RU2364003C1 - Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator - Google Patents
Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator Download PDFInfo
- Publication number
- RU2364003C1 RU2364003C1 RU2008107365/28A RU2008107365A RU2364003C1 RU 2364003 C1 RU2364003 C1 RU 2364003C1 RU 2008107365/28 A RU2008107365/28 A RU 2008107365/28A RU 2008107365 A RU2008107365 A RU 2008107365A RU 2364003 C1 RU2364003 C1 RU 2364003C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electrodes
- plasma
- louvre
- case
- arc evaporator
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий, предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции и может быть использовано в электронной, инструментальной, оптической, машиностроительной и других отраслях промышленности.The invention relates to plasma technologies for applying film coatings, is intended for cleaning the plasma stream of arc evaporators from the microdrop fraction and can be used in electronic, instrumental, optical, engineering and other industries.
Плазменные вакуумные установки, использующие электродуговой разряд для испарения материалов, широко применяются в технологических процессах нанесения покрытий различного назначения. Формирование плазмы вакуумным дуговым разрядом или дуговым разрядом при пониженном давлении различных газов сопровождается формированием микрокапельной фракции и нейтральной атомарной и молекулярной компоненты, процентное содержание которых зависит от материала катода и тока дуги испарителя. Наличие микрокапельной фракции в плазменном потоке резко снижает качество осаждаемых покрытий, особенно тонких, толщиной, сравнимой с размерами микрокапель. Покрытия, обладающие высокими свойствами, удается получить при очистке плазмы вакуумной дуги от микрокапельной фракции с помощью плазменных фильтров.Plasma vacuum installations using an electric arc discharge for the evaporation of materials are widely used in technological processes of coating for various purposes. The formation of plasma by a vacuum arc discharge or an arc discharge under reduced pressure of various gases is accompanied by the formation of a microdrop fraction and a neutral atomic and molecular components, the percentage of which depends on the cathode material and the arc current of the evaporator. The presence of a microdrop fraction in the plasma stream sharply reduces the quality of the deposited coatings, especially thin ones, with a thickness comparable to the size of microdrops. Coatings with high properties can be obtained by cleaning the plasma of a vacuum arc from a microdrop fraction using plasma filters.
Известно устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (Патент РФ №2108636, приоритет от 1996.04.23), содержащее жалюзийную систему электродов, изогнутых по ширине и установленных под углом к оси дугового испарителя, так что поверхностью электродов полностью перекрывается сечение поперек этой оси, при этом электроды жалюзийной системы электрически соединены между собой последовательно и встречно и подключены к источнику тока, а между жалюзийной системой и анодом дугового испарителя включен источник напряжения положительным выводом к жалюзийной системе.A device is known for cleaning the plasma of an arc evaporator from microparticles (RF Patent No. 2108636, priority 1996.04.23), comprising a louvre system of electrodes curved in width and installed at an angle to the axis of the arc evaporator, so that the cross section across this axis completely overlaps the surface of the electrodes, while the electrodes of the louvre system are electrically connected to each other in series and counterclockwise and connected to a current source, and a positive voltage source is connected between the louvre system and the anode of the arc evaporator m output to the blinds system.
Одним из недостатков известного устройства является то, что после прохождения жалюзийной системы электродов поток плазмы меняет свое направление, отражаясь от поверхности электродов, расположенных под углом к направлению потока плазмы. Это приводит к неудобствам при использовании такой жалюзийной системы, особенно в уже работающих участках по нанесению покрытий. В таких установках приходится менять расположение вакуумной камеры напыления по отношению к дуговому испарителю, что усложняет конструкцию установки. Другим недостатком является высокая потребляемая мощность, так как для замагничивания электронов плазмы дугового разряда через электроды жалюзийной системы необходимо пропускать токи порядка 1000-1500 А. При этом происходит перегрев рабочей поверхности электродов жалюзийной системы, что также является недостатком устройства.One of the disadvantages of the known device is that after passing through the blinds system of electrodes, the plasma flow changes its direction, being reflected from the surface of the electrodes located at an angle to the direction of the plasma flow. This leads to inconvenience when using such a louvre system, especially in existing coating areas. In such installations, it is necessary to change the location of the vacuum deposition chamber with respect to the arc evaporator, which complicates the design of the installation. Another disadvantage is the high power consumption, since for magnetizing plasma electrons of an arc discharge through the electrodes of the louvre system, it is necessary to pass currents of the order of 1000-1500 A. This overheats the working surface of the electrodes of the louvre system, which is also a disadvantage of the device.
Известно устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц, не меняющее направление плазмы, выбранное за прототип (Патент РФ №2107968, приоритет от 1996.08.06). Устройство содержит жалюзийную систему коаксиальных электродов, перекрывающих апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя. После прохождения плазмы через коаксиальную жалюзийную систему электродов очищенный плазменный поток сохраняет аксиальную симметрию.A device for cleaning the plasma of an arc evaporator from microparticles that does not change the direction of the plasma, selected for the prototype (RF Patent No. 2107968, priority from 1996.08.06). The device contains a louvre system of coaxial electrodes that overlap the aperture of the evaporator, are electrically connected to each other in series and counterclockwise and connected to a current source and to the positive terminal of the voltage source, the second terminal connected to the anode of the arc evaporator. After the plasma passes through the coaxial louvre system of electrodes, the purified plasma stream retains axial symmetry.
Основными недостатками устройства-прототипа, как и аналога, являются высокая потребляемая мощность фильтра и перегрев рабочей поверхности жалюзийной системы электродов. Кроме того, недостатком является снижение коэффициента прозрачности фильтра для плазменного потока из-за недостаточно малого угла подлета ионов плазмы к поверхности электродов.The main disadvantages of the prototype device, as well as the analogue, are the high power consumption of the filter and overheating of the working surface of the louvered electrode system. In addition, the disadvantage is the reduction of the filter transparency for the plasma flow due to the insufficiently small angle of approach of the plasma ions to the surface of the electrodes.
Задачей предлагаемого изобретения является снижение мощности, потребляемой фильтром, повышение эффективности прохождения плазменного потока через жалюзийную систему электродов.The objective of the invention is to reduce the power consumed by the filter, increasing the efficiency of the passage of the plasma stream through the louvered electrode system.
Технический результат, достигаемый изобретением, заключается в повышении производительности, уменьшении эксплуатационных расходов и уменьшении габаритов установки.The technical result achieved by the invention is to increase productivity, reduce operating costs and reduce the dimensions of the installation.
Для решения данной задачи предлагаемое устройство, как и прототип, содержит корпус, установленную в нем жалюзийную систему вложенных коаксиальных электродов, перекрывающих апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя, в отличие от прототипа электроды жалюзийной системы выполнены в виде изогнутых и соединенных по своей длине полых трубок, подключенных к системе подачи охлаждающего агента, а после жалюзийной системы электродов установлена, по меньшей мере, одна электромагнитная катушка.To solve this problem, the proposed device, as well as the prototype, contains a housing, a louvre system installed inside it, embedded coaxial electrodes that overlap the aperture of the evaporator, are electrically interconnected in series and counterclockwise and connected to the current source and to the positive terminal of the voltage source, the second terminal connected to the anode of the arc evaporator, unlike the prototype, the electrodes of the louvre system are made in the form of curved and connected along their length hollow tubes connected to the system e supplying cooling agent, and after the system is installed tambour electrodes, at least one electromagnetic coil.
Для минимизации угла подлета ионов к поверхности электродов, а следовательно, повышения эффективности прохождения плазменного потока через жалюзийную систему электродов электроды целесообразно выполнять в виде поверхности второго порядка.To minimize the angle of approach of ions to the surface of the electrodes, and therefore, increase the efficiency of the passage of the plasma stream through the louvered system of electrodes, it is advisable to perform the electrodes in the form of a second-order surface.
Целесообразно корпус устройства снабдить рубашкой охлаждения.It is advisable to provide the housing of the device with a cooling jacket.
Для исключения прямого прохождения микрочастиц перед жалюзийной системой электродов соосно с ней расположен рассекающий элемент, установленный на охлаждаемом полом держателе, закрепленном на корпусе и перекрывающем зазоры, образованные изгибами трубок.To exclude direct passage of microparticles in front of the louvre electrode system, a dissecting element is mounted coaxially with it, mounted on a cooled hollow holder mounted on the housing and covering the gaps formed by the bends of the tubes.
Для охлаждения рассекающего элемента он соединен с рубашкой охлаждения корпуса.To cool the dissecting element, it is connected to the cooling jacket of the housing.
Для более эффективного отражения микрокапельной фракции за счет увеличения угла подлета к поверхности рассекающего элемента целесообразно, чтобы рассекающий элемент был выполнен в виде полусферы или усеченного конуса с закругленной вершиной.For more effective reflection of the droplet fraction by increasing the angle of approach to the surface of the dissecting element, it is advisable that the dissecting element was made in the form of a hemisphere or a truncated cone with a rounded apex.
Для уменьшения потерь плазмы целесообразно, чтобы рассекающий элемент содержал источник магнитного поля, согласованного с магнитным полем системы дуговой испаритель - плазменный фильтр.To reduce plasma losses, it is advisable that the dissecting element contains a magnetic field source that is consistent with the magnetic field of the arc evaporator - plasma filter system.
Расположение дополнительной магнитной катушки на выходе жалюзийной системы оптимизирует магнитное поле в области жалюзийной системы, что позволяет снизить потребляемую мощность фильтра и одновременно улучшить его выходные характеристики за счет повышения прозрачности фильтра для ионной компоненты плазмы. Также расположенная магнитная катушка на выходе жалюзийной системы позволяет частично сфокусировать плазменный поток, что значительно увеличивает скорость нанесения покрытий.The location of the additional magnetic coil at the output of the louvre system optimizes the magnetic field in the region of the louvre system, which allows to reduce the power consumption of the filter and at the same time improve its output characteristics by increasing the transparency of the filter for the ion component of the plasma. Also located magnetic coil at the outlet of the blinds system allows you to partially focus the plasma flow, which significantly increases the speed of coating.
Выполнение электродов жалюзийной системы из трубок позволяет реализовать охлаждение, исключить перегрев рабочей поверхности фильтра и предотвратить его деформацию, что в свою очередь позволяет увеличить время работы установки. Набранные жалюзи фильтра из спаянных или сваренных по своей длине изогнутых трубок создают поверхность, которая способствует увеличению вероятности задерживания микрокапель или частиц потока плазмы, что позволяет получить в результате качественные покрытия.The implementation of the electrodes of the louvre system from the tubes allows for cooling, to prevent overheating of the working surface of the filter and to prevent its deformation, which in turn allows to increase the operating time of the installation. The collected filter louvers from welded or welded along their length bent tubes create a surface that increases the likelihood of delaying microdrops or particles of the plasma stream, which allows to obtain high-quality coatings as a result.
На фиг.1 представлена жалюзийная система электродов фильтра. Фиг.2 - разрез А-А жалюзийной системы электродов. Фиг.3 - условная схема вакуумно-дугового испарителя с фильтром очистки плазмы от микрочастиц с двумя дополнительными электромагнитными катушками. Фиг.4 - жалюзийная система электродов фильтра и рассекающий элемент, установленный на охлаждаемом полом держателе.Figure 1 presents the louvre system of the electrode electrodes. Figure 2 - section aa of the louvre system of electrodes. Figure 3 - schematic diagram of a vacuum-arc evaporator with a filter for cleaning plasma from microparticles with two additional electromagnetic coils. 4 is a louvre system of filter electrodes and a dissecting element mounted on a cooled hollow holder.
Устройство содержит (фиг.3) корпус 1, снабженный рубашкой охлаждения 2 и выполненный с возможностью стыковки с вакуумно-дуговым испарителем 3. В корпусе 1 расположена жалюзийная система электродов 4, представляющая собой набор вложенных коаксиальных электродов, выполненных в форме поверхности второго порядка, например усеченного параболоида вращения. Электроды 4 выполнены из трубок, сваренных или спаенных по своей длине, и электрически соединены между собой таким образом, что при протекании тока его направление в соседних электродах должно быть встречным. Трубки соединены с патрубком ввода и патрубком вывода хладагента для подключения к системе охлаждения. Патрубки (не указаны) также являются электрическими выводами, которые проходят сквозь стенку корпуса 1 наружу, отделены от него диэлектрическими вставками и подключены к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду вакуумно-дугового испарителя 3. Со стороны входа потока плазмы перед жалюзийной системой электродов 4 соосно с ней расположен рассекающий элемент 5, установленный на охлаждаемом полом держателе 6, закрепленном на корпусе 1 и соединенном с рубашкой охлаждения 2 корпуса 1. Рассекающий элемент 5 содержит источник магнитного поля, согласованного с магнитным полем системы дуговой испаритель - плазменный фильтр, например постоянный магнит или электромагнитную катушку. После жалюзийной системы электродов 4 на корпусе 1 расположены электромагнитные катушки 7, 8.The device comprises (Fig. 3) a housing 1 provided with a
Устройство работает следующим образом.The device operates as follows.
При прохождении плазменного потока через устройство очистки плазмы микрокапельная фракция и нейтральная компонента осаждаются на поверхности жалюзийной системы электродов 4 и установленного соосно с жалюзийной системой электродов рассекающего элемента 5. Основные процессы прохождения заряженных частиц плазмы через систему жалюзи такие же, как и в прототипе. Ионная компонента плазменного потока под влиянием положительного потенциала жалюзийной системы электродов 4 отражается от последних. Положительный потенциал на электродах 4 удерживается за счет снижения поперечной проводимости плазмы вследствие замагничивания электронной компоненты магнитным полем, возникающим вокруг электродов 4 при пропускании по ним электрического тока. После прохождения плазмы через рассекающий элемент 5 и жалюзийную систему электродов 4 за счет коаксиальной геометрии их расположения плазменный поток направлен к оси системы. Для увеличения прозрачности жалюзийной системы электродов 4 для плазменного потока необходимо минимизировать угол падения ионов к поверхности электродов. С этой целью следует выполнять электроды в форме поверхности второго порядка, например в форме усеченного параболоида вращения. Жалюзи электродной системы, набраны из трубок, предназначенных для подачи по ним хладагента, это снижает тепловые нагрузки на жалюзи системы электродов. Набранные жалюзи из спаянных или сваренных по своей длине трубок создают поверхность, которая способствует увеличению вероятности задерживания микрокапель или частиц на поверхности электродов, что позволяет получить в результате качественные покрытия. При прохождении системы очистки плазменный поток не меняет своего направления, что позволяет очень просто встраивать такое устройство в действующие вакуумно-дуговые установки нанесения покрытий, например "Булат", ННВ6-6.1, "Мир", ВУ-2МБС и др.When the plasma stream passes through the plasma cleaning device, the micro-droplet fraction and the neutral component are deposited on the surface of the
После прохождения плазмы через жалюзийную систему электродов плазменный поток попадает в область магнитного поля, созданного дополнительной электромагнитной катушкой 7. Установка не менее одной электромагнитной катушки 7, 8 на выходе устройства для очистки плазмы от микрочастиц позволяет оптимизировать магнитное поле в области жалюзийной системы электродов 4, это дает возможность снизить потребляемую мощность жалюзийной системы электродов 4 при одновременной возможности улучшения выходных характеристик устройства. Снижение потребляемой мощности позволяет значительно уменьшить габаритные размеры источника тока и использовать высокочастотную инверторную схему, которую можно разместить непосредственно на корпусе 1 жалюзийной системы электродов 4. Также расположение электромагнитных катушек 7, 8 на выходе жалюзийной системы 4 позволяет сфокусировать плазменный поток, что значительно увеличивает плотность ионного тока, а следовательно, увеличивает скорость нанесения покрытий и эффективность использования плазменного потока.After the plasma passes through the louvre system of electrodes, the plasma stream enters the region of the magnetic field created by the additional electromagnetic coil 7. Installing at least one electromagnetic coil 7, 8 at the output of the device for cleaning microparticles from the plasma can optimize the magnetic field in the region of the
Пример. При работе вакуумно-дугового испарителя с использованием титанового катода инициируется дуговой разряд. Ток разряда был выбран 120 А. Для создания электромагнитного поля и замагничивания электронов плазмы по жалюзийной системе электродов пропускают ток равный 350 А (в аналоге и прототипе порядка 1500 А). На жалюзийную систему электродов подают положительный потенциал смещения, равный 15 В. Ток в дополнительной катушке составил 0.6 А. Совокупная мощность питания фильтра, включая систему питания потенциала смещения на фильтре, составила 2.1 кВт. Плотность ионного тока регистрировалась коллектором на различных расстояниях от выходного торца жалюзийной системы электродов.Example. During operation of a vacuum arc evaporator using a titanium cathode, an arc discharge is initiated. The discharge current was chosen to be 120 A. To create an electromagnetic field and magnetize plasma electrons, a current of 350 A is passed through the louvered electrode system (in the analogue and prototype, about 1500 A). A positive bias potential equal to 15 V is supplied to the louvered electrode system. The current in the auxiliary coil was 0.6 A. The total power supply of the filter, including the bias potential power system on the filter, was 2.1 kW. The ion current density was recorded by the collector at various distances from the output end of the louvered electrode system.
Для оценки влияния дополнительных электромагнитных катушек и формы поверхности жалюзийной системы электродов на улучшение выходных характеристик устройства была выполнена серия экспериментов по измерению плотности ионного тока из плазмы на выходе фильтра и от расстояния между фильтром и точкой измерения.To assess the effect of additional electromagnetic coils and the surface shape of the blinds electrode system on improving the output characteristics of the device, a series of experiments was performed to measure the ion current density from the plasma at the filter output and from the distance between the filter and the measurement point.
На расстоянии 60 мм от выходного торца жалюзийной системы с прямыми электродами полученное значение плотности ионного тока было 38 А/м2, при использовании жалюзийной системы электродов, выполненных виде поверхности второго порядка без дополнительных электромагнитных катушек, получено значение плотности ионного тока 48 А/м2, что показывает повышение эффективности прохождения плазменного потока через жалюзийную систему электродов. Увеличение расстояния между жалюзийной системой и точкой измерения для прямых электродов и электродов, выполненных в виде поверхности второго порядка, показывает, что плотность ионного тока резко снижается в том и другом эксперименте. Например, на расстоянии 310 мм от жалюзийной системы значение плотности ионного тока для первого и второго эксперимента равны 9 А/м2 и 11 А/м2, на расстоянии 440 мм значение плотности ионного тока уменьшилось примерно в 3 раза и составило At a distance of 60 mm from the output end of the louvre system with direct electrodes, the obtained ion current density was 38 A / m 2 , when using the louvre system of electrodes made as a second-order surface without additional electromagnetic coils, the ion current density was 48 A / m 2 , which shows an increase in the efficiency of the passage of the plasma stream through the louvered system of electrodes. An increase in the distance between the louvre system and the measurement point for direct electrodes and electrodes made in the form of a second-order surface shows that the ion current density decreases sharply in both experiments. For example, at a distance of 310 mm from the louvre system, the ion current density for the first and second experiments is 9 A / m 2 and 11 A / m 2 , at a distance of 440 mm the ion current density decreased by about 3 times and amounted to
3-4 А/м2.3-4 A / m 2 .
Результаты серии экспериментов с использованием жалюзийной системы электродов, выполненной в виде поверхности второго порядка, а также применение одной и двух дополнительных электромагнитных катушек сведены в таблицу.The results of a series of experiments using a louvre electrode system made in the form of a second-order surface, as well as the use of one and two additional electromagnetic coils are summarized in a table.
С применением не менее одной дополнительной электромагнитной катушки на расстоянии 60 мм от торца жалюзийной системы электродов были получены значения плотности ионного тока 54 А/м2. При увеличении расстояния от жалюзийной системы до точки измерения, в сравнении с экспериментами без использования дополнительной катушки, полученные значения плотности ионного тока на расстоянии 310 мм увеличились до 16-19 А/м2. Из таблицы видно, что применение не менее одной дополнительной электромагнитной катушки, позволяет увеличить эффективность прохождения плазменного потока, а также улучшить транспортировку плазменного потока на расстояния более 225 мм.Using at least one additional electromagnetic coil at a distance of 60 mm from the end of the louvre electrode system, ion current densities of 54 A / m 2 were obtained. With increasing distance from the louvre system to the measurement point, in comparison with experiments without the use of an additional coil, the obtained ion current density at a distance of 310 mm increased to 16-19 A / m 2 . The table shows that the use of at least one additional electromagnetic coil, can increase the efficiency of the passage of the plasma stream, as well as improve the transportation of the plasma stream over distances of more than 225 mm.
Claims (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008107365/28A RU2364003C1 (en) | 2008-02-26 | 2008-02-26 | Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008107365/28A RU2364003C1 (en) | 2008-02-26 | 2008-02-26 | Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2364003C1 true RU2364003C1 (en) | 2009-08-10 |
Family
ID=41049691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008107365/28A RU2364003C1 (en) | 2008-02-26 | 2008-02-26 | Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2364003C1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2516502C1 (en) * | 2012-11-14 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" | Vacuum-arc generator with louver system of plasma filtration from particles |
| US9761424B1 (en) | 2011-09-07 | 2017-09-12 | Nano-Product Engineering, LLC | Filtered cathodic arc method, apparatus and applications thereof |
| US10304665B2 (en) | 2011-09-07 | 2019-05-28 | Nano-Product Engineering, LLC | Reactors for plasma-assisted processes and associated methods |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2097868C1 (en) * | 1996-07-09 | 1997-11-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Device for cleaning arc evaporator plasma from microparticles (options) |
| RU2107968C1 (en) * | 1996-08-06 | 1998-03-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options) |
| RU2108636C1 (en) * | 1996-04-23 | 1998-04-10 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles |
| US6361663B1 (en) * | 1999-05-21 | 2002-03-26 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Vacuum arc evaporator |
-
2008
- 2008-02-26 RU RU2008107365/28A patent/RU2364003C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2108636C1 (en) * | 1996-04-23 | 1998-04-10 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles |
| RU2097868C1 (en) * | 1996-07-09 | 1997-11-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Device for cleaning arc evaporator plasma from microparticles (options) |
| RU2107968C1 (en) * | 1996-08-06 | 1998-03-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options) |
| US6361663B1 (en) * | 1999-05-21 | 2002-03-26 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Vacuum arc evaporator |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9761424B1 (en) | 2011-09-07 | 2017-09-12 | Nano-Product Engineering, LLC | Filtered cathodic arc method, apparatus and applications thereof |
| US10304665B2 (en) | 2011-09-07 | 2019-05-28 | Nano-Product Engineering, LLC | Reactors for plasma-assisted processes and associated methods |
| US10679829B1 (en) | 2011-09-07 | 2020-06-09 | Nano-Product Engineering, LLC | Reactors and methods for making diamond coatings |
| RU2516502C1 (en) * | 2012-11-14 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет" | Vacuum-arc generator with louver system of plasma filtration from particles |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6305950B2 (en) | Method for transporting vacuum arc plasma | |
| US7381311B2 (en) | Filtered cathodic-arc plasma source | |
| US20110226617A1 (en) | Dielectric deposition using a remote plasma source | |
| JP6134394B2 (en) | Plasma source and vacuum deposition apparatus provided with the plasma source | |
| TW201831716A (en) | Physical vapor deposition processing systems target cooling | |
| CN114724907B (en) | An ion source device with adjustable plasma density | |
| RU2364003C1 (en) | Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator | |
| CN102471869B (en) | Multiply divided anode wall type plasma generating apparatus and plasma processing apparatus | |
| US6706157B2 (en) | Vacuum arc plasma gun deposition system | |
| US20070034501A1 (en) | Cathode-arc source of metal/carbon plasma with filtration | |
| CN114318246A (en) | Magnetic filtration vacuum deposition coating equipment and method for scanning magnetic field guided deposition coating | |
| WO2022001342A1 (en) | Transmission channel apparatus for plasma transmission, and deposition device | |
| CN109950124A (en) | A Radio Frequency Coil for Eliminating Secondary Discharge of Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry | |
| WO2023040676A1 (en) | Radio-frequency ion source | |
| CN113133174B (en) | Helicon wave-ion cyclotron resonance coupling discharge system | |
| CN115354289A (en) | Ion source auxiliary deposition system, deposition method and vacuum coating equipment | |
| US9624570B2 (en) | Compact, filtered ion source | |
| RU2097868C1 (en) | Device for cleaning arc evaporator plasma from microparticles (options) | |
| CN103820758B (en) | Physical vapor deposition device | |
| US20170345628A1 (en) | Magnetic anode for sputter magnetron cathode | |
| RU2585243C1 (en) | Device for cleaning plasma flow of arc evaporator from micro-droplet fraction | |
| JP3958870B2 (en) | Vacuum deposition system | |
| RU2107968C1 (en) | Device for cleaning plasma-arc evaporator from microparticles (options) | |
| JP3958878B2 (en) | Vacuum deposition system | |
| CN100460556C (en) | Free Open Coil Filters |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC43 | Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions |
Effective date: 20110610 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170227 |