[go: up one dir, main page]

RU2015117763A - Аппарат и способ для нанесения покрытий на поверхности - Google Patents

Аппарат и способ для нанесения покрытий на поверхности Download PDF

Info

Publication number
RU2015117763A
RU2015117763A RU2015117763A RU2015117763A RU2015117763A RU 2015117763 A RU2015117763 A RU 2015117763A RU 2015117763 A RU2015117763 A RU 2015117763A RU 2015117763 A RU2015117763 A RU 2015117763A RU 2015117763 A RU2015117763 A RU 2015117763A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrode layers
plasma chamber
chamber according
electrodes
electrode
Prior art date
Application number
RU2015117763A
Other languages
English (en)
Inventor
Эва РОГЕ
Филип ЛЕГЕЙН
Original Assignee
Европлазма Нв
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB201218054A external-priority patent/GB201218054D0/en
Priority claimed from GBGB1316113.8A external-priority patent/GB201316113D0/en
Application filed by Европлазма Нв filed Critical Европлазма Нв
Publication of RU2015117763A publication Critical patent/RU2015117763A/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • H01J37/3277Continuous moving of continuous material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62Plasma-deposition of organic layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/52Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by electric discharge, e.g. voltolisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/505Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
    • C23C16/509Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32091Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32403Treating multiple sides of workpieces, e.g. 3D workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • H01J37/32568Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32715Workpiece holder
    • H01J37/32724Temperature
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2239/00Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/04Additives and treatments of the filtering material
    • B01D2239/0471Surface coating material
    • B01D2239/0478Surface coating material on a layer of the filter
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/32Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/33Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
    • H01J2237/332Coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Плазменная камера для нанесения на полотно ткани, такое как текстильный материал, покрытия из полимерного слоя, где указанная плазменная камера включает множество электродных слоев, причем каждый из них имеет в целом плоскостную или пластинчатовидную форму, расположенных последовательно в плазменной камере, при этом плазменная камера включает пару высокочастотных электродных слоев и пару заземленных электродных слоев, где по меньшей мере два соседних электродных слоя являются либо высокочастотными электродными слоями, либо заземленными электродными слоями, и где электродные слои скомпонованы на любой стороне от прохода для приема ткани.2. Плазменная камера по п. 1, включающая первый комплект электродов и второй комплект электродов, при этом первый и второй комплекты электродов скомпонованы на любой стороне от прохода для приема ткани, и комплекты электродов включают по меньшей мере три электродных слоя - внутренний электродный слой и пару внешних электродных слоев, где внешняя пара электродных слоев представляет собой либо заземленные электродные слои, либо радиочастотные электродные слои.3. Плазменная камера по п. 2, в которой один или оба из первого и второго комплектов электродов включают либо внутренний электродный слой, представляющий собой высокочастотный электрод, и внешние электродные слои, представляющие собой заземленные электроды, либо внутренний электродный слой, представляющий собой заземленный электрод, и внешние электродные слои, представляющие собой высокочастотные электроды.4. Плазменная камера по любому из предшествующих пп., в которой высокочастотный электродный слой или слои включают

Claims (20)

1. Плазменная камера для нанесения на полотно ткани, такое как текстильный материал, покрытия из полимерного слоя, где указанная плазменная камера включает множество электродных слоев, причем каждый из них имеет в целом плоскостную или пластинчатовидную форму, расположенных последовательно в плазменной камере, при этом плазменная камера включает пару высокочастотных электродных слоев и пару заземленных электродных слоев, где по меньшей мере два соседних электродных слоя являются либо высокочастотными электродными слоями, либо заземленными электродными слоями, и где электродные слои скомпонованы на любой стороне от прохода для приема ткани.
2. Плазменная камера по п. 1, включающая первый комплект электродов и второй комплект электродов, при этом первый и второй комплекты электродов скомпонованы на любой стороне от прохода для приема ткани, и комплекты электродов включают по меньшей мере три электродных слоя - внутренний электродный слой и пару внешних электродных слоев, где внешняя пара электродных слоев представляет собой либо заземленные электродные слои, либо радиочастотные электродные слои.
3. Плазменная камера по п. 2, в которой один или оба из первого и второго комплектов электродов включают либо внутренний электродный слой, представляющий собой высокочастотный электрод, и внешние электродные слои, представляющие собой заземленные электроды, либо внутренний электродный слой, представляющий собой заземленный электрод, и внешние электродные слои, представляющие собой высокочастотные электроды.
4. Плазменная камера по любому из предшествующих пп., в которой высокочастотный электродный слой или слои включают терморегулирующее средство.
5. Плазменная камера по любому из пп. 1-3, в которой плазменная камера включает множество валиков для направления полотна ткани во время эксплуатации между электродными слоями.
6. Плазменная камера по любому из пп. 1-3, дополнительно включающая одно или несколько отделений, где одно или каждое отделение адаптировано для приема одного или нескольких рулонов ткани.
7. Плазменная камера по п. 5, в которой валики скомпонованы с возможность обеспечения перемещения ткани в целях разматывания или наматывания при скорости от 0,1 до 20 м/мин.
8. Плазменная камера по п. 7, в которой рулоны могут быть размотаны или намотаны при скорости от 1 до 5 м/мин.
9. Плазменная камера по п. 5, в которой валики могут приводиться в движение независимо друг от друга и могут быть тонко настроены независимо друг от друга.
10. Плазменная камера по п. 5, в которой валики выполнены с возможностью охлаждения или нагрева для внесения своего вклада в, по существу, более однородную температуру в плазменной камере, тем самым позволяя избежать конденсирования мономера внутри плазменной камеры.
11. Плазменная камера по п. 10, в которой охлаждение или нагрев обеспечивается с использованием жидкости, например воды или масла.
12. Плазменная камера по п. 11, в которой валики могут быть нагреты до20 - 85°C.
13. Плазменная камера по любому из пп. 1-3 или 7-12, имеющая одну или несколько ячеек нагрузки, которые могут быть откалиброваны сразу после достижения предварительно определенного низкого базового давления и перед первой стадией обработки.
14. Плазменная камера по п. 13, в которой для каждого отдельного прогона нанесения покрытия ячейки нагрузки калибруют сразу после достижения базового давления и перед первой стадией обработки, например перед обезгаживанием или перед введением газа и перед включением электромагнитного поля для предварительной обработки или перед введением газа и перед включением электромагнитного поля для стадии нанесения покрытия, в зависимости от того, что происходит сначала.
15. Плазменная камера по п. 13, в которой при эксплуатации натяжение, при котором ткань наматывают, находится в диапазоне от 0,2 до 250 кг (от 2 до 2500 Н).
16. Способ нанесения на полотно ткани, такое как текстильный материал, полимерного покрытия, включающий стадии обеспечения плазменной камеры, включающей множество электродных слоев, последовательно скомпонованных в плазменной камере, при этом плазменная камера включает пару радиочастотных электродных слоев и пару заземленных электродных слоев, где по меньшей мере два соседних электродных слоя являются высокочастотными электродными слоями, или по меньшей мере два соседних электродных слоя являются заземленными электродными слоями; и пропускания полотна ткани между упомянутыми электродными слоями.
17. Способ по п. 16, в котором стадия пропускания полотна ткани между упомянутыми электродными слоями включает использование множества валиков.
18. Полотно ткани, подвергнутое процедуре нанесения покрытия из полимерного слоя с использованием плазменной камеры по любому из пп. 1-15.
19. Полотно ткани, подвергнутое процедуре нанесения покрытия из полимерного слоя с использованием способа по п. 16 или 17.
20. Плазменная камера по п. 5, имеющая одну или несколько ячеек нагрузки, которые могут быть откалиброваны сразу после достижения предварительно определенного низкого базового давления и перед первой стадией обработки.
RU2015117763A 2012-10-09 2013-10-09 Аппарат и способ для нанесения покрытий на поверхности RU2015117763A (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB201218054A GB201218054D0 (en) 2012-10-09 2012-10-09 Apparatus and method of using same
GB1218054.3 2012-10-09
GBGB1316113.8A GB201316113D0 (en) 2013-09-10 2013-09-10 Apparatus and method for applying surface coatings
GB1316113.8 2013-09-10
PCT/EP2013/071020 WO2014056968A1 (en) 2012-10-09 2013-10-09 Apparatus and method for applying surface coatings

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2015117763A true RU2015117763A (ru) 2016-12-10

Family

ID=49354645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015117763A RU2015117763A (ru) 2012-10-09 2013-10-09 Аппарат и способ для нанесения покрытий на поверхности

Country Status (12)

Country Link
US (1) US10366868B2 (ru)
EP (1) EP2906739B1 (ru)
JP (2) JP2016502588A (ru)
KR (1) KR102184276B1 (ru)
CN (1) CN104822859B (ru)
AU (1) AU2013328747A1 (ru)
BR (1) BR112015007957A2 (ru)
CA (1) CA2887871A1 (ru)
DK (1) DK2906739T3 (ru)
IL (1) IL238193A0 (ru)
RU (1) RU2015117763A (ru)
WO (1) WO2014056968A1 (ru)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201316113D0 (en) * 2013-09-10 2013-10-23 Europlasma Nv Apparatus and method for applying surface coatings
EP3101170B1 (en) 2015-06-03 2018-08-22 Europlasma NV Surface coatings
ES2952839T3 (es) 2016-04-14 2023-11-06 Sefar Ag Membrana de material compuesto y procedimiento para producir una membrana de material compuesto
CN107177835B (zh) * 2017-05-21 2018-06-19 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 一种循环大占空比脉冲放电制备多功能性纳米防护涂层的方法
CN111417733B (zh) * 2017-11-30 2022-03-04 卡尔蒂格利诺·奥菲希恩公司 干燥经过预处理的柔性片材产品的设备
ES3040230T3 (en) * 2019-02-19 2025-10-29 Xefco Pty Ltd System for treatment and/or coating of substrates
CN114502252A (zh) * 2019-10-24 2022-05-13 纱帝股份公司 一种用于制备复合过滤介质的方法和用该方法获得的复合过滤介质
CN113324392A (zh) * 2020-02-28 2021-08-31 山东泰达染整机械有限公司 高效烘干机烘房
CN112030553B (zh) * 2020-08-31 2023-08-04 四川轻化工大学 用于织物、无纺布与多孔性薄膜的等离子改性方法及系统
EP4291702A1 (en) 2021-02-12 2023-12-20 AGC Glass Europe Method of coating onto fabric substrates by means of plasma
RU2763379C1 (ru) * 2021-06-18 2021-12-28 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Казанский национальный исследовательский технологический университет» (ФГБОУ ВО «КНИТУ») Способ получения электропроводящего металлизированного текстильного материала
GB202312418D0 (en) * 2023-08-14 2023-09-27 P2I Ltd Coating apparatus
CN119083070B (zh) * 2024-10-14 2025-10-17 高梵(浙江)信息技术有限公司 一种芳香型羊绒面料熏蒸装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6039088B2 (ja) * 1977-12-08 1985-09-04 東レ株式会社 高分子樹脂の放電処理方法
US4331526A (en) * 1979-09-24 1982-05-25 Coulter Systems Corporation Continuous sputtering apparatus and method
US4282077A (en) * 1980-07-03 1981-08-04 General Dynamics, Pomona Division Uniform plasma etching system
US4389970A (en) * 1981-03-16 1983-06-28 Energy Conversion Devices, Inc. Apparatus for regulating substrate temperature in a continuous plasma deposition process
US4829189A (en) * 1986-07-18 1989-05-09 Sando Iron Works Co., Ltd. Apparatus for low-temperature plasma treatment of sheet material
US4968918A (en) * 1987-07-06 1990-11-06 Kanebo, Ltd. Apparatus for plasma treatment
JPH0630877Y2 (ja) * 1988-08-19 1994-08-17 鐘紡株式会社 プラズマ処理装置
JPH0369657A (ja) * 1989-08-08 1991-03-26 Naigai Tokushu Senko Kk 長尺シート状物の搬送装置及びその搬送装置に用いる長尺シート状物の張力調整装置、並びに前記搬送装置を備えた長尺シート状物の処理装置
DE4117332C2 (de) * 1991-05-31 1995-11-23 Ivanovskij Ni Skij Eksperiment Verfahren zur Behandlung von laufendem Substrat mit Hilfe eines elektrischen Entladungsplasmas und Vorrichtung zu dessen Durchführung
JP3571785B2 (ja) * 1993-12-28 2004-09-29 キヤノン株式会社 堆積膜形成方法及び堆積膜形成装置
JPH09176855A (ja) * 1995-12-22 1997-07-08 Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd 薄膜形成装置
US6638359B2 (en) * 2000-01-31 2003-10-28 Canon Kabushiki Kaisha Deposited film forming apparatus and deposited film forming method
US20030116281A1 (en) * 2000-02-11 2003-06-26 Anthony Herbert Atmospheric pressure plasma system
US20060118242A1 (en) * 2001-02-12 2006-06-08 Anthony Herbert Atmospheric pressure plasma system
JP2002322558A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Konica Corp 薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
GB0208261D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning An atmospheric pressure plasma assembly
CA2435639A1 (en) 2003-07-21 2005-01-21 Robert C. Rajewski Timing apparatus
GB2419358B (en) * 2003-08-28 2008-01-16 Surface Innovations Ltd Apparatus for the coating and/or conditioning of substrates
BRPI0709199A2 (pt) * 2006-03-26 2011-06-28 Lotus Applied Technology Llc sistema e método para depositar uma pelìcula fina em um substrato flexìvel
JP5455405B2 (ja) * 2008-03-31 2014-03-26 日本碍子株式会社 シリコン系薄膜量産方法
JP5241383B2 (ja) * 2008-08-27 2013-07-17 株式会社神戸製鋼所 連続成膜装置
JP5240782B2 (ja) * 2009-05-18 2013-07-17 株式会社神戸製鋼所 連続成膜装置
BE1019159A5 (nl) 2010-01-22 2012-04-03 Europlasma Nv Werkwijze voor de afzetting van een gelijkmatige nanocoating door middel van een lage druk plasma proces.
JP5648402B2 (ja) * 2010-09-30 2015-01-07 住友金属鉱山株式会社 スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法
GB2489761B (en) 2011-09-07 2015-03-04 Europlasma Nv Surface coatings

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019035153A (ja) 2019-03-07
JP2016502588A (ja) 2016-01-28
IL238193A0 (en) 2015-05-31
AU2013328747A1 (en) 2015-05-28
CA2887871A1 (en) 2014-04-17
DK2906739T3 (en) 2017-03-13
KR102184276B1 (ko) 2020-12-01
EP2906739B1 (en) 2016-11-30
WO2014056968A1 (en) 2014-04-17
US10366868B2 (en) 2019-07-30
BR112015007957A2 (pt) 2017-07-04
KR20150065890A (ko) 2015-06-15
CN104822859B (zh) 2019-03-12
EP2906739A1 (en) 2015-08-19
JP6998852B2 (ja) 2022-01-18
US20150255252A1 (en) 2015-09-10
CN104822859A (zh) 2015-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015117763A (ru) Аппарат и способ для нанесения покрытий на поверхности
US11661703B2 (en) Cellulose based film structure and method for producing the same
RU2013154756A (ru) Способ комбинированного прокатывания и вытягивания лент
US9682542B2 (en) Method for producing graphite film, method for rewinding same, and method for producing graphite composite film and graphite die-cutting product
AR113048A1 (es) Sistema y métodos de revestimiento de telas y calandrado
CN105620008B (zh) 单向层合物及其制备方法和系统、无纬布及防护制品
US10122045B2 (en) Solid electrolyte membrane with film and method for producing same
RU2013109940A (ru) Лист из текстурированной электротехнической стали и способ его изготовления
CN105008552B (zh) 在涂饰工序期间用于干燥生皮的方法及装置
WO2013023058A3 (en) Inerted plate dryer and method of drying solvent based coating
WO2012030596A3 (en) Process of expediting activation of heat-expandable adhesives/coatings used in making packaging substrates
WO2013030290A3 (en) Process for stretching a film web
CN101879419B (zh) 多层聚四氟乙烯膜及其制备方法及装置
TW201623730A (zh) 新穎超高分子量聚乙烯纖維及其製造方法
JP2017023906A (ja) ウエブ塗工装置及びウエブ塗工方法
WO2012163283A1 (zh) 一种纤维展宽装置
CN106223103A (zh) 一种聚酯间位芳纶复合纸的制备方法
NO133483B (ru)
CN207566535U (zh) 一种多层放卷展平装置及锂电池隔膜生产线
JP5341704B2 (ja) 積層シートの製造装置及び製造方法
GB2572701A (en) Method of making a multi-layer magneto-dielectric material
KR101889610B1 (ko) 필름의 제조 방법, 전지용 세퍼레이터 필름, 비수 전해액 이차 전지용 세퍼레이터 및 비수 전해액 이차 전지
JP2016204093A (ja) ウエブの皺延ばし装置
JP5465912B2 (ja) フィルムの製造方法
JP5691824B2 (ja) 不織布プレス方法及び不織布プレス装置