[go: up one dir, main page]

RU2008101700A - Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, и способ получения такого изделия - Google Patents

Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, и способ получения такого изделия Download PDF

Info

Publication number
RU2008101700A
RU2008101700A RU2008101700/02A RU2008101700A RU2008101700A RU 2008101700 A RU2008101700 A RU 2008101700A RU 2008101700/02 A RU2008101700/02 A RU 2008101700/02A RU 2008101700 A RU2008101700 A RU 2008101700A RU 2008101700 A RU2008101700 A RU 2008101700A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
plasma
value
tetramethylsilane
polymer product
Prior art date
Application number
RU2008101700/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2417274C2 (ru
Inventor
Нассер БЕЛДИ (FR)
Нассер БЕЛДИ
Патрик ШОЛЛЕ (FR)
Патрик ШОЛЛЕ
Original Assignee
Инновэйтив Системз Энд Текнолоджиз (Fr)
Инновэйтив Системз Энд Текнолоджиз
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Инновэйтив Системз Энд Текнолоджиз (Fr), Инновэйтив Системз Энд Текнолоджиз filed Critical Инновэйтив Системз Энд Текнолоджиз (Fr)
Publication of RU2008101700A publication Critical patent/RU2008101700A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2417274C2 publication Critical patent/RU2417274C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D25/00—Details of other kinds or types of rigid or semi-rigid containers
    • B65D25/14—Linings or internal coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/06—Coating with compositions not containing macromolecular substances
    • C08J7/065—Low-molecular-weight organic substances, e.g. absorption of additives in the surface of the article
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
    • C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
    • C23C16/0245—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching by etching with a plasma
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2439/00—Containers; Receptacles
    • B32B2439/70—Food packaging
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08J2323/06—Polyethene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/10—Homopolymers or copolymers of propene
    • C08J2323/12—Polypropene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающееся тем, что указанное покрытие содержит первое покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан или полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности полимерного изделия, где величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и второе покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности указанного первого слоя, где величина х равна 1,7-1,99, величина у равна 0,2-0,7, величина z равна 0,2-0,35 для указанного второго покрытия SiOxCуHz, и тем, что толщина указанного первого покрытия равна от приблизительно 1 до приблизительно 15 нм, и тем, что толщина указанного второго покрытия равна от приблизительно 10 до приблизительно 100 нм, предпочтительно, приблизительно 30 нм. ! 2. Способ изготовления полимерного изделия, имеющего тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающийся тем, что содержит следующие стадии: ! обработку плазмой на полимерном изделии, предпочтительно обработку плазмой аргона; ! нанесение первого покрытия SiOxCуHz генерированием плазмы из тетраметилсилана или тетраметилсилана и газа-окислителя, предпочтительно кислорода или диоксида углерода, причем величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и ! последующее нанесение вт

Claims (8)

1. Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающееся тем, что указанное покрытие содержит первое покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан или полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности полимерного изделия, где величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и второе покрытие SiOxCуHz, которое представляет собой полимеризованный в плазме тетраметилсилан и газ-окислитель, предпочтительно кислород или диоксид углерода, нанесенное на поверхности указанного первого слоя, где величина х равна 1,7-1,99, величина у равна 0,2-0,7, величина z равна 0,2-0,35 для указанного второго покрытия SiOxCуHz, и тем, что толщина указанного первого покрытия равна от приблизительно 1 до приблизительно 15 нм, и тем, что толщина указанного второго покрытия равна от приблизительно 10 до приблизительно 100 нм, предпочтительно, приблизительно 30 нм.
2. Способ изготовления полимерного изделия, имеющего тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, по меньшей мере, на одной из его сторон, отличающийся тем, что содержит следующие стадии:
обработку плазмой на полимерном изделии, предпочтительно обработку плазмой аргона;
нанесение первого покрытия SiOxCуHz генерированием плазмы из тетраметилсилана или тетраметилсилана и газа-окислителя, предпочтительно кислорода или диоксида углерода, причем величина х равна 0-1,7, величина у равна 0,5-0,8, величина z равна 0,35-0,6 для указанного первого покрытия SiOxCуHz, и
последующее нанесение второго покрытия SiOxCуHz генерированием плазмы из тетраметилсилана в присутствии газа-окислителя, предпочтительно кислорода или диоксида углерода, причем величина х равна 1,7-1,99, величина у равна 0,2-0,7, величина z равна 0,2-0,35 для указанного второго покрытия SiOxCуHz, причем толщина указанного первого слоя равна от приблизительно 1 до приблизительно 15 нм, а толщина указанного второго слоя равна от приблизительно 10 до приблизительно 100 нм, предпочтительно приблизительно 30 нм.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что полимерное изделие изготавливают в форме контейнера, причем его внутреннюю стенку подвергают плазменной обработке и на нее наносят покрытие.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что полимерное изделие изготовлено из полипропилена или полиэтилена.
5. Способ по любому из пп.2-4, отличающийся тем, что покрытие готовят с использованием магнитного наведения или электрода, генерирующего плазму, или оба как магнитного наведения, так и электрода, генерирующего плазму.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что мощность наведения, генерирующего плазму, подают с частотой 13,56 МГц.
7. Способ по п.2, отличающийся тем, что соотношение кислорода и тетраметилсилана находится в диапазоне от 0 до 4 для получения первого покрытия, причем для получения второго покрытия на первом покрытии соотношение находится в диапазоне приблизительно от 4 до 10.
8. Способ по п.7, отличающийся тем, что соотношение кислорода и тетраметилсилана поддерживают во время первой стадии в течение приблизительно 1-4 с на уровне его первого значения приблизительно 0-4, а указанное соотношение во время второй стадии поддерживают в течение приблизительно 5-30 с на уровне его второго значения приблизительно 4-10.
RU2008101700/02A 2005-06-16 2006-06-16 Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, и способ получения такого изделия RU2417274C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FREP05/007063 2005-06-16
FRWO2006/133730 2005-06-16
PCT/EP2005/007063 WO2006133730A1 (en) 2005-06-16 2005-06-16 Method for producing coated polymer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008101700A true RU2008101700A (ru) 2009-07-27
RU2417274C2 RU2417274C2 (ru) 2011-04-27

Family

ID=37531966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008101700/02A RU2417274C2 (ru) 2005-06-16 2006-06-16 Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, и способ получения такого изделия

Country Status (16)

Country Link
US (2) US8715821B2 (ru)
EP (2) EP1893788B1 (ru)
JP (1) JP5023056B2 (ru)
KR (1) KR101326496B1 (ru)
CN (1) CN101198722B (ru)
AU (1) AU2006327910B2 (ru)
BR (1) BRPI0611779B1 (ru)
CA (1) CA2612167C (ru)
DK (1) DK2597175T3 (ru)
ES (1) ES2601954T3 (ru)
HU (1) HUE029458T2 (ru)
PH (1) PH12007502678B1 (ru)
PL (2) PL2597175T3 (ru)
PT (1) PT2597175T (ru)
RU (1) RU2417274C2 (ru)
WO (2) WO2006133730A1 (ru)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006133730A1 (en) * 2005-06-16 2006-12-21 Innovative Systems & Technologies Method for producing coated polymer
US7878054B2 (en) * 2007-02-28 2011-02-01 The Boeing Company Barrier coatings for polymeric substrates
US8197909B2 (en) 2008-08-26 2012-06-12 Ford Global Technologies, Llc Plasma coatings and method of making the same
DE102011017404A1 (de) * 2011-04-18 2012-10-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems
CN102241827B (zh) * 2011-05-14 2013-03-20 中南林业科技大学 一种天然植物纤维与聚乳酸界面调控方法
KR101702471B1 (ko) * 2011-08-26 2017-02-03 엑사테크 엘.엘.씨. 유기 수지 라미네이트, 이의 제조 및 이용 방법, 및 이를 포함하는 제품
JP2015517942A (ja) * 2012-05-29 2015-06-25 エルジー・ケム・リミテッド 印刷用シリコンブランケットおよびその製造方法
CN104752633A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 中国科学院微电子研究所 一种薄膜封装方法
JP6467867B2 (ja) * 2014-10-30 2019-02-13 凸版印刷株式会社 透明ガスバリア性フィルム
JP6532450B2 (ja) * 2016-12-06 2019-06-19 株式会社アルバック 成膜方法
US10973569B2 (en) * 2017-09-22 2021-04-13 Covidien Lp Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating
IL312016A (en) * 2021-10-25 2024-06-01 Adama Makhteshim Ltd Method and composition for reducing solvent release from, and reducing odor of, agrochemical formulations
EP4289519A1 (en) 2022-06-10 2023-12-13 Basf Se Plasma-created barriers for packaging
BE1032534A1 (nl) 2025-06-30 2025-11-10 Delta Eng Werkwijze voor de behandeling van een oppervlak van een polymeermateriaal

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3442686A (en) 1964-03-13 1969-05-06 Du Pont Low permeability transparent packaging films
GB1104935A (en) 1964-05-08 1968-03-06 Standard Telephones Cables Ltd Improvements in or relating to a method of forming a layer of an inorganic compound
DE3413019A1 (de) * 1984-04-06 1985-10-17 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zum aufbringen einer duennen, transparenten schicht auf der oberflaeche optischer elemente
US5000113A (en) 1986-12-19 1991-03-19 Applied Materials, Inc. Thermal CVD/PECVD reactor and use for thermal chemical vapor deposition of silicon dioxide and in-situ multi-step planarized process
ZA884511B (en) * 1987-07-15 1989-03-29 Boc Group Inc Method of plasma enhanced silicon oxide deposition
JPH02214017A (ja) * 1989-02-10 1990-08-27 Hitachi Maxell Ltd 磁気記録テープ
JPH03107458A (ja) * 1989-09-22 1991-05-07 Suzuki Motor Corp 樹脂製容器内面に被膜を形成する方法
CA2048168A1 (en) 1990-08-03 1992-02-04 John T. Felts Silicon oxide based thin film vapour barriers
FR2670506B1 (fr) 1990-12-17 1993-02-19 Air Liquide Procede de depot d'une couche d'oxyde de silicium liee a un substrat en polyolefine.
JPH05279504A (ja) * 1991-02-28 1993-10-26 Suzuki Motor Corp 樹脂バンパーの製造方法
MX9303141A (es) 1992-05-28 1994-04-29 Polar Materials Inc Metodos y aparatos para depositar recubrimientos de barrera.
JP3465311B2 (ja) 1993-07-23 2003-11-10 東洋製罐株式会社 透明な珪素化合物の薄膜を設けたガス遮断性プラスチックス材およびその製造方法
KR100418145B1 (ko) * 1995-10-13 2005-01-31 다우 글로벌 테크놀로지스 인크. 피복된플라스틱기판을포함하는적층물
US5702770A (en) 1996-01-30 1997-12-30 Becton, Dickinson And Company Method for plasma processing
US5900284A (en) 1996-07-30 1999-05-04 The Dow Chemical Company Plasma generating device and method
US5691007A (en) 1996-09-30 1997-11-25 Becton Dickinson And Company Process for depositing barrier film on three-dimensional articles
SE520491C2 (sv) 1999-04-07 2003-07-15 Tetra Laval Holdings & Finance Förpackningslaminat med barriäregenskaper mot gas och aromämnen
JP2003535939A (ja) * 2000-06-06 2003-12-02 ザ ダウ ケミカル カンパニー ポリマー及び容器用の透過バリヤー層
FR2812568B1 (fr) * 2000-08-01 2003-08-08 Sidel Sa Revetement barriere depose par plasma comprenant une couche d'interface, procede d'obtention d'un tel revetement et recipient revetu d'un tel revetement
FR2814382B1 (fr) 2000-09-28 2003-05-09 Cebal Procede de depot d'un revetement interne dans un recipient en matiere plastique
TW570876B (en) * 2001-05-11 2004-01-11 Toyo Seikan Kaisha Ltd Silicon oxide film
US20030215652A1 (en) * 2001-06-04 2003-11-20 O'connor Paul J. Transmission barrier layer for polymers and containers
JP3678361B2 (ja) * 2001-06-08 2005-08-03 大日本印刷株式会社 ガスバリアフィルム
DE10258678B4 (de) * 2002-12-13 2004-12-30 Schott Ag Schnelles Verfahren zur Herstellung von Multilayer-Barriereschichten
JP2006507197A (ja) * 2002-11-12 2006-03-02 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド 容器にプラズマ被覆を付着させる方法及び装置
US7288311B2 (en) * 2003-02-10 2007-10-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Barrier film
WO2006133730A1 (en) * 2005-06-16 2006-12-21 Innovative Systems & Technologies Method for producing coated polymer

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007072120A1 (en) 2007-06-28
DK2597175T3 (en) 2016-12-05
PT2597175T (pt) 2016-11-16
KR20080025090A (ko) 2008-03-19
US20140255676A1 (en) 2014-09-11
HUE029458T2 (en) 2017-02-28
WO2006133730A1 (en) 2006-12-21
KR101326496B1 (ko) 2013-11-08
US20090042025A1 (en) 2009-02-12
AU2006327910B2 (en) 2011-12-01
EP1893788B1 (en) 2014-12-24
JP5023056B2 (ja) 2012-09-12
EP2597175B1 (en) 2016-08-10
CN101198722A (zh) 2008-06-11
BRPI0611779B1 (pt) 2017-10-10
BRPI0611779A2 (pt) 2010-09-28
US8715821B2 (en) 2014-05-06
EP1893788A1 (en) 2008-03-05
EP2597175A1 (en) 2013-05-29
CN101198722B (zh) 2010-12-08
US9302816B2 (en) 2016-04-05
PL1893788T3 (pl) 2015-05-29
ES2601954T3 (es) 2017-02-16
JP2008544011A (ja) 2008-12-04
CA2612167A1 (en) 2007-06-28
PL2597175T3 (pl) 2017-02-28
CA2612167C (en) 2015-01-13
PH12007502678B1 (ru) 2013-07-01
AU2006327910A1 (en) 2007-06-28
RU2417274C2 (ru) 2011-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008101700A (ru) Полимерное изделие, имеющее тонкое покрытие, образованное под действием плазмы, и способ получения такого изделия
CA2165598C (en) Method of producing a gradient layer
Guo et al. Adhesion improvements for diamond-like carbon films on polycarbonate and polymethylmethacrylate substrates by ion plating with inductively coupled plasma
DE19983075T1 (de) Organisches Substrat mit durch Magnetronzerstäubung gefällten optischen Lagen und Verfahren zur Herstellung desselben
CA2668925A1 (en) Atmospheric pressure plasma-induced graft polymerization
US20070281108A1 (en) Process for Plasma Coating
SG181236A1 (en) System and method for imprint-guided block copolymer patterning
JPH0790592A (ja) プラスチック製品のバリアコーティング方法
EP2346616B1 (en) Laser cladding of a thermoplastic powder on plastics
EP1275683A4 (en) Molded fluoroelastomer with excellent detachability and process for producing the same
Grundmeier et al. Tailoring of the morphology and chemical composition of thin organosilane microwave plasma polymer layers on metal substrates
US7608766B2 (en) Polymer treated surfaces and methods for making
KR20090087353A (ko) 자기조립 블록 공중합체를 이용한 나노 구조물 제조방법
DE60206012D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer T-förmigen Elektrode
KR20010013156A (ko) 플라즈마를 이용한 재료 표면에의 고분자 중합막 합성방법
FR2843130A1 (fr) Procede de revetement de la surface d'un materiau metallique, dispositif pour sa mise en oeuvre et produit ainsi obtenu
JP4403093B2 (ja) 複合材料およびそれを製造する方法
JP4706027B2 (ja) ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法
JPH0959380A (ja) フッ素化ポリイミドの表面改良方法
CN110465203A (zh) 提高抗污膜的附着力的方法
JP4590118B2 (ja) 光触媒装置
KR20010048633A (ko) 산화피막 형성방법
KR20020083273A (ko) 열교환기 방열핀 제조용 항균판재 및 그 제조방법
JPS6122433A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
CN118256873A (zh) 金属表面的处理方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200617