[go: up one dir, main page]

RU2017112011A - Лазерный источник, в частности для технологических процессов - Google Patents

Лазерный источник, в частности для технологических процессов Download PDF

Info

Publication number
RU2017112011A
RU2017112011A RU2017112011A RU2017112011A RU2017112011A RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
optical
laser
laser beam
laser source
unit
Prior art date
Application number
RU2017112011A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2692400C2 (ru
RU2017112011A3 (ru
Inventor
Нунцио МАНЬЯНО
Маурицио ГАТТИЛЬО
Original Assignee
Комау С.п.А.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Комау С.п.А. filed Critical Комау С.п.А.
Publication of RU2017112011A publication Critical patent/RU2017112011A/ru
Publication of RU2017112011A3 publication Critical patent/RU2017112011A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2692400C2 publication Critical patent/RU2692400C2/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/063Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067Fibre lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/063Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067Fibre lasers
    • H01S3/06754Fibre amplifiers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0071Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/086One or more reflectors having variable properties or positions for initial adjustment of the resonator
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383Parallel arrangements
    • H01S3/2391Parallel arrangements emitting at different wavelengths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Claims (27)

1. Лазерный источник для применения, в частности, в технологических процессах, содержащий:
- блок (2) генерации лазерного луча, содержащий один или более диодных лазерных источников (20), для генерации первого лазерного луча;
- блок (6) оптического усиления, содержащий по меньшей мере один усилительный модуль (60), выполненный с возможностью накачки лазерным излучением, полученным из упомянутого первого лазерного луча, излучаемого упомянутым блоком (2) генерации, и излучения на его выходе второго лазерного луча, имеющего более высокое качество луча и меньшее значение мощности по отношению к упомянутому первому лазерному лучу на выходе из упомянутого блока (1) генерации; и
- оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча, расположенный между упомянутым блоком (2) генерации и упомянутым блоком (6) оптического усиления, при этом упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча содержит:
- вход (40) для приема упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации;
- первую оптическую линию (44) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к первому выходу (U1) упомянутого лазерного источника (1);
- вторую оптическую линию (45) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к упомянутому по меньшей мере одному усилительному модулю (60) упомянутого блока (6) оптического усиления; и
- селекторное устройство (43) оптического пути, расположенное между упомянутым входом (40) и упомянутыми первой и второй оптическими линиями (44, 45), для избирательного направления упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, по направлению к:
- упомянутой первой оптической линии (44) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество на упомянутом первом выходе (U1) упомянутого лазерного источника (1);
или по направлению к:
- упомянутой второй оптической линии (45) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество на втором выходе (U2) упомянутого лазерного источника (1).
2. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый блок (6) оптического усиления содержит множество усилительных модулей (60), расположенных параллельно и имеющих соответствующие входы (5), питаемые параллельно упомянутой второй оптической линией (45), и соответствующие выходы, соединенные с оптическими линиями (64), все из которых сходятся по направлению к упомянутому второму выходу (U2).
3. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый по меньшей мере один усилительный модуль (60) содержит по меньшей мере одно оптическое волокно (61), содержащее активный материал, выполненный с возможностью усиления лазерного луча, входящего внутрь упомянутого модуля (60) и выходящего из упомянутого блока (2) генерации через упомянутую вторую оптическую линию (45) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации.
4. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутое селекторное устройство оптического пути состоит из зеркала (43), выполненного с возможностью перемещения между первым рабочим положением и вторым рабочим положением, которые соответствуют направлению лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, соответственно, по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
5. Лазерный источник по п. 4, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) не перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, и тем, что в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока генерации.
6. Лазерный источник по п. 5, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) обеспечивает возможность прохождения лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, дальше в направлении упомянутой первой оптической линии (44), при этом в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (42) отражает лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, в направлении второй оптической линии (45).
7. Лазерный источник по п. 4, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении и в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) ориентировано по-разному, так чтобы отражать упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, соответственно по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
8. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что выход упомянутого блока (2) генерации и вход упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации соединены друг с другом посредством оптического волокна (3).
9. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит свободное пространство (S) для прохождения лазерного луча, в котором расположено упомянутое селекторное устройство оптического пути.
10. Лазерный источник по п. 9, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок переключения и адресации содержит оптическое волокно (41) входа, соединенное с входом упомянутого блока, и первый оптический интерфейс (42) для приема упомянутого первого лазерного луча из упомянутого оптического волокна (41) входа и для передачи упомянутого первого лазерного луча внутри упомянутого свободного пространства (S), в котором расположено упомянутое селекторное устройство (43) оптического пути.
11. Лазерный источник по п. 10, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит второй оптический интерфейс (47), расположенный вдоль упомянутой первой оптической линии (44), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления внутрь оптического волокна (44) выхода, которое соединено с упомянутым первым выходом (U1) лазерного источника (1).
12. Лазерный источник по п. 11, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит по меньшей мере третий оптический интерфейс (454), расположенный вдоль упомянутой второй оптической линии (45), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления в множество оптических волокон (5) выхода, соединенных с упомянутыми усилительными модулями (60) упомянутого блока (6) оптического усиления.
13. Лазерный источник по п. 12, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит множество оптических интерфейсов (454), соединенных посредством упомянутых оптических волокон (5) выхода с упомянутыми усилительными модулями (60).
14. Лазерный источник по п. 13, отличающийся тем, что внутри упомянутого свободного пространства (S) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации расположена матрица полуотражающих зеркал (452) для разделения первого лазерного луча, направленного вдоль упомянутой второй оптической линии (45), на множество лазерных лучей, направленных по направлению к упомянутым усилительным модулям (60).
15. Лазерный источник по п. 14, отличающийся тем, что выходы упомянутых усилительных модулей (60) соединены с соответствующими оптическими волокнами (64), объединенными в оптическое сумматорное устройство (65), соединенное с упомянутыми вторым выходом (U2) лазерного источника (1).
16. Промышленная установка, содержащая множество устройств лазерной обработки или ячеек лазерной обработки или станций лазерной обработки, и содержащее по меньшей мере первое устройство, ячейку или станцию лазерной обработки, где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество, и по меньшей мере второе устройство, ячейку или станцию лазерной обработки, где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один лазерный источник по любому из пп. 1-15, причем упомянутый по меньшей мере один лазерный источник имеет выходы, соответственно соединенные с упомянутыми первым и вторым устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки, при этом упомянутая установка имеет электронный блок управления для управления селекторным устройством упомянутого по меньшей мере одного лазерного источника, который запрограммирован для активации упомянутого первого выхода или упомянутого второго выхода лазерного источника на основании сигналов, поступающих от электронного блока, управляющего упомянутыми устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки.
17. Способ управления множеством ячеек или станций лазерной обработки, каждая из которых снабжена лазерным источником для подачи лазерного луча к оборудованию лазерной обработки, предусмотренному в ячейке или станции обработки, отличающийся тем, что по меньшей мере один из упомянутых лазерных источников представляет собой лазерный источник с двумя выходами по любому из пп. 1-15, и тем, что первый выход упомянутого лазерного источника, имеющего два выхода, соединяют с одной основной ячейкой или станцией, тогда как второй выход соединяют с дополнительной ячейкой или станцией обработки, если и когда упомянутая дополнительная ячейка или станция обработки имеет сбой.
RU2017112011A 2014-09-26 2015-09-22 Лазерный источник, в частности, для технологических процессов RU2692400C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ITTO2014A000766 2014-09-26
ITTO20140766 2014-09-26
PCT/IB2015/057282 WO2016046735A1 (en) 2014-09-26 2015-09-22 Laser source, particularly for industrial processes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2017112011A true RU2017112011A (ru) 2018-10-29
RU2017112011A3 RU2017112011A3 (ru) 2019-03-01
RU2692400C2 RU2692400C2 (ru) 2019-06-24

Family

ID=51982676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017112011A RU2692400C2 (ru) 2014-09-26 2015-09-22 Лазерный источник, в частности, для технологических процессов

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9929528B2 (ru)
EP (1) EP3001517B1 (ru)
KR (1) KR102258995B1 (ru)
CN (1) CN106716746B (ru)
BR (1) BR112017004836B1 (ru)
CA (1) CA2961008C (ru)
ES (1) ES2625337T3 (ru)
MX (1) MX373360B (ru)
PL (1) PL3001517T3 (ru)
RS (1) RS55934B1 (ru)
RU (1) RU2692400C2 (ru)
SI (1) SI3001517T1 (ru)
WO (1) WO2016046735A1 (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITUA20161635A1 (it) * 2016-03-14 2017-09-14 Comau Spa "Sorgente laser, particolarmente per lavorazioni industriali"
CN106711750A (zh) * 2017-02-07 2017-05-24 中科先为激光科技(北京)有限公司 脉冲同步合成准连续光纤激光器
KR102704440B1 (ko) * 2018-06-27 2024-09-09 삼성디스플레이 주식회사 빔 성형 광학 시스템 및 빔 성형 방법
US12535422B2 (en) * 2021-10-14 2026-01-27 Atonarp Inc. System including a laser module

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7034992B2 (en) * 2003-10-08 2006-04-25 Northrop Grumman Corporation Brightness enhancement of diode light sources
US20080253419A1 (en) * 2005-07-11 2008-10-16 Ellex Medical Pty, Ltd. Diode Pumped Laser
EP1848073A1 (en) * 2006-04-19 2007-10-24 Multitel ASBL Switchable laser device and method for operating said device
WO2010083566A2 (en) 2009-01-22 2010-07-29 Med-Aesthetic Solutions International Pty. Ltd. System and method for dermatological treatment
DE102011075213B4 (de) * 2011-05-04 2013-02-21 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Laserbearbeitungssystem mit einem in seiner Brillanz einstellbaren Bearbeitungslaserstrahl
CN203690697U (zh) * 2014-02-28 2014-07-02 福州高意光学有限公司 一种高功率光纤激光器

Also Published As

Publication number Publication date
RU2692400C2 (ru) 2019-06-24
KR102258995B1 (ko) 2021-06-03
CA2961008C (en) 2022-03-08
BR112017004836A2 (pt) 2017-12-12
SI3001517T1 (sl) 2017-05-31
US20170288363A1 (en) 2017-10-05
MX2017003738A (es) 2017-06-26
KR20170061672A (ko) 2017-06-05
ES2625337T3 (es) 2017-07-19
BR112017004836B1 (pt) 2022-04-05
RU2017112011A3 (ru) 2019-03-01
CA2961008A1 (en) 2016-03-31
MX373360B (es) 2020-07-06
WO2016046735A1 (en) 2016-03-31
CN106716746A (zh) 2017-05-24
CN106716746B (zh) 2020-01-17
RS55934B1 (sr) 2017-09-29
US9929528B2 (en) 2018-03-27
EP3001517B1 (en) 2017-02-22
EP3001517A1 (en) 2016-03-30
PL3001517T3 (pl) 2017-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2017112011A (ru) Лазерный источник, в частности для технологических процессов
RU2018128461A (ru) Лазерный источник, в частности, для промышленных процессов
MY183578A (en) Laser processing apparatus
WO2019220430A3 (en) Laser beams methods and systems
PH12017501062A1 (en) High efficiency optical combiner for multiple non-coherent light sources
WO2019125903A3 (en) High density lidar scanning
EA201690770A1 (ru) Модульное лазерное устройство
WO2016118849A3 (en) Arrangement of multiple diode laser module and method of operating the same
WO2009025261A1 (ja) マルチビーム走査装置
EP4465100A3 (en) Systems, devices and methods for optical beam combining
ZA202105977B (en) Hybrid renewable power generation control
GB201103814D0 (en) Laser fabrication system and method
CN204262594U (zh) 柔性精密钣金激光切割单元
CN113366375B (zh) 激光系统
US9599572B2 (en) Optical inspection system and method
JP2016081989A (ja) 半導体レーザ発振器及びレーザ加工機