمكن الحصول على المحلول المحتوي على acrylic acid بنسبة المزيج التالية: acrylic acid : من Av إلى 798 بالكتلة «mass ماء: من ١ إلى 29194 بالكتلة؛ شوائب أخرى (أحماض «maleic acids acetic acid Jie ٠ ولاعة propionic وما شابه؛ ومركبات formaldehyde 5 «furfural Jie aldehydes وما شابه): من ١ إلى 7٠١ بالكتلة .mass Led يتعلق بالطريقة المستخدمة لإنتاج methacrylic acid (عملية التنقية «(purification process (Se تنفيذ خطوة البلورة crystallization step بسلاسة دون الحاجة AY عملية تشغيل خاصة بالطريقة نفسها المتبعة مع cacrylic acid وبالتالي يمكن إنتاج methacrylic acid النقي بدرجة نقاء VO عالية وبناتج جيد. يمكن تحديد تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid (أو المحلول المحتوي على (methacrylic acid بواسطة طريقة (Se Karl Fischer's تحديد تركيز acrylic acid في المحلول المحتوي على acrylic acid (تركيز methacrylic acid في المحلول المحتوي على methacrylic (acid بواسطة أي من الآتي:
تحليل الفصل الكروماتوجرافي للغاز ¢gas chromatography analysis وقياس الموصلية الكهربائية conductivity measurement ل1600168»»؛ ومعايرة المحايدة neutralization titration سيتم وصف الاختراع الحالي فيما بعد في هذه الوثيقة بمزيدٍ من التفصيل بالإشارة إلى الأمثلة؛ ولكن لا يقتصر الاختراع الحالي على الأمثلة التالية ويمكن أن يتم تعديله على نحوٍ ملائم ضمن © _المجال الموضح أعلاه أو أدناه ويتم تضمين تلك التعديلات أيضًا في المجال التقني للاختراع الحالي. مثال :)١( تم إدخال الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة 0 ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase في عمود الامتصاص absorption (V€) column AR حتى يتلامس مع سائل الامتصاص )٠١( contact absorption liquid في صورة تلامس تدفق معاكس ccounter-flow contact وبالتالي يتم الحصول على المحلول المحتوي على L(V) acrylic acid تشتمل تركيبة السائل liquid composition الموجودة في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid على Ze بالكتلة من cacrylic acid و٠727 بالكتلة mass من cell و7215 بالكتلة من شوائب أخرى. VO تم خلط حمض الأكريليك النقي )٠١( purified acrylic acid (تركيبة حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid المشتملة على ¢,744 بالكتلة من acrylic acid و4 70.500 بالكتلة من الماء؛ 70,15 بالكتلة من شوائب أخرى) الذي تم الحصول عليه Gass في أثناء التشغيل في حالة استقرار في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid للحصول على خليط منه. وكانت نسبة كتلة الخلط mixing mass ratio للمحلول المحتوي على acrylic acid إلى حمض الأكريليك acrylic
40 النقي هي 7: 0 يشتمل الخليط الموضح أعلاه على 75,7 بالكتلة من sled و788,7 بالكتلة من cacrylic acid و 4,7 7 بالكتلة من شوائب أخرى. تم إمداد جهاز التبلور crystallizer ) ) بالخليط الموضح أعلاه حتى يتم إخضاعه لعملية بلورة crystallization process وكانت درجة نقاء acrylic acid الناتج 744,4 بالكتلة. وكان ناتج نقاء نج نج
acrylicacid © 795,4 في مثال (١)؛ على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى خلط حمض الأكريليك acrylic acid النقي ٠ فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك acrylic acid النقي بدرجة ol عالية وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه. مثال (7):
acrylic acid بين الغاز المحتوي على counter-flow contact تتم إحداث تلامس ذي تدفق معاكس ٠ _ذات الطور الغازي الحفزي oxidation والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة (VY) في عمود الامتصاص (V0) absorption liquid مع سائل الامتصاص catalytic gas phase .)١١( acrylic acid حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على )٠١( absorption column (V1) acrylic acid الخاصة بالمحلول المحتوي على liquid composition تشتمل تركيبة السائل
Vo على /vo بالكتلة من 8610 cacrylic و 1 بالكتلة من الماء 6و Jo بالكتلة من شوائب أخرى. على الصعيد AY) ففي أثنا ء التشغيل في Alla مستقرة؛ تم استخلاص المحلول المحتوي على acrylic acid والمحتوي على 7٠١ بالكتلة أو أقل من الماء الذي تم تفريغه في عمود الامتصاص )14( وتخزينه مسبقًا (تم الإشارة إلى المحلول المحتوي على acrylic acid باسم سائل line YO tank zea) (extracted liquid للسائل المستخلص)؛ وتم خلط السائل المستخلص (YY) مع
المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid الناتج من الخط (YR) (خليط). وكانت نسبة كتلة الخلط mixing mass ratio للمحلول المحتوي على acrylic acid إلى حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid هي .٠١ :١ اشتملت تركيبة السائل المستخلص composition extracted (YY) liquid على LANNY بالكتلة من cacrylic acid و4 ,4 7 بالكتلة من الماء؛ 5 77,4 بالكتلة من © شوائب أخرى. واشتملت تركيبة السائل الخاصة بالخليط الموضح أعلاه على 788 بالكتلة من acrylic acid و 78,١ بالكتلة من celal و77,8 بالكتلة من شوائب أخرى. تم إمداد جهاز التبلور (V4) crystallizer بالخليط الموضح أعلاه حتى يتم إخضاعه لعملية بلورة 0585 طملاهتاالقاصون. وكانت درجة نقاء ll acrylic acid 794,4 بالكتلة mass وكان ناتج نقاء acrylic acid 44,4 ١ في مثال oY) على الرغم من عدم تنفيذ أية lee تشغيل خاصة سوى خلط المحلول المحتوي على acrylic acid والمشتمل على تركيز_ماء منخفض» فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك التقي purified acrylic acid بدرجة نقاء idle وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه. مثال (): تم glad] الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة Ye الأكسدة oxidation _ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow contact مع سائل الامتصاص )0 )١ في عمود الامتصاضص absorption column (VE ) حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid تشتمل تركيبة السائل liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على (V1) acrylic acid على 275 بالكتلة من cacrylic acid و7219 بالكتلة من الماء؛ و١٠ بالكتلة من شوائب أخرى.
vo — ~ تم تخزين المحلول المحتوي على acrylic acid في صهريج وسيط (Yt) intermediate tank (تتم الإشارة Gla إلى المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن باسم المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن)؛ ومن الصهريج ctank يتم إمداد المحلول المحتوي على acrylic acid من مدخل تغذية سائل الامتصاص absorption liquid feed inlet الموجودة في عمود الامتصاص (VE) © بطريقة تتيح تضمينه بكمية تقدر بنسبة 7780 بالكتلة فيما يتعلق لكمية سائل الامتصاص amount absorption liquid (خط YY عبر خط (dag (YT استمرت عملية التشغيل operation تلك حتى وصل تركيز الماء في المحلول المحتوي على (YU Jas) (V1) acrylic acid الذي تم تفريغه من عمود الامتصاص 7٠١ (VE) بالكتلة أو أقل. وبعد ذلك؛ تم التأكد من أن المحلول المحتوي على acrylic acid الذي تم تفريغه من عمود ١0٠ لامتصاص absorption column )£ 1( يحتوي على تركيز ماء منخفض بصورة كافية والذي يمكن الحصول عليه بطريقة ثابتة leg) وجه الخصوص فقد اشتملت تركيبة السائل liquid composition على 7816 بالكتلة 5 من ZA 5 acrylic acid بالكتلة من الماء» و77 بالكتلة من شوائب أخرى)؛ وتم إمداد جهاز التبلور crystallizer )19( بالمحلول المحتوي على acrylic acid (V1) والذي يكون بتركيز ماء منخفض لإجراء عملية البلورة crystallization process ٠ أظهر acrylic acid الناتج درجة نقاء بنسبة 744,4 بالكتلة؛ وكان ناتج تنقية acrylic acid 144,9 في مثال (7)؛ على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى إرجاع المحلول المحتوي على acrylic acid والمشتمل على أكثر من 7٠١ بالكتلة من الماء إلى عمود الامتصاص في صورة سائل الامتصاص؛ فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه.
ا مثال (؛): تم إخضاع الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة 008 ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow ase contact سائل الامتصاص absorption liquid )©( في عمود الامتصاص )18( حتى يتم © الحصول على المحلول المحتوي على .)١١( acrylic acid بعد ذلك؛ تم إمداد المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid إلى عمود فصل الأكرولين (VV) acrolein separation column لإخضاع ال 0 وما شابه لعملية فصل separation process بالتقطير 50110؛ وبالتالي يتم الحصول على المحلول المحتوي على )١ A) acrylic acid مع إزالة acrolein J وما شابه. تشتمل تركيبة السائل liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على (VA) acrylic acid على 7197 بالكتلة ٠ من ZY ١و acrylic acid بالكتلة 5 من الماء؛ و7217 بالكتلة من شوائب أخرى. :ِ تم خلط حمض الأكريليك النقي (Y +) purified acrylic acid (تركيبة حمض الأكريليك acrylic all acid المشتملة على ¢,744 بالكتلة من cacrylic acid و4 70.060 بالكتلة من الماء؛ Tog بالكتلة من شوائب أخرى) الذي تم الحصول عليه be أثناء التشغيل في حالة استقرار في المحلول المحتوي على (VA) acrylic acid (الخط (FA حتى يتم إمداد جهاز التبلور crystallizer (ya) ٠ به. وكانت نسبة كتلة الخلط mixing mass ratio للمحلول المحتوي على acrylic acid إلى حمض الأكريليك acrylic acid النقي هي ؟: 0 يشتمل الخليط الموضح أعلاه على 75,7 بالكتلة من الماءء و 780,1١ بالكتلة من cacrylic acid و 4,١ 7# بالكتلة من شوائب أخرى. كانت درجة نقاء acrylic acid الذي تم الحصول عليه بواسطة بلورة crystallization الخليط 754 بالكتلة. وكان ناتج نتقية acrylic acid 44,9
الا - في مثال (؛)؛ على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى خلط حمض الأكريليك acrylic acid النقي؛ فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك acrylic acid النقي بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه. مثال (5): © تم glad) الغاز المحتوي على )١ Y) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة 0" ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس ae counter-flow contact سائل الامتصاص absorption liquid )10( في عمود الامتصاص absorption column )€ )( حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid تشتمل تركيبة السائل liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على )٠١( acrylic acid ٠ على 765 بالكتلة mass من «acrylic acid و0٠77 بالكتلة من الماء؛ و9٠71 بالكتلة من شوائب أخرى. تم إمداد جهاز التبلور crystallizer )19( بالمحلول المحتوي على .)١١( acrylic acid وفي idee البلورة cerystallization process أظهرت الأمثلة الموضحة أعلاه من )١( إلى (4) سرعة بلورة ل acrylic acid تعادل سرعة عملية التشغيل المستقرة «steady operation مقارنة ٠ بهذاء فإن dey بلورة acrylic acid crystallization في المثال )0( تكون بطيئة؛ لذلك كانت كمية البلورات التي تم الحصول عليها في وقت مكافئ لذلك المستغرق في الأمثلة من )١( إلى (4) صغيرة جدًا. أصبحث سرعة البلورة بطيئة بسبب انخفاض نقطة اتنصهار المحلول melting point 8 المحتوي على 2a acrylic acid التركيز العالي للماء في المحلول المحتوي على acrylic acid )11( وبالتالي أصبحت فعالية التبادل الحراري heat exchange efficiency مع المبرد ٠ ضعيفة refrigerant poor علاوةً على ذلك؛ فإن التغيير في مكون المحلول المصحوب بالتقدم في
YA - - عملية البلورة أدى إلى انخفاض في نقطة الانصهار melting point وبالتالي أصبح من الصعب الاستمرار في خطوة البلورة Jal crystallization step توقفت Adee التشغيل. مثال (3): تم إخضاع الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة © الأكسدة 0 ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس ae counter-flow contact سائل الامتصاص absorption liquid )10( في عمود الامتصاص absorption column )€ 1( وبالتالي يتم الحصول على المحلول المحتوي على acrylic acid (V1) تشتمل تركيبة السائل liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على acrylic acid (V1) على 715 بالكتلة mass من cacrylic acid و0٠77 بالكتلة من الماء؛ و5١71 بالكتلة من ٠ شوائب أخرى. ض من الناحية الأخرى؛ تم خلط حمض الأكريليك النقي )٠١( purified acrylic acid (تركيبة حمض الأكريليك النقي acrylic acid المشتملة على 744,4 بالكتلة من acid #نابوعة؛ و4 0.00 بالكتلة من الماء؛ 700 بالكتلة من شوائب أخرى) الذي تم الحصول عليه Bae في أثناء التشغيل في حالة استقرار في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid بطريقة تتيح أن تكون نسبة كتلة Vo المحلول المحتوي على acrylic acid إلى حمض الأكريليك النقي acrylic acid هي 7: ١١ وتم dla) جهاز التبلور crystallizer )14( بالخليط الناتج. اشتمل الخليط على “,777 بالكتلة من ZV, 0 5 cell بالكتلة من cacrylic acid و 71١7 بالكتلة من شوائب أخرى. في جهاز التبلور (V4) الموضح أعلاه؛ يمكن بلورة crystallization 700 بالكتلة من acrylic acid المتضمن في الخليط فقط. ومن المحتمل أن يحدث انخفاض في معدل البلورة crystallization rate ٠ نظرًا لاتخفاض نقطة انصهار المحلول melting point solution المحتوي على Ll acrylic acid
أن تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid المزود لجهاز التبلور (V4) كان مرتفعًا. وبالتالي؛ أصبح من الصعب الاستمرار في عملية البلورة cerystallization process وبالتالي تم وقف عملية التشغيل. مثال :(V) © تم glad) الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة shall dy oxidation الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow contact مع سائل الامتصاص (V0) في عمود الامتصاص absorption ١ ) column ( حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على ٠ ( ١ ) acrylic acid تشتمل تركيبة السائل liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على (M1) acrylic acid على 7/65 Ye بالكتلة من acrylic acid و١7 بالكتلة من الماءء و59١7 بالكتلة من شوائب أخرى. تم خلط حمض الأكريليك النقي )٠١( purified acrylic acid (تركيبة حمض الأكريليك acrylic 0 النقي المشتملة على 794,4 بالكتلة من cacrylic acid و0004 بالكتلة من Toh cold بالكتلة من شوائب أخرى) الذي تم الحصول عليه Base في أثناء التشغيل في حالة استقرار في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid بطريقة تتيح أن تكون نسبة المحلول المحتوي على acrylic acid acrylic acid ٠ النقي هي ١ : ١ وبعدها تم إمداد جهاز التبلور crystallizer )19( به. اشتمل الخليط على 79٠١ بالكتلة من الماء؛ و 787,7 بالكتلة من IVA 5 cacrylic acid بالكتلة من شوائب أخرى. أظهر acrylic acid الناتج درجة نقاء بنسبة 794,4 بالكتلة. وكان ناتج 480 acrylic acid 8%
ال في مثال (7)؛ على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى خلط acrylic acid النقي؛ فيمكن أن يتم إنتاج acrylic acid النقي بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه. مثال :(A)
تم glad] الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة
© الأكسدة ١0 ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow contact مع سائل الامتصاص (V0) في عمود الامتصاضص absorption column
(VE ) حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على ٠ (V1) acrylic acid وبما أن المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid كان ذا درجة تركيز ماء Alle تصل إلى 72780 بالكتلة؛ فقد تم تخزين المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid في صهريج رسيط )١( intermediate tank
٠ (المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن) ٠ وتم الاستمرار في خوض عملية التراكم حتى وصل تركيز الماء في المحلول المحتوي على 7٠١ (V1) acrylic acid بالكتلة أو أقل. وبعدئذ؛ تم التأكد
من أن تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic acid )01( الذي تم تفريغه من عمود الامتصاص absorption column )¢ 1( أصبح ٠ بالكتلة أو أقل ويمكن الحصول عليه بطريقة ثابتة. وهكذاء تشتمل التركيبة السائلة liquid composition الخاصة بالمحلول المحتوي على acrylic
acid Ve (المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن) التي تم تخزينها في الصهريج الوسيط (4 ؟)
على 729/97 بالكتلة من cacrylic acid 5 70 بالكتلة من الماء؛ و78 بالكتلة من شوائب أخرى. بعد ذلك؛ تم إمداد المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن الموجود في الصهريج الوسيط (V6) من الخط (YA) إلى عمود الامتصاص )16( وقد بلغت كمية المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن التي تم إمدادها 77١8 بالكتلة من إجمالي كمية سائل الامتصاص amount
liquid 0م وقد تم استخدام سائل امتصاص عادي لبقية الكمية الإجمالية من سائل الامتصاص. وهكذاء اشتملت تركيبة السائل الخاصة بالمحلول المحتوي على (V1) acrylic acid التي تم الحصول علياه من عمود الامتصاص )£ \ ( على 7895 بالكتلة من acrylic acid 5 77 بالكتلة من الماء؛ © و25 بالكتلة من شوائب أخرى. وتم إمداد جهاز التبلور crystallizer )19( بالمحلول المحتوي على acrylic acid )11( لإجراء عملية البلورة crystallization process أظهر acrylic acid الناتج درجة نقاء بنسبة ¢ ,£44 بالكتلة؛ وكان ناتج 485 acrylic acid 44,4 في مثال (A) على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى إرجاع المحلول المحتوي على acrylic acid والمشتمل على أكثر من Ive بالكتلة من الماء إلى عمود الامتصاص absorption column AR في صورة سائل الامتصاص absorption liquid فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid بدرجة نقاء Alle وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه. مثال (5): تم glad) الغاز المحتوي على (VY) acrylic acid والذي تم الحصول عليه بواسطة طريقة الأكسدة oxidation ذات الطور الغازي الحفزي catalytic gas phase إلى تلامس تدفق معاكس counter-flow contact Vo مع سائل الامتصاص (Vo) في عمود الامتصاص ( )٠4 حتى يتم الحصول على المحلول المحتوي على ٠ (V1) acrylic acid وبما أن المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid كان ذا درجة تركيز ماء عالية تصل إلى Xe بالكتلة؛ فقد تم تخزين المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid في صهريج وسيط (Y¢) intermediate tank (المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن).
الس
وتم الاستمرار في خوض عملية التراكم حتى وصل تركيز الماء في المحلول المحتوي على acrylic
ZA )١١( acid بالكتلة. وهكذاء تشتمل التركيبة السائلة liquid composition الخاصة بالمحلول
المحتوي على acrylic acid (المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن) التي تم تخزينها في
الصهريج الوسيط (74) على 775 بالكتلة من cacrylic acid و7154 بالكتلة من celal و1١21
© بالكتلة من شوائب أخرى. ض
بعد ذلك؛ تم خلط المحلول المحتوي على acrylic acid المُخزن الموجود في الصهريج الوسيط
(11) acrylic acid في المحلول المحتوي على (YO) والناتج من الخط )٠( intermediate tank
(المحتوي على TA بالكتلة أو أقل من الماء) الناتج من الخط (TA) وكانت نسبة كتلة الخلط
mass ratio ع«ل«ذ_للمحلول المحتوي على acid :1ه إلى المحلول المحتوي على acrylic acid ٠١ المُخزن هي iY اشتملت التركيبة السائلة liquid composition للخليط على
8 بالكتلة mass من «acrylic acid و١٠11 بالكتلة من celal و78,7 بالكتلة من شوائب
أخرى.
تم إمداد جهاز التبلور crystallizer )19( بالخليط حتى يتم إخضاعه لعملية بلورة crystallization
5. وقد أظهر acrylic acid الناتج درجة نقاء ded 794,4 بالكتلة؛ وكان ناتج نقاء acrylic JA% acid ٠
في مثال (1)؛ على الرغم من عدم تنفيذ أية عملية تشغيل خاصة سوى تخزين المحلول المحتوي
على acrylic acid والمشتمل على أكثر من 727٠0 بالكتلة من Giga oll وأنه قد تم خلط المحلول
المحتوي على acrylic acid المُخزن في المحلول المحتوي على (V1) acrylic acid الذي يشتمل
على JA بالكتلة أو أقل من الماء؛ فيمكن أن يتم إنتاج حمض الأكريليك النقي purified acrylic ١ 10م بدرجة نقاء عالية وبناتج جيد كما تم توضيحه أعلاه.
ل _ نخلص من نتائج التجارب الموضحة أعلاه أنه يتعذر تنفيذ عمليتي الفصل separation والتنقية 0ح بواسطة البلورة crystallization بسلاسة في المثالين )0( و(6)؛ بينما يمكن إجراؤهما بسلاسة في جهاز التبلور (V2) للحصول على حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid الذي يكون بدرجة نقاء عالية في الأمثلة من )١( إلى )8( ومن (Y) إلى (9). وفيما يتعلق بالناتج؛ فقد ٠ تم الحصول على ناتج كبير في الأمثلة من )١( إلى )6( ولكن في المثالين () و() حيث تمت بلورة المحلول المحتوي على acrylic acid والذي كان بدرجة تركيز للماء بقيمة 7٠١ بالكتلة؛ فقد كان الناتج أقل من ذلك الذي تم تحقيقه في الأمثلة من )١( إلى )£( والمثال (A) ومن نتائج التجارب الموضحة أعلاه؛ وُجد أنه يمكن الاستمرار في خوض عملية البلورة بسلاسة بل ويمكن تحقيق ناتج أعلى أيضنًا من خلال جعل تركيز الماء 7٠١0 بالكتلة أو أقل باستخدام الإجراءات من ٠ () إلى (د) الموضحة أعلاه. على الرغم من أن الأمثلة الواردة أعلاه قد عرضت Bila لإنتاج (Sad acrylic acid تطبيق الاختراع الحالي أيضًا لإنتاج methacrylic acid بالطريقة نفسها. وفقًا للاختراع الحالي؛ وحتى إذا كان المحلول المحتوي على (meth) acrylic acid يحتوي على أكثر من Ive بالكتلة mass من الماء؛ وهو الأمر الذي يعبر عن حالة عدم استقرار؛ فيمكن أن يتم Ve تجميع حمض (meth)acrylic من المحلول المحتوي على حمض (methacrylic دون إجراء أية عملية تشغيل خاصة؛ ويمكن الحصول على حمض الأكريليك النقي purified acrylic acid بدرجة نقاء عالية وبناتج مرتفع بتحقيق خسارة أقل في عملية إنتاج حمض ((meth)acrylic وذلك دون أن يؤدي ذلك إلى ارتفاع في التكاليف المتعلقة بحالات التخلص من الماء الزائد أو عمليات فصل الماء الإضافي additional water separation operation كما تم توضيحه أعلاه. يقوم هذا الطلب على
دوم طلب براءة الاختراع الياباني رقم 1 Yogdqo0o-Y. المودع في Yo سبتمبر عام تي والذي ثم دمج محتوياته في هذه البراءة كمرجع.
Claims (1)
- دوم - عناصر_ الحماية-١ ١ طريقة لإنتاج حمض (methacrylic تشتمل على:" الحصول على الغاز المحتوي على حمض 0608011 _من_مادة خام zWY حمض (meth)acrylic بواسطة تفاعل أكسدة oxidation reaction ذي طور غازي حفزني catalytic gas ؛ ¢phase الحصول على المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic من الغاز المحتوي على © حمض ¢(meth)acrylic ضبط محتوى الماء للمحلول المحتوي على حمض (methyacrylic إلى 2٠ % بالكتلة mass أو أقل ؛ واخضاع المحلول المحتوي على (meth)acrylic aes والمشتمل على 2٠١ بالكتلة أو أقل من الماء لعملية بلورة cerystallization process وبالتالي يتم إنتاج A حمض (meth)acrylic نقي 000311560 حيث؛ يتم إجراء ضبط محتوى الماء بواسطة خلط حمض (methacrylic 9 النقي و/أو المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic المشتمل على 7٠١ ٠ بالكتلة أو أقل من الماء في المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic المشتمل على أكثر ١١ من 7٠١ بالكتلة من الماء الذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي على حمض (methacrylic ٠١ ”- الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (meth)acrylic وفقًا لعنصر الحماية (١)؛ حيث يتم " استخدام حمض (methjacrylic النقي كحمض (meth)acrylic النقي purified المراد خلطه في " المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic والمشتمل على أكثر من 77٠١ بالكتلة mass من ؛ الماء.١ >؟- الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (meth)acrylic وفقًا لعنصر الحماية (١)؛ حيث يتم " تخزين جزء من المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic الذي يشتمل على 7٠١ بالكتلة ¥ 0888 أو أقل من الماء والذي تم الحصول عليه في عملية إنتاج حمض (meth)acrylic مسبقًا ثم؛ - يتم خلطه في المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic الذي يشتمل على ST من 7٠١ aly, © من الماء. ١ ب الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض i, (meth)acrylic لعنصر الحماية ) ١ حيث تشتمل " أيضاً على تلامس الغاز containing gas المحتوي على حمض (methacrylic مع سائل Y امتصاص absorption liquid للحصول على المحلول المحتوي على حمض «(methacrylic 3 حيث يتم استخدام الماء كسائل امتصاص. ١ *- الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (meth)acrylic وفقًا لعنصر الحماية (؟)؛ حيث يتم ¥ تخزين eda من المحلول المحتوي على حمض (methacrylic الذي يشتمل على 7٠١ بالكتلة mass أو Jil من الماء والذي تم الحصول عليه في عملية إنتاج حمض (meth)acrylic مسبقًا ثم ؛ يتم خلطه في المحلول المحتوي على حمض (methacrylic الذي يشتمل على أكثر من 71٠١ aly 5 من الماء. -+١ ١ الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض Uy (meth)acrylic لعنصر الحماية (5)؛ تشتمل أيضاً eX تلامس الغاز containing gas المحتوي على حمض 0160:(201:6) مع سائل امتصاص absorption liquid ٠ للحصول على المحلول المحتوي على حمض (methacrylic حيث يتم ¢ استخدام الماء كسائل امتصاص . =v) طريقة لإنتاج حمض (meth)acrylic تشتمل على: 7 الحصول على الغاز المحتوي على حمض 01160086116 من مادة خام لإنتاج حمض (meth)acrylic " بواسطة تفاعل أكسدة oxidation reaction ذي طور غازي حفزي catalytic gasالا - ©088م؛ تلامس الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic مع سائل امتصاص absorption liquid © للحصول على المحلول المحتوي على حمض (methacrylic والمشتمل على أكثر من 72090 بالكتلة mass من الماء ؛ تدوير المحلول المحتوي على حمض (methyacrylic والمشتمل ١ على أكثر من ٠١ بالكتلة من الماء كسائل امتصاص حتى يحتوي المحلول المشتمل على حمض (methjacrylic A المراد إخضاعه لعملية البلورة crystallization process على 2٠١ بالكتلة من fell 4 أقل ¢ واخضاع المحلول المحتوي على حمض (methacrylic والمشتمل على Ive ٠ بالكتلة من الماء أو أقل لعملية بلورة؛ وبالتالي يتم إنتاج حمض (meth)acrylic نقي purified =A) الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (meth)acrylic وفقًا لعنصر الحماية (7) تشتمل على " تلامس الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic مع سائل امتصاص absorption liquid " للحصول على المحلول المحتوي على حمض (methacrylic حيث يتم على نحو مرافق ؛ استخدام الماء كسائل امتصاص. ١ 4- طريقة لإنتاج حمض (methyacrylic تشتمل على: " الحصول على الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic من مادة خام لإنتاج حمض (meth)acrylic ¥ بواسطة تفاعل أكسدة oxidation reaction ذي طور غازي حفزي catalytic gas phase ¢ الحصول على المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic من الغاز المحتوي على © حمض «(meth)acrylic بينما يتم مؤقتاً تخزين المحلول المحتوي على (methjacrylic aes + والمشتمل على أكثر من ASL ٠١ 5 من الماء والذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي".على حمض (methacrylic حتى يمكن الحصول على المحلول المحتوي على حمض (meth)acrylic A والمشتمل على 7٠0 بالكتلة من الماء أو أقل بأسلوب ثابت؛ خلط المحلول 9 _المحتوي على حمض (methacrylic والمُخزن على نحو مؤقت في المحلول المحتوي على حمض(methyacrylic ٠ والمشتمل على 71٠١ بالكتلة من الماء أو أقل والذي تم الحصول عليه بأسلوب ١١ ثابت إلى مدى يتم فيه الحفاظ على محتوى 727٠0 بالكتلة من الماء أو أقل؛ إخضاع المحلول ١ المحتوي على حمض (methacrylic والمشتمل على 7٠١ بالكتلة من الماء أو أقل لعملية بلورة crystallization process VY وبالتالي يتم إنتاج حمض (meth)acrylic نقي purifiedLoad وفقًا لعنصر الحماية ) 4(« تشتمل (methacrylic الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض -٠١ ١ absorption liquid مع سائل امتصاص (meth)acrylic ا تلامس الغاز المحتوي على حمض يتم استخدام الماء كسائل Cua (methacrylic للحصول على المحلول المحتوي على حمض ¥ ؛ امتصاص.-١١ ١ الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (methacrylic وفقًا لعنصر الحماية (١)؛ تشتمل أيضاً " على فصل نواتج التفاعل الثانوية separating reaction by-product عن المحلول المحتوي على حمض (methacrylic والذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي على حمض (meth)acrylic 2 قبل ضبط محتوى الماء به.-١١ ١ الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض (methacrylic وفقًا لعنصر الحماية (7)؛ تشتمل أيضاً " على فصل نواتج التفاعل الثانوية separating reaction by-product عن المحلول المحتوي على ¥ حمض (methjacrylic والذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي على حمض (methacrylic ؛ قبل ضبط محتوى الماء به. ١ ؟١- الطريقة المستخدمة لإنتاج حمض Gy (methacrylic لعنصر الحماية )1( تشتمل أيضاً " على فصل نواتج التفاعل الثانوية separating reaction by-product عن المحلول المحتوي على¥ حمض (methjacrylic والذي تم الحصول عليه من الغاز المحتوي على حمض (methacrylic ؛ قبل ضبط محتوى الماء به.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006254955A JP4256887B2 (ja) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA07280502B1 true SA07280502B1 (ar) | 2011-08-20 |
Family
ID=38961750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA07280502A SA07280502B1 (ar) | 2006-09-20 | 2007-09-17 | طريقة لإنتاج حمض (ميث) أكريليك |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7714164B2 (ar) |
| EP (1) | EP1903025B1 (ar) |
| JP (1) | JP4256887B2 (ar) |
| CN (1) | CN101148404B (ar) |
| BR (1) | BRPI0705682B1 (ar) |
| DE (1) | DE602007012971D1 (ar) |
| SA (1) | SA07280502B1 (ar) |
| TW (1) | TW200821282A (ar) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5606692B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2014-10-15 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
| CN102282120B (zh) | 2009-02-03 | 2015-03-04 | 株式会社日本触媒 | (甲基)丙烯酸的制备方法 |
| JP5318602B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-10-16 | 株式会社日本触媒 | アクリル酸結晶の融解方法 |
| JP5485585B2 (ja) * | 2009-05-15 | 2014-05-07 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
| US8592627B2 (en) | 2009-05-15 | 2013-11-26 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for producing (meth)acrylic acid and crystallization system |
| JP5485584B2 (ja) * | 2009-05-15 | 2014-05-07 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法および晶析システム |
| JP5580813B2 (ja) | 2009-05-15 | 2014-08-27 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
| JP5932506B2 (ja) * | 2012-06-12 | 2016-06-08 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
| DE102014114193A1 (de) * | 2014-09-30 | 2015-08-13 | Basf Se | Verfahren und Anlage zur Rückgewinnung von Acrylsäure |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3659507B2 (ja) | 1993-09-13 | 2005-06-15 | 月島機械株式会社 | アクリル酸の精製方法 |
| JP3948855B2 (ja) * | 1999-06-10 | 2007-07-25 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸の製造方法 |
| DE10036881A1 (de) * | 2000-07-28 | 2002-02-07 | Basf Ag | Verfahren zur Regelung einer Waschkolonne in einem Schmelzkristallisationsprozess und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| BR0109929B1 (pt) | 2000-04-11 | 2012-08-07 | processo para a purificaÇço de uma massa fundida de Ácido acrÍlico bruto. | |
| JP2001348359A (ja) | 2000-06-06 | 2001-12-18 | Nippon Shokubai Co Ltd | （メタ）アクリル酸およびそのエステルの重合防止方法ならびにこれらの製造方法 |
| JP4601772B2 (ja) | 2000-06-06 | 2010-12-22 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸およびそのエステルの重合防止方法ならびにこれらの製造方法 |
| JP4456730B2 (ja) | 2000-06-06 | 2010-04-28 | 株式会社日本触媒 | （メタ）アクリル酸またはそのエステルの重合防止方法ならびにこれらの製造方法 |
| JP3908118B2 (ja) * | 2002-08-08 | 2007-04-25 | 株式会社日本触媒 | アクリル酸の製造方法 |
| JP2005015478A (ja) | 2003-06-05 | 2005-01-20 | Nippon Shokubai Co Ltd | アクリル酸の製造方法 |
| JP3957297B2 (ja) | 2003-06-05 | 2007-08-15 | 株式会社日本触媒 | アクリル酸の製造方法 |
| JP3957298B2 (ja) | 2003-06-05 | 2007-08-15 | 株式会社日本触媒 | アクリル酸の製造方法 |
| JP2005336110A (ja) | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | （メタ）アクリル酸および（メタ）アクリル酸エステルの製造方法 |
-
2006
- 2006-09-20 JP JP2006254955A patent/JP4256887B2/ja active Active
-
2007
- 2007-09-12 TW TW096134029A patent/TW200821282A/zh unknown
- 2007-09-17 SA SA07280502A patent/SA07280502B1/ar unknown
- 2007-09-18 CN CN2007101518111A patent/CN101148404B/zh active Active
- 2007-09-18 EP EP07018315A patent/EP1903025B1/en active Active
- 2007-09-18 DE DE602007012971T patent/DE602007012971D1/de active Active
- 2007-09-19 BR BRPI0705682A patent/BRPI0705682B1/pt active IP Right Grant
- 2007-09-19 US US11/902,162 patent/US7714164B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI354661B (ar) | 2011-12-21 |
| EP1903025B1 (en) | 2011-03-09 |
| CN101148404A (zh) | 2008-03-26 |
| JP2008074759A (ja) | 2008-04-03 |
| BRPI0705682B1 (pt) | 2016-11-08 |
| US7714164B2 (en) | 2010-05-11 |
| EP1903025A1 (en) | 2008-03-26 |
| BRPI0705682A (pt) | 2008-06-03 |
| TW200821282A (en) | 2008-05-16 |
| CN101148404B (zh) | 2012-07-18 |
| US20080071111A1 (en) | 2008-03-20 |
| JP4256887B2 (ja) | 2009-04-22 |
| DE602007012971D1 (de) | 2011-04-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA07280502B1 (ar) | طريقة لإنتاج حمض (ميث) أكريليك | |
| KR100514026B1 (ko) | 아크릴산및메타크릴산의정제 | |
| RU2462461C2 (ru) | Способы получения этиленоксида и этиленгликоля | |
| KR101648653B1 (ko) | 아세토니트릴의 정제 방법 | |
| CN105793216B (zh) | 通过氧化脱氢反应生产丁二烯的方法 | |
| KR101528987B1 (ko) | 아크릴로니트릴의 정제 방법 | |
| JP3559523B2 (ja) | （メタ）アクリル酸の精製方法 | |
| SA04250146B1 (ar) | طريقة لإنتاج حمض الأكريليك acrylic acid | |
| US9896407B2 (en) | Exhaust gas cleaning in a method for continuously producing dinitrotoluene | |
| KR102698594B1 (ko) | 폴리머 등급의 (메트)아크릴산의 개선된 제조 방법 | |
| EP1427692A1 (de) | Verfahren zur herstellung von (meth)acrylsaeureestern | |
| DE19501325A1 (de) | Verfahren der rektifikativen Abtrennung von (Meth)acrylsäure aus einem (Meth)acrylsäure enthaltenden Gemisch | |
| WO2014034500A1 (ja) | アセトニトリルの精製方法 | |
| CA2282492A1 (en) | Method for extracting (meth)acrylic acid | |
| US7015357B2 (en) | Processes for producing (meth)acrylic acid | |
| US7351310B2 (en) | Rectificative separation of fluids comprising (meth) acrylic monomers | |
| US20200306768A1 (en) | Methods and Systems for Liquid‐Liquid Separations | |
| DE19746689A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylsäure | |
| JP2021155452A (ja) | （メタ）アクリル酸の製造方法 | |
| TWI778256B (zh) | 醋酸之製造方法 | |
| FR2939694A1 (fr) | Procede de deshydratation partielle d'un gaz par absorption sur un solvant regenerable par demixtion a temperature ambiante | |
| BR112019018426B1 (pt) | Processo de purificação de ácido (met)acrílico incluindo uma coluna de destilação com parede divisória | |
| US20150368177A1 (en) | Process for purifying (meth)acrylic acid |