[go: up one dir, main page]

RU2016116051A - Устройство для нанесения покрытий в вакууме - Google Patents

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Download PDF

Info

Publication number
RU2016116051A
RU2016116051A RU2016116051A RU2016116051A RU2016116051A RU 2016116051 A RU2016116051 A RU 2016116051A RU 2016116051 A RU2016116051 A RU 2016116051A RU 2016116051 A RU2016116051 A RU 2016116051A RU 2016116051 A RU2016116051 A RU 2016116051A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
wall
housing
vertical axis
water cooling
magnetic system
Prior art date
Application number
RU2016116051A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2634534C2 (ru
Inventor
Вадим Васильевич Одиноков
Георгий Яковлевич Павлов
Александр Валерьевич Шубников
Виталий Вячеславович Панин
Евгения Григорьевна Гусева
Наталья Борисовна Гусева
Ирина Дмитриевна Федорова
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения"
Priority to RU2016116051A priority Critical patent/RU2634534C2/ru
Publication of RU2016116051A publication Critical patent/RU2016116051A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2634534C2 publication Critical patent/RU2634534C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Claims (3)

1. Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее плоскую мишень (1), выполненную из металла, установленную на основании (2) и закрепленную на нем с помощью прижима (3), содержащее также первую магнитную систему (4), расположенную внутри корпуса (5) с первым каналом водяного охлаждения (6), при этом основание (2) установлено на корпусе (5), содержащее также источник питания электрического разряда (7), отрицательным полюсом соединенный с корпусом (5), а положительным полюсом соединенный с заземляющим проводником (8), при этом мишень (1), основание (2), первая магнитная система (4) и корпус (5) расположены коаксиально вертикальной оси (9), отличающееся тем, что в него введен источник ионов газа (10), расположенный коаксиально вертикальной оси (9), содержащий внутренний полюсный наконечник (11), включающий первую стенку (12), содержащий также внешний полюсный наконечник (13), включающий вторую стенку (14), при этом первая стенка (12) и вторая стенка (14) расположены друг напротив друга и образуют выходную апертуру (15), расположенную со стороны плоской мишени (1), при этом внутренний полюсный наконечник (11) и внешний полюсный наконечник (13) охватывают корпус (5) с внешней стороны и отделены от него изолятором (16), содержащий также кольцевой анод (17) со вторым каналом водяного охлаждения (18), плиту (19) с третьим каналом водяного охлаждения (20), вторую магнитную систему (21), коаксиально расположенные вокруг корпуса (5), содержащий также высоковольтный источник питания (22), положительным полюсом соединенный с кольцевым анодом (17), а отрицательным полюсом соединенный с заземляющим проводником (8), причем первый канал водяного охлаждения (6) расположен в первой магнитной системе (4).
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая стенка (12) и вторая стенка (14) выходной апертуры (15) расположены параллельно вертикальной оси (9).
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что первая стенка (12) и вторая стенка (14) выходной апертуры (15) наклонены в сторону мишени (1) и образуют с вертикальной осью (9) угол δ.
RU2016116051A 2016-04-25 2016-04-25 Устройство для нанесения покрытий в вакууме RU2634534C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016116051A RU2634534C2 (ru) 2016-04-25 2016-04-25 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016116051A RU2634534C2 (ru) 2016-04-25 2016-04-25 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2016116051A true RU2016116051A (ru) 2017-10-30
RU2634534C2 RU2634534C2 (ru) 2017-10-31

Family

ID=60263662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016116051A RU2634534C2 (ru) 2016-04-25 2016-04-25 Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2634534C2 (ru)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000144399A (ja) * 1998-10-30 2000-05-26 Applied Materials Inc スパッタリング装置
RU2311492C1 (ru) * 2006-04-28 2007-11-27 Виктор Иванович Чайрев Устройство для высокоскоростного магнетронного распыления
RU2401882C1 (ru) * 2009-02-27 2010-10-20 ОАО "Кварц" Узел катода магнетронного распылителя

Also Published As

Publication number Publication date
RU2634534C2 (ru) 2017-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2016129486A (ru) Система и способ для лечения плазмой с использованием энергетической системы направленного диэлектрического барьерного разряда
RU2015134534A (ru) Источник плазмы
MY174916A (en) Plasma source
RU2011132528A (ru) Патрон дистанционного электрошокового оружия
RU2016116051A (ru) Устройство для нанесения покрытий в вакууме
RU2013128809A (ru) Ионный двигатель
RU2014101919A (ru) Устройство для использования атмосферного электричества "русэлектро 2"
RU2014110349A (ru) Ионный двигатель
RU2012100143A (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом
RU2013112086A (ru) Устройство для защиты смотрового окна вакуумной камеры
UA116822C2 (uk) Пристрій для виготовлення тривимірних об'єктів
CN109473334A (zh) 一种新型离子源
RU2012142744A (ru) Электронно-лучевая пушка
RU2012146190A (ru) Магнитогидродинамическое устройство (варианты)
UA111417C2 (uk) Газорозрядна електронна гармата
RU2013127847A (ru) Установка ионно-плазменного нанесения покрытий
RU2015120561A (ru) Источник ионов
RU2014108841A (ru) Высоковольтный фоточувствительный прибор проксимити типа
TH12521A3 (th) หัวเพนนิงแมกนีตรอนสปัตเตอริงสำหรับการเคลือบฟิล์มบางสารแม่เหล็ก
RU2013116463A (ru) Устройство для синтеза покрытий
TH12521C3 (th) หัวเพนนิงแมกนีตรอนสปัตเตอริงสำหรับการเคลือบฟิล์มบางสารแม่เหล็ก
RU2018110138A (ru) Гибридный плазмохимический реактор
RU2013141782A (ru) Двигатель с замкнутым дрейфом электронов
RU2012146484A (ru) Ускорительная трубка
RU2007143589A (ru) Электронно-лучевая пушка