RU2015104267A - Способ нанесения покрытия при помощи высокомощных импульсов - Google Patents
Способ нанесения покрытия при помощи высокомощных импульсов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2015104267A RU2015104267A RU2015104267A RU2015104267A RU2015104267A RU 2015104267 A RU2015104267 A RU 2015104267A RU 2015104267 A RU2015104267 A RU 2015104267A RU 2015104267 A RU2015104267 A RU 2015104267A RU 2015104267 A RU2015104267 A RU 2015104267A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- power
- elements
- energy
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims abstract 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 2
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 claims 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
- C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3464—Sputtering using more than one target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3464—Operating strategies
- H01J37/3467—Pulsed operation, e.g. HIPIMS
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
1. Способ нанесения покрытия на поверхности подложки, на которые необходимо нанести покрытие, посредством распыления материала мишени, который включает следующие стадии:- приложение первого импульса мощности к установленной в камере для нанесения покрытия на источнике распыления первой мишени для распыления из первого материала, посредством чего в первый интервал времени на мишень для распыления подается первое количество энергии, причем максимальная удельная мощность при этом превышает 50 Вт/см, предпочтительно 500 Вт/см,- приложение второго импульса мощности к установленной в камере для нанесения покрытия на другом источнике распыления второй мишени для распыления из второго материала, посредством чего во второй интервал времени на мишень для распыления подается второе количество энергии, причем максимальная удельная мощность при этом превышает 50 Вт/см, предпочтительно 500 Вт/см,отличающийся тем, что для формирования смешанного кристалла на покрываемой поверхности подложки по меньшей мере первую и вторую мишени для распыления используют таким образом, что отдельно устанавливают подходящую рабочую точку для соответствующего материала мишени посредством регулирования импульсов мощности, причем первое количество энергии и второе количество энергии отличаются друг от друга.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что соответствующую рабочую точку устанавливают посредством регулирования мощности и/или продолжительности импульса мощности.3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что рабочая точка находится, соответственно, в переходной области.4. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что второй интервал времени выбирают более длинным,
Claims (12)
1. Способ нанесения покрытия на поверхности подложки, на которые необходимо нанести покрытие, посредством распыления материала мишени, который включает следующие стадии:
- приложение первого импульса мощности к установленной в камере для нанесения покрытия на источнике распыления первой мишени для распыления из первого материала, посредством чего в первый интервал времени на мишень для распыления подается первое количество энергии, причем максимальная удельная мощность при этом превышает 50 Вт/см2, предпочтительно 500 Вт/см2,
- приложение второго импульса мощности к установленной в камере для нанесения покрытия на другом источнике распыления второй мишени для распыления из второго материала, посредством чего во второй интервал времени на мишень для распыления подается второе количество энергии, причем максимальная удельная мощность при этом превышает 50 Вт/см2, предпочтительно 500 Вт/см2,
отличающийся тем, что для формирования смешанного кристалла на покрываемой поверхности подложки по меньшей мере первую и вторую мишени для распыления используют таким образом, что отдельно устанавливают подходящую рабочую точку для соответствующего материала мишени посредством регулирования импульсов мощности, причем первое количество энергии и второе количество энергии отличаются друг от друга.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что соответствующую рабочую точку устанавливают посредством регулирования мощности и/или продолжительности импульса мощности.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что рабочая точка находится, соответственно, в переходной области.
4. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что второй интервал времени выбирают более длинным, чем первый интервал времени.
5. Способ по п. 2 или 3, отличающийся тем, что первый и второй интервалы времени выбирают между 10 мкс и 100 мс.
6. Способ по п. 5, отличающийся тем, что первый и второй интервалы времени выбирают между 50 мкс и 5 мс.
7. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что первый материал и второй материал содержат элементы из группы, включающей:
такие элементы, как титан, алюминий, кремний, хром, бор, углерод, элементы групп 4А, 4В, 4С периодической системы элементов, а также сочетания двух и более из этих элементов.
8. Способ по п. 7, отличающийся тем, что к покрываемой подложке по меньшей мере время от времени синхронно с импульсами мощности накладывают смещение подложки, которое выбирают с учетом мишени.
9. Способ по п. 7, отличающийся тем, что в процессе пропускают в качестве рабочего газа инертный газ, причем инертный газ - это газ из группы элементов Не, Ne, Ar, Kr или сочетание двух или нескольких газов из этой группы.
10. Способ по п. 9, отличающийся тем, что в процессе по меньшей мере время от времени пропускают реактивный газ из группы элементов или соединений N2, О2, С2Н2, СН4, силан, триметилсилан, CO2 или сочетание нескольких членов указанной группы.
11. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что для нанесения слоя смешанного кристалла мишени используют одновременно.
12. Способ по п. 11, отличающийся тем, что подложку в отношении источников распыления располагают так, чтобы поверхность, на которую наносится покрытие, периодически перемещалась мимо источника распыления; при этом формирующийся слой осаждают не в виде однородного смешанного кристалла, а в виде слоя, состоящего из нескольких нанослоев, при этом состав указанного меняется от нанослоя к соседнему нанослою.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102012013577.7 | 2012-07-10 | ||
| DE201210013577 DE102012013577A1 (de) | 2012-07-10 | 2012-07-10 | Hochleistungsimpulsbeschichtungsmethode |
| PCT/EP2013/001853 WO2014008984A1 (de) | 2012-07-10 | 2013-06-24 | Hochleistungsimpulsbeschichtungsmethode |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015104267A true RU2015104267A (ru) | 2016-08-27 |
Family
ID=48700524
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015104267A RU2015104267A (ru) | 2012-07-10 | 2013-06-24 | Способ нанесения покрытия при помощи высокомощных импульсов |
| RU2015104164A RU2015104164A (ru) | 2012-07-10 | 2013-06-29 | Способ нанесения покрытия импульсами высокой мощности |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015104164A RU2015104164A (ru) | 2012-07-10 | 2013-06-29 | Способ нанесения покрытия импульсами высокой мощности |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10060026B2 (ru) |
| EP (2) | EP2872665B1 (ru) |
| JP (3) | JP6271533B2 (ru) |
| KR (3) | KR102408543B1 (ru) |
| CN (2) | CN104428442B (ru) |
| AR (1) | AR091708A1 (ru) |
| BR (2) | BR112015000253B1 (ru) |
| CA (2) | CA2878324C (ru) |
| DE (1) | DE102012013577A1 (ru) |
| HU (1) | HUE065108T2 (ru) |
| IN (1) | IN2015DN00119A (ru) |
| MX (2) | MX382975B (ru) |
| MY (2) | MY171167A (ru) |
| PH (2) | PH12015500056B1 (ru) |
| RU (2) | RU2015104267A (ru) |
| SG (2) | SG11201500131PA (ru) |
| WO (2) | WO2014008984A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108368599B (zh) * | 2015-11-10 | 2020-11-06 | 山特维克知识产权股份有限公司 | 一种对用于涂覆的表面进行预处理的方法 |
| US11008650B2 (en) * | 2016-11-03 | 2021-05-18 | Starfire Industries Llc | Compact system for coupling RF power directly into RF linacs |
| US12009192B2 (en) * | 2016-11-03 | 2024-06-11 | Starfire Industries Llc | System for coupling RF power into LINACs and bellows coating by magnetron sputtering with kick pulse |
| US11021788B2 (en) | 2017-12-05 | 2021-06-01 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Sputtering method |
| CN110184571A (zh) * | 2019-05-07 | 2019-08-30 | 天津君盛天成科技发展有限公司 | 高功率脉冲涂装方法 |
| WO2022073631A1 (en) * | 2020-10-06 | 2022-04-14 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Hard carbon coatings with improved adhesion strength by means of hipims and method thereof |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000353343A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録媒体と光記録媒体の製造方法および製造装置 |
| DE10039478A1 (de) | 2000-08-08 | 2002-02-28 | Cemecon Ceramic Metal Coatings | Zerstäubungs-Bauteil |
| WO2004050944A2 (de) * | 2002-12-04 | 2004-06-17 | Leybold Optics Gmbh | Verfahren zur herstellung einer multilayerschicht und vorrichtung zur durchführung des verfahrens |
| US7232506B2 (en) * | 2003-10-08 | 2007-06-19 | Deposition Sciences, Inc. | System and method for feedforward control in thin film coating processes |
| DE102006017382A1 (de) * | 2005-11-14 | 2007-05-16 | Itg Induktionsanlagen Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und/oder zur Behandlung von Oberflächen |
| US8173278B2 (en) * | 2006-04-21 | 2012-05-08 | Cemecon Ag | Coated body |
| DE102006061324B4 (de) * | 2006-06-20 | 2008-07-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Regelung eines reaktiven Hochleistungs-Puls-Magnetronsputterprozesses und Vorrichtung hierzu |
| SE533395C2 (sv) * | 2007-06-08 | 2010-09-14 | Sandvik Intellectual Property | Sätt att göra PVD-beläggningar |
| US7966909B2 (en) * | 2007-07-25 | 2011-06-28 | The Gillette Company | Process of forming a razor blade |
| EP2257964B1 (en) * | 2007-12-07 | 2018-07-11 | Evatec AG | Reactive sputtering with hipims |
| WO2009132822A2 (de) | 2008-04-28 | 2009-11-05 | Cemecon Ag | Vorrichtung und verfahren zum vorbehandeln und beschichten von körpern |
| DE102008021912C5 (de) * | 2008-05-01 | 2018-01-11 | Cemecon Ag | Beschichtungsverfahren |
| US8202820B2 (en) * | 2008-08-26 | 2012-06-19 | Northwestern University | Non-stoichiometric mixed-phase titania photocatalyst |
| EP2366488A1 (de) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Wiederaufarbeiten einer Turbinenschaufel mit wenigstens einer Plattform |
| DE102010028558A1 (de) | 2010-05-04 | 2011-11-10 | Walter Ag | PVD-Hybridverfahren zum Abscheiden von Mischkristallschichten |
-
2012
- 2012-07-10 DE DE201210013577 patent/DE102012013577A1/de not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-06-24 MY MYPI2015000022A patent/MY171167A/en unknown
- 2013-06-24 US US14/413,480 patent/US10060026B2/en active Active
- 2013-06-24 KR KR1020217022307A patent/KR102408543B1/ko active Active
- 2013-06-24 WO PCT/EP2013/001853 patent/WO2014008984A1/de not_active Ceased
- 2013-06-24 SG SG11201500131PA patent/SG11201500131PA/en unknown
- 2013-06-24 BR BR112015000253-6A patent/BR112015000253B1/pt active IP Right Grant
- 2013-06-24 JP JP2015520840A patent/JP6271533B2/ja active Active
- 2013-06-24 EP EP13732096.6A patent/EP2872665B1/de active Active
- 2013-06-24 MX MX2015000441A patent/MX382975B/es unknown
- 2013-06-24 HU HUE13732096A patent/HUE065108T2/hu unknown
- 2013-06-24 CA CA2878324A patent/CA2878324C/en active Active
- 2013-06-24 CN CN201380037131.0A patent/CN104428442B/zh active Active
- 2013-06-24 KR KR20157001115A patent/KR20150030729A/ko not_active Ceased
- 2013-06-24 RU RU2015104267A patent/RU2015104267A/ru unknown
- 2013-06-29 CN CN201380037123.6A patent/CN104411863B/zh active Active
- 2013-06-29 CA CA2878536A patent/CA2878536C/en active Active
- 2013-06-29 MY MYPI2015000044A patent/MY175241A/en unknown
- 2013-06-29 BR BR112015000350-8A patent/BR112015000350B1/pt active IP Right Grant
- 2013-06-29 US US14/413,487 patent/US10392694B2/en active Active
- 2013-06-29 IN IN119DEN2015 patent/IN2015DN00119A/en unknown
- 2013-06-29 MX MX2015000444A patent/MX382984B/es unknown
- 2013-06-29 WO PCT/EP2013/001914 patent/WO2014008989A1/de not_active Ceased
- 2013-06-29 SG SG11201500185SA patent/SG11201500185SA/en unknown
- 2013-06-29 JP JP2015520843A patent/JP6669496B2/ja active Active
- 2013-06-29 KR KR1020157001850A patent/KR102209219B1/ko active Active
- 2013-06-29 RU RU2015104164A patent/RU2015104164A/ru unknown
- 2013-06-29 EP EP13735196.1A patent/EP2872666B1/de active Active
- 2013-07-08 AR ARP130102431 patent/AR091708A1/es unknown
-
2015
- 2015-01-09 PH PH12015500056A patent/PH12015500056B1/en unknown
- 2015-01-09 PH PH12015500057A patent/PH12015500057A1/en unknown
-
2019
- 2019-01-08 JP JP2019001339A patent/JP2019090113A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2015104267A (ru) | Способ нанесения покрытия при помощи высокомощных импульсов | |
| ES2327955T5 (es) | Procedimiento hibrido de recubrimiento por plasma y pulverización en frio y aparato | |
| RU2009137553A (ru) | Способ нанесения высокопрочного покрытия на изделия и/или производственные материалы | |
| TW200633240A (en) | Method and apparatus for forming a thin-film solar cell using a continuous process | |
| RU2013151606A (ru) | Высокопроизводительный источник для процесса распыления | |
| CO6300830A2 (es) | Piridopiridinas, pirido-diazinas y piridotriazinas herbicidas, procesos para su preparación, composiciones que comprenden estos compuestos, y métodos para controlar plantas usando estos ocmpuestos | |
| CA2614924A1 (en) | Fixture for use in a coating operation | |
| ATE438463T1 (de) | Aufbringen eines beschichtungsmaterials auf ein substrat | |
| RU2012136145A (ru) | Высушенная нанокристаллическая целлюлоза с контролируемой диспергируемостью и способ ее получения | |
| WO2010017259A3 (en) | Method for ultra-uniform sputter deposition using simultaneous rf and dc power on target | |
| UA92142C2 (ru) | СПОСОБ ПОКРЫТИЯ ВНЕШНЕЙ И ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ турбинной лопатки или лопасти алюминием и ХРОМом | |
| BR112015004358A8 (pt) | método para revestir um substrato metálico, composição de pré-tratamento para o tratamento de um substrato metálico, substrato metálico pré-tratado e substrato metálico eletroforeticamente revestido | |
| MY165453A (en) | Drill having a coating | |
| MX351403B (es) | Post-enjuague basado en resina para obtener un alcance mejorado en lugares de difícil acceso de las composiciones de recubrimiento electrodepositables sobre sustratos de metal pretratados. | |
| MX2018005244A (es) | Composiciones de tratamiento y metodos de tratamiento de un sustrato. | |
| MY188421A (en) | Polymer coatings and methods for depositing polymer coatings | |
| GB2437478A (en) | Thiol functionalised coatings and method for producing the same | |
| ATE218931T1 (de) | Verfahren zur herstellung von uv-strahlen schützenden beschichtungen durch plasmaverstärkte dampfabscheidung | |
| BR112015004364A2 (pt) | composição de pré-tratamento, método para tratar um substrato metálico, método de revestimento de um substrato metálico, substrato metálico pré-tratado e substrato metálico eletroforeticamente revestido | |
| MX2020000893A (es) | Composiciones de revestimiento intumescentes de curado rapido. | |
| WO2009001634A1 (ja) | 低屈折率膜及びその成膜方法、並びに反射防止膜 | |
| RU2012101610A (ru) | Способ регулирования расхода охлаждающего средства внутри активно охлаждаемых конструктивных элементов и конструктивный элемент | |
| FR2909101B1 (fr) | Procede non electrolytique prefectionne de metallisation d'un substrat par voie de reduction de sel(s) metallique(s) et par projection d'aerosol(s) | |
| TW200633099A (en) | Metallization target optimization method providing enhanced metallization layer uniformity | |
| MX2014001242A (es) | Composiciones de pretratamiento de circonio que contenen un metal de tierras raras, metodos asociados para tratar sustratos metalicos y sustratos metalicos revestidos relacionados. |