[go: up one dir, main page]

RU2015113772A - Система и способ позиционирования - Google Patents

Система и способ позиционирования Download PDF

Info

Publication number
RU2015113772A
RU2015113772A RU2015113772/28A RU2015113772A RU2015113772A RU 2015113772 A RU2015113772 A RU 2015113772A RU 2015113772/28 A RU2015113772/28 A RU 2015113772/28A RU 2015113772 A RU2015113772 A RU 2015113772A RU 2015113772 A RU2015113772 A RU 2015113772A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
support
measured load
load force
movement
force
Prior art date
Application number
RU2015113772/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2015113772A3 (ru
Inventor
Эндрю ФЛЕМИНГ
Original Assignee
Ньюкасл Инновейшн Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from AU2008905249A external-priority patent/AU2008905249A0/en
Application filed by Ньюкасл Инновейшн Лимитед filed Critical Ньюкасл Инновейшн Лимитед
Publication of RU2015113772A publication Critical patent/RU2015113772A/ru
Publication of RU2015113772A3 publication Critical patent/RU2015113772A3/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q15/00—Automatic control or regulation of feed movement, cutting velocity or position of tool or work
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
    • G01Q10/04—Fine scanning or positioning
    • G01Q10/06—Circuits or algorithms therefor
    • G01Q10/065—Feedback mechanisms, i.e. wherein the signal for driving the probe is modified by a signal coming from the probe itself
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G03F7/70725—Stages control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/19—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
    • G05B19/21—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device
    • G05B19/23—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control
    • G05B19/231—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude
    • G05B19/235—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude with force or acceleration feedback only
    • G—PHYSICS
    • G12—INSTRUMENT DETAILS
    • G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B5/00—Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
    • G05B2219/49279—Nanometric xy table
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
    • G05B2219/49281—X y table positioned by vibration

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

1. Система для позиционирования объекта, содержащая:неподвижное основание;опору для объекта;привод для приложения силы для перемещения опоры относительно неподвижного основания;датчик для измерения силы нагрузки, действующей на опору; иконтроллер для обработки измеренной силы нагрузки для управления положением опоры.2. Система по п. 1, в которой контроллер обрабатывает измеренную силу нагрузки в петле обратной связи.3. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер регулирует положение опоры в ответ на измеренную силу нагрузки.4. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер управляет приводом для регулировки положения опоры.5. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер вычисляет перемещение опоры по измеренной силе нагрузки.6. Система по п. 5, в которой перемещение опоры вычисляется согласно выражению:,где d - перемещение опоры;F - измеренная сила нагрузки;М- масса опоры;s - параметр преобразования Лапласа;c- коэффициент затухания гибкой связи; иk- жесткость гибкой связи.7. Система по п. 1 или 2, в которой датчик силы генерирует выходное напряжение, соответствующее измеренной силе нагрузки, а перемещение опоры вычисляется как значение, пропорциональное выходному напряжению.8. Система по п. 7, в которой перемещение опоры вычисляется согласно выражению:,где d - перемещение опоры;V- выходное напряжение, соответствующее измеренной силе нагрузки;F - измеренная сила нагрузки;g- коэффициент передачи датчика силы;М- масса опоры;s - параметр преобразования Лапласа;c- коэффициент затухания гибкой связи; иk- жесткость гибкой связи.9. Система по п. 1 или 2, в которой датчик силы калибруют с помощью заряда и/или напряжения датчика силы.10. Система по п. 2, �

Claims (19)

1. Система для позиционирования объекта, содержащая:
неподвижное основание;
опору для объекта;
привод для приложения силы для перемещения опоры относительно неподвижного основания;
датчик для измерения силы нагрузки, действующей на опору; и
контроллер для обработки измеренной силы нагрузки для управления положением опоры.
2. Система по п. 1, в которой контроллер обрабатывает измеренную силу нагрузки в петле обратной связи.
3. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер регулирует положение опоры в ответ на измеренную силу нагрузки.
4. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер управляет приводом для регулировки положения опоры.
5. Система по п. 1 или 2, в которой контроллер вычисляет перемещение опоры по измеренной силе нагрузки.
6. Система по п. 5, в которой перемещение опоры вычисляется согласно выражению:
Figure 00000001
,
где d - перемещение опоры;
F - измеренная сила нагрузки;
Мр - масса опоры;
s - параметр преобразования Лапласа;
cf - коэффициент затухания гибкой связи; и
kf - жесткость гибкой связи.
7. Система по п. 1 или 2, в которой датчик силы генерирует выходное напряжение, соответствующее измеренной силе нагрузки, а перемещение опоры вычисляется как значение, пропорциональное выходному напряжению.
8. Система по п. 7, в которой перемещение опоры вычисляется согласно выражению:
Figure 00000002
,
где d - перемещение опоры;
Vs - выходное напряжение, соответствующее измеренной силе нагрузки;
F - измеренная сила нагрузки;
gs - коэффициент передачи датчика силы;
Мр - масса опоры;
s - параметр преобразования Лапласа;
cf - коэффициент затухания гибкой связи; и
kf - жесткость гибкой связи.
9. Система по п. 1 или 2, в которой датчик силы калибруют с помощью заряда и/или напряжения датчика силы.
10. Система по п. 2, в которой контроллер обрабатывает измеренную силу нагрузки в петле обратной связи на частотах выше заранее заданной переходной частоты ωс.
11. Система по п. 10, в которой переходная частота ωс лежит выше граничной частоты датчика силы.
12. Система по п. 10 или 11, в которой переходная частота ωс определяется согласно выражению:
Figure 00000003
,
где ωс - переходная частота;
ωсо - граничная частота;
Rin - входное сопротивление буфера напряжения; и
С - емкость датчика силы.
13. Система по п. 10 или 11, дополнительно содержащая датчик положения для измерения положения опоры, при этом измеренное положение опоры используется для вычисления перемещения опоры, а контроллер обрабатывает вычисленное перемещение на частотах ниже переходной частоты ωс.
14. Система по п. 10 или 11, в которой контроллер вычисляет перемещение опоры по входному напряжению привода и реакции системы с разомкнутой петлей обратной связи и обрабатывает вычисленное перемещение на частотах ниже переходной частоты ωс.
15. Система по п. 10 или 11, дополнительно содержащая датчик перемещения для измерения перемещения опоры, при этом контроллер обрабатывает измеренное перемещение в петле обратной связи на частотах ниже заранее заданной переходной частоты ωс.
16. Система по любому из пп. 2, 10 или 11, в которой контроллер обрабатывает измеренную силу нагрузки в петле обратной связи для увеличения коэффициента затухания системы.
17. Система по любому из пп. 2, 10 или 11, в которой для улучшения реакции системы с замкнутой петлей обратной связи контроллер добавляет сигнал прямой связи на вход петли обратной связи.
18. Система по п. 1 или 2, в которой датчик силы помещен по меньшей мере частично между опорой и приводом.
19. Система по п. 1 или 2, которая представляет собой систему нанопозиционирования.
RU2015113772/28A 2008-10-09 2009-10-09 Система и способ позиционирования RU2015113772A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AU2008905249A AU2008905249A0 (en) 2008-10-09 A positioning system and method
AU2008905249 2008-10-09

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011117603A Division RU2605816C9 (ru) 2008-10-09 2009-10-09 Система и способ позиционирования

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015113772A true RU2015113772A (ru) 2015-09-20
RU2015113772A3 RU2015113772A3 (ru) 2018-10-29

Family

ID=42100151

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015113772/28A RU2015113772A (ru) 2008-10-09 2009-10-09 Система и способ позиционирования
RU2011117603A RU2605816C9 (ru) 2008-10-09 2009-10-09 Система и способ позиционирования

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011117603A RU2605816C9 (ru) 2008-10-09 2009-10-09 Система и способ позиционирования

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8610332B2 (ru)
EP (1) EP2349638A4 (ru)
JP (1) JP5563581B2 (ru)
KR (1) KR101494046B1 (ru)
CN (1) CN102245348B (ru)
AU (1) AU2009301643B2 (ru)
CA (1) CA2776784C (ru)
RU (2) RU2015113772A (ru)
WO (1) WO2010040185A1 (ru)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010055631B4 (de) * 2010-12-22 2017-12-14 Northrop Grumman Litef Gmbh Reglereinheit und Vorrichtung zur Rückstellung eines mit einer harmonischen Schwingung angeregten Schwingers, sowie Drehratensensor
JP5406861B2 (ja) * 2011-01-01 2014-02-05 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
KR101940208B1 (ko) * 2011-01-28 2019-04-10 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠 구동 시스템과 구동 방법, 노광 장치와 노광 방법, 및 구동 시스템 설계 방법
CN102608359B (zh) * 2012-02-25 2013-06-12 兰州大学 纳米操纵器
US9946168B2 (en) * 2012-04-27 2018-04-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
KR102197783B1 (ko) 2012-07-09 2021-01-04 가부시키가이샤 니콘 구동 시스템 및 구동 방법, 그리고 노광 장치 및 노광 방법
US9381647B2 (en) * 2013-02-19 2016-07-05 Seiko Epson Corporation Force detection device, robot, and moving object
US9397587B2 (en) * 2013-11-20 2016-07-19 Massachusetts Institute Of Technology Multi-actuator design and control for a high-speed/large-range nanopositioning system
US10281829B2 (en) 2014-12-22 2019-05-07 The Regents Of The University Of Michigan Vibration-assisted positioning stage
JP6017595B2 (ja) * 2015-01-16 2016-11-02 ファナック株式会社 振動を抑制するモータ制御装置
GB201500749D0 (en) * 2015-01-16 2015-03-04 Univ Aberdeen A control system to control precision positioning arrangements
CN104930981B (zh) * 2015-06-03 2016-05-25 华中科技大学 一种原子力探针位姿调节装置
JP7064770B2 (ja) * 2015-11-02 2022-05-11 ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・ミシガン 精密な位置決めのための軸線方向動的応答軸受
US11231070B2 (en) 2015-11-02 2022-01-25 The Regents Of The University Of Michigan Axially compliant bearing for precision positioning
JP2019525239A (ja) * 2016-08-04 2019-09-05 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 位置決めシステム、位置決めするための方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
CN110062692A (zh) * 2017-01-19 2019-07-26 惠普发展公司，有限责任合伙企业 监测构建平台的移动以用于驱动校准
CN106971762B (zh) * 2017-04-07 2019-04-23 哈尔滨理工大学 多定位平台的微纳操作系统方案设计
CA3091527A1 (en) * 2017-05-18 2018-11-22 Jiangsu Jitri Micro-Nano Automation Institute Co., Ltd Flexure-guided piezo drill with large axial vibration and small lateral vibration
CN107946226B (zh) * 2017-12-25 2020-12-04 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种机械式电池片定位平台
CN110415760A (zh) * 2019-07-25 2019-11-05 天津大学 基于三角网格铰链的高精度z向单自由度微定位平台
DE102023204749A1 (de) * 2023-05-22 2024-11-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Festkörperaktuators in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8310011D0 (en) 1983-04-13 1983-05-18 Vg Instr Ltd Scientific instruments
JPS60118072A (ja) 1983-11-30 1985-06-25 Toshiba Corp 回転微動機構
US4559717A (en) 1984-02-21 1985-12-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Flexure hinge
JPS61177177A (ja) 1985-01-29 1986-08-08 Tokyo Juki Ind Co Ltd 圧電素子を用いたアクチユエ−タ
NL8500615A (nl) 1985-03-05 1986-10-01 Nederlanden Staat Fijninstelmechanisme voor het nauwkeurig positioneren van een instelelement.
JPS61216110A (ja) * 1985-03-20 1986-09-25 Nec Corp 金属パタ−ン形成方法
US4667415A (en) 1985-11-29 1987-05-26 Gca Corporation Microlithographic reticle positioning system
US4843293A (en) 1987-02-02 1989-06-27 Research Development Corporation Apparatus for controlling servo system employing piezo-electric actuator
JPS63216110A (ja) 1987-03-05 1988-09-08 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 高速移動テ−ブル
US4874978A (en) 1987-06-09 1989-10-17 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Device for magnifying displacement of piezoelectric element or the like and method of producing same
JPH07120216B2 (ja) 1988-10-21 1995-12-20 新技術事業団 位置制御方法
US5187876A (en) 1989-08-04 1993-02-23 Hatheway Alson E Precision motion transducer
US5179525A (en) 1990-05-01 1993-01-12 University Of Florida Method and apparatus for controlling geometrically simple parallel mechanisms with distinctive connections
JP2956180B2 (ja) * 1990-09-18 1999-10-04 ヤマハ株式会社 電子楽器
JPH04259015A (ja) 1991-02-13 1992-09-14 Canon Inc 微動駆動装置
US5210410A (en) 1991-09-26 1993-05-11 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Scanning probe microscope having scan correction
US5281884A (en) 1992-06-03 1994-01-25 At&T Bell Laboratories Adjustable X-Y stage
US5360974A (en) 1992-10-20 1994-11-01 International Business Machines Corp. Dual quad flexure scanner
WO1995007793A2 (en) * 1993-09-13 1995-03-23 United Technologies Corporation Force and position controlled manipulator
JPH07120250A (ja) 1993-10-25 1995-05-12 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
JP3226704B2 (ja) 1994-03-15 2001-11-05 キヤノン株式会社 露光装置
US5808302A (en) 1994-08-27 1998-09-15 International Business Machines Corporation Fine positioning apparatus with atomic resolution
US5557156A (en) 1994-12-02 1996-09-17 Digital Instruments, Inc. Scan control for scanning probe microscopes
US5812420A (en) 1995-09-05 1998-09-22 Nikon Corporation Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus
US5903085A (en) 1997-06-18 1999-05-11 Phase Metrics, Inc. Piezoelectric nanopositioner
DE19825210C2 (de) 1998-04-23 2003-09-25 Gsg Elektronik Gmbh Schaltungsanordnung zur dynamischen Ansteuerung von keramischen Festkörperaktoren
JP2000237932A (ja) 1999-02-18 2000-09-05 Amada Eng Center Co Ltd 機械加工振動解析方法及び機械加工振動解析プログラムを記録した記録媒体
US6408526B1 (en) 1999-04-12 2002-06-25 The Regents Of The University Of California Ultra-precision positioning assembly
US6467761B1 (en) 1999-06-21 2002-10-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Positioning stage
US6246052B1 (en) 1999-09-20 2001-06-12 Veeco Instruments, Inc. Flexure assembly for a scanner
US6638625B1 (en) 1999-09-22 2003-10-28 Npoint, Inc. Linear nanopositioning translational motion stage based on novel composite materials
DE19962247A1 (de) 1999-12-22 2001-09-20 Agie Sa Bewegungsübertragungsvorrichtung
US6555829B1 (en) 2000-01-10 2003-04-29 Applied Materials, Inc. High precision flexure stage
EP1274966B1 (en) * 2000-04-20 2005-04-06 The University of Bristol Resonant probe driving arrangement and scanning probe microscope
US7555333B2 (en) * 2000-06-19 2009-06-30 University Of Washington Integrated optical scanning image acquisition and display
US6940277B2 (en) 2000-11-17 2005-09-06 University Of South Florida Giant magnetoresistance based nanopositioner encoder
WO2002043163A2 (en) 2000-11-21 2002-05-30 Csir Strain/electrical potential transducer
SE517878C2 (sv) 2000-12-08 2002-07-30 Sandvik Ab Förfarande och anordning för vibrationsdämpning av metalliska verktyg för spånavskiljande bearbetning samt verktyg innefattande en dylik anordning
US6688183B2 (en) 2001-01-19 2004-02-10 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus having motion with pre-determined degrees of freedom
US6736361B2 (en) 2001-09-04 2004-05-18 Nline Corporation Semiconductor wafer positioning system and method
US7093827B2 (en) 2001-11-08 2006-08-22 Massachusetts Institute Of Technology Multiple degree of freedom compliant mechanism
US6817104B2 (en) 2002-05-15 2004-11-16 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. X-Y stage apparatus
RU2233736C2 (ru) 2002-07-11 2004-08-10 Раховский Вадим Израилович Нанометрическое позиционирующее устройство
EP1402992A1 (fr) 2002-09-27 2004-03-31 Sysmelec SA Appareils de haute précision pour imposer ou mesurer une position ou une force
JP2005106790A (ja) * 2003-01-09 2005-04-21 Univ Kanazawa 走査型プローブ顕微鏡および分子構造変化観測方法
JP3792675B2 (ja) 2003-06-05 2006-07-05 ファナック株式会社 微細位置決め装置及び工具補正方法
US6836968B1 (en) 2003-06-25 2005-01-04 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Precision frictionless flexure based linear translation mechanism insensitive to thermal and vibrational environments
DE10336820A1 (de) 2003-08-11 2005-01-20 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg Verfahren und Schaltungsanordnung zur präzisen, dynamischen digitalen Ansteuerung von insbesondere Piezoaktoren für Mikropositioniersysteme
JP4455046B2 (ja) * 2003-12-25 2010-04-21 国立大学法人金沢大学 アクチュエータ制御方法及びその装置並びに走査型プローブ顕微鏡
US7348709B2 (en) 2004-04-16 2008-03-25 Npoint, Inc. Heavy-load nanopositioner with dual-parallel flexure design
US7275332B2 (en) 2005-02-22 2007-10-02 Carestream Health, Inc. Multi-axis positioning apparatus
US6950050B1 (en) 2005-04-08 2005-09-27 Pi (Physik Instrumente) L.P. Method and apparatus for increasing effective resolution of analog output of digital-to-analog converter (DAC) having predetermined digital word size, where DAC drives plant
CN1306247C (zh) 2005-08-26 2007-03-21 哈尔滨工业大学 宏／微双重驱动的大行程高速纳米级精度的平面定位系统
JP4933775B2 (ja) * 2005-12-02 2012-05-16 独立行政法人理化学研究所 微小表面形状測定プローブ
US7239107B1 (en) 2006-02-24 2007-07-03 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Flexure stage
CN100547899C (zh) 2006-12-15 2009-10-07 中国科学技术大学 双压电体线性纳米定位压电驱动器、其控制方法及控制器

Also Published As

Publication number Publication date
CN102245348A (zh) 2011-11-16
AU2009301643A1 (en) 2010-04-15
US20110193510A1 (en) 2011-08-11
KR20110086031A (ko) 2011-07-27
KR101494046B1 (ko) 2015-02-16
EP2349638A4 (en) 2013-10-02
CN102245348B (zh) 2015-08-12
RU2605816C9 (ru) 2017-05-10
CA2776784A1 (en) 2010-04-15
RU2015113772A3 (ru) 2018-10-29
CA2776784C (en) 2016-11-08
AU2009301643B2 (en) 2014-09-04
JP2012505447A (ja) 2012-03-01
WO2010040185A1 (en) 2010-04-15
US8610332B2 (en) 2013-12-17
RU2011117603A (ru) 2012-11-20
RU2605816C2 (ru) 2016-12-27
JP5563581B2 (ja) 2014-07-30
EP2349638A1 (en) 2011-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015113772A (ru) Система и способ позиционирования
KR101597084B1 (ko) 모터 구동 장치
KR101223669B1 (ko) 엔진 벤치 시스템 제어 시스템
CN105404150B (zh) 一种软测量下采用压电陶瓷片的柔性机械臂振动主动控制方法
JP5180212B2 (ja) 材料試験装置の調節方法
KR101305617B1 (ko) 착용식 로봇의 양중제어방법 및 양중제어시스템
KR20160067337A (ko) 사용자의 의도에 따라 구동되는 근력 증강 로봇 및 그 구동 방법
CN102230821B (zh) 超低频振动台振级快速调整方法
US9958368B2 (en) Rheometer control system
CN107024985B (zh) 线性马达刹车方法和装置，及触觉反馈系统
CN104339351A (zh) 机器人控制装置
EP1591857A3 (en) Vibration control device
CN104589359A (zh) 一种基于振动观测器的柔性机械臂振动控制方法
CN102185558A (zh) 直线电机滑模控制中系统抖振消除控制方法与装置
JPWO2015129207A1 (ja) 電動機の制御装置に用いられる制御パラメータの調整方法、および、この制御パラメータの調整方法が用いられる電動機の制御装置
CN109000847A (zh) 一种用于力传感器的标定方法
JP5989694B2 (ja) 制御装置、制御方法及び制御プログラム
JP2011221810A5 (ru)
KR101470164B1 (ko) 로봇의 민감도 향상방법
CN109120181B (zh) 一种基于增益限制补偿器的超声波电机伺服控制系统极限环抑制设计方法
JP2006121806A (ja) モータ制御装置における摩擦補償方法およびモータ制御装置
JP2001074627A (ja) 材料試験方法および装置
WO2007122904A1 (ja) モータ制御装置および制御パラメータ調整方法
KR20140078492A (ko) 로봇제어장치 및 방법
KR20240027462A (ko) 구동 모터의 마찰 보상 방법 및 구동 모터를 이용한 기기

Legal Events

Date Code Title Description
HZ9A Changing address for correspondence with an applicant
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20190403