[go: up one dir, main page]

RU2002123315A - Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате - Google Patents

Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате Download PDF

Info

Publication number
RU2002123315A
RU2002123315A RU2002123315/28A RU2002123315A RU2002123315A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A RU 2002123315/28 A RU2002123315/28 A RU 2002123315/28A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A RU 2002123315 A RU2002123315 A RU 2002123315A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
semiconductor material
photovoltaic
photovoltaic cell
cell according
matrix
Prior art date
Application number
RU2002123315/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Ханс-Йозеф ШТЕРЦЕЛЬ (DE)
Ханс-Йозеф ШТЕРЦЕЛЬ
Клаус КЮЛИНГ (DE)
Клаус Кюлинг
Original Assignee
БАСФ Акциенгезельшафт (DE)
Басф Акциенгезельшафт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE10142632A external-priority patent/DE10142632A1/de
Priority claimed from DE10223744A external-priority patent/DE10223744A1/de
Application filed by БАСФ Акциенгезельшафт (DE), Басф Акциенгезельшафт filed Critical БАСФ Акциенгезельшафт (DE)
Publication of RU2002123315A publication Critical patent/RU2002123315A/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/10Semiconductor bodies
    • H10F77/12Active materials

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Claims (13)

1. Фотовольтаически активный р- или n-допированный полупроводниковый материал, состоящий из тройного соединения общей формулы (I)
Figure 00000001
где Me означает Al, Ti, Zr, V, Nb, Та, Cr, Мо, W, Mn, Fe, Co, Ni, Cu или Ag;
SA, SB означает В, С, Si, Ge, Sb, Se или Те, где SA и SB, соответственно, являются различными группами Периодической таблицы;
х, у, z независимо от друг друга имеют значения от 0,01 до 1, и где доля по массе SA и SB вместе составляет не более 30%, будучи выраженной относительно всего полупроводникового материала, или из смешанного оксида общей формулы (II)
Figure 00000002
где Me является Fe, Cu, V, Mn, Sn, Ti, Мо, W;
n=целое число от 1 до 6;
а=1 или 2;
f=число от 0,2 до 5;
k=число от 0,01 до 2;
u+v+w+x=1,
за исключением тройных соединений, состоящих из AlB12 и SiB6.
2. Способ получения полупроводникового материала по п.1 спеканием или совместным плавлением с последующим спеканием смесей порошков элементов, либо спеканием смесей порошков оксидов, экструдированием с формированием ленты и, возможно, вытягиванием ленты в течение последующего охлаждения ниже точки плавления материала.
3. Фотовольтаическая ячейка, имеющая фотовольтаически активный полупроводниковый материал, состоящий из множества металлов или оксидов металлов, где фотовольтаически активный материал выбран из р- или n-допированного полупроводникового материала, состоящего из тройного соединения формулы (I)
Figure 00000003
где Me является Al, Ti, Zr, V, Nb, Та, Cr, Mo, W, Mn, Fe, Co, Ni, Cu или Ag;
SA, SB являются В, С, Si, Ge, Sb, Se или Те, где SA и SB соответственно, явдяются различными группами Периодической таблицы;
х, у, z независимо от друг друга имеют значения от 0,01 до 1, и где доля по массе SA и SB вместе составляет не более 30%, будучи выраженной относительно всего полупроводникового материала, или из смешанного оксида общей формулы (II)
Figure 00000004
где Me является Fe, Cu, V, Mn, Sn, Ti, Mo, W;
n=целое число от 1 до 6;
а=1 или 2;
f=число от 0,2 до 5;
k=число от 0,01 до 2;
u+v+w+x=1.
4. Фотовольтаическая ячейка по п.1, где в полупроводниковом материале SA и SB выбирают из В, С, Ge, Sb, Se или Те.
5. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Al, Ti и Zr.
6. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из V, Mb и Та.
7. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Cr, Мо или W.
8. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Mn, Fe, Со и Ni.
9. Фотовольтаическая ячейка по п.3 или 4, где в полупроводниковом материале Me выбирают из Cu и Ag.
10. Фотовольтаическая ячейка по п.3, где для смешанного оксида f имеет величину в интервале от 0,2 до 0,9 или 1, либо от 1,01 до 2, либо от 2,01 до 5.
11. Способ получения фотовольтаических ячеек по одному из пп.3-10 нанесением слоев полупроводникового материала на проводящие субстраты посредством трафаретной печати.
12. Способ комбинаторного получения и испытания полупроводниковых материалов для фотовольтаических ячеек по п.1, в котором матрицу тонкопленочных точек полупроводниковых материалов с различным составом получают на проводящем двумерном субстрате, субстрат подвергают тепловой обработке с доведением матрицы до желательной температуры измерения, и точки, соответственно, приводят в контакт с измерительной иглой, причем измеряют при освещении напряжение без нагрузки, ток и напряжение с уменьшением нагрузочного сопротивления и/или при коротком замыкании с последующим сохранением и оценкой.
13. Матрица из, по меньшей мере, 10 различных полупроводниковых материалов по п.1 на проводящем субстрате.
RU2002123315/28A 2001-08-31 2002-08-30 Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате RU2002123315A (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10142632.1 2001-08-31
DE10142632A DE10142632A1 (de) 2001-08-31 2001-08-31 Photovoltaisch aktive Materialien und diese enthaltende Zellen
DE10223744A DE10223744A1 (de) 2002-05-28 2002-05-28 Photovoltaisch aktive Materialien und diese enthaltende Zellen
DE10223744.1 2002-05-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2002123315A true RU2002123315A (ru) 2004-03-27

Family

ID=26010037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002123315/28A RU2002123315A (ru) 2001-08-31 2002-08-30 Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7026543B2 (ru)
EP (1) EP1291927A3 (ru)
JP (1) JP2003179243A (ru)
RU (1) RU2002123315A (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004052012A1 (de) * 2004-10-26 2006-04-27 Basf Ag Photovoltaische Zelle mit einem photovoltaisch aktiven Halbleitermaterial
DE102004052014A1 (de) * 2004-10-26 2006-05-04 Basf Ag Photovoltaische Zelle
DE102005047907A1 (de) * 2005-10-06 2007-04-12 Basf Ag Photovoltaische Zelle mit einem darin enthaltenen photovoltaisch aktiven Halbleitermaterial
US20080305573A1 (en) * 2006-01-03 2008-12-11 Basf Se Photovoltaically Active Semiconductor Material and Photovoltaic Cell
KR101160269B1 (ko) 2011-04-15 2012-06-27 포항공과대학교 산학협력단 삼성분계 반도체 복합체를 이용한 광전환 소재 및 이의 제조 방법
KR101626933B1 (ko) 2013-11-29 2016-06-02 주식회사 엘지화학 신규한 화합물 반도체 및 그 활용

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3008797A (en) * 1957-10-10 1961-11-14 Du Pont Ternary selenides and tellurides of silver and antimony and their preparation
GB970980A (en) * 1960-09-06 1964-09-23 Gen Electric Co Ltd Improvements in or relating to methods of preparing crystalline compounds
US3762960A (en) * 1965-11-24 1973-10-02 Teledyne Inc Thermoelectric alloys
US3390090A (en) * 1966-09-12 1968-06-25 Merck & Co Inc Metallic selenides and tellurides and process for making same
US4062706A (en) * 1976-04-12 1977-12-13 Robert Arthur Ruehrwein Process for III-V compound epitaxial crystals utilizing inert carrier gas
US4101923A (en) * 1977-03-22 1978-07-18 Gulko Arnold G Solar cells
JPS5457434A (en) * 1977-10-18 1979-05-09 Stanley Electric Co Ltd Vacuum depositing method for selenium
US4782377A (en) * 1986-09-30 1988-11-01 Colorado State University Research Foundation Semiconducting metal silicide radiation detectors and source
US4710588A (en) * 1986-10-06 1987-12-01 Hughes Aircraft Company Combined photovoltaic-thermoelectric solar cell and solar cell array
US5242505A (en) * 1991-12-03 1993-09-07 Electric Power Research Institute Amorphous silicon-based photovoltaic semiconductor materials free from Staebler-Wronski effects
DE4313866A1 (de) * 1993-04-28 1994-11-03 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Silicium-Bor-Legierungen sowie Verwendung der Legierungen
JP3348924B2 (ja) * 1993-08-04 2002-11-20 株式会社テクノバ 熱電半導体材料
US5641362A (en) * 1995-11-22 1997-06-24 Ebara Solar, Inc. Structure and fabrication process for an aluminum alloy junction self-aligned back contact silicon solar cell
US6013872A (en) * 1997-04-25 2000-01-11 Bayer Ag Directionally solidified, multicrystalline silicon, a process for the production thereof and its use, and solar cells containing this silicon and a process for the production thereof
DE19834236A1 (de) * 1998-07-29 2000-02-03 Basf Ag Carbonyleisensilizid-Pulver
US6312617B1 (en) * 1998-10-13 2001-11-06 Board Of Trustees Operating Michigan State University Conductive isostructural compounds
DE19910816A1 (de) * 1999-03-11 2000-10-05 Merck Patent Gmbh Dotierpasten zur Erzeugung von p,p+ und n,n+ Bereichen in Halbleitern
EP1074512B1 (en) * 1999-08-03 2017-02-15 IHI Corporation Clathrate compounds, manufacture thereof, and thermoelectric materials, thermoelectric modules, semiconductor materials and hard materials based thereon
US6384321B1 (en) * 1999-09-24 2002-05-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrolyte composition, photosensitized solar cell using said electrolyte composition, and method of manufacturing photosensitized solar cell
DE19955788A1 (de) * 1999-11-19 2001-05-23 Basf Ag Thermoelektrisch aktive Materialien und diese enthaltende Generatoren
DE10142634A1 (de) * 2001-08-31 2003-03-20 Basf Ag Thermoelektrisch aktive Materialien und diese enthaltende Generatoren und Peltier-Anordnungen

Also Published As

Publication number Publication date
US7026543B2 (en) 2006-04-11
EP1291927A2 (de) 2003-03-12
US20030051752A1 (en) 2003-03-20
EP1291927A3 (de) 2005-03-30
JP2003179243A (ja) 2003-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Park et al. Electrical properties of Ni–Mn–Co–(Fe) oxide thick-film NTC thermistors prepared by screen printing
Kanade et al. Composition dependent resistivity of thick film Ni (1− x) CoxMn2O4:(0≤ x≤ 1) NTC thermistors
Martin Specific heats below 3 K of pure copper, silver, and gold, and of extremely dilute gold-transition-metal alloys
US6744110B2 (en) Thermoelectrically active materials and generators and Peltier arrangements containing them
JP2001223392A (ja) 熱電気の活性材料およびこれを含んだ熱変換器
EP3796404B1 (en) Ag-se-based n-type thermoelectric material and flexible printed thermoelectric generator comprising the same
RU2002123315A (ru) Фотовольтаически активный р-или n-допированный полупроводниковый материал, фотовольтаическая ячейка, содержащая его, способ получения указанного материала, способ комбинаторного получения и испытания указанного материала, способ получения фотовольтаических ячеек и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате
US20050081906A1 (en) Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion element using the material, cooling device and electric apparatus using the element, and electric power generation method and cooling method using the element
Banerjee et al. Smart technique for fabrication of zinc oxide varistor
WO2007145030A1 (ja) 熱電材料
EP4099411A1 (en) Thermoelectric conversion module
JP3607249B2 (ja) 熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換素子
Kusy On the structure and conduction mechanism of thick resistive films
JP4024294B2 (ja) 熱電変換材料とこれを用いた熱電変換素子ならびにこの素子を備える電子機器および冷却装置
RU2002123316A (ru) Термоэлектрически активный р- или n-допированный полупроводник, термоэлектрический генератор или устройство пельтье, содержащие его, способ комбинаторного получения и испытания полупроводниковых материалов для термоэлектрических генераторов или устройства пельтье и матрица различных полупроводниковых материалов на проводящем субстрате
JP5877275B2 (ja) 熱電変換材料の製造方法
JP2571789B2 (ja) 超電導材料及びその製造方法
JP5949347B2 (ja) n型熱電変換性能を有する金属材料
Mazumdar et al. Superconductivity in the ternary nickel silicide Lu 2 Ni 3 Si 5
Iles et al. Ruthenium oxide glaze resistors
JP2002087882A (ja) 半導体磁器組成物とこれを用いた半導体磁器素子及びその製造方法
Brunets et al. Thick-film NTC thermistors based on spinel-type semiconducting electroceramics
CN110400867B (zh) 一种纸基热电薄膜的制备方法
EP0974983A1 (de) Thermistor
JPH09307146A (ja) 熱電変換素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20050831