RU2018124444A - Способ и установка для получения цветного остекления - Google Patents
Способ и установка для получения цветного остекления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2018124444A RU2018124444A RU2018124444A RU2018124444A RU2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- component
- oxide
- preceding paragraphs
- oxynitride
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 17
- 238000009434 installation Methods 0.000 title claims 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 10
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 claims 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 7
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 3
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical group O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- -1 organometallic silicon compound Chemical class 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2456—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0057—Reactive sputtering using reactive gases other than O2, H2O, N2, NH3 or CH4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3464—Sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/479—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
- C03C2217/485—Pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
- C03C2218/153—Deposition methods from the vapour phase by cvd by plasma-enhanced cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/155—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by reactive sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Claims (42)
1. Способ осаждения покрытия на стеклянную подложку, характеризующийся тем, что он включает в себя следующие последовательные этапы:
a) продвигают упомянутую подложку в устройстве вакуумного осаждения катодным распылением,
b) вводят в упомянутое устройство вакуумного осаждения газ и создают плазму из упомянутого газа,
c) совместно распыляют одновременно, в одной и той же камере устройства вакуумного осаждения,
- первый компонент из материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента, и
- второй компонент, состоящий из второго элемента в металлической форме,
причем упомянутое совместное распыление производят посредством упомянутой плазмы,
d) вводят в упомянутую плазму гидрид, галогенид или органическое соединение третьего элемента, отличного от первого элемента,
e) извлекают упомянутую подложку, покрытую упомянутым покрытием, содержащим упомянутые первый, второй и третий элементы, на выходе из устройства, причем упомянутое покрытие состоит из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице упомянутых первого и третьего элементов, и упомянутое покрытие имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра,
или
извлекают упомянутую подложку, покрытую упомянутым покрытием, содержащим упомянутые первый, второй и третий элементы, на выходе из устройства и все это нагревают при подходящей температуре в течение достаточного времени для получения покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице упомянутых первого и третьего элементов, причем упомянутое покрытие имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра.
2. Способ по п. 1, в котором в ходе этапа e) температура составляет выше 400° и ниже температуры размягчения стекла.
3. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором, в частности, неорганическая матрица является оксидом, нитридом или оксинитридом упомянутых первого и третьего элементов.
4. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый элемент выбран из титана, циркония, олова, индия, алюминия, олова или кремния, цинка.
5. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором третий элемент выбран из титана, циркония, олова, индия, алюминия, олова или кремния, цинка.
6. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый компонент является оксидом первого элемента.
7. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором второй компонент выбран из группы металлов, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, а предпочтительно выбран из Ag, Ni, Cu, Au.
8. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором плазмообразующий газ является нейтральным газом, выбранным из аргона, криптона или гелия.
9. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором в устройство вводят реакционноспособный газ, содержащий кислород и/или азот, в частности, молекулярный кислород и/или молекулярный азот, смешивая с нейтральным газом.
10. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором этап c) включает в себя распыление, в упомянутом устройстве вакуумного осаждения катодным распылением, мишени, содержащей участки, состоящие из смеси оксида, нитрида или оксинитрида первого компонента, и участки, состоящие из второго компонента в металлической форме.
11. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором этап c) включает в себя распыление, в упомянутом устройстве вакуумного осаждения катодным распылением, первой мишени, состоящей из оксида, нитрида или оксинитрида первого компонента, и второй мишени, состоящей из второго компонента в металлической форме.
12. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый компонент является оксидом титана, в котором упомянутый второй компонент выбран из группы, состоящей из Au, Ni, Cu, Ag, в котором нейтральный газ является аргоном, смешанным с кислородом, и в котором третий элемент является кремнием, причем упомянутый кремний предпочтительно вводят в упомянутое устройство в форме металлоорганического соединения кремния, предпочтительно TEOS или HMDSO.
13. Способ по одному из предыдущих пунктов, включающий в себя дополнительный этап, состоящий в нагревании подложки до температуры выше 400° и ниже температуры размягчения стекла в ходе этапа e).
14. Остекление, получаемое способом по одному из предыдущих пунктов и содержащее стеклянную подложку, на которую нанесено покрытие, причем упомянутое покрытие состоит из материала, содержащего металлические наночастицы, диспергированные в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида, предпочтительно оксида, по меньшей мере двух разных элементов, причем упомянутый материал имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра, в котором упомянутые два элемента относятся к группе, состоящей из титана, циркония, олова, цинка или кремния, в котором металлические наночастицы образованы из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, и в котором металлические наночастицы составляют от 1 до 15% от полного веса образующего покрытие материала, предпочтительно от 2 до 10% от полного веса образующего покрытие материала, а очень предпочтительно от 2 до 5% от полного веса образующего покрытие материала.
15. Остекление по предыдущему пункту, в котором первый элемент является кремнием, а второй элемент выбран из группы, состоящей из титана, циркония, олова, цинка, и металлические наночастицы образованы из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, более предпочтительно из Ag, Cu, Ni или Au, а еще более предпочтительно из Ag или Au.
16. Остекление по предыдущему пункту, в котором первый элемент является титаном, а второй элемент выбран из группы, состоящей из кремния, циркония, олова, индия, цинка, и металлические наночастицы состоят из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, более предпочтительно из Ag, Cu, Ni или Au, а еще более предпочтительно из Ag или Au.
17. Установка для осуществления способа по одному из пп. 1-13, содержащая в сочетании:
- устройство катодного распыления, содержащее по меньшей мере одну вакуумную камеру,
- расположенную в вакуумной камере мишень, состоящую из смеси первого компонента из диэлектрического материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента, и второго компонента, состоящего из второго элемента в металлической форме,
- средства распыления упомянутой мишени, содержащие средства введения плазмообразующего газа и средства создания плазмы из упомянутого газа,
- средства введения в упомянутую плазму третьего элемента, отличного от первого элемента, в форме гидрида, галогенида или органического соединения упомянутого третьего элемента,
- средства продвижения подложки в упомянутом устройстве со скоростью, подходящей для осаждения на ее поверхности слоя покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида упомянутых первого и третьего элементов,
- средства извлечения упомянутой подложки, покрытой упомянутым покрытием, на выходе из устройства.
18. Установка для осуществления способа по одному из пп. 1-13, содержащая в сочетании:
- устройство катодного распыления, содержащее по меньшей мере одну вакуумную камеру,
- расположенную в вакуумной камере первую мишень, состоящую из смеси первого компонента из диэлектрического материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента,
- расположенную в вакуумной камере вторую мишень из второго компонента, состоящего из второго элемента в металлической форме,
- средства одновременного совместного распыления двух мишеней, содержащие средства введения плазмообразующего газа и средства создания плазмы из упомянутого газа,
- средства введения в упомянутую плазму третьего элемента, отличного от первого элемента, в форме гидрида, галогенида или органического соединения упомянутого третьего элемента,
- средства продвижения подложки в упомянутом устройстве со скоростью, подходящей для осаждения на ее поверхности слоя покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида упомянутых первого и третьего элементов,
- средства извлечения упомянутой подложки, покрытой упомянутым покрытием, на выходе из устройства.
19. Применение установки по одному из пп. 16 или 17 для изготовления цветных стеклянных подложек, содержащих покрытие, состоящее из неорганической матрицы оксида, нитрида или оксинитрида первого и третьего элемента, в которой диспергированы металлические наночастицы второго элемента.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1562045A FR3045033B1 (fr) | 2015-12-09 | 2015-12-09 | Procede et installation pour l'obtention d'un vitrage colore |
| FR1562045 | 2015-12-09 | ||
| PCT/FR2016/053277 WO2017098166A1 (fr) | 2015-12-09 | 2016-12-08 | Procédé et installation pour l'obtention d'un vitrage coloré |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2018124444A true RU2018124444A (ru) | 2020-01-09 |
| RU2018124444A3 RU2018124444A3 (ru) | 2020-04-08 |
| RU2720846C2 RU2720846C2 (ru) | 2020-05-13 |
Family
ID=55236741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018124444A RU2720846C2 (ru) | 2015-12-09 | 2016-12-08 | Способ и установка для получения цветного остекления |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10988409B2 (ru) |
| EP (1) | EP3386929B1 (ru) |
| JP (1) | JP2018536769A (ru) |
| KR (1) | KR20180091832A (ru) |
| CN (1) | CN108290779B (ru) |
| BR (1) | BR112018010447B1 (ru) |
| CA (1) | CA3005761A1 (ru) |
| CO (1) | CO2018005701A2 (ru) |
| ES (1) | ES2807909T3 (ru) |
| FR (1) | FR3045033B1 (ru) |
| MX (1) | MX2018006885A (ru) |
| PL (1) | PL3386929T3 (ru) |
| RU (1) | RU2720846C2 (ru) |
| WO (1) | WO2017098166A1 (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3065722B1 (fr) * | 2017-04-28 | 2021-09-24 | Saint Gobain | Vitrage colore et son procede d'obtention |
| KR102481460B1 (ko) * | 2020-09-29 | 2022-12-26 | 한국유리공업 주식회사 | 다층 박막 코팅이 구비된 투명 기재 |
| RU2765964C1 (ru) * | 2021-11-29 | 2022-02-07 | Дмитрий Юрьевич Старцев | Способы нанесения на стеклянные изделия покрытий из оксида титана |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747711A (en) * | 1980-08-08 | 1982-03-18 | Fujitsu Ltd | Chemical plasma growing method in vapor phase |
| DE3239753C1 (de) * | 1982-10-27 | 1984-03-29 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Farbneutrale,solarselektive Waermereflexionsschicht fuer Glasscheiben und Verfahren zur Herstellung der Schichten |
| JPH07268615A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-17 | Asahi Glass Co Ltd | 非線形光学ガラス薄膜の製造方法 |
| AU692121B2 (en) * | 1995-12-26 | 1998-05-28 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Glass article covered with ultraviolet-absorbing colored coat |
| JPH09235141A (ja) * | 1995-12-26 | 1997-09-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 紫外線吸収着色膜被覆ガラス物品 |
| US5976678A (en) * | 1996-02-27 | 1999-11-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Colored film-covered glass articles |
| RU2204153C2 (ru) | 1997-01-27 | 2003-05-10 | Питер Д. ХААЛАНД | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
| WO1999025660A1 (en) * | 1997-11-13 | 1999-05-27 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Ultraviolet/infrared absorbing glass, ultraviolet/infrared absorbing glass sheet, ultraviolet/infrared absorbing glass sheet coated with colored film, and window glass for vehicles |
| JP2002206161A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-07-26 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾成形部材およびその製造方法 |
| DE10159907B4 (de) * | 2001-12-06 | 2008-04-24 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. | Beschichtungsverfahren |
| FR2856677B1 (fr) * | 2003-06-27 | 2006-12-01 | Saint Gobain | Substrat revetu d'une couche dielectrique et procede pour sa fabrication |
| US7211513B2 (en) * | 2003-07-01 | 2007-05-01 | Pilkington North America, Inc. | Process for chemical vapor desposition of a nitrogen-doped titanium oxide coating |
| US8500965B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-08-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | MSVD coating process |
| DE102005007825B4 (de) * | 2005-01-10 | 2015-09-17 | Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh | Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung, reflexionsmindernde Schicht auf einem transparenten Substrat sowie Verwendung einer derartigen Schicht |
| US20070108043A1 (en) * | 2005-11-14 | 2007-05-17 | Guardian Industries Corp. | Sputtering target including titanium silicon oxide and method of making coated article using the same |
| WO2008024342A2 (en) * | 2006-08-24 | 2008-02-28 | Ngimat, Co | Optical coating |
| GB0904803D0 (en) | 2009-03-20 | 2009-05-06 | Univ London | Coated substrate |
| RU2420607C1 (ru) * | 2009-10-22 | 2011-06-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ нанесения теплозащитного покрытия на полимерный материал |
| FR2963788B1 (fr) * | 2010-08-10 | 2016-01-22 | Saint Gobain | Vitrage a proprietes antisolaires |
| JP2013237910A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Tsukiboshi Art Kogyo Kk | 意匠性鋼板の製造方法 |
| EP2738790A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-06-04 | Abengoa Solar New Technologies, S.A. | Procedure for preparing one single barrier and/or dielectric layer or multilayer on a substrate and device for the implementation thereof |
| JP5661965B1 (ja) * | 2014-06-17 | 2015-01-28 | 株式会社ジーエル・マテリアルズホールディングス | 有機系太陽電池用材料及びそれを用いた有機系太陽電池、並びに、その材料の製造方法 |
| CN104120394B (zh) | 2014-06-30 | 2016-08-24 | 厦门理工学院 | 一种Ag/TiO2纳米复合变色材料制备方法 |
-
2015
- 2015-12-09 FR FR1562045A patent/FR3045033B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-12-08 MX MX2018006885A patent/MX2018006885A/es unknown
- 2016-12-08 BR BR112018010447-7A patent/BR112018010447B1/pt active IP Right Grant
- 2016-12-08 RU RU2018124444A patent/RU2720846C2/ru active
- 2016-12-08 EP EP16819622.8A patent/EP3386929B1/fr active Active
- 2016-12-08 PL PL16819622T patent/PL3386929T3/pl unknown
- 2016-12-08 JP JP2018530103A patent/JP2018536769A/ja active Pending
- 2016-12-08 CA CA3005761A patent/CA3005761A1/fr not_active Abandoned
- 2016-12-08 WO PCT/FR2016/053277 patent/WO2017098166A1/fr not_active Ceased
- 2016-12-08 ES ES16819622T patent/ES2807909T3/es active Active
- 2016-12-08 US US15/781,508 patent/US10988409B2/en active Active
- 2016-12-08 KR KR1020187015925A patent/KR20180091832A/ko not_active Withdrawn
- 2016-12-08 CN CN201680072138.XA patent/CN108290779B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-05-30 CO CONC2018/0005701A patent/CO2018005701A2/es unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL3386929T3 (pl) | 2020-09-21 |
| US10988409B2 (en) | 2021-04-27 |
| CO2018005701A2 (es) | 2018-06-12 |
| RU2720846C2 (ru) | 2020-05-13 |
| CA3005761A1 (fr) | 2017-06-15 |
| EP3386929A1 (fr) | 2018-10-17 |
| RU2018124444A3 (ru) | 2020-04-08 |
| CN108290779A (zh) | 2018-07-17 |
| ES2807909T3 (es) | 2021-02-24 |
| BR112018010447A2 (pt) | 2018-11-21 |
| JP2018536769A (ja) | 2018-12-13 |
| FR3045033A1 (fr) | 2017-06-16 |
| BR112018010447A8 (pt) | 2019-02-26 |
| EP3386929B1 (fr) | 2020-04-22 |
| BR112018010447B1 (pt) | 2021-08-24 |
| MX2018006885A (es) | 2018-09-06 |
| FR3045033B1 (fr) | 2020-12-11 |
| CN108290779B (zh) | 2022-01-25 |
| KR20180091832A (ko) | 2018-08-16 |
| US20180273423A1 (en) | 2018-09-27 |
| WO2017098166A1 (fr) | 2017-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110770185B (zh) | 着色窗玻璃及其制备方法 | |
| JP2013040767A5 (ru) | ||
| CN108276898A (zh) | 镀膜涂料系统、具有金属效果涂层的塑胶件及其制备工艺 | |
| RU2018124444A (ru) | Способ и установка для получения цветного остекления | |
| CN102443763B (zh) | 具有抗指纹涂层的被覆件及其制备方法 | |
| CN101695690A (zh) | 彩色图案镀膜工艺 | |
| JPWO2013069402A1 (ja) | ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 | |
| Khatibani et al. | Growth and molarity effects on properties of alumina thin films obtained by spray pyrolysis | |
| CN102366742A (zh) | 一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法 | |
| Yu et al. | Engineering the surface and interface of Parylene C coatings by low-temperature plasmas | |
| CA2973135C (en) | Method for applying a metal protective coating to a surface of a steel product | |
| US8084119B2 (en) | Mobile phone shell and method of manufacturing the same | |
| CN110785511A (zh) | 用于获得着色窗玻璃的靶 | |
| CN102226267A (zh) | 在真空室内连续完成喷底漆、烘干、电镀的装置 | |
| EP2406409B1 (fr) | Decoration par pulverisation plasma magnetron sur des contenants en verre pour les secteurs de la cosmetique | |
| JP2005534812A5 (ru) | ||
| CN107946164A (zh) | 一种防着板及其制备方法和应用 | |
| US10654069B2 (en) | Coating of usage surfaces with plasma polymer layers under atmospheric pressure in order to improve the cleanability | |
| RU2554245C1 (ru) | Способ нанесения керамического разделительного покрытия в вакууме на поверхность ферритов, керамики и феррокерамики (варианты) | |
| RU2016103909A (ru) | Мишень для реактивного осаждения электроизолирующих слоев методом ионного распыления | |
| JP2003205235A (ja) | 傾斜膜の製造方法および装置 | |
| Hong et al. | Optical properties of porous silicon coated with ultrathin gold film by RF-magnetron sputtering | |
| TW201519964A (zh) | 殼體及其製作方法 | |
| RU2777094C1 (ru) | Способ нанесения на стеклянные изделия металлических покрытий из меди и медных сплавов | |
| TW201231295A (en) | Housing and method for making same |