[go: up one dir, main page]

RU2005116302A - Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении - Google Patents

Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении Download PDF

Info

Publication number
RU2005116302A
RU2005116302A RU2005116302/04A RU2005116302A RU2005116302A RU 2005116302 A RU2005116302 A RU 2005116302A RU 2005116302/04 A RU2005116302/04 A RU 2005116302/04A RU 2005116302 A RU2005116302 A RU 2005116302A RU 2005116302 A RU2005116302 A RU 2005116302A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
formula
compound
coatings
materials
inks
Prior art date
Application number
RU2005116302/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Томас УЛЬРИХ (CH)
Томас Ульрих
Томас БОЛЛЕ (DE)
Томас БОЛЛЕ
Курт ДИТЛИКЕР (CH)
Курт ДИТЛИКЕР
Жан-Пьер ВОЛЬФ (CH)
Жан-Пьер ВОЛЬФ
Андре ФУКС (DE)
Андре ФУКС
Original Assignee
Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch)
Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch), Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. filed Critical Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch)
Publication of RU2005116302A publication Critical patent/RU2005116302A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/08—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
    • C07D295/096—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/112—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037—Production of three-dimensional images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Measuring Pulse, Heart Rate, Blood Pressure Or Blood Flow (AREA)

Claims (18)

1. Соединение формулы (I)
Figure 00000001
Figure 00000002
в которой R1 обозначает водород или алкил;
R2 обозначает С1-С4алкоксил или морфолиновый радикал; и
R3 обозначает водород или С1-С4алкоксил.
2. Соединение формулы (I) по п.1,
в которой R1 обозначает водород или С1-С4алкил, предпочтительно - метил;
R2 обозначает метокси или морфолиновый радикал; и
R3 обозначает водород или метоксил.
3. Соединение формулы (I) по п.1
Figure 00000003
Figure 00000004
или
Figure 00000005
4. Смесь соединения формулы (I) по п.1, с соединением формулы (II)
Figure 00000006
в которой R1, R2 и R3 являются такими, как определено в п.1.
5. Смесь соединения формулы (I) с соединением формулы (II) по п.4, включающая соединение формулы (I) и соединение формулы (II), в которой в каждом случае R1 обозначает метил, R2 обозначает морфолиновый радикал и R3 обозначает водород; или включающая соединение формулы (I) и соединение формулы (II), в которой в каждом случае R1 обозначает водород, R2 обозначает морфолиновый радикал и R3 обозначает водород; или включающая соединение формулы (I) и соединение формулы (II), в которой в каждом случае R1 обозначает водород и R2 и R3 обозначают метоксил.
6. Смесь по п.4 или 5, включающая от 0,1 до 10% соединения формулы (I) и от 90 до 99,9% соединения формулы (II).
7. Применение соединения формулы (I) по п.1 в качестве средства улучшения стабильности при хранении композиции, включающей соединение формулы (II) по п.4.
8. Способ улучшения стабильности при хранении композиции, включающей соединение формулы (II) по п.4, в котором к композиции прибавляют не менее одного соединения формулы (I) по п.1.
9. Фотополимеризующаяся композиция, включающая
(A) не менее одного этиленненасыщенного фотополимеризующегося соединения,
(B) не менее одного фотоинициатора формулы (II) по п.4,
(C) в качестве средства улучшения стабильности при хранении не менее одного соединения формулы (I) по п.1.
10. Композиция по п.9, включающая в дополнение к компоненту (В) дополнительный фотоинициатор(ы) (Е) и/или добавку(ки) (D).
11. Композиция по п.9 или 10, включающая от 0,05 до 20 мас.% фотоинициатора - компонента (В) или от 0,05 до 20 мас.% фотоинициаторов - компонентов (В)+(Е) в пересчете на композицию.
12. Отверждающаяся с помощью катализа основанием композиция, включающая
(F) не менее одного полимеризующегося с помощью катализа основанием или подвергающегося поликонденсации соединения,
(B) не менее одного фотоинициатора формулы (II) по п.4, и
(C) в качестве средства улучшения стабильности при хранении не менее одного соединение формулы (I) по п.1, и
(D1) необязательно сенсибилизатора.
13. Способ фотополимеризации нелетучих мономерных, олигомерных или полимерных соединений, содержащих не менее одной этиленненасыщенной двойной связи, при котором композицию по любому из пп.9-11 облучают светом в диапазоне длин волн от 200 до 600 нм.
14. Применение композиции по любому из пп.9-11 при изготовлении пигментированных и непигментированных покрытий поверхностей, типографских красок, красок для трафаретной печати, красок для офсетной печати, красок для флексографической печати, отверждаемых УФ-излучением чернил для струйной печати, порошкообразных покрытий, печатных плат, клеев, соединений для зубных пломб, световодов, оптических переключателей, систем цветового тестирования, композиционных материалов, покрытий для стекловолоконных кабелей, шаблонов для трафаретной печати, материалов резистов, цветных светофильтров, гелевых покрытий (тонких слоев), для капсулирования электрических и электронных компонентов, для изготовления материалов для магнитной записи, для изготовления трехмерных изделий с помощью стереолитографии, для изготовления фотографических репродукций, материала для записи изображений, для голографической записи, для изготовления обесцвечивающихся материалов, для изготовления обесцвечивающихся материалов для материалов для записи изображений, для изготовления материалов для записи изображений с использованием микрокапсул.
15. Способ по п.13 изготовления пигментированных и непигментированнык покрытий поверхностей, типографских красок, красок для трафаретной печати, красок для офсетной печати, красок для флексографической печати, отверждаемых УФ-излучением чернил для струйной печати, порошкообразных покрытий, печатных плат, клеев, соединений для зубных пломб, световодов, оптических переключателей, систем цветового тестирования, композиционных материалов, покрытий для стекловолоконных кабелей, шаблонов для трафаретной печати, материалов резистов, цветных светофильтров, гелевых покрытий (тонких слоев), капсулирования электрических и электронных компонентов, изготовления материалов для магнитной записи, изготовления трехмерных изделий с помощью стереолитографии, изготовления фотографических репродукций, материала для записи изображений, для голографической записи, изготовления обесцвечивающихся материалов, изготовления обесцвечивающихся материалов для материалов для записи изображений, изготовления материалов для записи изображений с использованием микрокапсул.
16. Подложка с покрытием, не менее чем на одну поверхность которой нанесено покрытие из композиции по любому из пп.9-12.
17. Применение отверждающейся при катализе основанием композиции по п.12 при изготовлении пигментированных и непигментированных покрытий поверхностей, защитных покрытий, базовых покрытий, грунтующих лаков, грунтовок, наружных покрытий, лаковых покрытий, покрытий, предназначенных для ремонта автомобилей, декоративных покрытий, отверждаемых УФ-излучением порошкообразных покрытий, отверждаемых УФ-излучением чернил для струйной печати, негативных резистов и печатных плат.
18. Способ изготовления пигментированных и непигментированных покрытий поверхностей, защитных покрытий, базовых покрытий, грунтующих лаков, грунтовок, наружных покрытий, лаковых покрытий, покрытий, предназначенных для ремонта автомобилей, декоративных покрытий, отверждаемых УФ-излучением порошкообразных покрытий, отверждаемых УФ-излучением чернил для струйной печати, негативных резистов и печатных плат путем отверждения с помощью основного катализатора композиции по п.12.
RU2005116302/04A 2002-10-28 2003-10-17 Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении RU2005116302A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH18002002 2002-10-28
CH20021800/02 2002-10-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2005116302A true RU2005116302A (ru) 2006-01-20

Family

ID=32111465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005116302/04A RU2005116302A (ru) 2002-10-28 2003-10-17 Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении

Country Status (16)

Country Link
US (1) US7291654B2 (ru)
EP (1) EP1556365B1 (ru)
JP (1) JP4575777B2 (ru)
KR (1) KR101059703B1 (ru)
CN (1) CN100430385C (ru)
AT (1) ATE338034T1 (ru)
AU (1) AU2003283441A1 (ru)
BR (1) BR0315786A (ru)
CA (1) CA2501438A1 (ru)
DE (1) DE60308052T2 (ru)
MX (1) MXPA05004015A (ru)
NZ (1) NZ539621A (ru)
RU (1) RU2005116302A (ru)
TW (1) TWI320789B (ru)
WO (1) WO2004037799A1 (ru)
ZA (1) ZA200502642B (ru)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050176841A1 (en) * 2003-12-30 2005-08-11 Krohn Roy C. UV curable ink compositions
JP4380359B2 (ja) * 2004-02-20 2009-12-09 Ｊｓｒ株式会社 スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその形成方法および液晶表示素子
JPWO2006062071A1 (ja) * 2004-12-07 2008-06-12 コニカミノルタエムジー株式会社 活性光線硬化型マゼンタインク組成物、活性光線硬化型インクジェット記録用マゼンタインク及び該インクを用いた画像形成方法ならびにインクジェット記録装置、活性光線硬化型印刷用マゼンタインク
US7459014B2 (en) * 2005-01-14 2008-12-02 Xerox Corporation Radiation curable inks containing curable gelator additives
US20060199028A1 (en) * 2005-03-02 2006-09-07 Dimitry Chernyshov Process for coating
US7806050B2 (en) 2006-02-06 2010-10-05 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
JP4952045B2 (ja) * 2006-04-28 2012-06-13 Ｊｓｒ株式会社 エネルギー線硬化型インクジェット印刷用インク
KR101433684B1 (ko) * 2006-07-17 2014-08-25 시바 홀딩 인크 결합방법
WO2008037635A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-03 Ciba Holding Inc. Photolatent bases for systems based on blocked isocyanates
KR100920603B1 (ko) * 2006-12-28 2009-10-08 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터
KR100881860B1 (ko) * 2007-01-17 2009-02-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
EP2053095B2 (en) † 2007-09-28 2017-02-22 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
US8486591B2 (en) * 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
IT1398626B1 (it) * 2009-03-30 2013-03-08 Carbontech S R L Materiale composito e/o multistrato con lettere, numeri, parole, immagini sulla superficie e relativo procedimento per la visualizzazione di esse.
CN102804061A (zh) * 2009-05-08 2012-11-28 惠普开发有限公司 作为疏水性涂层的功能化全氟聚醚材料
JP2010275392A (ja) * 2009-05-27 2010-12-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 重合性混合物、それから得られる樹脂成形体及びその製造方法
JP5812613B2 (ja) * 2010-03-09 2015-11-17 キヤノン株式会社 光音響整合材及び人体組織模擬材料
CN102206394B (zh) * 2010-03-31 2014-02-12 罗门哈斯公司 含水共聚物分散液和涂料组合物
JP5809780B2 (ja) * 2010-04-02 2015-11-11 Ｄｉｃグラフィックス株式会社 紫外線硬化性コーティングニス
US20130029046A1 (en) * 2010-04-09 2013-01-31 Basf Se Printing ink containing a divinyl ester
US9373923B2 (en) * 2011-11-22 2016-06-21 Savannah River Nuclear Solutions, Llc Rapid prototype extruded conductive pathways
KR20140083620A (ko) 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
CN103191739B (zh) * 2013-04-25 2015-07-29 上海师范大学 一种高产氢活性的金红石负载超长铜纳米线光催化剂及其制备方法和应用
JP2015002978A (ja) * 2013-05-23 2015-01-08 キヤノン株式会社 光音響用血液モデル
JP6388776B2 (ja) * 2014-03-12 2018-09-12 新日鉄住金化学株式会社 白色感光性樹脂組成物、それを用いた硬化物、及びその硬化物を構成成分として含むタッチパネル
US9482788B2 (en) 2014-12-05 2016-11-01 Pegavision Corporation UV-blocking silicone hydrogel composition and silicone hydrogel contact lens containing thereof
US10709530B2 (en) 2015-02-03 2020-07-14 Mitsui Chemicals, Inc. Photocurable composition, denture base, and plate denture
US9988539B2 (en) * 2015-11-12 2018-06-05 Ricoh Company, Ltd. Active-energy-ray-curable composition, active-energy-ray-curable ink, composition stored container, two-dimensional or three-dimensional image forming apparatus, two-dimensional or three-dimensional image forming method, cured material, and structure
EP3686252A1 (en) * 2019-01-24 2020-07-29 Agfa-Gevaert Nv Radiation curable inkjet ink for manufacturing printed circuit boards
CN110698433A (zh) * 2019-11-25 2020-01-17 怀化市恒渝新材料有限公司 一种光引发剂的纯化方法和设备
CN119916644B (zh) * 2025-04-02 2025-07-01 湖南初源新材料股份有限公司 包含炔基蒽光敏剂的感光树脂组合物及其应用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
ATE89262T1 (de) * 1987-03-26 1993-05-15 Ciba Geigy Ag Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren.
US5795985A (en) * 1996-03-05 1998-08-18 Ciba Specialty Chemicals Corporation Phenyl alkyl ketone substituted by cyclic amine and a process for the preparation thereof
US6620857B2 (en) * 1996-07-02 2003-09-16 Ciba Specialty Chemicals Corporation Process for curing a polymerizable composition
CN1214018C (zh) * 1997-09-17 2005-08-10 西巴特殊化学品控股有限公司 作为光稳定剂的吗啉酮化合物
US6478990B1 (en) * 1998-09-25 2002-11-12 Q2100, Inc. Plastic lens systems and methods
JP4164919B2 (ja) * 1998-11-30 2008-10-15 チッソ株式会社 光重合開始剤および光重合性開始剤組成物
WO2001092362A1 (en) * 2000-05-26 2001-12-06 Akzo Nobel N.V. Photoactivatable coating composition
WO2002066561A1 (en) * 2001-02-19 2002-08-29 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution
WO2004099302A1 (en) * 2003-05-06 2004-11-18 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photo-cured and stabilized coatings

Also Published As

Publication number Publication date
MXPA05004015A (es) 2005-06-08
KR20050065637A (ko) 2005-06-29
NZ539621A (en) 2006-03-31
DE60308052T2 (de) 2007-04-05
JP4575777B2 (ja) 2010-11-04
CN1708488A (zh) 2005-12-14
US20060100298A1 (en) 2006-05-11
US7291654B2 (en) 2007-11-06
EP1556365A1 (en) 2005-07-27
TWI320789B (en) 2010-02-21
TW200406425A (en) 2004-05-01
ZA200502642B (en) 2006-07-26
CN100430385C (zh) 2008-11-05
KR101059703B1 (ko) 2011-08-29
AU2003283441A1 (en) 2004-05-13
BR0315786A (pt) 2005-09-13
EP1556365B1 (en) 2006-08-30
CA2501438A1 (en) 2004-05-06
DE60308052D1 (de) 2006-10-12
WO2004037799A1 (en) 2004-05-06
JP2006515833A (ja) 2006-06-08
ATE338034T1 (de) 2006-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2005116302A (ru) Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении
KR102252495B1 (ko) 플루오레닐아미노케톤 광개시제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 uv 광경화성 조성물
JP2006515833A5 (ru)
JP5457636B2 (ja) 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
KR840000122B1 (ko) 감작되어진 방향성의 요오드늄 또는 설포늄 화합물을 함유하는 감광개시인자 조성물
EP2396299B1 (en) Liquid radiation curable resin compositions for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator
KR101804646B1 (ko) 하이브리드 광개시제
CN108957950B (zh) 含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
JPH09188686A5 (ru)
CN109689624A (zh) 过氧化肉桂酸酯衍生物、含有该化合物的聚合性组合物
JPH10291969A5 (ru)
KR970027090A (ko) 산에 안정한 광중합용 붕산염
KR930006035A (ko) 알킬비스아실포스핀옥사이드 광개시제 및 이를 함유하는 조성물
JP2010505977A5 (ru)
EP0485334B1 (en) Photopolymerizable compositions
JPS623843B2 (ru)
JP2010229284A (ja) 光硬化性組成物
JP2008214607A (ja) 光硬化性インクジェット用インク
US9104099B2 (en) Curable coatings for photoimaging
JP6775758B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型インク、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、組成物収容容器、２次元または３次元の像形成装置、２次元または３次元の像形成方法、硬化物、および加飾体
EP4038151A1 (en) Optically active build materials for 3d printing
JP7382010B2 (ja) 重合開始剤混合物、重合性組成物、硬化物、および硬化物の製造方法
JP6775759B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェット用インク組成物、組成物収容容器、２次元または３次元の像形成装置及び２次元または３次元の像形成方法
JP7336098B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェット用インク組成物、組成物収容容器、２次元または３次元の像形成装置、２次元または３次元の像形成方法、硬化物、及び、加飾体
JP6798116B2 (ja) 立体造形用材料、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インク容器、インク吐出装置、及び像形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20061207