RU2055422C1 - Интегральный элемент холла - Google Patents
Интегральный элемент холла Download PDFInfo
- Publication number
- RU2055422C1 RU2055422C1 RU9494018291A RU94018291A RU2055422C1 RU 2055422 C1 RU2055422 C1 RU 2055422C1 RU 9494018291 A RU9494018291 A RU 9494018291A RU 94018291 A RU94018291 A RU 94018291A RU 2055422 C1 RU2055422 C1 RU 2055422C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- type
- conductivity
- contacts
- hall
- gate electrode
- Prior art date
Links
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000005676 thermoelectric effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
Использование: для измерения магнитных полей в виде датчика в магнитоуправляемых схемах электронной автоматики или в качестве чувствительного элемента в интегральных магнитоуправляемых схемах. Сущность изобретения: интегральный элемент Холла представляет собой структуру, выполненную на полупроводниковой пластине первого типа проводимости, содержащей диффузионную область второго типа проводимости, окруженную диэлектрической изоляцией, внутри которой сформированы две подконтактные области холловских и две подконтактные области токовых контактов первого типа проводимости, контакты к ним и электрод затвора. В электроде затвора выполнены окна, под которыми сформированы подконтактные области токовых и холловских контактов, имеющие размеры не менее размеров окон. По периметру окон в электроде затвора расположена боковая диэлектрическая изоляция, края которой совпадают с краями контактных окон к данным областям, а между внешним краем электрода затвора и близлежащим к нему краем участка диэлектрической изоляции выполнена низкоомная область второго типа проводимости шириной не менее расстояния между этими краями. При этом тело элемента Холла определяется только конфигурацией электрода затвора независимо от прецизионности технологического оборудования и точности совмещения топологических слоев относительно друг друга. 3 ил.
Description
Изобретение относится к полупроводниковым магниточувствительным устройствам и может быть применено для измерения магнитных полей в виде дискретного датчика или в качестве чувствительного элемента в составе интегральных магнитоуправляемых схем.
Известна конструкция элемента Холла, полученная по КМОП-технологии на основе диффузионного кармана, применяемого для формирования n- или р- МОП-транзистора [1] и имеющая два токовых и два холловских контакта. Достоинство данной конструкции состоит в том, что для снижения влияния поверхностных явлений, в частности уменьшения влияния мигрирующего заряда в окисле на нестабильность остаточного напряжения во времени, применяется тонкий приповерхностный слой р- или n-типа.
Однако данная конструкция имеет низкое значение относительной магниточувствительности по току питания (около 100 В/(А Т) и высокое значение остаточного напряжения (Uб), называемого напряжением смещения нуля (напряжение неэквипотенциальности в отсутствие внешнего магнитного поля).
Известна конструкция элемента Холла на основе инверсионного слоя канала МОП-транзистора [2] в которой функцию холловской пластинки выполняет тонкий (порядка 10 нм) инверсионный канал МОП-транзистора. Достоинством данной конструкции является то, что она легко вписывается в КМОП-технологию изготовления ИС.
Данная конструкция также не лишена наличия остаточного напряжения Uо, причина возникновения которого в основном связана с неэквипотенциальным расположением областей холловских контактов.
Наиболее близким по технической сущности к изобретению является элемент Холла, полученный на основе n-МОП-транзистора [3] который представляет собой широкий, длинноканальный МОП-транзистор, имеющий помимо обычных областей стока, истока (выполняющих функции токовых контактов) и электрода затвора два холловских контакта электронного типа проводимости, расположенных вдоль индуцируемого затвором инверсионного канала на определенном расстоянии от истока. Относительная магниточувствительность по току питания данной конструкции составляет величину, близкую к 1000 В/(А Т), что является довольно высоким показателем для датчиков Холла, полученных на основе кремния. Так как данная конструкция не позволяет выполнять подконтактные области холловских контактов симметрично относительно друг друга и относительно подконтактных областей токовых контактов, то это обуславливает наличие высокой величины Uо, составляющей приблизительно 2% от величины выходного сигнала, что снижает прецизионность датчика и выход годных. Наличие Uо требует дополнительных методов или схемных решений для его устранения.
Для решения задачи снижения величины остаточного напряжения для интегрального элемента Холла, связанного с неэквипотенциальным расположением подконтактных областей холловсикх контактов, вследствие рассовмещения топологических слоев при формировании магниточувствительной структуры предлагается конструкция, содержащая в полупроводниковой пластине первого типа проводимости область второго типа проводимости, окруженную диэлектрической изоляцией, внутри которой сформированы две подконтактные области холловских и две подконтактные области токовых контактов первого типа проводимости, контакты к ним и электрод затвора.
Уменьшение величины остаточного напряжения достигается тем, что в электроде затвора выполнены окна, под которыми сформированы подконтактные области токовых и холловских контактов, имеющие размеры не менее размеров окон, по периметру окон в электроде затвора расположена боковая диэлектрическая изоляция, края которой совпадают с краями контактных окон к данным областям, а между внешним краем электрода затвора и близлежащим к нему краем участка диэлектрической изоляции выполнена низкоомная область второго типа проводимости шириной не менее расстояния между этими краями. При этом тело элемента Холла определяется только конфигурацией электрода затвора независимо от прецизионности технологического оборудования и точности совмещения топологических слоев относительно друг друга.
Основными источниками остаточного напряжения в интегральных датчиках Холла являются неточность совмещения, флуктуации параметров материалов, пьезорезистивные и термоэлектрические эффекты. Однако основной вклад в интегральную величину остаточного напряжения вносит неточность совмещения топологических слоев относительно друг друга, вызывающая асимметрию в расположении областей элемента Холла, что обусловливает появление напряжение смещения нуля.
В предлагаемой конструкции элемента Холла взаимное расположение подконтактных областей холовских и токовых контактов, контактные окна к ним, край низкоомной области второго типа проводимости, а следовательно, тело элемента Холла определяются только конфигурацией одного топологического слоя, а именно слоя электрода затвора. Рассовмещение остальных топологических слоев относительно электрода затвора не сказывается на геометрии тела элемента Холла и поэтому не привносит дополнительную асимметрию в расположении относительно друг друга выше перечисленных областей, а следовательно, не является источником остаточного напряжения. Это позволяет исключить величину остаточного напряжения, вызванную рассовмещением топологических слоев в процессе изготовления магниточувствительного элемента, а следовательно, уменьшить его интегральную величину.
Для определенности в дальнейшем считают первый тип проводимости электронным, второй дырочным.
Один из возможных вариантов структуры предлагаемого элемента Холла, поперечное сечение, приведен на фиг.1; вариант топологии элемента Холла на фиг. 2, где 1 полупроводниковая пластина первого типа проводимости, 2 диффузионная область второго типа проводимости, 3 изолирующая область, 4,5 подконтактные области токовых контактов, 6, 7 подконтактные области первого и второго холловских контактов, 8 электрод затвора, 9 подзатворный диэлектрик, 10 омический контакт к карману (низкоомная область второго типа проводимости), 11 токопроводящие контакты, 12 боковая диэлектрическая изоляция, 13, 15 окна в электроде затвора к подконтактным областям токовых контактов, 14,16 окна в электроде затвора к подконтактным областям холловских контактов. Вариант электрической схемы включения магниточувствительного элемента приведен на фиг.3, где Е источник питания; R нагрузочный резистор; ЕХ элемент Холла; 4 исток, 5 сток холловского МОП-транзистора; 6,7 холловские контактны; 8 электрод затвора; ОУ операционный усилитель.
В полупроводниковой пластине 1 (фиг.1) первого типа проводимости выполнена область 2 второго типа проводимости, окруженная диэлектрической изоляцией 3, внутри которой сформированы две подконтактные области холловских 6, 7 и две подконтактные области токовых 4, 5 контактов первого типа проводимости, контакты 11 к ним и электрод 8 затвора, расположенный на подзатворном диэлектрике 9. В электроде 8 затвора выполнены окна 13, 14, 15, 16 (фиг.2), под которыми сформированы подконтактные области токовых и холловских контактов, имеющие размеры не менее размеров окон в электроде затворе. По периметру окон выполнена боковая диэлектрическая изоляция 12 (фиг.1), края которой совпадают с краями контактных окон к данным областям, а между внешним краем электрода 8 затвора и близлежащим к нему краем участка диэлектрической изоляции 3 выполнена низкоомная область 10 второго типа проводимости шириной не менее расстояния между этими краями.
На фиг.3 показан один из вариантов электрической схемы включения элемента Холла, выполненного на основе n-МОП-транзистора. Подконтактная область 4 токового контакта (фиг.1 и 2) соединена с низкоомной областью 10 второго типа проводимости и заземлена, а на подконтактную область 5 токового контакта, соединенную с электродом 8 затвора, через нагрузочный резистор R подается положительное напряжение от источника питания Е, обеспечивающее номинальное значение тока, протекающего через элемент Холла. С холловских контактов 6, 7 выходной сигнал поступает на входы регистрирующего вольтметра или на входы операционного усилителя ОУ (внешнего или выполненного на одном кристалле с элементом Холла).
Рассмотрим принцип работы элемента Холла, выполненного на основе n-МОП-транзистора с индуцируемым каналом. При подаче на электрод 8 затвора положительного напряжения (большего, чем пороговое напряжение n-МОП-транзистора) на поверхности кремния второго типа проводимости под подзатворным диэлектриком 9 индуцируется тонкий проводящий канал первого типа проводимости. При подаче положительного напряжения между токовыми контактами 4, 5 через канал течет ток электронов. В отсутствие магнитного поля происходит одинаковое падение напряжения на плечах четырехрезистивного моста 4-6-5 и 4-7-5, так как геометрические размеры элемента Холла жестко определяются конфигурацией электрода затвора, под которым возникает токопроводящий канал, и, следовательно, потенциалы на холловских контактах 6 и 7 (фиг.3) равны, а дифференциальный сигнал между ними равен нулю. При возникновении магнитного поля, перпендикулярного поверхности кристалла, на электроны, двигающиеся под действием электрического поля от истока 4 к стоку 5, действует сила Лоренца, отклоняющая их к одному или другому холловскому контакту в зависимости от направления вектора магнитной индукции. В результате между холловскими контактами 6 и 7 возникает напряжение Холла, прямо пропорциональное величине вектора магнитной индукции.
Был изготовлен прибор на кремниевой подложке n-типа проводимости по планарной КМОП-технологии с локальной изоляцией окислом кремния. Диффузионный карман р-типа формировался путем ионной имплантации примеси соответствующего типа с последующим отжигом на глубину 5-7 мкм. Низкоомные области n- и р-типа сформированы также путем ионного легирования соответствующих типов примесей с последующим отжигом на глубину 1-1,5 мкм и имели концентрацию примеси не менее чем на порядок превышающую концентрацию примеси в области кармана, а электрод затвора был сформирован на основе поликристаллического кремния и расположен на подзатворном окисле кремния. Остаточное напряжение Uо составило 0,5-1% от величины полезного сигнала. Это в 2-4 раза меньше, чем в прототипе при той же относительной магниточувствительности по току, что позволяет использовать данную конструкцию в качестве малопотребляющего прецизионного магниточувствительного элемента и изготавливать ее в составе КМОП ИС.
Claims (1)
- ИНТЕГРАЛЬНЫЙ ЭЛЕМЕНТ ХОЛЛА, содержащий в полупроводниковой пластине первого типа проводимости область второго типа проводимости, окруженную диэлектрической изоляцией, внутри которой сформированы две подконтактных области холловских и две подконтактных области токовых контактов первого типа проводимости, контакты к ним и электрод затвора, отличающийся тем, что в электроде затвора выполнены окна, под которыми сформированы подконтактные области токовых и холловских контактов, имеющие размеры не менее размеров окон, по периметру окон расположена боковая диэлектрическая изоляция, края которой совпадают с краями контактных окон к данным областям, а между внешним краем электрода затвора и близлежащим к нему краем участка диэлектрической изоляции выполнена низкоомная область второго типа проводимости с шириной не менее расстояния между этими краями.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU9494018291A RU2055422C1 (ru) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | Интегральный элемент холла |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU9494018291A RU2055422C1 (ru) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | Интегральный элемент холла |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2055422C1 true RU2055422C1 (ru) | 1996-02-27 |
| RU94018291A RU94018291A (ru) | 1996-04-10 |
Family
ID=20156104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU9494018291A RU2055422C1 (ru) | 1994-05-18 | 1994-05-18 | Интегральный элемент холла |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2055422C1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2238571C2 (ru) * | 2000-05-19 | 2004-10-20 | Квинетик Лимитед | Датчик магнитного поля |
-
1994
- 1994-05-18 RU RU9494018291A patent/RU2055422C1/ru active
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| 1. Патент Великобритании N 2253941, кл. H 01L 43/04, 1992. * |
| 2. Заявка Японии N 53-54118, кл. H 01L 43/04, 1978. * |
| 3. Jagi A. and Sato S. Magnetic end electrical properties of n - channel MOS Holl - effect device, Jpn. J. Appl. Phys., 1976, N 15, р.655-661. * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2238571C2 (ru) * | 2000-05-19 | 2004-10-20 | Квинетик Лимитед | Датчик магнитного поля |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU94018291A (ru) | 1996-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3602611B2 (ja) | 横型ホール素子 | |
| US5528067A (en) | Magnetic field detection | |
| JP4624787B2 (ja) | ホール素子を備える磁界センサ | |
| US6903429B2 (en) | Magnetic sensor integrated with CMOS | |
| JP4653217B2 (ja) | 電界効果トランジスタのゲート・トンネル漏れのパラメータを測定するための方法及び構造体 | |
| US4908682A (en) | Power MOSFET having a current sensing element of high accuracy | |
| US3448353A (en) | Mos field effect transistor hall effect devices | |
| US4660065A (en) | Hall effect device with surface potential shielding layer | |
| US4634961A (en) | Method and circuit for the temperature compensation of a hall element | |
| CN102608547A (zh) | 场效应磁传感器 | |
| US5920090A (en) | Switched magnetic field sensitive field effect transistor device | |
| US7211459B2 (en) | Fabrication method of an ion sensitive field effect transistor | |
| RU2055422C1 (ru) | Интегральный элемент холла | |
| US7199434B2 (en) | Magnetic field effect transistor, latch and method | |
| JP3223387B2 (ja) | 電流検出機能付電界効果トランジスタ | |
| RU2097873C1 (ru) | Двухстоковый моп-магнитотранзистор | |
| RU2122258C1 (ru) | Сенсор вектора магнитного поля | |
| RU2055419C1 (ru) | Магниточувствительный биполярный транзистор | |
| JP5424469B2 (ja) | 磁気抵抗素子 | |
| JPH027423B2 (ru) | ||
| KR940008231B1 (ko) | 드레인 분리형 자기감지소자 | |
| JPH0888369A (ja) | 半導体装置 | |
| KR100293919B1 (ko) | 반도체 메모리의 센스앰프 레이아웃 구조 | |
| KR100556262B1 (ko) | 실리콘 이중막 웨이퍼의 절연 파괴 전압 측정용 전극 및그 측정 방법 | |
| JPS60202343A (ja) | 相補型半導体湿度センサ |