RU2365069C1 - Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge - Google Patents
Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge Download PDFInfo
- Publication number
- RU2365069C1 RU2365069C1 RU2008111307/28A RU2008111307A RU2365069C1 RU 2365069 C1 RU2365069 C1 RU 2365069C1 RU 2008111307/28 A RU2008111307/28 A RU 2008111307/28A RU 2008111307 A RU2008111307 A RU 2008111307A RU 2365069 C1 RU2365069 C1 RU 2365069C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electrode
- liquid metal
- short
- wave radiation
- electrodes
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 37
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к устройствам для получения мощного коротковолнового излучения, в частности экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения из плазмы импульсно-периодического вакуумного разряда, инициируемого лазером между вращающимися электродами. Область применений включает ЭУФ-литографию, в частности, в спектральной полосе 13.5±0.135 нм, отвечающей диапазону эффективного отражения зеркальной оптики с Mo/Si покрытием.The invention relates to devices for producing high-power short-wave radiation, in particular extreme ultraviolet (EUV) radiation from a plasma of a pulsed periodic vacuum discharge initiated by a laser between rotating electrodes. The scope of application includes EUV lithography, in particular, in the spectral band of 13.5 ± 0.135 nm, corresponding to the effective reflection range of mirror optics with a Mo / Si coating.
Известно устройство для получения мощного коротковолнового, в частности, ЭУФ-излучения из лазерной плазмы, получаемой в режиме с высокой частотой следования импульсов при фокусировке импульсного лазерного пучка на субмиллиметровой мишени, содержащей рабочее вещество, линии излучения ионов которого находятся в нужной области ЭУФ-диапазона [1]. В указанном устройстве в область фокусировки лазерного луча инжектируют следующие друг за другом твердые или жидкие субмиллиметровые мишени, содержащие рабочее вещество такое, как олово (Sn), литий (Li), ксенон (Xe), а также формируют мощный лазерный пучок с высокой частотой повторения импульсов. Одним из достоинств устройства является малый расход рабочего вещества, что облегчает решение задачи защиты оптики при его использовании для ЭУФ-литографии. Недостаток ЭУФ-источника коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы обусловлен его малой, по сравнению с разрядными источниками, эффективностью.A device is known for producing high-power short-wavelength, in particular, EUV radiation from a laser plasma obtained in the high-pulse repetition mode when a pulsed laser beam is focused on a submillimeter target containing a working substance whose ion emission lines are in the desired region of the EUV range [ one]. In this device, successive solid or liquid submillimeter targets containing a working substance such as tin (Sn), lithium (Li), xenon (Xe) are injected into the focus area of the laser beam, and they also form a powerful laser beam with a high repetition rate pulses. One of the advantages of the device is the low consumption of the working substance, which facilitates the solution of the problem of protecting optics when it is used for EUV lithography. The disadvantage of the EUV source of short-wave radiation based on laser plasma is due to its low efficiency compared to discharge sources.
Частично этих недостатков лишено устройство для получения мощного коротковолнового излучения из плазмы инициируемого лазером вакуумного разряда между интенсивно охлаждаемыми вращающимися электродами, один из которых покрыт слоем плазмообразующего вещества, в частности олова [2]. В этом устройстве при вращении электрода плазмообразующее вещество подается в разрядную зону в твердом состоянии, что обеспечивает его малый расход и устраняет разбрызгивание. Однако, выходя из разрядной зоны за счет вращения электрода, часть слоя плазмообразующего вещества некоторое время, до остывания, находится в расплавленном состоянии, деформируясь под действием центробежной силы. Это требует применения системы регенерации электродной поверхности, что значительно усложняет устройство для получения мощного коротковолнового излучения.Partially these disadvantages are lacking in a device for generating high-power short-wave radiation from a plasma initiated by a laser of a vacuum discharge between intensely cooled rotating electrodes, one of which is coated with a layer of a plasma-forming substance, in particular tin [2]. In this device, when the electrode rotates, the plasma-forming substance is supplied to the discharge zone in the solid state, which ensures its low consumption and eliminates spatter. However, leaving the discharge zone due to the rotation of the electrode, a part of the plasma-forming substance layer is in the molten state for some time, before cooling, deforming under the action of centrifugal force. This requires the use of an electrode surface regeneration system, which greatly complicates the device for obtaining powerful short-wave radiation.
Наиболее близким техническим решением, выбранным в качестве прототипа, является устройство для получения мощного коротковолнового излучения из разрядной плазмы, содержащее соединенные с приводами вращения электроды, каждый из которых частично погружен в ванну с жидким металлом и подключен к источнику питания, и кожухи для возврата жидкого металла в ванны [3]. В указанном устройстве избыток жидкого металла, а именно олова, удаляют с вращающихся электродов скребками, что минимизирует расход и разбрызгивание жидкого металла. Кожухи, установленные в прототипе для улавливания паров жидкого металла и возврата конденсированного жидкого металла в ванны, могут окружать электродную систему со всех сторон, за исключением области вывода излучения. В прототипе импульсный источник питания подключен к вращающимся электродам через ванны с жидким металлом.The closest technical solution, selected as a prototype, is a device for generating powerful short-wave radiation from a discharge plasma, containing electrodes connected to rotation drives, each of which is partially immersed in a bath with liquid metal and connected to a power source, and casings for returning liquid metal in the baths [3]. In this device, the excess liquid metal, namely tin, is removed from the rotating electrodes by scrapers, which minimizes the consumption and spatter of the liquid metal. The housings installed in the prototype for trapping liquid metal vapors and returning condensed liquid metal to the baths can surround the electrode system on all sides, except for the radiation output area. In the prototype, a switching power supply is connected to the rotating electrodes through baths with liquid metal.
Прототип позволяет обеспечить высокую мощность коротковолнового излучения в ЭУФ и мягком рентгеновском диапазоне при большом времени жизни электродов.The prototype allows you to provide high power short-wave radiation in the EUV and the soft x-ray range with a long electrode life.
Недостатком прототипа является то, что коррозия скребков в среде жидкого металла с течением времени приводит к избытку на отдельных частях поверхности электродов жидкого металла и к его разбрызгиванию в результате действия центробежных сил, в том числе в зоне разряда. При этом геометрия кожухов и электродов не позволяет устранить разбрызгивание жидкого металла в область выхода коротковолнового излучения. Это приводит к неустойчивой работе источника коротковолнового излучения от импульса к импульсу и загрязнению оптики. Кроме этого, в прототипе скользящие контакты в виде ванн с жидким металлом достаточно сильно удалены от разрядной зоны, что увеличивает индуктивность разрядного контура и уменьшает эффективность источника коротковолнового излучения.The disadvantage of the prototype is that corrosion of the scrapers in the liquid metal environment over time leads to an excess of liquid metal on some parts of the surface of the electrodes and to its spraying as a result of centrifugal forces, including in the discharge zone. At the same time, the geometry of the housings and electrodes does not allow eliminating the spatter of liquid metal in the region of the output of short-wave radiation. This leads to unstable operation of the source of short-wave radiation from pulse to pulse and pollution of the optics. In addition, in the prototype, the sliding contacts in the form of baths with liquid metal are sufficiently far removed from the discharge zone, which increases the inductance of the discharge circuit and reduces the efficiency of the source of short-wave radiation.
Техническим результатом изобретения является устранение выброса продуктов эрозии в конденсированной капельной фазе из источника коротковолнового излучения, повышение его кпд и энергетической стабильности, что значительно улучшает функциональные возможности устройства для получения мощного коротковолнового излучения.The technical result of the invention is to eliminate the emission of erosion products in the condensed droplet phase from the source of short-wave radiation, increasing its efficiency and energy stability, which significantly improves the functionality of the device to obtain powerful short-wave radiation.
Указанная задача может быть осуществлена усовершенствованием устройства для получения мощного коротковолнового излучения из разрядной плазмы, содержащим соединенные с приводами вращения электроды, каждый из которых частично погружен в ванну с жидким металлом и подключен к источнику питания, и кожухи для возврата жидкого металла в ванны.This task can be accomplished by improving the device for generating high-power short-wave radiation from a discharge plasma, containing electrodes connected to rotation drives, each of which is partially immersed in a liquid metal bath and connected to a power source, and casings for returning liquid metal to the baths.
Усовершенствование устройства состоит в том, что смачиваемая жидким металлом область каждого электрода, за исключением части поверхности, содержащей рабочую зону электрода, размещена в кожухе, а часть поверхности, содержащая рабочую зону электрода, спрофилирована так, что нормаль к поверхности электрода не совпадает с направлением центробежной силы, причем в плоскости, проходящей через ось вращения электрода, проекция центробежной силы на касательную к поверхности электрода направлена в сторону кожуха, и составляющая центробежной силы по нормали к поверхности электрода меньше силы поверхностного натяжения в слое жидкого металла при его отрыве от поверхности, при этом каждый кожух выполнен из электропроводного материала и подключение к источнику питания каждого из электродов осуществлено непосредственно через кожух и заполняемый жидким металлом зазор между кожухом и электродом.An improvement of the device is that the area wetted by liquid metal of each electrode, with the exception of the part of the surface containing the working area of the electrode, is placed in the casing, and the part of the surface containing the working area of the electrode is profiled so that the normal to the surface of the electrode does not coincide with the direction of the centrifugal forces, moreover, in the plane passing through the axis of rotation of the electrode, the projection of the centrifugal force on the tangent to the electrode surface is directed toward the casing, and the component of the centrifugal force The normal to the electrode surface is less than the surface tension force in the liquid metal layer when it is detached from the surface, with each casing made of electrically conductive material and connecting to the power source of each of the electrodes made directly through the casing and the gap between the casing and the electrode filled with liquid metal.
В варианте реализации устройства один из электродов размещен внутри другого электрода, выполненного кольцевым, и для защиты кожухов от мощного коротковолнового излучения они размещены в областях, оптически не связанных с разрядной зоной.In an embodiment of the device, one of the electrodes is placed inside another ring-shaped electrode, and to protect the housings from powerful short-wave radiation, they are placed in areas that are not optically connected to the discharge zone.
Сущность изобретения поясняется прилагаемыми чертежами.The invention is illustrated by the accompanying drawings.
На фиг.1 изображена общая принципиальная схема устройства для получения мощного коротковолнового излучения из разрядной плазмы. На фиг.2 показан вариант устройства с вращением одного из электродов внутри другого вращающегося электрода.Figure 1 shows a General schematic diagram of a device for producing high-power short-wave radiation from a discharge plasma. Figure 2 shows a variant of the device with the rotation of one of the electrodes inside the other rotating electrode.
Устройство для получения мощного коротковолнового излучения из разрядной плазмы содержит соединенные с приводами вращения электроды - 1, 2, выполненные, например, в виде дискообразных элементов, частично погруженных в ванны - 3, 4 с жидким металлом. Смачиваемые в ваннах периферийные части поверхности электродов - 1, 2 покрыты слоями - 5, 6 жидкого металла, преимущественно олова. Устройство также содержит кожухи - 7, 8, которые закрывают смачиваемую жидким металлом область каждого электрода, за исключением части - 9 поверхности, содержащей рабочую зону электрода, лазер - 10 с оптической системой транспортировки и фокусировки луча на поверхность электрода - 1, покрытого слоем - 5 жидкого металла, служащего плазмообразующим веществом, и импульсный источник питания - 11 (фиг.1). Источник питания - 11 подключен к вращающимся электродам через кожухи - 7, 8, выполненные из электропроводного материала, и жидкий металл, заполняющий зазоры между вращающимися электродами и частями кожухов, наиболее близко расположенными к разрядной зоне. Смачиваемые части - 9 поверхности электродов, включающие в себя рабочие зоны электродов и не закрытые кожухами - 7, 8, выполнены с профилем, устраняющим отрыв слоя жидкого металла - 5, 6 от поверхности вращающихся электродов и обеспечивающим направленное движение жидкого металла к кожуху под действием центробежной силы. Для этого профиль указанных участков поверхности электродов выполняют так, что нормаль к поверхности электрода не совпадает с направлением центробежной силы, причем в плоскости, проходящей через ось вращения электрода, проекция центробежной силы на касательную к поверхности электрода направлена в сторону кожуха, а составляющая центробежной силы по нормали к поверхности электрода меньше силы поверхностного натяжения в слое жидкого металла при его отрыве от поверхности.A device for producing high-power short-wave radiation from a discharge plasma contains electrodes - 1, 2 connected to rotation drives, made, for example, in the form of disk-shaped elements partially immersed in baths - 3, 4 with liquid metal. The peripheral parts of the surface of the electrodes wetted in the baths - 1, 2 are covered with layers - 5, 6 of a liquid metal, mainly tin. The device also contains casings - 7, 8, which cover the area of each electrode wetted by liquid metal, with the exception of part - 9 of the surface containing the working area of the electrode, laser - 10 with an optical system for transporting and focusing the beam on the surface of electrode - 1, coated with a layer - 5 liquid metal serving as a plasma-forming substance, and a switching power supply - 11 (figure 1). The power source - 11 is connected to the rotating electrodes through the casings - 7, 8, made of electrically conductive material, and liquid metal filling the gaps between the rotating electrodes and the parts of the casings closest to the discharge zone. Wetted parts — 9 electrode surfaces, including the working zones of the electrodes and not covered by housings — 7, 8, are made with a profile that eliminates the separation of the liquid metal layer — 5, 6 from the surface of the rotating electrodes and ensures directed motion of the liquid metal to the casing under the action of centrifugal strength. To this end, the profile of the indicated sections of the electrode surface is performed so that the normal to the electrode surface does not coincide with the direction of the centrifugal force, and in the plane passing through the axis of rotation of the electrode, the projection of the centrifugal force on the tangent to the electrode surface is directed toward the casing, and the centrifugal force component the normals to the electrode surface are less than the surface tension force in the liquid metal layer when it is separated from the surface.
Вращающийся электрод - 1 может быть размещен внутри электрода - 2, выполненного кольцевым, кожухи размещены в областях, оптически не связанных с разрядной зоной (фиг.2), и вращение кольцевого электрода может производиться с помощью ведущей шестерни - 12.The rotating electrode - 1 can be placed inside the ring-shaped electrode - 2, the housings are placed in areas that are not optically connected to the discharge zone (Fig. 2), and the ring electrode can be rotated using the pinion gear - 12.
Получение мощного коротковолнового излучения из разрядной плазмы реализуют следующим образом.Obtaining high-power short-wave radiation from a discharge plasma is implemented as follows.
С помощью приводов вращения производят равномерное вращение электродов - 1, 2, которые за счет частичного погружения в ванны - 3, 4 покрыты слоями - 5, 6 жидкого металла. При вращении каждого из электродов - 1, 2 за счет действия центробежной силы, направление которой не совпадает с нормалью к поверхности в области электрода, смачиваемой жидким металлом и не закрытой кожухами - 7, 8, происходит перемещение жидкого металла по поверхностям электродов - 1, 2. Смачиваемые жидким металлом и не закрытые кожухами - 7, 8 части - 9 поверхности электродов - 1, 2 спрофилированы так, что в плоскости, проходящей через ось вращения каждого электрода, проекция центробежной силы на касательную к поверхности электрода направлена в сторону кожуха, что обеспечивает автоматическое перемещение жидкого металла к кожухам - 7, 8 и заполнение зазоров между периферийной частью электродов - 1, 2 и кожухами - 7, 8 жидким металлом. На указанных участках поверхности электродов - 1, 2 составляющая центробежной силы по нормали к поверхности электрода меньше силы поверхностного натяжения в слое жидкого металла при его отрыве от поверхности, что устраняет разбрызгивания жидкого металла с поверхности электрода. В условиях эксплуатации устройства величина центробежной силы примерно на порядок величины или более превосходит силу тяжести, поэтому при рассмотрении работы устройства силой тяжести можно пренебречь. За каждый оборот электродов количество жидкого металла, поступающего в зазоры между электродами - 1, 2 и кожухами - 7, 8, равно количеству жидкого металла, которое возвращается в ванны - 3, 4 из указанных зазоров за счет вращения электродов. Лучом импульсного лазера - 7, сфокусированным на слой - 3 жидкого металла на электроде - 1, испаряют и ионизируют малую порцию жидкого металла. Лазерно-индуцированная плазма в процессе разлета распространяется от электрода - 1 к электроду - 2. После замыкания лазерно-индуцированной плазмой разрядного промежутка между электродами - 1, 2 с помощью импульсного источника питания - 11 осуществляют импульсный сильноточный разряд. Импульсный ток разряда протекает по малоиндуктивной электрической цепи, включающей в себя кожухи - 7, 8, выполненные из электропроводного материала, и приближенные к зоне разряда зазоры между кожухами - 7, 8 и электродами - 1, 2, заполняемые жидким металлом. За счет выбора плазмообразующего вещества, в частности олова, линии излучения ионов которого находятся в коротковолновой области спектра, обеспечивается высокоэффективное испускание коротковолнового излучения из разрядной плазмы. После поворота электродов - 1, 2 на угол, достаточный для ввода в зону разряда свежих участков слоев - 3, 4 жидкометаллического плазмообразующего вещества, цикл работы повторяют. При высокой, ~10 кГц, частоте повторения импульсов достигается высокая мощность коротковолнового излучения из разрядной плазмы. Охлаждение элементов источника коротковолнового излучения в процессе работы производят с помощью не показанных на чертеже охлаждающих жидкостей, циркулирующих во вращающихся электродах - 1, 2 и ваннах - 3, 4.Using rotation drives, the electrodes are uniformly rotated - 1, 2, which due to partial immersion in baths - 3, 4 are covered with layers - 5, 6 of liquid metal. During rotation of each of the electrodes - 1, 2 due to the action of centrifugal force, the direction of which does not coincide with the normal to the surface in the region of the electrode wetted by liquid metal and not covered by covers - 7, 8, the liquid metal moves along the surfaces of the electrodes - 1, 2 Wetted with liquid metal and not covered by casings - 7, 8 parts - 9 of the electrode surface - 1, 2 are profiled so that in the plane passing through the axis of rotation of each electrode, the projection of the centrifugal force on the tangent to the electrode surface is directed to one hundred rim of the casing, which provides automatic movement of the liquid metal to the casing - 7, 8 and filling the gaps between the peripheral part of the electrodes - 1, 2 and the casing - 7, 8 with liquid metal. In these areas of the electrode surface - 1, 2, the centrifugal component normal to the electrode surface is less than the surface tension force in the liquid metal layer when it is separated from the surface, which eliminates the splashing of the liquid metal from the electrode surface. Under the operating conditions of the device, the value of centrifugal force is approximately an order of magnitude or more greater than gravity, therefore, when considering the operation of the device, gravity can be neglected. For each revolution of the electrodes, the amount of liquid metal entering the gaps between the electrodes - 1, 2 and the housings - 7, 8 is equal to the amount of liquid metal that is returned to the baths - 3, 4 of these gaps due to the rotation of the electrodes. A pulsed laser beam - 7, focused on the layer - 3 of the liquid metal on the electrode - 1, evaporate and ionize a small portion of the liquid metal. The laser-induced plasma during the expansion process propagates from the electrode - 1 to the electrode - 2. After closing the discharge gap between the electrodes - 1, 2 by the laser-induced plasma, a pulsed high-current discharge is carried out using a switching power supply - 11. The pulse current of the discharge flows through a low-inductance electric circuit, which includes casings - 7, 8, made of electrically conductive material, and the gaps close to the discharge zone between the casings - 7, 8 and electrodes - 1, 2, filled with liquid metal. By choosing a plasma-forming substance, in particular tin, whose ion emission lines are in the short-wavelength region of the spectrum, highly efficient emission of short-wave radiation from the discharge plasma is ensured. After turning the electrodes - 1, 2 at an angle sufficient to introduce fresh sections of the layers - 3, 4 of the liquid-metal plasma-forming substance into the discharge zone, the operation cycle is repeated. At a high pulse repetition rate of ~ 10 kHz, a high power of short-wave radiation from a discharge plasma is achieved. The cooling of the elements of the source of short-wave radiation during operation is carried out using coolants not shown in the drawing that circulate in the rotating electrodes - 1, 2 and baths - 3, 4.
За счет размещения в кожухе смачиваемой жидким металлом области каждого электрода, за исключением профилированной части - 9 поверхности, содержащей рабочую зону электрода, устраняется выброс плазмообразующего вещества в конденсированной капельной фазе в зону выхода коротковолнового излучения. Кроме этого, устранение разбрызгивания жидкого металла, которое может приводить к периодическим замыканиям разнополярных элементов электроразрядной цепи, повышает энергетическую стабильность источника коротковолнового излучения. Осуществление разряда по электрической цепи, включающей в себя максимально приближенные к разрядной зоне скользящие контакты в виде жидкого металла, заполняющего зазоры между вращающимися электродами и кожухами, выполненными из электропроводящего материала, позволяет значительно, по сравнению с прототипом, уменьшить индуктивность разрядного контура и повысить эффективность получения коротковолнового излучения из разрядной плазмы.By placing in the casing a region wetted by liquid metal of each electrode, with the exception of the profiled part — 9 of the surface containing the working zone of the electrode, the discharge of the plasma-forming substance in the condensed drop phase into the exit zone of short-wave radiation is eliminated. In addition, the elimination of liquid metal spatter, which can lead to periodic short circuits of bipolar elements of the electric discharge circuit, increases the energy stability of the source of short-wave radiation. The discharge through the electric circuit, which includes sliding contacts as close to the discharge zone as liquid metal filling the gaps between the rotating electrodes and the housings made of electrically conductive material, can significantly reduce the discharge circuit inductance and increase the efficiency of obtaining short-wave radiation from a discharge plasma.
В варианте устройства, показанном на фиг.2, вращение одного из электродов - 1 производят внутри другого вращающегося электрода - 2, и в процессе работы экранируют неподвижные кожухи - 7, 8 от воздействия электромагнитного излучения за счет размещения кожухов в областях, оптически не связанных с разрядной зоной. Это позволяет увеличивать мощность, вводимую в разряд, и, соответственно, повышать мощность коротковолного излучения из разрядной плазмы. При выполнении электродов в указанном виде реализуется возможность увеличения пространственного угла, в который осуществляется вывод излучения, что увеличивает эффективность и мощность источника коротковолного излучения.In the embodiment of the device shown in figure 2, the rotation of one of the electrodes - 1 is produced inside another rotating electrode - 2, and in the process of operation, the stationary housings - 7, 8 are shielded from exposure to electromagnetic radiation due to the placement of the housings in areas that are not optically connected discharge zone. This allows you to increase the power introduced into the discharge, and, accordingly, to increase the power of short-wave radiation from the discharge plasma. When performing electrodes in this form, it is possible to increase the spatial angle into which the radiation is output, which increases the efficiency and power of the short-wave radiation source.
Таким образом, предлагаемое устройство позволяет устранить выброс продуктов эрозии в конденсированной капельной фазе из источника коротковолнового излучения, повысить его кпд и энергетическую стабильность, что значительно улучшает функциональные возможности устройства для получения коротковолнового излучения.Thus, the proposed device allows to eliminate the emission of erosion products in the condensed droplet phase from the source of short-wave radiation, to increase its efficiency and energy stability, which significantly improves the functionality of the device for receiving short-wave radiation.
Источники информацииInformation sources
1. Патент WO 03085707; МКИ6 H01L 21/027, H05H 1/24; заявлено 04.04.2003.1. Patent WO 03085707; MKI6 H01L 21/027,
2. V.Borisov, A.Eltsov, A.Ivanov, O.Khristoforov et al. "EUV sources using Xe and Sn discharge plasma", J.Phys. D: Appl. Phys. 37, 3254-3265 (2004).2. V. Borisov, A. Eltsov, A. Ivanov, O. Khristoforov et al. "EUV sources using Xe and Sn discharge plasma", J.Phys. D: Appl. Phys. 37, 3254-3265 (2004).
3. Патент ЕР 1665907; МКИ7 H05G 2/00; заявлено 11.09.2003.3. Patent EP 1665907; MKI7
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008111307/28A RU2365069C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008111307/28A RU2365069C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2365069C1 true RU2365069C1 (en) | 2009-08-20 |
Family
ID=41151434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008111307/28A RU2365069C1 (en) | 2008-03-26 | 2008-03-26 | Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2365069C1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2469516C1 (en) * | 2011-09-08 | 2012-12-10 | Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш" (ОАО ЦНИТИ "Техномаш") | Method of generating pulsed x-ray radiation |
| RU2789275C1 (en) * | 2022-01-17 | 2023-02-01 | Акционерное Общество "Эуф Лабс" | Target material, high-brightness euv source and 13.5 nm radiation generation method |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003085707A1 (en) * | 2002-04-05 | 2003-10-16 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source |
| RU2252496C2 (en) * | 2002-07-31 | 2005-05-20 | Борисов Владимир Михайлович | Device and method for producing short-wave radiation from gas- discharge plasma |
| EP1665907A2 (en) * | 2003-09-11 | 2006-06-07 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
| RU2278483C2 (en) * | 2004-04-14 | 2006-06-20 | Владимир Михайлович Борисов | Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma |
| JP2008053696A (en) * | 2006-07-28 | 2008-03-06 | Ushio Inc | Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet light generation method |
-
2008
- 2008-03-26 RU RU2008111307/28A patent/RU2365069C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003085707A1 (en) * | 2002-04-05 | 2003-10-16 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source |
| RU2252496C2 (en) * | 2002-07-31 | 2005-05-20 | Борисов Владимир Михайлович | Device and method for producing short-wave radiation from gas- discharge plasma |
| EP1665907A2 (en) * | 2003-09-11 | 2006-06-07 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
| RU2278483C2 (en) * | 2004-04-14 | 2006-06-20 | Владимир Михайлович Борисов | Extreme ultraviolet source with rotary electrodes and method for producing extreme ultraviolet radiation from gas-discharge plasma |
| JP2008053696A (en) * | 2006-07-28 | 2008-03-06 | Ushio Inc | Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet light generation method |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2469516C1 (en) * | 2011-09-08 | 2012-12-10 | Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш" (ОАО ЦНИТИ "Техномаш") | Method of generating pulsed x-ray radiation |
| RU2789275C1 (en) * | 2022-01-17 | 2023-02-01 | Акционерное Общество "Эуф Лабс" | Target material, high-brightness euv source and 13.5 nm radiation generation method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10217625B2 (en) | Continuous-wave laser-sustained plasma illumination source | |
| US8841641B2 (en) | Extreme ultraviolet light source apparatus | |
| RU2670273C2 (en) | Device and method for emission generation from laser plasma | |
| EP1109427B1 (en) | Method for emitting radiation for use in lithographic projection apparatus | |
| EP1305984B1 (en) | Method and apparatus for generating x-ray radiation | |
| TW201736978A (en) | System, method and apparatus for target debris cleaning of extreme ultraviolet containers and extreme ultraviolet collectors | |
| JP2014216286A (en) | Extreme ultraviolet light source device | |
| US20100051831A1 (en) | Light source employing laser-produced plasma | |
| WO2005101924A1 (en) | Method and device for obtaining euv radiation from a gas-discharge plasma | |
| EP2170020B1 (en) | Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet radiation | |
| JP2007220949A (en) | Extreme ultraviolet light source device and method for suppressing contamination of condensing optical means in extreme ultraviolet light source device | |
| CN104345570B (en) | Extreme ultra violet lithography light-source system and extreme ultraviolet method | |
| JP2000098098A (en) | X-ray generator | |
| US7477673B2 (en) | Arrangement for generating extreme ultraviolet radiation based on an electrically operated gas discharge | |
| US7800086B2 (en) | Arrangement for radiation generation by means of a gas discharge | |
| EP2203033B1 (en) | Extreme ultraviolet light source device | |
| RU2365069C1 (en) | Device for reception of powerful short-wave radiation from plasma discharge | |
| JP2017515136A (en) | Apparatus and method for active cleaning of EUV optical components using an RF plasma electric field | |
| JP2007134166A (en) | Extreme ultraviolet light source device | |
| JP2009026935A (en) | Pre-treatment and cleaning method for condensing reflector and extreme ultraviolet light source device provided with condensing reflector | |
| RU2373591C1 (en) | Euv radiation source | |
| RU2383074C2 (en) | Powerful euv radiation source | |
| RU2365068C1 (en) | Method of reception of short-wave radiation from vacuum discharge plasma | |
| Sayan et al. | Improvement of LDP EUV source performance for actinic patterned mask inspection | |
| KR102864171B1 (en) | Apparatus preventing the contamination of optical components caused by EUV light source and method therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110327 |