[go: up one dir, main page]

RU188856U1 - Долинный транзистор - Google Patents

Долинный транзистор Download PDF

Info

Publication number
RU188856U1
RU188856U1 RU2018145663U RU2018145663U RU188856U1 RU 188856 U1 RU188856 U1 RU 188856U1 RU 2018145663 U RU2018145663 U RU 2018145663U RU 2018145663 U RU2018145663 U RU 2018145663U RU 188856 U1 RU188856 U1 RU 188856U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
graphene
resonator
valley
transistor
drain
Prior art date
Application number
RU2018145663U
Other languages
English (en)
Inventor
Иван Андреевич Шелых
Иван Владимирович Иорш
Original Assignee
федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) filed Critical федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО)
Priority to RU2018145663U priority Critical patent/RU188856U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU188856U1 publication Critical patent/RU188856U1/ru

Links

Images

Classifications

    • H10W90/00

Landscapes

  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к области радиотехники и быстродействующей электроники, в частности к оптически управляемым транзисторам, и может быть использована для построения быстродействующих ключей для логических оптоэлектронных элементов.
Долинный транзистор состоит из расположенных на подложке истока, стока, токопроводящего канала, выполненного из графена, и резонатора, а также затвора, и отличается тем, что токопроводящий канал, выполнен из однородного монослоя графена, экранированного резонатором на 25%, а затвор выполнен из терагерцового лазера с функцией изменения электронных свойств графена, находящегося вне площади резонатора
Благодаря использованию однородного монослоя графена значительно повышается технологичность изготовления устройства, а его высокое быстродействие обеспечивается использованием излучения терагерцового лазера в качестве управляющего воздействия. 3 ил.

Description

Полезная модель относится к области радиотехники и быстродействующей электроники, в частности к оптически управляемым транзисторам и может быть использована для построения быстродействующих ключей для логических оптоэлектронных элементов.
Из уровня техники известен полевой транзистор на гетероструктуре [Патент РФ №2093924, МПК H01L 29/772, дата приоритета 10.03.1993, опубликовано 20.10.1997]. Данное устройство выполнено из полупроводниковых элементов, характеризующихся разной степенью легирования. Управляющим элементом транзистора является затвор, в котором режим пропускания сигнала через многослойный токопроводящий канал осуществляется посредством приложения к нему электрического поля. Недостатком устройства является низкая подвижность носителей заряда и наличие высоких омических потерь в материале канала, вызывающих ограниченное быстродействие и повышенные требования к отводу тепла от устройства.
Из уровня техники известно устройство полевого транзистора на инжекции спин-поляризованного тока [патент США US 5654566, МПК H01L 29/82, дата приоритета 21.04.1995, опубликовано 5.08.1997]. Данное устройство выполнено из токопроводящего канала на базе полупроводникового канала, двух электродов: стока и истока, выполненных из ферромагнитного материала, и предназначено в том числе для функционирования в ключевом режиме. Принцип работы данного устройства основывается на том, что спиновая поляризации тока инжектированного в исток, управляется с помощью приложенного магнитного поля. При определенных значениях поляризациях стока и истока достигается прохождение или отражение токового импульса, а значит пропускание или блокировка сигнала. Недостатком этого устройства является использование магнитных полей и ферромагнитных материалов.
Из уровня техники известно устройство спинового транзистора [Патент РФ №2387047, МПК H01L 29/82, дата приоритета 23.09.2008, опубликовано 20.04.2010]. В данном устройстве содержатся эмиттер (исток) спин поляризованных носителей, выполненный из ферромагнетика (EuO:Fe), база, выполненная из оксидного соединения, и детектор (сток), выполненный из широкозонного полупроводника (GaAs). Сила пропускаемого через базу туннельного спин-поляризованного тока зависит от величины приложенного внешнего магнитного поля, а использованные материалы допускают функционировании устройства при комнатной температуре. Недостатком этого устройства являются необходимость использования достаточно высоких магнитных полей для модификации транспортных свойств носителей заряда, приводящих к наличию у устройства двух характерных величин проводимости.
Наиболее близким аналогом долинного транзистора является известное устройство туннельного полевого транзистора на основе графена [Патент РФ №2554694, H01L 29/786, дата приоритета 05.02.2014, опубликовано 27.06.2015]. В этом устройстве содержатся расположенные на подложке электроды стока и истока, затвор, выполненный из проводящего материала (например золота), а также токопроводящий канал из многослойного графена, содержащий вакуумный барьер с кристаллографическим краем типа зигзаг. В данном устройстве управляющим воздействием является электрический потенциал, прикладываемый к затвору и регулирующий коэффициент прохождения туннельного тока через вакуумный барьер. Недостатками устройства аналога являются высокие предъявляемые требования к технологическому оборудованию при изготовлении вакуумного барьера для многослойного графена, а также невысокая производительность, ограниченная быстродействием управляющего воздействия.
Решается задача увеличения технологичности изготовления устройства и повышения быстродействия управляющего воздействия.
Технический результат достигается тем, что в предлагаемом долинном транзисторе, содержащем расположенные на подложке исток, сток и токопроводящий канал, выполненный из графена, используется однородный монослой графена, а функцию затвора выполняет терагерцовый лазер, работающий на частоте 33 ТГц с плотностью мощности 300 Вт/см2.
Сущность предлагаемой полезной модели поясняется рисунками, где
на фиг. 1 представлено схематическое изображение долинного транзистора.
на фиг. 2 представлена плотность носителей зарядов, протекающих через долинный транзистор, при нормальном режиме работы.
на фиг. 3 представлена плотность носителей зарядов, протекающих через долинный транзистор, при инверсном режиме работы.
Устройство выполнено в виде расположенной на подложке 1 многослойной гетероструктуры, состоящей из истока 2, стока 3, токопроводящего канала в виде монослоя графена 4, резонатора 5, экранирующего примерно 25% площади графена, а также затвора 6, выполненного в виде терагерцового лазера, который располагается над гетероструктурой.
Работа долинного транзистора осуществляется следующим образом. Долинный транзистор может работать в двух режима: прямом и инверсионном. При этом параметры функционированию меняются только за счет изменения эффективности переноса заряда от стока к истоку (или наоборот). В прямом режиме работы в исток 2 инжектируются электроны с заданным волновым вектором. Попадая в токопроводящий слой 4, находящийся между металлическими обкладками резонатора 5, электрон оказывается в невозмущенном электромагнитным полем лазера 6 графене, а значит приобретает дисперсионную зависимость с фиксированным значением ширины запрещенной зоны. В свою очередь, дисперсионная зависимость электронов вне резонатора 5 в зависимости от взаимных значений волнового вектора электрона и направления циркулярной поляризации электромагнитного поля лазера 6 приобретает дополнительное увеличение или уменьшение ширины запрещенной зоны. А именно, в случае наличия у электрона волнового вектора K, и при облучении устройства циркулярно поляризованным полем с плотностью мощности 300 Вт/см2 и частотой 33 ТГц, ширина запрещенной зоны вне резонатора 5 меньше, чем внутри. Это приводит к тому, что электрон покидает область инжекции и беспрепятственно достигает стока 3, создавая токовый сигнал. Если электрон имеет волновой вектор K', то ширина запрещенной зоны вне резонатора 5 больше, чем внутри. Поэтому заряд, инжектированный в исток 2, не выходит за пределы резонатора 5, что приводит к отсутствию токового сигнала. Обратная картина наблюдается при смене направления циркулярной поляризации электромагнитного поля. В этом случае электроны с волновым вектором K, будут локализоваться в области резонатора 5, а с волновым вектором K' беспрепятственно достигать стока 3.
При функционировании устройства в инверсном режиме электроны с заданным вектором K инжектируются в сток 3, после чего сразу попадают в токопроводящий канал 4, облучаемый электромагнитным полем лазера 6. При этом ширина запрещенной зоны в графене в области резонатора 5 для таких электронов оказывается больше, а значит, они не способны достичь области истока 2 и создать сигнал. Для электронов, обладающих волновым вектором K' область графена внутри резонатора 5 имеет меньшую ширину запрещенной зоны, а значит является для таких носителей ловушкой. Электроны, локализованные внутри резонатора 5, затем могут создать токовый сигнал, проникая в исток 2. Как и в случае прямого режима работы, инверсия направления циркулярной поляризации приводит к инверсии характеристик по отношению к состояниям K и K'.
Ниже приведен конкретный пример результатов апробации.
Для моделирования электронного транспорта во всех режимах работы долинного транзистора были использованы следующие параметры модели. Радиус верхней пластины резонатора, выполненной из золота равен 2 мкм. Толщина слоя, изолирующего монослой графена от обкладок микрорезонатора - 3 нм. Параметры управляющего электромагнитного поля: плотность мощности 300 Вт/см2, частота - 33 ТГц. Расстояние между истоком, располагаемым в центре резонатора и стоком - 15 мкм.
Результат моделирования прямого режима работы долинного транзистора представлен на Фиг. 2. Плотность электронов, имеющих волновой вектор K и K', в момент инжекции одинакова и приведена на Фиг. 2 (а). Дальнейшая временная динамика электронов, имеющих волновой вектор (К), приведена на панелях (b)-(d), а К' на панелях (e)-(f). Видно, что в первом случае электронная плотность достигает стока за времена порядка 30 пикосекунд, тогда как во втором случае электронная плотность остается локализованной в пределах резонатора произвольное время.
Результат моделирования инверсного режима работы долинного транзистора представлен на Фиг. 3. В это случае электронная плотность инжектируется в сток на расстоянии 15 мкм от истока. Как и в случае прямого режима работы, начальная электронная плотность электронов имеющих волновые вектора K и K' одинакова и приведена на Фиг. 3 (а). Расчет эволюции электронной плотности показывает, что в случае инжекции в сток электронов с волновым вектором K, они не достигают истока, рассеиваясь о потенциальный барьер, находящийся у границ резонатора. В случае инжекции электронов с волновым вектором K' происходит их частичный сбор в области резонатора за время, меньше чем 70 пс, что приводит к появлению токового сигнала.
Как показывают результаты моделирования, долинный транзистор обеспечивает функционал полевого транзистора, работающего в ключевом режиме с логическими сигналами за счет наличия двух характерных величин проводимости канала, зависящих от управляющего воздействия. Как и классический транзистор, долинный транзистор способен работать в двух режимах: прямом и инверсном, причем переключение между режимами может осуществляться как за счет изменения параметров инжектируемых носителей, так и за счет смены направления поляризации управляющего сигнала. В качестве управляющего сигнала в долинном транзисторе предлагается использование циркулярно поляризованного электромагнитного поля.

Claims (1)

  1. Долинный транзистор, содержащий расположенные на подложке исток, сток, токопроводящий канал, выполненный из графена, и резонатор, а также затвор, отличающийся тем, что токопроводящий канал выполнен из однородного монослоя графена, экранированного резонатором примерно на 25%, а затвор выполнен из терагерцового лазера с функцией изменения электронных свойств неэкранированной области графена при его облучении.
RU2018145663U 2018-12-20 2018-12-20 Долинный транзистор RU188856U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018145663U RU188856U1 (ru) 2018-12-20 2018-12-20 Долинный транзистор

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018145663U RU188856U1 (ru) 2018-12-20 2018-12-20 Долинный транзистор

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU188856U1 true RU188856U1 (ru) 2019-04-25

Family

ID=66315031

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018145663U RU188856U1 (ru) 2018-12-20 2018-12-20 Долинный транзистор

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU188856U1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2554694C1 (ru) * 2014-02-05 2015-06-27 Объединенный Институт Ядерных Исследований Туннельный полевой транзистор на основе графена
US9590739B2 (en) * 2013-05-20 2017-03-07 University Of Electronic Science And Technology Of China High electron mobility transistor-based terahertz wave space external modulator
RU170009U1 (ru) * 2016-10-13 2017-04-11 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Спиновый транзистор
US20170154975A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Graphene transistor and related methods
RU2654296C1 (ru) * 2017-04-14 2018-05-17 Альфред Габдуллович Габсалямов Пленочный полевой транзистор с металлическим каналом

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9590739B2 (en) * 2013-05-20 2017-03-07 University Of Electronic Science And Technology Of China High electron mobility transistor-based terahertz wave space external modulator
RU2554694C1 (ru) * 2014-02-05 2015-06-27 Объединенный Институт Ядерных Исследований Туннельный полевой транзистор на основе графена
US20170154975A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Graphene transistor and related methods
RU170009U1 (ru) * 2016-10-13 2017-04-11 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Спиновый транзистор
RU2654296C1 (ru) * 2017-04-14 2018-05-17 Альфред Габдуллович Габсалямов Пленочный полевой транзистор с металлическим каналом

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Chuang et al. All-electric all-semiconductor spin field-effect transistors
JP3748905B2 (ja) 量子効果デバイス
Sun et al. Spontaneous spin-polarized current in a nonuniform Rashba interaction system
Rocci et al. Gate-controlled suspended titanium nanobridge supercurrent transistor
Otteneder et al. Giant terahertz photoconductance of quantum point contacts in the tunneling regime
Grillet et al. Vertical GaSb/AlSb/InAs heterojunction tunnel-FETs: a full quantum study
JPWO2013027712A1 (ja) 整流装置、トランジスタおよび整流方法
Bocquillon et al. Microwave studies of the fractional Josephson effect in HgTe-based Josephson junctions
El Moutaouakil Two-dimensional electronic materials for terahertz applications: Linking the physical properties with engineering expertise
Sun et al. Spin injection, relaxation, and manipulation in GaN-based semiconductors
RU188856U1 (ru) Долинный транзистор
Subramaniam et al. Analysis of the device performance of quantum interference transistors utilizing ultrasmall semiconductor T structures
Li et al. Design, fabrication and characterization of In0. 23Ga0. 77As-channel planar Gunn diodes for millimeter wave applications
Grinberg et al. Theory of hot-electron injection in CHINT/NERFET devices
Nitta et al. Electrical manipulation of spin precession in an InGaAs-Based 2DEG due to the Rashba Spin-Orbit Interaction
Chatterjee et al. High electron mobility effect in band-engineered GaN/quasi-AlGaN based exotic avalanche transit time diode arrays: application as ultra fast THz switches
RU170009U1 (ru) Спиновый транзистор
Rakheja et al. Roles of doping, temperature, and electric field on spin transport through semiconducting channels in spin valves
Tarasenko Topological states: what are they and what are they for?
El-Ghazaly et al. Inverted-gate field-effect transistors: novel high-frequency structures
Morkoç Modulation Doped A1xGa1-xAs/GaAs Field Effect Transistors (MODFETS): Analysis, Fabrication and Performance
Zhu et al. Proposal for fast optical control of spin dynamics in a quantum wire
Buniatyan et al. Silicon carbide TUNNETT diodes
Gilbert et al. Application of narrow band-gap materials in nanoscale spin filters
Song et al. The Gate Hysteresis in Single Electron Transport Driven by Surface Acoustic Wave (SAW/SET) Devices