Uprawniony z patentu: Xerox Corporation, Rochester, Nowy Jork (Stany Zjednoczone Ameryki) Zespól usuwajacy czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego Przedmiotem wynalazku jest zespól usuwajacy czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego.W znanych urzadzeniach kserograficznych, plyta kserograficzna wykonywana zwykle w postaci fotoprze- wodzacej warstwy umieszczonej na przewodzacym podlozu jest ladowana równomiernie i naswietlana promienia¬ mi swietlnymi tworzacymi obraz powielanego dokumentu. Fotoprzewodzaca warstwa staje sie dobrym przewod¬ nikiem pod wplywem swiatla, w wyniku czego ladunki elektrostatyczne znajdujace sie na tej powierzchni zostaja rozproszone tworzac w ten sposób elektrostatyczny obraz utajony. Obraz utajony wywolany jest nastepnie za pomoca jednego ze znanych drobnych proszków barwiacych, które zostaly specjalnie opracowane w tym celu. W procesie kserograficznym sproszkowany wywolywacz przyciagany jest elektrostatycznie do obrazu utajonego w ilosci proporcjonalnej do znajdujacego sie na tej powierzchni wielkosci ladunku. Miejsca o malym ladunku przyciagaja male ilosci wywolywacza podczas gdy miejsca o ladunku wiekszym przyciagaja wieksze ilosci.Calkowicie wywolany obraz przenoszony jest z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie na przyklad papieru, a nastepnie ustalany tworzac w ten sposób trwala kopie oryginalu. Wywolywacz przenoszony jest zwykle z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie papieru podczas specjalnej operacji. Okazalo sie jednak, ze wystepuja podczas tej operacji sily, które silniej przyciagaja czasteczki pigmentu do powierzchni swiatloczulej niz sily przenoszace te czasteczki na papier. Tak wiec pewna ilosc tych czasteczek pozostaje na powierzchni swialtoczulej po operacji przeniesienia obrazu. Te pozostalosci toneru, jesli nie sa usuniete z powierzchni swialtoczulej, przeszkadzaja i powoduja rózne wady i trudnosci podczas nastepnych operacji naswietlania i wywolywania.Znane sa urzadzenia usuwajace czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej przez zbieranie pigmen¬ tu. Jednakze po dluzszym uzyciu element oczyszczajacy jest tak zanieczyszczony pigmentem, ze musi byc wymieniony na nowy. Element oczyszczajacy oraz pozostale czasteczki pigmentu zostaja w ten sposób wyeliminowane z dalszej pracy urzadzenia.W wysoko wydajnych urzadzeniach wymiana powyzsza oznacza nie tylko powazne straty ale jest równiez bardzo kosztowna. Znane sa równiez zespoly usuwajace czastki wywolywacza z powierzchni swialtoczulej za pomoca plyt oczyszczajacych wykonanych z gumy lub z materialu podobnego przesuwnej wzdluz powierzchni2 81 341 swialtoczulej w celu usuniecia z niej resztek wywolywacza. Zbierany pigment nawarstwia sie jednak miedzy plyta oczyszczajaca i powierzchnia swiatloczula powodujac w ten sposób znaczne trudnosci w oczyszczaniu calej plyty. Stosowano równiez srodki elektrostatyczne i pneumatyczne w celu zwiekszenia skutecznosci oczyszczania. .Znany jest z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2972767 zespól usuwajacy czastki wywolywacza zawierajacy plyte oczyszczajaca w formie cienkiego arkusza o stalym wymiarze i odpowiedniej wytrzymalosci i sztywnosci dla wytrzymywania naprezen wystepujacych w jego plaszczyznie. Plyta oczyszcza¬ jaca jest gietka w kierunku wzdluznym i promieniowym wzgledem oczyszczanego bebna tak, ze ustawia sie powierzchnie oczyszczajaca wzdluz kierunku dzialania nacisku roboczego. Plyta oczyszczajaca jest podtrzymy¬ wana w polozeniu zasadniczo prostopadlym wzgledem powierzchni oczyszczanej i oczyszcza te powierzchnie przez zbieranie z niej materialu.Celem wynalazku jest opracowanie konstrukcji zespolu usuwajacego czastki wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna urzadzenia kserograficznego o wiekszej skutecznosci oczyszczania niz zespoly znane dotychczas przez zastosowanie plyty oczyszczajacej powierzchnie za pomoca scinania nagromadzonej warstwy materialu. Cel wynalazku osiagnieto przez to, ze zespól usuwajacy czastki wywolywacza zawiera podluzna, elastyczna, prostokatna plyte oczyszczajaca oraz srodki mocujace te plyte, które stanowi obudowa dociskajaca plyte oczyszczajaca tak, ze jest ona odksztalcona na niepodpartej dlugosci, zas powierzchnia górna i powierz¬ chnia boczna plyty oczyszczajacej stykaja sie pod katem ostrym tworzac krawedz oczyszczajaca, przy czym górna powierzchnia jest lekko odchylona ku dolowi od powierzchni styku krawedzi oczyszczajacej z powierz¬ chnia swiatloczula bebna. Krawedz oczyszczajaca plyty przechodzi miedzy powierzchnia bebna a czasteczkami wywolywacza i odrzuca te czasteczki od powierzchni bebna ponad swobodnym koncem plyty.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykladzie wykonania na rysunku przedstawiajacym plyte oczyszczajaca dociskana do cylindrycznej powierzchni swiatloczulej.Kserograficzne urzadzenie powielajace zawiera kserograficzna plyze 10 zawierajaca fotoprzewodzaca warstwe swialtoczula, wykonana w postaci obrotowego walca ulozyskowanego na walku (niewidocznym na rysunku) w ramie urzadzenia. Plyta kserograficzna 10 obracana jest w kierunku strzalki uwidocznionej na rysunku w wyniku czego, powierzchnia swiatloczula przechodzi przez kilka podzespolów wykonujacych poszczególne operacje: ladowanie podczas którego powierzchia swiatloczula bebna jest ladowana równomiernie ladunkiem elektrycznym, naswietlanie podczas którego swiatlo lub promieniowanie odzwierciedlajace obraz kopiowanego dokumentu, pada na naswietlana powierzchnie rozpraszajac na niej ladunki w miejscach naswietla¬ nych tworzac utajacy obraz elektrostatyczny, wywolywanie podczas którego wywolywacz skladajacy sie z drobnych czastek pigmentu nakladany jest na powierzchnie naswietlana, pigment ten przywiera nastepnie do powierzchni swiatloczulej w postaci widocznego obrazu odzwierciedlajacego dokladnie oryginalny dokument kopiowany, przenoszenie podczas którego obraz wytworzony z pigmentu przenoszony jest elektrostatycznie z powierzchni swiatloczulej na powierzchnie papieru oraz usuwanie czastek wywolywacza z powierzchni swiatloczulej bebna podczas którego powierzchnie te poddawane najpierw przemiennemu skrobaniu a nastepie oczyszczaniu przez plyte oczyszczajaca w celu zdjecia pozostalosci pigmentu, która pozostala na tej powierz¬ chni po przeniesieniu obrazu na powierzchnie papieru i pigment ten jest zbierany w celu ponownego uzycia a plyta swiatloczula przechodzi obok zarzacej sie plyty w celu calkowitego rozladowania pozostalych ladunków elektrostatycznych.Plyta oczyszczajaca 46 osadzona jest nieruchomo w uchwycie 51 wykonanym w scianie obudowy 40 zespolu usuwajacego czastki wywolywacza. Plyta 46 podczas pracy urzadzenia docisnieta jest do bebna na calej jego dlugosci. Krawedz oczyszczajaca plyty, utworzona przez powierzchnie górna 47 oraz powierzchnie boczna 48 plyty umieszczona jest nieco ponizej linii srodkowej bebna przy czym plyta 46 jest tak zamocowana, ze jej krawedz zbiera pozostale czasteczki pigmentu z powierzchni bebna tak, jak ostrze noza tokarskiego skrawa obrabiana czesc. Sily powstajace podczas tego rodzaju operacji oczyszczania sa bardzo podobne do sil powstajacych podczas operacji toczenia, a wiec, najodpowiedniejszym ksztaltem plyty oczyszczajacej jest ksztalt noza tokarskiego. Górna powierzchnia 47 plyty 46 pochylona jest nieco tworzac z powierzchnia boczna 48 kat ostry dzieki czemu krawedz oczyszczajaca jest ostra. Plyta oczyszczajaca 46 jest tak osadzona w obudowie 40 zespolu usuwajacego czastki wywolywacza, ze miedzy powierzchnia boczna 48 a linia t styczna do powierzchni plyty 46 w punkcie styku tej powierzchni z powierzchnia boczna 48 utworzony jest ostry kat przylozenia. Kat przylozenia rózny jest dla róznych materialów plyty oczyszczajacej 46 w celu uzyskania optymalnego efektu oczyszczania powierzchni bebna.Doswiadczenia wykazaly, ze katy ostrza plyty oczyszczajacej moga byc rózne dla róznych materialów tej plyty w celu skutecznego wyeliminowania drgan plyty oraz innych niepozadanych skutków wystepujacych w czasie ruchu bebna. Jako material na plyte oczyszczajaca stosowany byc moze dowolny niemetaliczny81341 3 material sprezysty o wysokiej sprezystosci i wytrzymalosci. Przykladowymi materialami moga byc: kauczuk polisiloksenowy, kauczuk poliuretanowy, zywica policzterofluoroetylenowa* kauczuk styrenobutadienowy, kauczuk nitrylowy, kauczuk nitrokrzemowy, elastyczna piana poliuretanowa oraz ich zestawy, mieszanki i kopolimery. Plyta oczyszczajaca musi byc dostatecznie miekka w celu minimalnego scierania sie oraz scierania powierzchni swialtoczulej bebna.Material plyty oczyszczajacej powinien miec twardosc Shore'a okolo 55 do 75 i wspólczynnik wytrzy¬ malosci na rozciaganie okolo 14 do 21 kG/cm2 przy wydluzeniu 100% oraz sprezystosci dajacej 35% odbicia wedlug normy ASTM. Doswiadczenia wykazaly, ze plyta oczyszczajaca moze byc wykonana w duzych granicach grubosci bez zauwazalnych zmian w skutecznosci oczyszczania. Obudowa 40 w której zamocowana jest plyta oczyszczajaca 46 zamocowana jest na wahadlowej dzwigni 58 obrotowo osadzonej na walku 59 osadzonym nieruchomo w ramie urzadzenia. W celu ulatwienia wyjmowania bebna z urzadzenia obudowa 40 moze byc obracana wokól.walka 59 w dól. W polozeniu pracy obudowa 40 wraz z plyta oczyszczajaca 46 dociskana jest za pomoca sprezyn bocznych, w wyniku czego krawedz&czyszczajacej plyty 46 jest dociskana do powierzchni swiatloczulej.Korzystnie jest, gdy plyta oczyszczajaca wykonana jest z poliuretanu o wlasciwosciach fizycznych opisanych powyzej i osadzona jest jednym koncem w obudowie 40, przy czym plyta 46 wystaje z obudowy 40 na dlugosc L. Gdy obudowa 40 umieszczona jest w polozeniu roboczym krawedz oczyszczajaca plyty'46 docisnieta jest do powierzchni bebna w wyniku czego plyta 46 ugina sie O wielkosc d\ W wyniku sprezystosci plyta oczyszczajaca wywiera nacisk na powierzchnie swiatloczulego bebna ustawiajac sie samoistnie i dopasowujac do kazdej nieregularnosci powierzchni bebna, zapewniajac styk krawedzi oczyszczajacej na calej dlugosci bebna. Wartosc odksztalcenia równego dlugosci L ntepodpieranej plyty podniesiona do trzeciej potegi (L3) daje optymalne oczyszczenie z minimalnymi drganiami plyty oczyszczajacej a stosowanie kata wierzcholkowego a okolo 95° oraz kata przylozenia b okolo 25° zmniejsza do minimum drgania plyty przy jednoczesnym doskonalym oczyszczeniu.Odksztalcenie równe trzeciej potedze dlugosci niepodpartej plyty odnosi sie do wartosci od 8,8 mm do 12,5 mm. Odksztalcenie zwykle równe jest jednej szóstej dlugosci L niepodpartej plyty.W celu dalszego zmniejszenia tendencji plyty oczyszczajacej do drgania podczas oczyszczania bebna, walek 59 umieszczony jest na linii stycznej t dzieki czemu sily tarcia oraz sily dynamiczne przenoszone sa przez ten walek.Umieszczenie plyty oczyszczajacej nieco ponizej poziomu linii srodkowej bebna oraz ustawienie plyty pod katem wierzcholkowym wiekszym od 90° powoduje, ze wywolywacz usuwany z powierzchni swiatloczulej odrzucany jest na tylna powierzchnie plyty od powierzchni bebna. PL PL PL PLPatent proprietor: Xerox Corporation, Rochester, New York (United States of America) Unit for removing developer particles from the photosensitive surface of a drum of a xerographic device. As a photoconductive layer on the conductive substrate, it is charged uniformly and illuminated with light rays forming an image of the duplicated document. The photoconductive layer becomes a good conductor under the influence of light, as a result of which the electrostatic charges on this surface are dissipated, thus creating an electrostatic latent image. The latent image is then developed with one of the known fine coloring powders which have been specially developed for this purpose. In the xerographic process, the powdered developer is attracted electrostatically to the latent image in proportion to the amount of charge on that surface. Places with a low load attract small amounts of developer, while places with a greater load attract more amounts. The completely developed image is transferred from the photosensitive surface to the surface of, for example, paper, and then fixed, thus creating a permanent copy of the original. The developer is usually transferred from the photosensitive surface to the paper surface during a special operation. It turned out, however, that during this operation there are forces that attract the pigment particles to the photosensitive surface more strongly than the forces transferring these particles to the paper. Thus, a certain amount of these molecules remain on the hypersensitive surface after the image transfer operation. These toner residues, if not removed from the photosensitive surface, interfere with and cause various defects and difficulties during subsequent imaging and development operations. Devices are known to remove developer particles from the photosensitive surface by collecting the pigments. However, after prolonged use, the cleansing element is so contaminated with pigment that it must be replaced with a new one. The cleansing element and the remaining pigment particles are thus eliminated from the further operation of the device. In high-performance devices, the above replacement not only means serious losses but is also very expensive. Devices are also known to remove developer particles from the photosensitive surface by means of cleansing plates made of rubber or the like, sliding along the photosensitive surface in order to remove residual developer therefrom. However, the collected pigment builds up between the cleansing plate and the photosensitive surface, thus causing considerable difficulties in cleaning the entire plate. Electrostatic and pneumatic means were also used to increase the cleaning efficiency. A developer particle removal assembly comprising a cleaning plate in the form of a thin sheet of constant size and sufficient strength and stiffness to withstand the stresses in its plane is known from US Patent No. 2,972,767. The cleansing plate is pliable longitudinally and radially to the drum to be cleaned so that the cleansing surface aligns with the direction of the working pressure. The cleansing plate is held in a position substantially perpendicular to the surface to be cleaned and cleans these surfaces by collecting material therefrom. The object of the invention is to construct an assembly for removing developer particles from the photosensitive surface of a xerographic device with greater cleaning efficiency than those previously known by the use of a cleaning plate. surfaces by cutting the accumulated layer of material. The object of the invention is achieved by the fact that the developer particle removal unit comprises an elongated, flexible, rectangular cleaning plate and means for securing the plate, which constitute a housing that presses the cleaning plate so that it deforms over an unsupported length, and the top surface and the lateral surface of the cleaning plate. The cleansing edge is in acute angle to form a cleansing edge, the top surface slightly inclined downwardly from the contact surface of the cleansing edge with the drum's photosensitive surface. The cleaning edge of the plate passes between the drum surface and the developer particles and rejects these particles from the drum surface over the free end of the plate. The subject matter of the invention is illustrated in an embodiment in a drawing showing a cleansing plate pressed against a cylindrical photosensitive surface. Swaltochula, made in the form of a rotating cylinder located on a roller (not shown in the drawing) in the device frame. The xerographic plate 10 is rotated in the direction of the arrow shown in the figure, as a result of which the photosensitive surface passes through several subassemblies that perform certain operations: charging during which the light-sensitive surface of the drum is evenly charged with an electric charge, irradiation during which light or radiation reflecting the image of the copied document falls on the illuminated surface scattering charges on it in the illuminated places creating an electrostatic latent image, during which a developer consisting of fine pigment particles is applied to the illuminated surface, this pigment then adheres to the photosensitive surface in the form of a visible image accurately reflecting the original copied document, transferring during which the image made of the pigment is transferred electrostatically from the photosensitive surface to the surface of the paper and the removal of developer particles from the surfaces the photosensitive drum, in which these surfaces are first scraped alternately and then cleaned by a scrubbing plate to remove any residual pigment that remains on the surface after the image is transferred to the paper surface, and the pigment is collected for reuse and the photosensitive plate passes by. The cleaning plate 46 is fixed in a holder 51 made in the wall of the housing 40 of the developer removal unit housing 40. The plate 46 is pressed against the drum along its entire length during operation. The plate cleaning edge formed by the top 47 and side 48 of the plate is positioned slightly below the centerline of the drum and plate 46 is secured such that its edge collects the remaining pigment particles from the drum surface like the blade of a turning knife cuts the part being machined. The forces generated by this type of cleaning operation are very similar to those produced by a turning operation, so the most suitable shape for the cleaning plate is the shape of the turning knife. The top surface 47 of the plate 46 is inclined slightly to form a sharp angle with the side surface 48 so that the cleaning edge is sharp. The cleaning plate 46 is embedded in the housing 40 of the developer particle removal unit 40 such that an acute angle is formed between the side surface 48 and the line t tangent to the plate 46 at the contact point of that surface with side surface 48. The angle of the cleansing plate 46 is different for the different materials of the cleaning plate 46 in order to obtain an optimal cleaning effect on the drum surface. Experience has shown that the blade angles of the cleaning plate can be different for different materials of the cleaning plate in order to effectively eliminate the plate vibration and other undesirable effects occurring during the movement of the drum. . Any non-metallic resilient material with high resilience and strength may be used as the material for the cleansing plate. Examples of materials are: polysiloxene rubber, polyurethane rubber, polytetrafluoroethylene resin * styrene butadiene rubber, nitrile rubber, nitrosilicon rubber, flexible polyurethane foam and their sets, blends and copolymers. The cleansing plate must be soft enough to minimize abrasion and abrasion on the tissue-sensitive surface of the drum. The cleansing plate material should have a Shore hardness of about 55 to 75 and a tensile strength factor of about 14 to 21 kg / cm2 at 100% elongation and resilience giving 35% reflectance according to ASTM standard. Experiments have shown that the cleansing plate can be made to high thickness limits without any noticeable change in cleaning performance. The housing 40 in which the cleaning plate 46 is mounted is mounted on a swinging lever 58 rotatably mounted on a shaft 59 fixed in the frame of the device. To facilitate removal of the drum from the device, the housing 40 can be rotated around the shaft 59 downwards. In the operating position, the housing 40 together with the cleaning plate 46 is pressed by side springs so that the edge of the cleaning plate 46 is pressed against the photosensitive surface. It is preferred that the cleaning plate is made of polyurethane with the physical properties described above and is seated at one end in housing 40, with the plate 46 extending from the housing 40 by a length L. When the housing 40 is placed in the working position, the cleaning edge of the plate 46 is pressed against the surface of the drum, as a result of which plate 46 deflects by the amount d \ As a result of the resilience, the cleaning plate exerts pressure on the surface of the photosensitive drum self-aligns and adjusts to any irregularities in the surface of the drum, ensuring contact of the cleaning edge along the entire length of the drum. The value of the deformation equal to the length L of the unsupported plate raised to the third power (L3) gives an optimal cleaning with minimal vibration of the cleaning plate and the use of an apex angle of about 95 ° and an angle of overlap of about 25 ° minimizes the vibrations of the plate with perfect cleaning. The power of the unsupported plate length refers to a value from 8.8 mm to 12.5 mm. The deformation is usually equal to one sixth of the length L of the unsupported plate. To further reduce the tendency of the cleaning plate to vibrate during drum cleaning, roller 59 is positioned on a tangent line t so that frictional and dynamic forces are transmitted through the roller. Placement of the cleaning plate slightly below the level of the centerline of the drum and setting the plate at a peak angle greater than 90 ° causes that the developer removed from the photosensitive surface is rejected on the back surface of the drum from the surface of the drum. PL PL PL PL