RU2012108114A - Способ и система для обработки оптических элементов с использованием магнитореологической чистовой обработки - Google Patents
Способ и система для обработки оптических элементов с использованием магнитореологической чистовой обработки Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012108114A RU2012108114A RU2012108114/02A RU2012108114A RU2012108114A RU 2012108114 A RU2012108114 A RU 2012108114A RU 2012108114/02 A RU2012108114/02 A RU 2012108114/02A RU 2012108114 A RU2012108114 A RU 2012108114A RU 2012108114 A RU2012108114 A RU 2012108114A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- metrological
- optical element
- map
- test points
- mrf
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract 58
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 17
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract 10
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract 10
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims abstract 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 3
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Lasers (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
1. Способ чистовой обработки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем множество проверочных точек, накладывающихся на оптический элемент;получают первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;получают вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;формируют карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;выравнивают первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;помещают математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;осуществляют привязку третьей метрологической карты оптическому элементу;закрепляют оптический элемент в зажиме в инструменте MRF;устанавливают оптический элемент в зажиме;удаляют множество проверочных точек иосуществляют чистовую обработку оптического элемента.2. Способ по п.1, в котором множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно к поверхности оптического элемента.3. Способ по п.1, в котором первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.4. Способ по п.1, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.5. Способ по п.1, в котором инструмент MRF содержит:полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; исистему камеры с пространствен
Claims (18)
1. Способ чистовой обработки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:
закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем множество проверочных точек, накладывающихся на оптический элемент;
получают первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;
получают вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;
формируют карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;
выравнивают первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;
помещают математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;
осуществляют привязку третьей метрологической карты оптическому элементу;
закрепляют оптический элемент в зажиме в инструменте MRF;
устанавливают оптический элемент в зажиме;
удаляют множество проверочных точек и
осуществляют чистовую обработку оптического элемента.
2. Способ по п.1, в котором множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно к поверхности оптического элемента.
3. Способ по п.1, в котором первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.
4. Способ по п.1, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
5. Способ по п.1, в котором инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с пространственным разрешением менее 20 мкм.
6. Система MRF для полировки оптического элемента, причем система MRF содержит:
процессор;
инструмент MRF, соединенный с процессором, при этом инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения предварительно определенной функции удаления;
оптический держатель, выполненный с возможностью вмещения оптического элемента и множества проверочных точек; и
машиночитаемый носитель, соединенный с процессором и хранящий множество команд для управления инструментом MRF для полировки оптического элемента, причем множество команд содержит:
команды, которые побуждают процессор данных получать первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных получать вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных формировать карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;
команды, которые побуждают процессор данных выравнивать первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;
команды, которые побуждают процессор данных помещать математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;
команды, которые побуждают процессор данных осуществлять привязку третьей метрологической карты к оптическому элементу; и
команды, которые побуждают процессор данных управлять инструментом MRF для чистовой обработки оптического элемента.
7. Система MRF по п.6, в которой множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
8. Система MRF по п.6, в которой первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.
9. Система MRF по п.6, в которой оптический элемент включает в себя, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
10. Система MRF по п.6, в которой инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с максимальным пространственным разрешением менее 20 мкм.
11. Способ полировки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:
закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем область, выполненную с возможностью вмещения оптического элемента, и множество проверочных точек, установленных рядом с указанной областью;
получают первую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент и множество проверочных точек;
получают вторую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент, причем вторая метрологическая карта не содержит множество проверочных точек;
формируют метрологическую карту разности на основе первой метрологической карты и второй метрологической карты;
выравнивают первую метрологическую карту со второй метрологической картой;
добавляют математические проверочные точки на вторую метрологическую карту для формирования третьей метрологической карты;
устанавливают оптический держатель в инструмент MRF;
совмещают оптический держатель с инструментом MRF с использованием третьей метрологической карты и
осуществляют полировку оптического элемента.
12. Способ по п.11, в котором множество проверочных точек содержит множество структур, расположенных в одной плоскости, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
13. Способ по п.11, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
14. Способ по п.11, в котором инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с пространственным разрешением менее 20 мкм.
15. Система MRF для полировки оптического элемента, причем система MRF содержит:
процессор;
оптическую систему формирования изображений;
инструмент MRF, соединенный с процессором, при этом инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения предварительно определенной функции удаления;
оптический держатель, выполненный с возможностью вмещения оптического элемента и включающий в себя множество внешних проверочных точек; и
машиночитаемый носитель, соединенный с процессором и хранящий множество команд для управления инструментом MRF для полировки оптического элемента, при этом множество команд содержит:
команды, которые побуждают процессор данных закреплять оптический элемент в оптическом держателе, имеющем область, выполненную с возможностью вмещения оптического элемента, и множество проверочных точек, установленных рядом с указанной областью;
команды, которые побуждают процессор данных получать первую метрологическую карту, процессор данных получать вторую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент и множество проверочных точек;
команды, которые побуждают в себя оптический элемент, причем вторая метрологическая карта не содержит множество проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных формировать метрологическую карту разности на основе первой метрологической карты и второй метрологической карты;
команды, которые побуждают процессор данных выравнивать первую метрологическую карту со второй метрологической картой;
команды, которые побуждают процессор данных добавлять математические проверочные точки на вторую метрологическую карту для формирования третьей метрологической карты; и
команды, которые побуждают процессор данных управлять инструментом MRF для полировки оптического элемента.
16. Система по п.15, в которой множество проверочных точек содержит множество структур, расположенных в одной плоскости, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
17. Система по п.15, в которой оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
18. Система по п.15, в которой инструмент MRF, в котором предварительно определенная функция удаления составляет менее 200 мкм в пространственной протяженности, и оптическая система формирования изображений характеризуется пространственным разрешением менее 20 мкм.
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US23079309P | 2009-08-03 | 2009-08-03 | |
| US61/230,793 | 2009-08-03 | ||
| US12/760,418 | 2010-04-14 | ||
| US12/760,418 US8271120B2 (en) | 2009-08-03 | 2010-04-14 | Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing |
| US12/782,566 | 2010-05-18 | ||
| US12/782,566 US8780440B2 (en) | 2009-08-03 | 2010-05-18 | Dispersion compensation in chirped pulse amplification systems |
| PCT/US2010/044138 WO2011017266A1 (en) | 2009-08-03 | 2010-08-02 | Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012108114A true RU2012108114A (ru) | 2013-09-10 |
| RU2559609C2 RU2559609C2 (ru) | 2015-08-10 |
Family
ID=47179048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012108114/02A RU2559609C2 (ru) | 2009-08-03 | 2010-08-02 | Способ и система для обработки оптических элементов с использованием магнитореологической чистовой обработки |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8780440B2 (ru) |
| JP (1) | JP5668944B2 (ru) |
| RU (1) | RU2559609C2 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EA024869B1 (ru) * | 2013-12-27 | 2016-10-31 | Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" | Способ магнитореологического формообразования и полирования поверхности сложной формы |
| CN106863020A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-06-20 | 上海理工大学 | 螺旋式磁流变抛光装置 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5799538B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-10-28 | セイコーエプソン株式会社 | テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置、計測装置および光源装置 |
| US8411354B2 (en) | 2011-08-05 | 2013-04-02 | Coherent, Inc. | Carrier-envelope-phase stabilization of a master oscillator optical amplifier system |
| CN104956554B (zh) | 2013-01-31 | 2018-09-14 | 株式会社岛津制作所 | 采用啁啾脉冲放大法的激光装置 |
| US9438002B2 (en) * | 2014-01-29 | 2016-09-06 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Laser system |
| KR102146831B1 (ko) * | 2014-01-29 | 2020-08-21 | 한국전자통신연구원 | 레이저 시스템 |
| GB2528023A (en) * | 2014-03-18 | 2016-01-13 | Stfc Science & Technology | High power laser with chirped pulse amplification |
| EP2933882B1 (en) | 2014-04-14 | 2016-11-23 | Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY | Device and method for stretching or compressing laser pulses |
| CN104577690B (zh) * | 2015-01-22 | 2017-07-14 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 超宽带相干合成啁啾脉冲放大激光系统 |
| US9385502B1 (en) | 2015-02-05 | 2016-07-05 | Coherent, Inc. | Method and apparatus for adjusting pulse parameters in a solid-state chirped-pulse amplifier system |
| US10901295B2 (en) | 2016-03-14 | 2021-01-26 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Arbitrary pulse shaping with picosecond resolution over multiple-nanosecond records |
| DE102016110947A1 (de) | 2016-06-15 | 2017-12-21 | Trumpf Laser Gmbh | Dispersionsanpassungseinheit |
| US9985410B2 (en) * | 2016-08-15 | 2018-05-29 | WFK Lasers, LLC. | Ruby laser pumped ultrashort pulse laser |
| EP3679410A4 (en) * | 2017-09-07 | 2021-06-09 | Lawrence Livermore National Security, LLC | SYMMETRICAL OUTSIDE OF THE PLANE AND PROCEDURE |
| US20190234559A1 (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-01 | Hollymatic Corporation | Method and system to monitor and shut down saw |
| DE102018109405B3 (de) | 2018-04-19 | 2019-07-11 | Trumpf Laser Gmbh | Pulslängenanpassungseinheit, Lasersystem und Verfahren zur Pulslängenanpassung eines Laserpulses |
| JP7727412B2 (ja) * | 2021-05-24 | 2025-08-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分散測定装置及び分散測定方法 |
| CN113977361B (zh) * | 2021-10-29 | 2022-08-16 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于激光辐照降低磁流变液粘度的小球头磁流变抛光工艺方法 |
| JP7700074B2 (ja) * | 2022-03-23 | 2025-06-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | 時間応答計測装置及び時間応答計測方法 |
| CN115714295A (zh) * | 2022-11-02 | 2023-02-24 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于多通腔的激光脉冲压缩装置 |
| AT527337B1 (de) * | 2023-06-23 | 2025-05-15 | Univ Wien Tech | Vorrichtung und Verfahren zum Manipulieren von gepulster Laserstrahlung |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2008A (en) * | 1841-03-18 | Gas-lamp eok conducting gas pkom ah elevated buhner to one below it | ||
| US3748015A (en) * | 1971-06-21 | 1973-07-24 | Perkin Elmer Corp | Unit power imaging catoptric anastigmat |
| US4928316A (en) * | 1988-02-04 | 1990-05-22 | Bell Communications Research, Inc. | Optical systems and methods based upon temporal stretching, modulation and recompression of ultrashort pulses |
| SU1783714A1 (ru) * | 1988-06-10 | 1995-03-20 | Институт тепло- и массообмена им.А.В.Лыкова | Способ полирования деталей |
| US5349591A (en) * | 1993-04-26 | 1994-09-20 | Positive Light, Inc. | Laser pulse stretcher and compressor with single parameter wavelength tunability |
| US5696782A (en) * | 1995-05-19 | 1997-12-09 | Imra America, Inc. | High power fiber chirped pulse amplification systems based on cladding pumped rare-earth doped fibers |
| US5795212A (en) * | 1995-10-16 | 1998-08-18 | Byelocorp Scientific, Inc. | Deterministic magnetorheological finishing |
| US5960016A (en) * | 1997-06-05 | 1999-09-28 | The Regents Of The University Of California | Aberration-free, all-reflective laser pulse stretcher |
| US6819438B2 (en) * | 2000-06-02 | 2004-11-16 | Gsi Lumonics Corporation | Technique for fabricating high quality optical components |
| WO2002049082A2 (en) * | 2000-12-11 | 2002-06-20 | Rodel Holdings, Inc. | Process of shaping a semiconductor substrate and/or a lithographic mask |
| US6922599B2 (en) * | 2001-08-13 | 2005-07-26 | The Boeing Company | System and method for producing an assembly by directly implementing three-dimensional computer-aided design component definitions |
| US6746310B2 (en) * | 2002-08-06 | 2004-06-08 | Qed Technologies, Inc. | Uniform thin films produced by magnetorheological finishing |
| FR2872592B1 (fr) * | 2004-07-02 | 2006-09-15 | Thales Sa | Chaine amplificatrice pour la generation d'impulsions lumineuses ultracourtes de durees d'impulsions differentes |
| US7593434B2 (en) * | 2005-06-30 | 2009-09-22 | Polaronyx, Inc. | Compression design for high energy short pulse fiber laser |
| RU68409U1 (ru) * | 2007-06-26 | 2007-11-27 | Государственное научное учреждение "Институт тепло- и массообмена им. А.В. Лыкова Национальной академии наук Беларуси" (ГНУ ИТМО НАН Беларуси) | Устройство для полирования поверхностей изделий |
-
2010
- 2010-05-18 US US12/782,566 patent/US8780440B2/en active Active
- 2010-08-02 RU RU2012108114/02A patent/RU2559609C2/ru active
- 2010-08-02 JP JP2012523682A patent/JP5668944B2/ja active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EA024869B1 (ru) * | 2013-12-27 | 2016-10-31 | Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" | Способ магнитореологического формообразования и полирования поверхности сложной формы |
| CN106863020A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-06-20 | 上海理工大学 | 螺旋式磁流变抛光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2559609C2 (ru) | 2015-08-10 |
| US20110026105A1 (en) | 2011-02-03 |
| US8780440B2 (en) | 2014-07-15 |
| JP2013500874A (ja) | 2013-01-10 |
| JP5668944B2 (ja) | 2015-02-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012108114A (ru) | Способ и система для обработки оптических элементов с использованием магнитореологической чистовой обработки | |
| JP6250999B2 (ja) | アライメント方法並びにアライメント装置 | |
| US20170261741A1 (en) | Image capturing device and method for image capturing | |
| WO2010005706A3 (en) | Processes for producing optical elements showing virtual images | |
| WO2020213238A1 (ja) | 撮像装置と画像処理装置および画像処理方法 | |
| CN110702946A (zh) | 一种基于单目视觉的低频多轴加速度计灵敏度校准方法 | |
| RU2013147816A (ru) | Изображение с зависящим от контрастности разрешением | |
| WO2019198287A1 (ja) | 情報処理装置と情報処理方法とプログラムおよびキャリブレーション装置 | |
| JP6717382B2 (ja) | 測長装置 | |
| CN102954772A (zh) | 一种基于线激光器的海冰表面粗糙度测量方法 | |
| JP5732537B2 (ja) | ヘッドアップディスプレイの投影スクリーン用キャリアの取り付け装置 | |
| JP2016118535A (ja) | 複数の焦点面から倍率補正するための方法及びシステム | |
| EP1956434A3 (en) | Lithographic apparatus and methods for use thereof | |
| CN105739216A (zh) | 图像模糊校正设备、摄像设备及光学设备 | |
| WO2015173879A1 (ja) | リード矯正装置、実装システム、基板製造方法 | |
| CN108827291A (zh) | 运动载体下的mems陀螺仪输出的零偏补偿方法及装置 | |
| EP3619567A1 (en) | A method to keep the excitation light sheet in focus in selective plane illumination microscopy | |
| JP2014153217A (ja) | 振動試験装置 | |
| CN102207384B (zh) | 一种偏场ccd双相机组合的地面成像投影的测定方法 | |
| JP2015088149A5 (ru) | ||
| JP2011049318A5 (ja) | 基板重ね合わせ装置、基板重ね合わせ方法、及びデバイスの製造方法 | |
| US20200049923A1 (en) | Positioning system for components of optical systems | |
| JP2010087893A (ja) | 撮像装置、撮像方法、およびプログラム | |
| CN106802150B (zh) | 基准偏差消除方法及装置 | |
| CN210773928U (zh) | 一种用于视觉感知变形监测系统的调平装置 |