[go: up one dir, main page]

RU2015138108A - Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах - Google Patents

Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах Download PDF

Info

Publication number
RU2015138108A
RU2015138108A RU2015138108A RU2015138108A RU2015138108A RU 2015138108 A RU2015138108 A RU 2015138108A RU 2015138108 A RU2015138108 A RU 2015138108A RU 2015138108 A RU2015138108 A RU 2015138108A RU 2015138108 A RU2015138108 A RU 2015138108A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrochromic
layer
electrode layer
defects
minimize
Prior art date
Application number
RU2015138108A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2647998C2 (ru
Inventor
Сридхар К. КАИЛАСАМ
Робин ФРИДМАН
Дэйн ДЖИЛЛЭСПИ
Аншу А. ПРАДХАН
Роберт Т. РОЗБИКИ
Диша МЕХТАНИ
Original Assignee
Вью, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Вью, Инк. filed Critical Вью, Инк.
Publication of RU2015138108A publication Critical patent/RU2015138108A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2647998C2 publication Critical patent/RU2647998C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0635—Carbides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0652—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0676—Oxynitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G02F1/1524—Transition metal compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H01J37/3426—Material
    • H01J37/3429—Plural materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3476—Testing and control
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
    • G02F2001/1536—Constructional details structural features not otherwise provided for additional, e.g. protective, layer inside the cell
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • G02F2001/1555—Counter electrode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
    • G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Claims (81)

1. Электрохромное устройство, содержащее:
подложку;
первый электродный слой, расположенный на подложке, причем первый электродный слой содержит первый прозрачный материал с электронной проводимостью;
электрохромную структуру, содержащую электрохромный слой из электрохромного материала и противоэлектродный слой из материала противоэлектрода;
второй электродный слой, расположенный на электрохромной структуре, причем второй электродный слой содержит второй прозрачный материал с электронной проводимостью; и
изолирующий слой для минимизации влияния дефектов, содержащий по существу прозрачный и электронно-изолирующий материал, расположенный в (i) местоположении между промежуточным положением в пределах электрохромного слоя и положением упомянутого электродного слоя, с которым электрохромный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи, или (ii) местоположении между промежуточным положением в пределах противоэлектродного слоя и положением электродного слоя, с которым противоэлектродный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи.
2. Электрохромное устройство по п. 1, в котором электрохромный материал является катодно-окрашиваемым электрохромным материалом, а материал противоэлектрода является анодно-окрашиваемым электрохромным материалом, и при этом электрохромный слой является смежным с первым электродным слоем, а противоэлектродный слой является смежным со вторым электродным слоем.
3. Электрохромное устройство по п. 2, в котором электрохромный материал содержит оксид вольфрама.
4. Электрохромное устройство по п. 2, в котором материал противоэлектрода содержит оксид вольфрама-никеля.
5. Электрохромное устройство по п. 2, в котором электрохромная структура дополнительно содержит ион-проводящий слой, расположенный между электрохромным слоем и противоэлектродным слоем.
6. Электрохромное устройство по п. 2, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен в местоположении между промежуточным положением в пределах противоэлектродного слоя и положением второго электродного слоя.
7. Электрохромное устройство по п. 2, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен в промежуточном положении в пределах противоэлектродного слоя.
8. Электрохромное устройство по п. 6, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен между противоэлектродным слоем и вторым электродным слоем в контакте со вторым электродным слоем.
9. Электрохромное устройство по п. 1, дополнительно содержащее один или более слоев между подложкой и первым электродным слоем.
10. Электрохромное устройство по п. 9, в котором один из слоев между подложкой и первым электродным слоем является диффузионно-барьерным слоем.
11. Электрохромное устройство по п. 1, в котором указанный электрохромный материал является катодно-окрашиваемым электрохромным материалом, а материал противоэлектрода является анодно-окрашиваемым электрохромным материалом, и при этом электрохромный слой является смежным со вторым электродным слоем, а противоэлектродный слой является смежным с первым электродным слоем.
12. Электрохромное устройство по п. 11, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен в местоположении между промежуточным положением в пределах электрохромного слоя и положением второго электродного слоя.
13. Электрохромное устройство по п. 11, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен в промежуточном положении в пределах электрохромного слоя.
14. Электрохромное устройство по п. 11, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен между электрохромным слоем и вторым электродным слоем в контакте со вторым электродным слоем.
15. Электрохромное устройство по п. 1, в котором электрохромная структура не содержит отдельного осажденного ион-проводящего слоя.
16. Электрохромное устройство по п. 1, в котором число видимых точечных дефектов, вызывающих короткое замыкание в электрохромном устройстве, составляет не более чем около 0,005 на квадратный сантиметр.
17. Электрохромное устройство по п. 1, в котором электрохромная структура полностью твердотельная и неорганическая.
18. Электрохромное устройство по п. 17, в котором электрохромный слой содержит два подслоя, каждый из которых содержит оксид вольфрама, и при этом концентрация кислорода в одном подслое выше, чем в другом подслое.
19. Электрохромное устройство по п. 17, в котором противоэлектродный слой содержит оксид вольфрама-никеля.
20. Электрохромное устройство по п. 1, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит оксид металла, нитрид металла, карбид металла, оксинитрид металла или оксикарбид металла.
21. Электрохромное устройство по п. 20, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит оксид металла, выбранный из группы, состоящей из оксида алюминия, оксида титана, оксида тантала, оксида церия, оксида цинка, оксида олова, оксида кремния-алюминия, оксида вольфрама, оксида вольфрама-никеля и оксидированного оксида индия-олова.
22. Электрохромное устройство по п. 20, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит нитрид металла, выбранный из группы, состоящей из нитрида титана, нитрида алюминия, нитрида кремния, нитрида тантала и нитрида вольфрама.
23. Электрохромное устройство по п. 20, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит карбид металла, выбранный из группы, состоящей из карбида титана, карбида алюминия, карбида кремния, карбида тантала и карбида вольфрама.
24. Электрохромное устройство по п. 1, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов имеет толщину в диапазоне около 5-500 нм.
25. Электрохромное устройство по п. 1, в котором электрохромная структура имеет градиентный состав.
26. Электрохромное устройство по п. 1, дополнительно содержащее второй изолирующий слой для минимизации влияния дефектов, расположенный в непосредственной близости к первому электродному слою.
27. Электрохромное устройство по п. 26, в котором оба изолирующих слоя для минимизации влияния дефектов расположены между первым и вторым электродными слоями.
28. Электрохромное устройство по п. 1, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит два разных электронно-изолирующих материала.
29. Электрохромное устройство по п. 28, в котором указанный изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит частицы полировального материала.
30. Электрохромное устройство по п. 1, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов является ион-проводящим.
31. Электрохромное устройство по п. 1, в котором упомянутый изолирующий слой имеет удельное электрическое сопротивление в диапазоне около 1-1015 Ом⋅см.
32. Способ изготовления электрохромного устройства, причем упомянутый способ содержит:
формирование электрохромной структуры на первом электродном слое, расположенном на подложке, при этом электрохромная структура содержит электрохромный слой из электрохромного материала и противоэлектродный слой из материала противоэлектрода, и при этом первый электродный слой содержит первый прозрачный материал с электронной проводимостью;
формирование изолирующего слоя для минимизации влияния дефектов в пределах, под или на электрохромной структуре, при этом изолирующий слой для минимизации влияния дефектов содержит по существу прозрачный и электронно-изолирующий материал; и
формирование второго электродного слоя поверх электрохромной структуры, причем второй электродный слой содержит второй прозрачный материал с электронной проводимостью,
при этом изолирующий слой для минимизации влияния дефектов располагают в (i) местоположении между промежуточным положением в пределах электрохромного слоя и положением электродного слоя, с которым электрохромный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи или (ii) местоположении между промежуточным положением в пределах противоэлектродного слоя и положением электродного слоя, с которым противоэлектродный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи.
33. Способ по п. 32, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов формируют между электрохромным слоем и первым электродным слоем в контакте с первым электродным слоем.
34. Способ по п. 32, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов формируют между противоэлектродным слоем и вторым электродным слоем в контакте со вторым электродным слоем.
35. Способ по п. 32, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов формируют в пределах противоэлектродного слоя.
36. Способ по п. 32, в котором изолирующий слой для минимизации влияния дефектов формируют в пределах электрохромного слоя.
37. Способ по п. 32, в котором формирование электрохромной структуры выполняют без осаждения ион-проводящего слоя.
38. Способ по п. 32, дополнительно содержащий формирование второго изолирующего слоя для минимизации влияния дефектов.
39. Способ по п. 32, в котором упомянутый изолирующий слой имеет удельное электрическое сопротивление в диапазоне около 1-1015 Ом⋅см.
40. Электрохромное устройство, содержащее:
подложку;
первый электродный слой, расположенный на подложке, причем первый электродный слой содержит первый прозрачный материал с электронной проводимостью;
электрохромную структуру, содержащую электрохромный слой из электрохромного материала и противоэлектродный слой из материала противоэлектрода, при этом первый электродный слой находится между подложкой и электрохромной структурой;
второй электродный слой, расположенный на электрохромной структуре таким образом, что электрохромная структура расположена между первым электродным слоем и вторым электродным слоем, причем второй электродный слой содержит второй прозрачный материал с электронной проводимостью; и
изолирующий слой для минимизации влияния дефектов, который является по существу прозрачным и электронно-изолирующим, при этом изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен между первым электродным слоем и электрохромной структурой.
41. Электрохромное устройство, содержащее:
подложку;
первый электродный слой, расположенный на подложке, причем первый электродный слой содержит первый прозрачный материал с электронной проводимостью;
электрохромную структуру, содержащую электрохромный слой из электрохромного материала и противоэлектродный слой из материала противоэлектрода, при этом первый электродный слой находится между подложкой и электрохромной структурой;
второй электродный слой, расположенный на электрохромной структуре таким образом, что электрохромная структура расположена между первым электродным слоем и вторым электродным слоем, причем второй электродный слой содержит второй прозрачный материал с электронной проводимостью; и
изолирующий слой для минимизации влияния дефектов, который является по существу прозрачным и электронно-изолирующим, при этом изолирующий слой для минимизации влияния дефектов расположен между вторым электродным слоем и электрохромной структурой.
42. Способ изготовления электрохромного устройства, причем упомянутый способ содержит:
(a) прием подложки в устройстве осаждения напылением,
при этом подложка содержит сформированные на ней первый электродный слой и изолирующий слой для минимизации влияния дефектов, и первый электродный слой расположен между подложкой и изолирующим слоем для минимизации влияния дефектов, и первый электродный слой содержит первый прозрачный материал с электронной проводимостью,
при этом изолирующий слой является электронно-изолирующим и по существу прозрачным;
(b) формирование электрохромной структуры на подложке,
при этом электрохромная структура содержит электрохромный слой из электрохромного материала и противоэлектродный слой из материала противоэлектрода; и
(c) формирование второго электродного слоя поверх электрохромной структуры, причем второй электродный слой содержит второй прозрачный материал с электронной проводимостью,
43. Устройство для изготовления электрохромного устройства, содержащее:
(а) интегрированную систему для осаждения, содержащую:
(i) первую станцию для осаждения, которая содержит первую мишень, содержащую первый материал для осаждения слоя электрохромного материала на подложке при помещении подложки в первую станцию для осаждения,
(ii) вторую станцию для осаждения, которая содержит вторую мишень, содержащую второй материал для осаждения слоя материала противоэлектрода на подложке при помещении подложки во вторую станцию для осаждения, и
(iii) третью станцию для осаждения, выполненную с возможностью осаждения изолирующего слоя для минимизации влияния дефектов, который является электронно-изолирующим и по существу прозрачным; и
(b) контроллер, содержащий программные команды для прохождения подложки через первую и вторую станции для осаждения таким образом, чтобы последовательно осаждать структуру на подложке, причем структура содержит слой электрохромного материала, слой материала противоэлектрода и изолирующий слой для минимизации влияния дефектов.
44. Устройство по п. 43, дополнительно содержащее четвертую станцию для осаждения, выполненную с возможностью осаждения электродного слоя на структуре, при этом электродный слой содержит прозрачный материал с электронной проводимостью.
45. Устройство по п. 44, в котором программные команды содержат команды для осаждения изолирующего слоя для минимизации влияния дефектов в (i) местоположении между промежуточным положением в пределах электрохромного слоя и положением электродного слоя, с которым электрохромный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи или (ii) местоположении между промежуточным положением в пределах противоэлектродного слоя и положением электродного слоя, с которым противоэлектродный слой находится в наибольшей непосредственной электрической связи.
46. Устройство по п. 43, дополнительно содержащее станцию для осаждения лития, содержащую литиевую мишень для осаждения лития на или в пределах слоя электрохромного материала или на или в пределах слоя материала противоэлектрода при помещении подложки в станцию для осаждения лития.
47. Устройство для изготовления электрохромного устройства, содержащее: (а) интегрированную систему для осаждения, содержащую:
(i) первую станцию для осаждения, которая содержит первую мишень, содержащую первый материал для осаждения слоя электрохромного материала на подложке при помещении подложки в первую станцию для осаждения,
(ii) вторую станцию для осаждения, которая содержит вторую мишень, содержащую второй материал для осаждения слоя материала противоэлектрода на подложке при помещении подложки во вторую станцию для осаждения, и
(iii) полировальную установку, выполненную с возможностью полирования изолирующего слоя для минимизации влияния дефектов на подложке; и
(b) контроллер, содержащий программные команды для прохождения подложки через первую и вторую станции для осаждения таким образом, чтобы последовательно осаждать структуру на подложке, причем структура содержит слой электрохромного материала и слой материала противоэлектрода.
RU2015138108A 2013-02-08 2014-02-07 Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах RU2647998C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/763,505 2013-02-08
US13/763,505 US9007674B2 (en) 2011-09-30 2013-02-08 Defect-mitigation layers in electrochromic devices
PCT/US2014/015374 WO2014124303A2 (en) 2013-02-08 2014-02-07 Defect-mitigation layers in electrochromic devices

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018107396A Division RU2018107396A (ru) 2013-02-08 2014-02-07 Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015138108A true RU2015138108A (ru) 2017-03-14
RU2647998C2 RU2647998C2 (ru) 2018-03-21

Family

ID=51300326

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018107396A RU2018107396A (ru) 2013-02-08 2014-02-07 Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах
RU2015138108A RU2647998C2 (ru) 2013-02-08 2014-02-07 Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018107396A RU2018107396A (ru) 2013-02-08 2014-02-07 Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах

Country Status (9)

Country Link
US (12) US9007674B2 (ru)
EP (3) EP3929656A1 (ru)
KR (5) KR102567611B1 (ru)
CN (2) CN105074559B (ru)
AU (5) AU2014214738B2 (ru)
CA (4) CA3103961A1 (ru)
RU (2) RU2018107396A (ru)
TW (4) TWI628499B (ru)
WO (1) WO2014124303A2 (ru)

Families Citing this family (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9007674B2 (en) 2011-09-30 2015-04-14 View, Inc. Defect-mitigation layers in electrochromic devices
US12043890B2 (en) 2009-03-31 2024-07-23 View, Inc. Electrochromic devices
US8432603B2 (en) 2009-03-31 2013-04-30 View, Inc. Electrochromic devices
US11187954B2 (en) 2009-03-31 2021-11-30 View, Inc. Electrochromic cathode materials
WO2015164179A1 (en) * 2014-04-22 2015-10-29 View, Inc. Particle removal during fabrication of electrochromic devices
US20170038658A1 (en) 2011-09-30 2017-02-09 View, Inc. Particle removal during fabrication of electrochromic devices
US10591795B2 (en) 2009-03-31 2020-03-17 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
US10156762B2 (en) 2009-03-31 2018-12-18 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
US10261381B2 (en) 2009-03-31 2019-04-16 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
US11599003B2 (en) 2011-09-30 2023-03-07 View, Inc. Fabrication of electrochromic devices
US8582193B2 (en) 2010-04-30 2013-11-12 View, Inc. Electrochromic devices
US9261751B2 (en) 2010-04-30 2016-02-16 View, Inc. Electrochromic devices
WO2016036707A2 (en) 2014-09-05 2016-03-10 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
US10852613B2 (en) 2009-03-31 2020-12-01 View, Inc. Counter electrode material for electrochromic devices
US12353109B2 (en) 2009-12-22 2025-07-08 View Operating Corporation Electrochromic cathode materials
US10303035B2 (en) 2009-12-22 2019-05-28 View, Inc. Self-contained EC IGU
US9759975B2 (en) 2010-04-30 2017-09-12 View, Inc. Electrochromic devices
US9958750B2 (en) 2010-11-08 2018-05-01 View, Inc. Electrochromic window fabrication methods
US12496809B2 (en) 2010-11-08 2025-12-16 View Operating Corporation Electrochromic window fabrication methods
US10295880B2 (en) 2011-12-12 2019-05-21 View, Inc. Narrow pre-deposition laser deletion
US12061402B2 (en) 2011-12-12 2024-08-13 View, Inc. Narrow pre-deposition laser deletion
US11865632B2 (en) 2011-12-12 2024-01-09 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
KR20220120709A (ko) 2011-12-12 2022-08-30 뷰, 인크. 박막 디바이스 및 제조
US12403676B2 (en) 2011-12-12 2025-09-02 View Operating Corporation Thin-film devices and fabrication
US10802371B2 (en) 2011-12-12 2020-10-13 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
EP3842613A1 (en) 2012-08-23 2021-06-30 View, Inc. Photonic powered electrochromic devices
GB201309717D0 (en) 2013-05-31 2013-07-17 Pilkington Group Ltd Interface layer for electronic devices
KR102521229B1 (ko) 2013-06-12 2023-04-12 뷰, 인크. 개선형 전기 접촉부를 위한 투명 전도 옥사이드(tco) 박막 전처리
US10767143B2 (en) 2014-03-06 2020-09-08 Sage Electrochromics, Inc. Particle removal from electrochromic films using non-aqueous fluids
US11891327B2 (en) 2014-05-02 2024-02-06 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
US9939705B2 (en) * 2014-06-17 2018-04-10 Sage Electrochromics, Inc. Controlled switching for electrochromic devices
WO2016063849A1 (ja) 2014-10-21 2016-04-28 旭硝子株式会社 光学素子および撮像装置
CN119518264A (zh) 2014-11-25 2025-02-25 唯景公司 用于将建筑物区域的设置个性化的方法和装置
US12235560B2 (en) 2014-11-25 2025-02-25 View, Inc. Faster switching electrochromic devices
WO2018039080A1 (en) 2016-08-22 2018-03-01 View, Inc. Electromagnetic-shielding electrochromic windows
US11114742B2 (en) 2014-11-25 2021-09-07 View, Inc. Window antennas
EP4220291A3 (en) 2014-11-26 2023-10-04 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
JP7067833B2 (ja) * 2014-11-26 2022-05-16 ビュー， インコーポレイテッド エレクトロクロミックデバイス用の対電極
US10205111B2 (en) * 2014-11-27 2019-02-12 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting diode, method for manufacturing organic light emitting diode, and method for repairing organic light emitting diode
TW201621437A (zh) * 2014-12-10 2016-06-16 Tintable Kibing Co Ltd 電致變色裝置
KR102712274B1 (ko) 2014-12-19 2024-09-30 뷰, 인크. 부스 바 하에 있는 전기변색 디바이스에서의 결함들을 완화시키는 방법
CA2972240A1 (en) * 2014-12-24 2016-06-30 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
US10969645B2 (en) 2015-03-20 2021-04-06 View, Inc. Faster switching low-defect electrochromic windows
EP3320393B1 (en) 2015-07-10 2023-05-31 View, Inc. Bird friendly electrochromic devices
US11307475B2 (en) 2015-07-10 2022-04-19 View, Inc. Bird friendly electrochromic devices
WO2017011272A1 (en) * 2015-07-14 2017-01-19 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
EP3368938A4 (en) * 2015-10-28 2019-06-12 View, Inc. PHOTOVOLTAIC ELECTROCHROME WINDOW
WO2017102900A1 (de) * 2015-12-16 2017-06-22 Saint-Gobain Glass France Elektrisch schaltbare verglasung umfassend flächenelektroden mit anisotroper leitfähigkeit
CN114265251B (zh) * 2016-04-19 2024-12-06 Sage电致变色显示有限公司 包括透明导电氧化物层和汇流条的电致变色装置和其形成方法
EP3453072B1 (en) 2016-05-06 2024-07-03 View, Inc. Method and system for monitoring the location of a mobile device or an asset containing the mobile device.
JP6696003B2 (ja) * 2016-05-09 2020-05-20 セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド イオン移動を防止するための手段を含むエレクトロクロミックデバイス及びその形成プロセス
EP3458908B1 (en) * 2016-05-20 2023-11-01 Gentex Corporation Method of resistive coating for voltage uniformity
US20190345058A1 (en) 2016-06-01 2019-11-14 View, Inc. Sacrificial layer for electrochromic device fabrication
US11623433B2 (en) * 2016-06-17 2023-04-11 View, Inc. Mitigating defects in an electrochromic device under a bus bar
FR3054676B1 (fr) * 2016-07-28 2018-08-31 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Dispositif thermochrome tout-solide, et procede de preparation de ce dispositif
CN106773436A (zh) * 2016-12-27 2017-05-31 浙江上方电子装备有限公司 一种全固态电致变色玻璃器件及其制备方法
IL321694A (en) * 2017-02-06 2025-08-01 Sheltered Wings Inc D/B/A Vortex Optics Optical sight with integral display system
US10739662B2 (en) * 2017-03-03 2020-08-11 Leaphigh Inc. Electrochromic element and electrochromic device including the same
WO2018199569A1 (ko) * 2017-04-24 2018-11-01 주식회사 엘지화학 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자
KR102118361B1 (ko) * 2017-04-24 2020-06-04 주식회사 엘지화학 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자
KR102108565B1 (ko) * 2017-05-12 2020-05-08 주식회사 엘지화학 전기변색필름 및 전기변색소자
US11714327B2 (en) 2017-09-12 2023-08-01 Sage Electrochromics, Inc. Non-light-emitting variable transmission device and a method of forming the same
JP7127123B2 (ja) * 2017-11-20 2022-08-29 セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド 非発光可変透過装置、及び同装置の組み立て方法
CN112771443A (zh) * 2018-08-23 2021-05-07 日东电工株式会社 用于高光学调制的超薄电致变色设备
CN112654907A (zh) * 2018-09-26 2021-04-13 Sage电致变色显示有限公司 电活性器件及方法
CN109817120B (zh) * 2019-02-14 2020-06-30 宁波财经学院 一种数字互动景观系统
KR102875467B1 (ko) 2019-05-09 2025-10-28 뷰 오퍼레이팅 코포레이션 건물의 제어 커버리지용 안테나 시스템
CN113906628A (zh) 2019-05-31 2022-01-07 唯景公司 建筑天线
CA3145184A1 (en) 2019-06-07 2020-12-10 View, Inc. Electrochromic cathode materials
US20210232014A1 (en) * 2019-12-22 2021-07-29 Jianguo Mei Electrochromic devices with increased lifetime
CN113156731B (zh) * 2020-01-23 2022-06-07 青岛凯欧斯光电科技有限公司 控制电致变色器件的方法
DE102020201240A1 (de) * 2020-01-31 2021-08-05 Te Connectivity Germany Gmbh Steckverbinderelement und Steckverbinder für Hochvoltanwendungen
US11174676B2 (en) * 2020-02-03 2021-11-16 Guardian Glass, LLC Electric potentially-driven shade with improved shade extension control, and/or associated methods
US12129709B2 (en) 2020-07-15 2024-10-29 Guardian Glass, LLC Control circuitry for dynamic shade with electrostatic holding, and/or associated methods
US11634942B2 (en) 2020-02-03 2023-04-25 Guardian Glass, LLC Electric potentially-driven shade with electrostatic shade retraction, and/or associated methods
US11428040B2 (en) 2020-02-03 2022-08-30 Guardian Glass, LLC Electrostatic latching stop bar for dynamic shade, and/or associated methods
US11703737B2 (en) * 2020-02-12 2023-07-18 Sage Electrochromics, Inc. Forming electrochromic stacks using at most one metallic lithium deposition station
US11421470B2 (en) 2020-02-17 2022-08-23 Guardian Glass, LLC Coil skew correction techniques for electric potentially-driven shade, and/or associated methods
US12454860B2 (en) 2020-02-17 2025-10-28 Guardian Glass, LLC Coil skew detection and correction techniques for electric-potential driven shade, and/or associated methods
US12331585B2 (en) 2020-02-17 2025-06-17 Guardian Glass, LLC Coil skew detection and correction techniques for electric-potential driven shade, and/or associated methods
CN114616099B (zh) 2020-09-28 2025-11-21 法国圣戈班安全玻璃公司 具有电可控光学特性的复合板
WO2022082195A1 (en) * 2020-10-15 2022-04-21 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic device including a means for mechanical resistance and a process of forming the same
CN112558369A (zh) * 2020-12-30 2021-03-26 浙江上方电子装备有限公司 全固态电致变色器件及其制备方法
WO2022228946A1 (de) 2021-04-30 2022-11-03 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe für eine projektionsanordnung
WO2022268607A1 (de) 2021-06-24 2022-12-29 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit diffus reflektierenden eigenschaften und elektrochromem funktionselement
CN115734874A (zh) 2021-06-24 2023-03-03 法国圣戈班玻璃厂 具有漫反射元件和电致变色功能元件的复合玻璃板
CN116699915B (zh) * 2022-02-25 2026-01-23 海信视像科技股份有限公司 一种电致变色器件及其制备方法
CN115116663B (zh) * 2022-06-07 2025-05-23 河北邢台电缆有限责任公司 一种电气化铁道用抗冰绝缘导线及其制备工艺
US20240411192A1 (en) * 2023-06-09 2024-12-12 Sage Electrochromics, Inc. Layered Substrate with Reduced Blue Dot Defect Density

Family Cites Families (159)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH539130A (de) 1970-02-27 1973-08-31 Egyesuelt Izzolampa Verfahren zur Aufdampfung von Schichten durch Vakuumaufdampfen
US3793167A (en) 1972-06-01 1974-02-19 Globe Amerada Glass Co Apparatus for manufacturing metal-coated glass
US3897996A (en) * 1972-09-30 1975-08-05 Dainippon Printing Co Ltd Electro-optic display device
US4308316A (en) 1977-04-04 1981-12-29 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
JPS5588028A (en) * 1978-12-27 1980-07-03 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Solid electrochromic element
US4419386A (en) 1981-09-14 1983-12-06 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
JPS58126577A (ja) * 1982-01-25 1983-07-28 株式会社ニコン エレクトロクロミツク表示装置
JPS58163921A (ja) * 1982-03-25 1983-09-28 Toshiba Corp 全固体型電気発色表示素子
JPS5961820A (ja) * 1982-09-30 1984-04-09 Canon Inc 全固体型エレクトロクロミツク素子
US4752119A (en) * 1984-08-14 1988-06-21 Toshihiko Ueno Electrochromic display devices
JPH0820638B2 (ja) 1986-08-08 1996-03-04 株式会社半導体エネルギ−研究所 液晶装置およびその作製方法
US4768291A (en) 1987-03-12 1988-09-06 Monarch Technologies Corporation Apparatus for dry processing a semiconductor wafer
JPH02151838A (ja) 1988-12-05 1990-06-11 Tokai Rika Co Ltd 全固体エレクトロクロミック素子
FR2649691B1 (fr) 1989-07-11 1992-10-30 Saint Gobain Vitrage Int Vitrage electrochrome
GB8918859D0 (en) 1989-08-18 1989-09-27 Pilkington Plc Electromagnetic shielding panel
US5133594A (en) 1990-07-19 1992-07-28 Tufts University Transparent ion-blocking layer for electrochromic windows
FR2669122B1 (fr) * 1990-11-14 1992-12-31 Saint Gobain Vitrage Int Vitrage electrochrome.
US5352504A (en) 1990-11-14 1994-10-04 Saint-Gobain Vitrage International Electrochromic glazing
US5724177A (en) 1991-09-04 1998-03-03 Sun Active Glass Electrochromics, Inc. Electrochromic devices and methods
ES2186676T3 (es) * 1992-04-10 2003-05-16 Sun Active Glass Electrochrom Estructuras electrocromas y procedimientos.
DK1382994T3 (da) 1992-12-24 2008-12-15 Sage Electrochromics Inc Elektrochrom indretning
JPH0728099A (ja) * 1993-07-13 1995-01-31 Nikon Corp 全固体型エレクトロクロミック素子及びその製造方法
US5364666A (en) 1993-09-23 1994-11-15 Becton, Dickinson And Company Process for barrier coating of plastic objects
US5668663A (en) 1994-05-05 1997-09-16 Donnelly Corporation Electrochromic mirrors and devices
JPH09152634A (ja) * 1995-03-03 1997-06-10 Canon Inc エレクトロクロミック素子及びその製造方法
US7009665B2 (en) 1995-10-30 2006-03-07 Le Li Electro-optical glazing structures having scattering and transparent modes of operation and methods and apparatus for making the same
US5724175A (en) 1997-01-02 1998-03-03 Optical Coating Laboratory, Inc. Electrochromic device manufacturing process
US6356376B1 (en) 1997-04-02 2002-03-12 Gentex Corporation Electrochromic rearview mirror incorporating a third surface metal reflector and a display/signal light
US6094292A (en) 1997-10-15 2000-07-25 Trustees Of Tufts College Electrochromic window with high reflectivity modulation
KR100302828B1 (ko) * 1998-05-28 2002-07-18 민혜경 전기 변색장치의 제조방법
FR2791147B1 (fr) 1999-03-19 2002-08-30 Saint Gobain Vitrage Dispositif electrochimique du type dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables
DE60134553D1 (de) * 2000-05-24 2008-08-07 Magna Donnelly Corp Elektrode für elektrochrome Vorrichtungen
KR20020070254A (ko) * 2000-11-10 2002-09-05 가부시키가이샤 무라카미 가이메이도 고체형 일렉트로크로믹 소자 및 그 소자를 이용한 미러장치 및 ｃｒｔ 디스플레이
US7255451B2 (en) 2002-09-20 2007-08-14 Donnelly Corporation Electro-optic mirror cell
US6624568B2 (en) 2001-03-28 2003-09-23 Universal Display Corporation Multilayer barrier region containing moisture- and oxygen-absorbing material for optoelectronic devices
WO2003037056A1 (en) 2001-10-26 2003-05-01 Central Glass Company, Limited Substrate with electromagnetic shield film
US6744549B2 (en) * 2002-03-19 2004-06-01 Dow Global Technologies Inc. Electrochromic display device
US6743524B2 (en) * 2002-05-23 2004-06-01 General Electric Company Barrier layer for an article and method of making said barrier layer by expanding thermal plasma
US6770176B2 (en) 2002-08-02 2004-08-03 Itn Energy Systems. Inc. Apparatus and method for fracture absorption layer
US20040229051A1 (en) 2003-05-15 2004-11-18 General Electric Company Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices
US7310177B2 (en) 2002-09-20 2007-12-18 Donnelly Corporation Electro-optic reflective element assembly
US20040123804A1 (en) * 2002-09-20 2004-07-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Fabrication system and manufacturing method of light emitting device
EP1543358A2 (en) 2002-09-20 2005-06-22 Donnelly Corporation Mirror reflective element assembly
JP4489345B2 (ja) 2002-12-13 2010-06-23 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
DE602004001508T2 (de) 2003-01-31 2007-02-15 Ntera Ltd. Elektrochromische anzeigeeinrichtung
US8728285B2 (en) 2003-05-23 2014-05-20 Demaray, Llc Transparent conductive oxides
WO2004112093A2 (en) 2003-06-06 2004-12-23 P.C.T. Systems, Inc. Method and apparatus to process substrates with megasonic energy
JP3987847B2 (ja) 2003-10-17 2007-10-10 Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 Ｍｉｍ構造抵抗体を搭載した半導体装置
US7548291B2 (en) 2003-11-12 2009-06-16 Lg Display Lcd Co., Ltd. Reflective type liquid crystal display device and fabrication method thereof
FR2868850B1 (fr) 2004-04-09 2006-08-25 Saint Gobain Procede d'alimentation d'un dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables
WO2005118906A1 (en) 2004-06-02 2005-12-15 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Target material and its use in a sputter process
WO2006014591A2 (en) 2004-07-08 2006-02-09 Itn Energy Systems, Inc. Permeation barriers for flexible electronics
US8545030B2 (en) * 2004-07-12 2013-10-01 Gentex Corporation Rearview mirror assemblies with anisotropic polymer laminates
WO2006076613A2 (en) * 2005-01-14 2006-07-20 Cabot Corporation Metal nanoparticle compositions
US7372610B2 (en) * 2005-02-23 2008-05-13 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices and methods
JP2006252886A (ja) 2005-03-09 2006-09-21 Bridgestone Corp 低反射性導電膜、電磁波シールド膜及び電磁波シールド性光透過窓材
EP1717339A2 (de) 2005-04-20 2006-11-02 Applied Films GmbH & Co. KG Kontinuierliche Beschichtungsanlage
US7626749B2 (en) 2005-05-16 2009-12-01 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element
FR2886419B1 (fr) 2005-05-27 2009-07-31 Saint Gobain Electrode de dispositifs electrochimiques/ electrocommandables
US7586664B2 (en) 2005-07-01 2009-09-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Transparent electrode for an electrochromic switchable cell
CN101322068B (zh) 2005-07-01 2010-09-22 Ppg工业俄亥俄公司 具有多层底漆的显示板
US7593154B2 (en) * 2005-10-11 2009-09-22 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices having improved ion conducting layers
US7333258B2 (en) * 2005-10-31 2008-02-19 National Research Council Of Canada Electrochromic material
FR2893427B1 (fr) * 2005-11-16 2008-01-04 Saint Gobain Systeme electrochimique sur plastique
US20070138952A1 (en) 2005-12-20 2007-06-21 Chang Gung University Polymer light-emitting diode and manufacturing method thereof
CN100559252C (zh) 2005-12-30 2009-11-11 财团法人工业技术研究院 电变色膜
US8354355B2 (en) * 2006-01-17 2013-01-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid
US8368992B2 (en) 2006-03-03 2013-02-05 Gentex Corporation Electro-optical element including IMI coatings
CN101395521B (zh) * 2006-03-03 2010-09-29 金泰克斯公司 改进的薄膜涂层、光电元件和包含这些元件的组件
EP2426552A1 (en) 2006-03-03 2012-03-07 Gentex Corporation Electro-optic elements incorporating improved thin-film coatings
US20070235320A1 (en) 2006-04-06 2007-10-11 Applied Materials, Inc. Reactive sputtering chamber with gas distribution tubes
US20090285976A1 (en) * 2006-06-14 2009-11-19 Basf Se Method for producing electrically conductive surfaces on a support
US7265891B1 (en) 2006-06-20 2007-09-04 Eclipse Energy Systems Electrochromic device with self-forming ion transfer layer and lithium-fluoro-nitride electrolyte
FR2904123B1 (fr) 2006-07-21 2008-09-12 Saint Gobain Dispositif electrochimique / electrocommandable du type vitrage et a proprietes optiques et/ou energetiques variables.
FR2904437B1 (fr) 2006-07-28 2008-10-24 Saint Gobain Dispositif actif a proprietes energetiques/optiques variables
US20080037128A1 (en) 2006-08-11 2008-02-14 Newport Corporation Coatings for replicating the spectral performance of colored glass
CN101589473B (zh) * 2006-10-12 2011-10-05 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用
WO2008053561A1 (fr) * 2006-11-02 2008-05-08 Shinoda Plasma Co., Ltd. Élément de étection de champ électrique et dispositif d'affichage utilisant celui-ci
US20080153280A1 (en) 2006-12-21 2008-06-26 Applied Materials, Inc. Reactive sputter deposition of a transparent conductive film
WO2008150851A1 (en) * 2007-06-01 2008-12-11 Ntera, Inc. Monolithic architecture and electrolyte for electrochromic devices
US7808693B2 (en) * 2007-06-07 2010-10-05 Soladigm, Inc. Electrochromic devices and fabrication methods
SG148960A1 (en) * 2007-06-15 2009-01-29 Tokyo Electron Ltd Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus
US20090057137A1 (en) * 2007-08-31 2009-03-05 Midwest Research Institute Synthesizing thin films of lithiated transition metal oxide for use in electrochemical and battery devices
JP2009169229A (ja) 2008-01-18 2009-07-30 Mitsui Chemicals Inc エレクトロクロミック素子およびその製造方法
US8693079B2 (en) 2008-01-31 2014-04-08 Ajjer, Llc Sealants and conductive busbars for chromogenic devices
AU2008201373B1 (en) 2008-03-26 2009-07-23 University Of South Australia Processes for producing electrochromic substrates and electrochromic articles made therefrom
US7679810B2 (en) * 2008-06-30 2010-03-16 Soladigm, Inc. Electrical characteristics of electrochromic devices
FR2934062B1 (fr) 2008-07-17 2010-08-13 Saint Gobain Dispositif electrochrome a reflexion infrarouge controlee
US20100028684A1 (en) 2008-07-31 2010-02-04 Jose Mariscal Conductive multilayer stack
KR20100024174A (ko) * 2008-08-25 2010-03-05 세메스 주식회사 기판 세정 장치
US8085460B2 (en) 2008-08-28 2011-12-27 Ppg Industries Ohio, Inc Electrochromic device
US8049949B2 (en) 2008-08-29 2011-11-01 Ppg Industries Ohio, Inc. Multi-layer electrode for high contrast electrochromic devices
US7773284B2 (en) 2008-09-30 2010-08-10 Soladigm, Inc. Resonant cavity electrochromic device
JP5138542B2 (ja) * 2008-10-24 2013-02-06 パナソニック株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
US8842357B2 (en) 2008-12-31 2014-09-23 View, Inc. Electrochromic device and method for making electrochromic device
WO2010099147A1 (en) 2009-02-24 2010-09-02 Ntera Inc. Advanced electrode structures and electrochromic devices
US8889218B2 (en) 2009-03-12 2014-11-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Foam window mount having an electric conductive layer over a light blocking layer
US9261751B2 (en) 2010-04-30 2016-02-16 View, Inc. Electrochromic devices
US8582193B2 (en) * 2010-04-30 2013-11-12 View, Inc. Electrochromic devices
JP5424091B2 (ja) 2009-03-31 2014-02-26 コニカミノルタ株式会社 紫外反射膜を有するフィルムミラー
US8300298B2 (en) 2010-04-30 2012-10-30 Soladigm, Inc. Electrochromic devices
US9007674B2 (en) 2011-09-30 2015-04-14 View, Inc. Defect-mitigation layers in electrochromic devices
US8764951B2 (en) * 2010-04-30 2014-07-01 View, Inc. Electrochromic devices
US11599003B2 (en) 2011-09-30 2023-03-07 View, Inc. Fabrication of electrochromic devices
US8432603B2 (en) * 2009-03-31 2013-04-30 View, Inc. Electrochromic devices
US20170038658A1 (en) 2011-09-30 2017-02-09 View, Inc. Particle removal during fabrication of electrochromic devices
WO2015164179A1 (en) 2014-04-22 2015-10-29 View, Inc. Particle removal during fabrication of electrochromic devices
WO2011050291A2 (en) 2009-10-23 2011-04-28 Applied Materials, Inc. Materials and device stack for market viable electrochromic devices
US8736942B2 (en) 2010-03-12 2014-05-27 Battelle Memorial Institute Electrochromic device capable of controlling visible and infrared radiations
WO2011137080A1 (en) * 2010-04-30 2011-11-03 Soladigm, Inc. Electrochromic devices
US9759975B2 (en) * 2010-04-30 2017-09-12 View, Inc. Electrochromic devices
US8610991B2 (en) 2010-07-14 2013-12-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrochromic material and electrochromic device including the same
WO2012008587A1 (ja) 2010-07-16 2012-01-19 旭硝子株式会社 赤外線反射基板および合わせガラス
US8270059B2 (en) * 2010-08-05 2012-09-18 Soladigm, Inc. Multi-pane electrochromic windows
JP5374468B2 (ja) * 2010-09-09 2013-12-25 アルプス電気株式会社 表示装置
US8119513B1 (en) 2010-11-22 2012-02-21 General Electric Company Method for making cadmium sulfide layer
CN107340664B (zh) 2010-12-08 2021-01-22 唯景公司 绝缘玻璃装置的改良隔板
FR2969771B1 (fr) 2010-12-28 2012-12-28 Saint Gobain Dispositif electrochimique a proprietes de transmission optique et/ou energetique electrocommandables
DE102011013132A1 (de) * 2011-03-04 2012-09-06 Thüringisches Institut für Textil- und Kunststoff-Forschung e.V. Stabiles elektrochromes Modul
JP5648805B2 (ja) * 2011-03-17 2015-01-07 株式会社リコー エレクトロクロミック表示素子
US8780432B1 (en) * 2011-03-22 2014-07-15 Paul Phong Nguyen Electrochromic devices and methods for forming such devices
WO2012174260A2 (en) 2011-06-17 2012-12-20 Applied Materials, Inc. Pinhole-free dielectric thin film fabrication
DK2737341T3 (da) 2011-07-28 2024-05-13 Bp Corp North America Inc Feltkorrelation for realtids passiv seismisk overvågning
JP5623360B2 (ja) 2011-09-13 2014-11-12 トヨタ自動車株式会社 全固体電池
EP2756289B1 (en) 2011-09-14 2023-03-29 View, Inc. Portable defect mitigator for electrochromic windows
US10802371B2 (en) 2011-12-12 2020-10-13 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
JP2013149433A (ja) 2012-01-18 2013-08-01 Toyota Motor Corp 電極部材、全固体電池および電極部材の製造方法
SG11201406722VA (en) 2012-04-17 2014-11-27 View Inc Controller for optically-switchable windows
US9356316B2 (en) 2012-04-18 2016-05-31 Applied Materials, Inc. Pinhole-free solid state electrolytes with high ionic conductivity
WO2013159307A1 (en) 2012-04-26 2013-10-31 Sandisk Semiconductor (Shanghai) Co., Ltd. Semiconductor device including electromagnetic absorption and shielding
JP6463673B2 (ja) 2012-05-29 2019-02-06 スイッチ マテリアルズ インコーポレイテッドＳｗｉｔｃｈ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． 可変透過率層を含む光学フィルタ
WO2013190387A2 (en) 2012-06-18 2013-12-27 Tel Solar Ag Nanocrystalline zinc oxide for photovoltaic modules and hydrogen treatment method
KR101354016B1 (ko) 2012-06-26 2014-01-27 김덕수 안전밸브 스위벨 장치
EP3379635A1 (en) 2012-06-26 2018-09-26 Applied Materials, Inc. Microwave rapid thermal processing of electrochemical devices
KR101764319B1 (ko) 2012-06-28 2017-08-03 한국전자통신연구원 실리콘 태양전지를 가지는 자가충전형 전기변색소자
WO2014025913A1 (en) 2012-08-08 2014-02-13 Kinestral Technologies, Inc. Electrochromic multi-layer devices with composite current modulating structure
US9121100B2 (en) 2012-12-14 2015-09-01 Intermolecular, Inc. Silver based conductive layer for flexible electronics
WO2014099974A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Applied Materials, Inc. Mask-less fabrication of vertical thin film batteries
JP6611701B2 (ja) 2013-03-15 2019-11-27 アーケマ・インコーポレイテッド 窒素含有透明導電性酸化物キャップ層組成物
GB201309717D0 (en) 2013-05-31 2013-07-17 Pilkington Group Ltd Interface layer for electronic devices
JP6269665B2 (ja) 2013-05-31 2018-01-31 旭硝子株式会社 光学フィルタ、光学フィルタの製造方法
US10767143B2 (en) 2014-03-06 2020-09-08 Sage Electrochromics, Inc. Particle removal from electrochromic films using non-aqueous fluids
US10875380B2 (en) 2014-08-21 2020-12-29 Apple Inc. Climate control
TW201628249A (zh) 2014-08-28 2016-08-01 應用材料股份有限公司 包含用於降低界面電阻及過電位的中間層的電化學裝置堆疊
WO2016081514A1 (en) 2014-11-17 2016-05-26 Sage Electrochromics, Inc. Multiple barrier layer encapsulation stack
US12235560B2 (en) 2014-11-25 2025-02-25 View, Inc. Faster switching electrochromic devices
WO2018039080A1 (en) 2016-08-22 2018-03-01 View, Inc. Electromagnetic-shielding electrochromic windows
WO2016126460A2 (en) 2015-02-06 2016-08-11 Proteq Technologies Llc Electrochromic devices
US10969645B2 (en) 2015-03-20 2021-04-06 View, Inc. Faster switching low-defect electrochromic windows
EP3320393B1 (en) 2015-07-10 2023-05-31 View, Inc. Bird friendly electrochromic devices
EP3360009B1 (en) 2015-10-08 2020-08-26 Gentex Corporation Window assembly with infrared reflector
US10203582B2 (en) 2016-02-01 2019-02-12 Heliotrope Technologies, Inc. Electrochromic system containing a Bragg reflector and method for controlling photochromic darkening
EP3453072B1 (en) 2016-05-06 2024-07-03 View, Inc. Method and system for monitoring the location of a mobile device or an asset containing the mobile device.
JP6696003B2 (ja) 2016-05-09 2020-05-20 セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド イオン移動を防止するための手段を含むエレクトロクロミックデバイス及びその形成プロセス
KR102118361B1 (ko) 2017-04-24 2020-06-04 주식회사 엘지화학 전기변색필름 및 이를 포함하는 전기변색소자
JP7127123B2 (ja) 2017-11-20 2022-08-29 セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド 非発光可変透過装置、及び同装置の組み立て方法
US20210018810A1 (en) 2018-03-16 2021-01-21 View, Inc. Electrochromic device having color reflectance and transmission
EP3781985A4 (en) 2018-04-19 2021-05-05 Gentex Corporation PLASTIC COATINGS FOR IMPROVED SOLVENT RESISTANCE
US11703737B2 (en) 2020-02-12 2023-07-18 Sage Electrochromics, Inc. Forming electrochromic stacks using at most one metallic lithium deposition station

Also Published As

Publication number Publication date
CN105074559B (zh) 2018-10-02
CA2899607C (en) 2022-07-12
KR20210005744A (ko) 2021-01-14
AU2017204525B2 (en) 2018-08-23
US11668990B2 (en) 2023-06-06
TW202246866A (zh) 2022-12-01
US9229291B2 (en) 2016-01-05
KR20220116353A (ko) 2022-08-22
EP3929656A1 (en) 2021-12-29
KR102559178B1 (ko) 2023-07-24
EP3567423A1 (en) 2019-11-13
AU2018267645B2 (en) 2020-11-05
TWI765239B (zh) 2022-05-21
TW201825994A (zh) 2018-07-16
US10288969B2 (en) 2019-05-14
US20160033840A1 (en) 2016-02-04
US20200379310A1 (en) 2020-12-03
KR20220043227A (ko) 2022-04-05
WO2014124303A2 (en) 2014-08-14
AU2022263593A1 (en) 2022-12-15
CA3280053A1 (en) 2025-10-31
EP2954370A2 (en) 2015-12-16
US9007674B2 (en) 2015-04-14
US20230314892A1 (en) 2023-10-05
US10788723B2 (en) 2020-09-29
US10162240B2 (en) 2018-12-25
AU2014214738B2 (en) 2017-09-14
US20180067370A1 (en) 2018-03-08
US20140022621A1 (en) 2014-01-23
AU2018267645A1 (en) 2018-12-13
US20160209723A1 (en) 2016-07-21
WO2014124303A4 (en) 2015-02-12
KR102567611B1 (ko) 2023-08-16
US10831077B2 (en) 2020-11-10
US20180046053A1 (en) 2018-02-15
WO2014124303A3 (en) 2015-01-15
HK1218444A1 (zh) 2017-02-17
TWI691771B (zh) 2020-04-21
CA3103961A1 (en) 2014-08-14
US20190107764A1 (en) 2019-04-11
EP2954370A4 (en) 2016-09-14
RU2647998C2 (ru) 2018-03-21
AU2014214738A1 (en) 2015-08-13
CN105074559A (zh) 2015-11-18
AU2021200729A1 (en) 2021-03-04
TW201435464A (zh) 2014-09-16
AU2017204525A1 (en) 2017-07-20
CN109164656A (zh) 2019-01-08
CA3183519A1 (en) 2014-08-14
US20150131140A1 (en) 2015-05-14
US20190331977A1 (en) 2019-10-31
RU2018107396A (ru) 2019-02-25
CA2899607A1 (en) 2014-08-14
US20200201132A1 (en) 2020-06-25
EP3567423B1 (en) 2021-08-04
KR20150115818A (ko) 2015-10-14
AU2021200729B2 (en) 2022-11-24
EP2954370B1 (en) 2020-05-27
KR102242128B1 (ko) 2021-04-20
US11561446B2 (en) 2023-01-24
TW202102919A (zh) 2021-01-16
US20190011797A1 (en) 2019-01-10
TWI628499B (zh) 2018-07-01
KR20220065083A (ko) 2022-05-19
US11079648B2 (en) 2021-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015138108A (ru) Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах
RU2018128775A (ru) Проекционно-емкостная сенсорная панель с серебросодержащим прозрачным проводящим слоем(ями)
CN105706182B (zh) 导电性基板、导电性基板的制造方法
JP5805270B2 (ja) 半導体装置、半導体装置を有する液晶表示装置、半導体装置の製造方法
JP6301324B2 (ja) 導電フィルムおよび導電フィルムを有する電子デバイス
TW201743178A (zh) 積層膜、顯示裝置及輸入裝置
EA201391792A1 (ru) Пленочный нагревательный элемент
WO2009156640A3 (fr) Cellule photovoltaïque et substrat de cellule photovoltaïque
FR2982422B1 (fr) Substrat conducteur pour cellule photovoltaique
KR20130063472A (ko) 터치 패널 센서용 Ｃｕ 합금 배선막 및 그 제조 방법, 및 터치 패널 센서 및 스퍼터링 타깃
CN107078222B (zh) 发光元件、显示装置和照明装置
MY167301A (en) Semiconductor device and method for producing same
FR2961952B1 (fr) Substrat comprenant une couche d&#39;oxyde transparent conducteur et son procede de fabrication
JP2017501351A5 (ru)
JP2016525719A5 (ru)
JPWO2014034575A1 (ja) 透明電極付き基板の製造方法、および透明電極付き基板
JP2014201800A (ja) 透明導電フィルム、および透明導電フィルムの形成方法
AU2011202979B2 (en) Apparatus and methods of forming a conductive transparent oxide film layer for use in a cadmium telluride based thin film photovoltaic device
MY152203A (en) Methods of forming a window layer in a cadmium telluride based thin film photovoltaic device
JP2013512542A5 (ru)
Niu et al. Spreadability of Ag layer on oxides and high performance of AZO/Ag/AZO sandwiched transparent conductive film
You et al. Fabrication of Ag nanowire and Al-doped ZnO hybrid transparent electrodes
JP2005047178A (ja) 導電性を有する多層膜付透明基板
WO2015118726A1 (ja) 透明導電性積層体、透明導電性積層体の製造方法、および透明導電性積層体を用いてなる電子デバイス
KR20160037918A (ko) 은의 디웨팅에 의한 게이트 전극의 제조

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20210208