PL81660B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL81660B1 PL81660B1 PL1971150100A PL15010071A PL81660B1 PL 81660 B1 PL81660 B1 PL 81660B1 PL 1971150100 A PL1971150100 A PL 1971150100A PL 15010071 A PL15010071 A PL 15010071A PL 81660 B1 PL81660 B1 PL 81660B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- condensation product
- compound
- condensation
- water
- Prior art date
Links
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 24
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 23
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims description 20
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 11
- -1 aromatic diazonium compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001752 diazonium salt group Chemical group 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 10
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 6
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N phenyl mercaptan Natural products SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical class OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical class [N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCS(O)(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- HMPHJJBZKIZRHG-UHFFFAOYSA-N chloromethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCl HMPHJJBZKIZRHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- FYAQQULBLMNGAH-UHFFFAOYSA-N hexane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCS(O)(=O)=O FYAQQULBLMNGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N isethionic acid Chemical compound OCCS(O)(=O)=O SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M methanesulfonate group Chemical class CS(=O)(=O)[O-] AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 150000008379 phenol ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- HNDXKIMMSFCCFW-UHFFFAOYSA-N propane-2-sulphonic acid Chemical compound CC(C)S(O)(=O)=O HNDXKIMMSFCCFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M sodium;methanesulfonate Chemical compound [Na+].CS([O-])(=O)=O KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- OQFSYHWITGFERZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCBr OQFSYHWITGFERZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXKMTSIKHBYZSZ-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCl FXKMTSIKHBYZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQPMYSHJKXVTME-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OCCCS(O)(=O)=O WQPMYSHJKXVTME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDJPYPEWMFJLV-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound COCCCS(O)(=O)=O WVDJPYPEWMFJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WZELXJBMMZFDDU-UHFFFAOYSA-N Imidazol-2-one Chemical group O=C1N=CC=N1 WZELXJBMMZFDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000421 Lepidium meyenii Nutrition 0.000 description 1
- 240000000759 Lepidium meyenii Species 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ZCSRMKWFMUDWAH-UHFFFAOYSA-N [5-(hydroxymethyl)-2,4-di(propan-2-yl)phenyl]methanol Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(CO)C=C1CO ZCSRMKWFMUDWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229940054021 anxiolytics diphenylmethane derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- SEGBQNJGOCXIGC-FHERZECASA-N benzyl n-[(2s)-1-[(4-hydroxyoxolan-3-yl)amino]-4-methyl-1-oxopentan-2-yl]carbamate Chemical compound N([C@@H](CC(C)C)C(=O)NC1C(COC1)O)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 SEGBQNJGOCXIGC-FHERZECASA-N 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- ZHGASCUQXLPSDT-UHFFFAOYSA-N cyclohexanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1CCCCC1 ZHGASCUQXLPSDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical group NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000763 evoking effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N guanidine group Chemical group NC(=N)N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003063 hydroxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940031574 hydroxymethyl cellulose Drugs 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 235000012902 lepidium meyenii Nutrition 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- YLGXILFCIXHCMC-JHGZEJCSSA-N methyl cellulose Chemical compound COC1C(OC)C(OC)C(COC)O[C@H]1O[C@H]1C(OC)C(OC)C(OC)OC1COC YLGXILFCIXHCMC-JHGZEJCSSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000004950 naphthalene Chemical class 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QQBPIHBUCMDKFG-UHFFFAOYSA-N phenazopyridine hydrochloride Chemical group Cl.NC1=NC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 QQBPIHBUCMDKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- RAJUSMULYYBNSJ-UHFFFAOYSA-N prop-1-ene-1-sulfonic acid Chemical compound CC=CS(O)(=O)=O RAJUSMULYYBNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: Hoechst Aktiengesellschaft, Frankfurt nad Me¬ nem, (Republika Federalna Niemiec) Swiatloczula masa do kopiowania, zwlaszcza do druku sitowego Przedmiotem wynalazku jest swiatloczula masa do kopiowania, zwlaszcza do druku sitowego, za¬ wierajaca produkt kondensacji aromatycznego zwiazku dwuazomiowego i hydrofilowy utwardzal- ny srodek wiazacy.Stosowanie produktów kondensacji aromatycz¬ nych zwiazków dwuazoniowych, np. dwuazo-dwu- fenyloamin i aldehydów, do druku sitowego jest znane np. z opisu patentowego RFN nr 1289 741.Wiadomo równiez, ze monomeryczne zwiazki dwu- azowe, np. dwuazo-dwufenyloaminy, daja w kom¬ binacji z aldehydami szczególnie do druku sitowe¬ go uzyteczne warstwy, które równiez przy na¬ swietlaniu ulegaja usieciowaniu (opis patentowy RFN nr 1 206 308).Znane jest wytwarzanie warstw sitodrukowych z utwardzalnych srodków wiazacych i mieszanych produktów kondensacji aromatycznych zwiazków dwuazoniowych ze zwiazkami zdolnymi do kon¬ densacji i aktywnymi zwiazkami karbonylowymi.Produkty kondensacji stosuje sie przy tym w po¬ staci ich soli rozpuszczalnych w wodzie, np. chlor¬ ków.W wymienionych wczesniejszych zgloszeniach patentowych opisano równiez sole produktów kon¬ densacji z alifatycznymi kwasami sulfonowymi ogólnie jako substancje swiatloczule, bez podania ich szczególnych wlasciwosci lub przydatnosci do szczególnych celów.Zadaniem wynalazku jest dostarczenie swiatlo¬ czulej masy do wytwarzania form sitodrukowych, która mialaby duza swiatloczulpsc i dobra trwa¬ losc podczas skladowania or$z tworzyla warstwy do kopiowania, które mozna wywolywac roztwo- 5 rami wodnymi, korzystnie czysta woda.Masa do kopiowania wedlug wynalazku, zawie¬ rajaca produkt kondensacji aromatycznego zwiaz¬ ku dwuazoniowego i hydrofilowy, utwardzalny srodek wiazacy, odznacza sie tym, ze zawiera pro- 10 dukt kondensacji z co najmniej jednego czjtonu ogójmego typu A(—D)n i co najmniej jednego czlo¬ nu ogólnego typu B, które polaczone sa ze soba podwójnie wiazacymi mostkami, wywodzacymi sie ze zdolnego do kondensacji zwiazku karbonylo- 15 wego, przy czym A oznacza reszte zwiazku, za¬ wierajacego co najmniej dwa izo- lub heterocy¬ kliczne pierscienie aromatyczne i dajacego sie kondensowac w kwasnym srodowisku w co naj¬ mniej jednym miejscu czasteczki z aktywnym 20 zwiazkiem karbonyjowym, D oznacza grupe soli dwuazcniowej stojaca przy aromatycznym atomie wegla czlonu A, n oznacza liczbe calkowita 1—JO, a B oznacza reszte zwiazku wolnego od grup dwu¬ azoniowych, który w kwasnym srodowisku, w co 25 najmniej jednym miejscu swej czasteczki, moze ulegac kondensacji z aktywnym zwiazkiem kar- bonylowym, przy czym anion soli dwuazoniowej jest pochodna alifatycznego kwasu jednosulfono- wego o i—6 atomach wegla, 30 Masy do kopiowania wedlug wynalazku odzna- 81 6603 81660 4 czaja sie, w porównaniu ze sluzacymi do tego samego celu znanymi masami podobnego rodzaju, znacznie wyzsza swiatloczuloscia i trwaloscia pod¬ czas skladowania. Wyzsza swiatloczulosc stanowi w zasadzie wlasciwosc cechujaca, jak to opisano w wyzej wspomnianych wczesniejszych zglosze¬ niach patentowych, wszystkie dwuazowe konden¬ saty mieszane, niezaleznie od ich anionu, podczas gdy trwalosc podczas skladowania i rozpuszczal¬ nosc w wodzie zalezy glównie od anionu.W znanych warstwach do sitodruku stosowano, w celu zapewnienia zdolnosci wywolywania woda, glównie rozpuszczalne w wodzie sole dwuazonio- we, jak halogenki i siarczany, w szczególnosci chlorki. Okazalo sie jednak, ze wytworzone przy ¦uzyciu tych soli dwuazoniowych masy do kopio¬ wania i warstwy do druku sitowego sa stosunko¬ wo malo trwale podczas skladowania. Dlatego w praktyce skladowano oddzielnie swiatloczule sub¬ stancje, jako tak zwane uczulacze i pozostalosc cieklej masy do kopiowania jako tak zwane emul¬ sje do sitodruku i laczono je dopiero bezposrednio przed zastosowaniem, tj. przed powleczeniem nos¬ nika sitodrukowego, na tak zwany lakier sitodru¬ kowy.Znano wprawdzie sole dwuazoniowe o lepszej trwalosci podczas skladowania w warstwach swia¬ tloczulych, jednak sole te byly zawsze zbyt malo rozpuszczalne w wodzie dla wywolywania wod¬ nego. Z tego faktu doswiadczalnego przyjmowano nawet, ze rozpuszczalnosc w wodzie i trwalosc podczas skladowania soli dwuazoniowych sa wlas¬ ciwosciami przeciwstawnymi.Dlatego szczególnie zaskakujacym byl fakt, ze zastosowane wedlug wynalazku sole dwuazoniowe nizszych alifatycznych kwasów sulfonowych wy¬ kazuja znacznie wieksza trwalosc podczas sklado¬ wania niz dotychczas stosowane, rozpuszczalne w wodzie sole, zarówno w postaci stalej jak i roz¬ tworze wodnym ioraz w gotowej warstwie swia¬ tloczulej, chociaz rozpuszczalnosc w wodzie ich korzystnych przedstawicieli jest nawet wieksza niz odpowiednich chlorków.Sole dwuazoniowe wedlug wynalazku w porów¬ naniu z dotychczas stosowanymi produktami ho- mokondensacji maja takze te zalete, ze mozna je latwo wydzielic w postaci stalej z wystepujacych przy ich wytwarzaniu mieszanin kondensacyjnych.W przypadku mas do kopiowania wedlug wy¬ nalazku mozliwe jest przechowywanie ich w cia¬ gu wielu miesiecy jako gotowe lakiery sitodruko¬ we w postaci cieklej lub takze jako wstepnie uczu¬ lone materialy do sitodruku.Alifatyczne kwasy monosulfonowe, które tworza aniony stosowanych wedlug wynalazku kondensa¬ tów dwuazoniowych, maja na ogól 1—6 atomów wegla i moga ewentualnie zawierac niezbyt ciez¬ kie podstawniki, np. atomy chlorowców, jak fluor, chlor, brom lub jod, grupy wodorotlenowe, etero¬ we itp. Na ogól wystepuje nie wiecej niz jeden "podstawnik. Lancuch alifatyczny moze byc prosty lub rozgaleziony albo pierscieniowy. Moze rów¬ niez zawierac wiazania podwójne.Przykladem odpowiednich kwasów sulfonowych sa kwas metanosulfonowy, kwas etanosulfonowy, kwas propano-2-sulfonowy, kwas propano-1-sulfo- nowy, kwas butano-1-sulfonowy, kwas 3-metylobu- tano-1-sulfonowy, kwas cykloheksanosulfonowy , kwas heksano-1-sulfonowy, kwas winylo-sulfono- 5 wy, kwas propeno-1-sulfonowy, kwas 2-hydroksy- etano-1-sulfonowy, kwas 3-hydroksypropano-l-sul- fonowy, kwas 3-metoksypropano-l-sulfonowy, kwas 2-chloroetanosulfonowy, kwas 2-bromoetanosulfo- nowy, kwas chlorometano-sulfonowy itd.Mozna równiez stosowac mieszaniny soli dwóch lub wiecej kwasów sulfonowych.Z reguly sole kwasów sulfonowych o liczbie atomów wegla wiekszej niz 4 sa mniej korzystne, gdyz ich rozpuszczalnosc w wodzie jest juz ogra¬ niczona. Naturalnie nalezy tutaj uwzgledniac cha¬ rakter chemiczny i ciezar czasteczkowy produktu kondensacji, które równiez maja wplyw na roz¬ puszczalnosc w wodzie. Tak wiec stosunkowo ni- skoczasteczkowe kondensaty, zawierajace grupy hydrofilowe, moga nawet w postaci heksanosulfo- nianów miec jeszcze zadowalajaca rozpuszczalnosc w wodzie. Generalnie korzystne sa jednak nizsze sulfoniany z nich przede wszystkim metanosulfo- niany. Te ostatnie wykazuja najlepsza rozpuszczal¬ nosc w wodzie, a jednoczesnie dobra trwalosc pod¬ czas skladowania.Zaleta metanosulfonianów w porównaniu z sul¬ fonianami wyzszymi jest takze ich nizsza cena.Mozna wreszcie takze szczególnie latwo wytwa¬ rzac, gdyz kwas metanosulfonowy stanowi odpo¬ wiednie srodowisko kondensacji dla wytwarzania dwuazowych kondensatów mieszanych. Przy jego zastosowaniu kondensat wytraca sie bezposrednio jako metanosulfomian. 35 Kondensaty mieszane mozna jednak równiez wytwarzac przez kondensacje w innych kwasach uzytych jako srodowisko kondensacyjne, np. w kwasie fosforowym i moga bez szkody zawierac jeszcze mniejsze ilosci srodowiska kondensacyjne¬ go. W sprzyjajacych przypadkach zwieksza sie przez to nawet ich trwalosc podczas skladowania.Równiez nadmiar srodka stracajacego, np. meta- nosulfonianu sodowego moze byc zawarty w sto- 45 sowanej wedlug wynalazku soli dwuazoniowej, bez oslabienia jej dzialania, jesli nie brac pod uwage efektu rozcienczania.Produkty kondensacji mozna wytworzyc, kon- densujac w silnie kwasnym srodowisku oo naj- 50 mniej jeden aromatyczny zwiazek dwuazaniowy o ogólnym wzorze A(—D)n i co najmniej jeden zwiazek B, przy czym symbole te maja wyzej po¬ dane znaczenie, z co najmniej jednym aktywnym zwiazkiem karbonylowym,- korzystnie z formalde- 55 . hydem, w postaci wolnej lub ze srodkami wydzie¬ lajacymi taki zwiazek karbonylowy.Wytwarzanie mieszanych kondensatów dwuazo¬ niowych wyzej podanego ogólnego typu mozna równiez przeprowadzac w ten sposób, ze rezyg¬ nuje sie ze stosowania aktywnego zwiazku karbo- nylowego jako takiego w kondensacji mieszanej, a w miejsce skladnika B stosuje sie skladnik za¬ stepczy Bj o ogólnym wzorze B(—CHRa—O—Rb)m, w którym E oznacza reszte pozostala przez od- 65 - szczepienie m atomów wodoru od zwiazku B o wy- 15 205 81 660 6 zej podanym znaczeniu,'Ra oznacza atom wodoru, reszte arylowa, alkilowa lub heterocykliczna, ko¬ rzystnie atom wodoru, Rb oznacza atom wodoru, reszte alkilowa, acylowa o 1—4 atomach wegla lub fenylowa i korzystnie atom wodoru, grupe me¬ tylowa, etylowa lub acetylowa, a m oznacza do¬ datnia liczbe calkowita 1 — okolo 10.Kondensacje oprowadzi sie w obecnosci silnie kwasnego srodka kondensujacego. Korzystnie sto¬ suje sie stezone, srednio silne i silne kwasy.Szczególnie odpowiednimi srodkami kondensa¬ cyjnymi sa kwas fosforowy, kwas metanosulfono- wy i kwas siarkowy, stosowane w stezeniach co najmniej 40, korzystnie 70, do 100°/o wagowych.Reszte stanowi na ogól woda, moze ona jednak równiez skladac sie calkowicie lub czesciowo z roz¬ puszczalników, np. metanolu, kwasu octowego, N- -metylopirolidonu itp. Dobre wyniki uzyskuje sie np. stosujac 80—100%-wy kwas fosforowy, 80°/o-wy kwas siarkowy i 90g/o-wy kwas metainosulfomowy. 85%-wy kwas fosforowy jest dosc lagodnym srcdkiem kcndensujacym, w którym kondensacje mozna przeprowadzic w sposób bardzo zachowaw¬ czy. Z tego powodu jest on najbardziej korzyst¬ nym srodkiem kondensujacym, w szczególnosci przy zastosowaniu drugiego opisanego sposobu, dla wszystkich kombinacji zwiazków, które w tych dosc zachowawczych warunkach dostatecznie szyb¬ ko reaguja. 90°/o-wy kwas metanosulfonowy jest srodkiem silniejszym. Kwas ten ma te dalsza duza zalete, ze moze rozpuszczac wiele skladników B i Bl Srednie ciezary czasteczkowe produktów konden¬ sacji moga byc zmieniane w szerokich granicach w zaleznosci od doboru komdensowanych skladni¬ ków i warunków kondensacji. Okazalo sie jednak, ze do wytwarzania dobrych materialów do kopio^ wania nadaja sie korzystnie kondensaty mieszane o ciezarach czasteczkowych okolo 5.000—10.000. Na¬ lezy przy tym miec oczywiscie na uwadze, ze cho¬ dzi tu o wartosci srednie.Jako grupy, które powoduja zdolnosc skladni¬ ków A(—D)n i B do kondensacji nalezy wymienic: Reszty arylowe i reszty heterocykliczne, które maja w rdzeniu pozycje zdolne do kondensacji. Ko¬ rzystne sa takie reszty, w których te pozycje w rdzeniu sa ponadto aktywowane. Aktywowanie to moze np. zachodzic przez skondensowanie z dal¬ szymi pierscieniami aromatycznymi lub przez pod¬ stawienie grupami —OH, —O—alkilowymi, —O— arylowymi, —SH—, —S—alkilowymi, —S—arylo- wymi, alkilowymi, arylowymi, aminowymi, alkilo- aminowymi, dwualkiloaminowymi, aryloaminowy- mi, dwuaryloaminowymi itd. Obok tych aktywuja¬ cych podstawników w zdolnych do kondensacji resztach aromatycznych lub heterocyklicznych mo¬ ga wystepowac równiez reszty utrudniajace kon¬ densacje, np. grupy nitrowe lub grupy kwasu sul¬ fonowego, jesli wywolana przez inne reszty akty¬ wacje tylko oslabiaja a nie niwecza; Reszty, które same podlegaja kondensacji i mo¬ ga byc bezposrednio przylaczone do reszt izo- lub heterocyklicznych albo do reszt alifatycznych lub ewentualnie sa bezposrednio ze soba zwiazane. Na¬ leza do nich takie ugrupowania jak grupy amido¬ we kwasów karboksylowych, grupy amidowe kwa¬ sów sulfonowych, grupy amidowe kwasów N-aUdlo- sulfonowych, grupy amidowe kwasów N-arylosul- fonowych, grupy nitrylowe, grupy mocznikowe, 5 grupy tiomocznikowe, grupy uretanowe, grupy ure- idowe, grupy tioureidowe, grupy glioksalodiureino- we, grupy imidazolonowe, grupy guanidynowe, grupy dwucyjandwuamidowe i znajdujace sie bez¬ posrednio przy pierscieniach aromatycznych grupy !o aminowe.Wazna grupa zwiazków dwuazoniowych, które stanowia surowce wyjsciowe dla szczególnie w za¬ kresie niniejszego wynalazku korzystnych produk¬ tów kondensacji, jest zbudowana wedlug nastepu- 15 jacego ogólnego wzoru: (Ri—R3—)PR2—N2X, w któ¬ rym p oznacza dodatnia liczbe calkowita 1 — oko¬ lo 3, korzystnie 1, X oznacza anion zwiazku dwu- azoniowego, Ri oznacza reszte, ewentualnie jeszcze podstawiona, aromatyczna izo- lub heterocykliczna, 20 która ma co najmniej jedna pozycje zdolna do kondensacji, korzystnie reszte fenylowa, ewentual¬ nie podstawiona; jako podstawniki korzystne sa takie, które zwiekszaja reaktywnosc rdzenia w kon¬ densacji, w szczególnosci grupy alkilowe i alkoksy- 25 lowe, R2 oznacza pierscien aromatyczny szeregu benzenowego lub naftalenowego, korzystnie piers¬ cien benzenowy, który oprócz grupy dwuaaowej moze zawierac jeszcze dalsze podstawniki, R3 ozna¬ cza czlon laczacy miedzy pierscieniami Rx i R2, np. 30 podanych nizej typów, przy czym zawsze reszta Ri stoi po lewej, zas grupa R2 po prawej stronie, jesli grupa R3 nie jest symetryczna: pojedyncze wiaza¬ nie homeopolarne — (CH2)q—NR4—, w którym q oznacza liczbe calkowita 0—5. R4 oznacza atom wo- 35 doru, grupe alkilowa o 1—5 atomach wegla, grupe aryloalkilowa o 7—12 atomach wegla lub arylowa o 6—12 atomach wegla, —(CH2)q—NR4—(CHtJi— —NR5—, w którym r oznacza liczbe calkowita 2—5 R5 oznacza atom wodoru lub grupe alkilowa o 1—5 40 atomach wegla, —O—(CH2),—NH4—, ^S—(CH,),— —NR4, —O—R6—O—, w którym R6 oznacza arylen o 6—12 atomach wegla, —O—, —S—, —CO—NR4—, —SOz—NR4—. Korzystnie R3 stanowi wiazanie- ho¬ meopolarne lub jeden z czlonów —O—, —S— 45 i —NH—.Szczególnie wazna grupe zwiazków dwuazowych, które zbudowane sa wedlug ogólnego wzoru Rx—R3—Rj—N2X i znajduja korzystne zastosowanie do wytwarzania dwuazowych produktów kondensa- 50 eji, stanowia sole jonu dwufenyloamino-4-dwuazo- niowego i produktów jego podstawiania.Korzystne sa przede wszystkim sole dwufenylo- amino-4^dwuazoniowe, które sa pochodnymi 3^-al- koksy-4-amino-dwufenyloamin o 1—3 atomach we- 55 gla w grupie alkoksylowej, szczególnie 3-metoksy- -4-aminodwufenyloaminy.Zwiazki stosowane jako skladniki B lub jako po¬ chodne od nich skladniki Bx moga np. nalezec do nastepujacych grup substancji: weglowodory aro- 60 matyczne, aminy aromatyczne, fenole i tiofenole, fenoloetery i tiofenoloetery, zwiazki heterocyklicz¬ ne, mocznik, tiomocznik, amidy kwasów karboksy¬ lowych alifatycznych i aromatycznych, amidy kwa¬ sów sulfonowych alifatycznych i aromatycznych. 65 Korzystne sa skladniki B i/albo B^ których cie-SI 660 7 8 zar czasteczkowy wynosi ponizej 500, korzystnie ponizej 250.Koirzystnymi zwiazkami sa fenoloetery, tiofenolo- etery, weglowodory aromatyczne i niezasadowe zwiazki heterocykliczne. Sposród zwiazków wybra¬ nych z tych klas substaincji szczególnie korzystne sa pochodne dwufenyloeteru, dwufenylosiarczku, dwufenylometanu i dwufenylu, które moga zawie¬ rac jeden lub dwa podstawniki, np. atomy chlo¬ rowca, reszty alkilowe i alkoksylowe, korzystnie jednak sa niepodstawione.Jedna z szczególnie w ramach niniejszego wyna¬ lazku korzystnych grup polikondensatów dwuazo- wych stanowia produkty kondensacji soli 3-al- koksy-dwufenyloamino-4-dwuazoniowych, zwlasz¬ cza 3-metoksy-dwufenyloamino-4-dwuazoniowych, a z posród wyzej wspomnianych skladników za¬ stepczych szczególnie te, które wytwarza sie ze zwiazków typu A(—D)n i B, w warunkach lagod¬ nych, tzn. w 80—100%-wym kwasie ortofosforo¬ wym, w temperaturze w granicach +10° do okolo +40°C. Cecha znamienna takich kondensatów jest dobra swiatloczulosc przy dobrej trwalosci podczas skladowania. Jako szczególnie korzystne produkty kondensacji z tej grupy nalezy wymienic konden¬ saty soli 3-metoksy-dwufenyloamino-4-dwuazonio- wych i skladników Bi z szeregu 4,4'-bis-metoksy- metylodwufenyloeteru, 4,4'-bis-metoksymetylo-dwu- fenylosiarczku, 4,4'-bis-metoksymetylo-dwufenylo- metanu i 4,4/-bis-metoksymetylo-dwufenylu.Zastosowanie w ramach niniejsziego wynalazku znajduja szczególnie kondensaty mieszane, które zawieraja 0,1—5, korzystnie 0,5—2, a jeszcze ko¬ rzystniej okolo 1 mola zwiazku typu B lub Bx na mol zwiazku typu A(—D)n w postaci skondensowa¬ nej w mieszaninie.Na ogól w celu wytworzenia stosowanej wedlug wynalazku soli organicznego kwasu sulfonowego do stezonego roztworu rozpuszczalnej soli miesza¬ nego kondensatu dwuazowego dodaje sie kwasu ma¬ jacego dac anion, w postaci wolnej lub w postaci rozpuszczalnej soli, przy czym dodatek wprowadza sie w postaci stalej lub w postaci roztworu. Sro¬ dowisko, w którym zachodzi wytwarzanie, powin¬ no byc tak dobrane, aby zadana sól alifatycznego kwasu jednosulfonowego mozliwie slabo rozpusz¬ czalo, albo pozwalalo na wysalanie przez dodanie nadmiaru kwasu sulfonowego lub jego soli.Z korzyscia proces prowadzi sie w roztworach wodnych, tzn. rozpuszcza sie np. surowe mieszani¬ ny kondensacyjne, tak jak wystepuja one przy wytwarzaniu produktów kondensacji, w wodzie i dodaje odpowiedni kwas sulfonowy lub jego sól metalu alkalicznego w postaci substancji albo jako stezony roztwór wodny. Zadana sól wytraca sie, w zaleznosci od zastosowanych skladników, *w po¬ staci stalego osadu, który mozna odsaczyc, lub jako ciagliwa masa, która oddziela sie od lugu macie¬ rzystego przez dekantacje.Jest równiez mozliwe w celu wytworzenia tego rodzaju kondensatów zastosowanie alifatycznych kwasów sulfonowych juz jako srodka kondensuja- * cego, i w celu wytracenia zadanego produktu zmie¬ szanie z inierozpuszczalnikiem produktu kondensacji, który jednak rozpuszcza srodowisko kondensacji.Korzystne jest, jesli w ramach niniejszego wy¬ nalazku stosowana sól dwuazoniowa alifatycznego kwasu jednosulfonowego zawiera jeszcze niewielka ilosc kwasu, korzystnie H3P04, H2S04 lub kwasu metanosulfonowego, gdyz przez to poprawia sie trwalosc produktu podczas skladowania.Szczególnie prosto przebiega tein proces, jesli ta ilosc kwasu jest pozostaloscia srodka kondensuja- ce@o, przy czym zostaje on niecalkowicie oddzielo¬ ny. Mozna ja jednak równiez dodac pózniej do czy¬ stej substancji. Ilosc kwasu powinna wynosic na ogól nie wiecej niz 2 mole, korzystnie nie wiecej jak 0,5 mola na równowaznik grupy dwuazoniowej.Do wytwarzania mas do kopiowania wedlug wy¬ nalazku mozna stosowac rózne hydrofilowe srodki wiazace w kombinacji z opisanymi zwiazkami dwu- azowymi. Bardzo dobrze nadaja sie do tego poli¬ alkohol winylowy, czesciowo zacylowany polialko¬ hol winylowy, czesciowo zhydrolizowany polioctan winylu, kwas poliakrylowy, metyloceluloza, hydro- ksymetyloceluloza i zelatyna. Szczególnie korzystne sa koloidy syntetyczne, np. polialkohol winylowy, czesciowo zmydlone poliestry winylowe oraz dys¬ persje polioctanu winylu wewnetrznie zmiekczone¬ go np. przez kopolimeryzacje z maleinianami.Mozna równiez do mas kopiowych dodawac je¬ szcze wypelniacze w postaci silnie rozdrobnionej, np. o uziarnieniu 5—30 [x, korzystnie 10—20 \i. JakoN wypelniacze stosuje sie tworzywa sztuczne, jak poli¬ amidy, poliestry, poliuretany i polimery winylowe, np. polioctany winylu, polistyren, polichlorki wi¬ nylu i polichlorki winylidenu. Korzystnie stosuje sie je w postaci dyspersji. Jako wypelniacze uzy¬ teczne sa ponadto drobno sproszkowany dwutlenek krzemu, tlenek glinu, dwutlenek tytanu, krzemion¬ ka, glinka, sproszkowane szklo, barwniki metalo- kompleksowe, pigmenty barwne. Ponadto mozliwy jest dodatek zmiekezaczy, srodków zwilzajacych, skrobi, soli i srodków konserwujacych.Jako rozpuszczalnik cieklej masy do kopiowania stosuje sie korzystnie wode. Mniejsza czesc roz¬ puszczalnika moze jednak równiez skladac sie z mieszajacych sie z woda rozpuszczalników orga¬ nicznych, np. nizszych alkoholi, z których korzyst¬ ny jest metanol.Mase do kopiowania mozna barwic nie tylko barwnikami pigmentowymi, lecz równiez rozpusz¬ czalnikowymi.W niektórych przypadkach jest równiez wskaza¬ ne zabarwianie niebarwionej masy do kopiowania dopiero po naswietleniu i wywolaniu na nosniku warstwy, przewaznie na tkaninie sitodrukowej.Mozna tego dokonac przez zanurzenie lub polanie roztworem barwnika i splukanie nadmiaru barw¬ nika niezaadsorbowanego. Mozna równiez przez za¬ nurzanie lub polanie zasadowym roztworem sklad¬ nika sprzegajacego sie, wytworzyc barwnik w usie- ciowanej warstwie po wywolaniu, poniewaz mimo dostatecznego usieciowania pod wplywem swiatla wystepuja nadal w warstwie jeszcze mierozlozoine, zdolne do sprzegania grupy dwuazowe.Jesli swiatloczule masy do kopiowania wedlug wynalazku wystepuja jako stale warstwy kopiowe na nosniku do druku sitowego, to jako nosnik mo¬ ga sluzyc znane do tego celu materialy. W pierw- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6081660 9 10 szym rzedzie wchodza tu w rachube plaskie i owal¬ ne szablony do druku sitowego i druku na mate¬ rialach wlókienniczych. Moga one skladac sie z tka¬ nin lub runa wlóknistego albo z perforowanych folii z tworzyw sztucznych, jak poliamid lub poli¬ ester, lub z tkanin jedwabnych albo papieru ja¬ ponskiego, z tkanin metalowych ze stali, mosiadzu lub brazu albo z galwanicznie wytwarzanych sza¬ blonów rotacyjnych, korzystnie niklowych.Stosowane w masach do kopiowania wedlug wy¬ nalazku zwiazki swiatloczule pozwalaja równiez na dodanie stosunkowo duzych ilosci nierozpuszczal¬ nych w wodzie zywic i innych substancji bez po¬ gorszenia zdolnosci latwego i szybkiego wywolywa¬ nia wywolywaczami wodnymi.Masa do kopiowania wedlug wynalazku w po¬ staci uprzednio uczulonego materialu do druku si¬ towego osiaga dobre wlasciwosci znanych juz od dawna warstw koloidowo-dwuchromianowych, nie posiadajac ich wad. Zastosowane w niej zwiazki dwuazowe odznaczaja sie nie tylko dobra rozpusz¬ czalnoscia w wodzie i trwaloscia podczas sklado¬ wania, lecz w przeciwienstwie do znanych dotad cieklych lub oleistych dwuazowych produktów kondensacji stanowia stale proszki. W celu lepsze¬ go konfekcjonowania mozna je mieszac z innymi sproszkowanymi substancjami rozpuszczalnymi w wodzie, np. z polialkoholem winylowym.Nowe masy do kopiowania i wytworzone z nich materialy kopiowe odznaczaja sie przede wszyst¬ kim tym, ze w porównaniu z dotychczas stosowa¬ nymi do tego celu materialami opartymi na zwiaz¬ kach dwuazowych sa wyraznie bardziej swiatlo¬ czule i osiagaja swiatloczulosc porównywalna z warstwami dwuchromianowymi. Nie maja one natomiast wad dwuchromianowych mas do kopio¬ wania, z których najbardziej znanymi sa: bardzo miala trwalosc powleczonego materialu podczas skladowania wskutek termicznego utwardzania sie bez udzialu swiatla, slaba trwalosc podczas skla¬ dowania uczulonego roztworu, niestalosc wlasci¬ wosci kopiowania i toksycznosc dwuchromianów.Dalsza wada warstw dwuchromianowych jest to, ze utwardzone warstwy tylko z trudem lub wcale nie daja sie usunac. Mozliwosc usuniecia warstw jest czesto wymagana ze wzgledów ekonomicznych.Warstwy wedlug wynalazku odznaczaja sie nato¬ miast tym, ze mimo wybitnego, np. calkowicie wy¬ starczajacego w warunkach drukarskich, usiecio- wania swietlnego a nawet jeszcze po dodatkowym, np. termicznym utwardzaniu, daja sie usunac znacznie latwiej niz warstwy dwuchromianówe.Nawet na niklowych szablonach rotacyjnych, na których wedlug DOS 1532 526 warstwy dwuchro- mianowe musza byc dodatkowo utwardzane, masy do kopiowania wedlug wynalazku, bez dodatkowe¬ go polimeryzowania uzupelniajacego nie tylko wy¬ trzymuja wysokie obciazenia w czasie druku, lecz daja sie jeszcze równiez usunac kwasem mrówko¬ wym wedlug metody opisanej w dodatku nr 10 pt.„Filmdruckschablonen" do czasopisma Bayer Far- ben Revue, str. 75.Sklad warstw kopiowych wytworzonych z mas do kopiowania wedlug wynalazku moze sie wahac w szerokich granicach. Przez dodanie zywic utwar- dzalnych i srodków wiazacych mozna zredukowac w warstwie udzial substancji swiatloczulej a tym samym zwiekszyc swiatloczulosc. Do warstw sito¬ drukowych udzial kondensatu dwuazowego na ogól 5 nie powinien byc nizszy od 2%.Juz przy 5% uzyskuje sie to, ze naswietlana warstwa staje sie calkowicie nierozpuszczalna w wodzie, tak, ze w wielu przypadkach nie jest po¬ zadane stosowanie znacznie wyzszego stezenia niz 5%. Oczywiscie w okreslonych przypadkach, np. przy kondensatach dwuazowych o duzym udziale drugiego skladnika B lub Bx albo przy trudniej sieciujacych srodkach wiazacych, mozna stosowac równiez znacznie wieksze ilosci kondensatu dwu¬ azowego. Na ogól udzial tego skladnika nie powi¬ nien przekraczac 50%, korzystnie ponizej 20%.W przypadku warstw do druku sitowego z zasto¬ sowaniem farb rozpuszczalnikowych, np. handlo¬ wych farb sitodrukowych do drukowania po¬ wierzchni polichlorowinylowych, wystarczy aby warstwa skladala sie tylko z kondensatu dwuazo¬ wego i koloidu. Dodatek nierozpuszczalnych w wo¬ dzie wypelniaczy jest jednak korzystny dla wlasci¬ wosci mechanicznych.W przypadku, gdy warstwa sitodrukowa ma byc stosowana glównie do farb wodnych, np. do druku tkanin, w celu unikniecia lub zmniejszenia powol¬ nego pecznienia korzystne jest dodanie substancji nie peczniejacych w wodzie. Korzystnie stosuje sie do takich celów polioctany winylu, zwlaszcza w postaci dyspersji wodnych. Udzial polioctanu wi¬ nylu nie powinien na ogól przekraczac 60—70% ogólnej zawartosci suchej substancji, aby pozostala zachowana zdolnosc wywolywania wodnego.Jako wywolywacze stosuje sie praktycznie zawsze ciecze wodne. Korzystnie wywoluje sie nawet za pomoca czystej wody bez zadnych dodatków.Ponizsze przyklady objasniaja wynalazek, nie ograniczajac jednak jego zakresu. Dane procento¬ we, jesli nie zaznaczono inaczej, oznaczaja procenty wagowe.Przyklad I. Do roztworu 32,3 g siarczanu 3-metoksy-dwufenyloamino-4-dwuazoniowego w 70,7 ml 86%-go kwasu fosforowego wkroplono, mieszajac, 12,9 g 4'4-bis-metoksymetylo-dwufenylo- eteru. Po 20 godzinach kondensacji w temperaturze 40°C mieszanine rozpuszczono w 330 ml wody i do¬ dano 240 ml wolnego od chlorków wodnego roztwo¬ ru 114 g metanosiarczanu sodowego. Osad po zde- kantowaniu lugu macierzystego ponownie rozpusz¬ czono w wodzie i w ten sam sposób wytracono z powrotem, oddzielono, wysuszono pod próznia nad pieciotlenkiem fosforu i roztarto na proszek.Wydajnosc 37 g (C 48,0%, N 6,8%, S 10,7%, P O, 29%). 3 g tej substancji rozpuszczono w 10 ml wody i nastepnie zmieszano ze 100 ml okolo 30%-go wod¬ nego roztworu alkoholu poliwinylowego o liczbie K 70 i zawartosci pozostalych grup acetylowych okolo 12% (Mowiol N 70—88), po czym zmieszano energicznie jeszcze z 5 ml ftalanu dwubutylowego i 10 g drobnosproszkowanego kwasu krzemowego i zabarwiono 0,2 g fioletu krystalicznego. Tym la¬ kierem sitodrukowym powleczono obustronnie tka¬ nine perlonowa, wysuszono, dosuszono w ciagu 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6081660 ll 12 5 mftttft;-'W temperaturze 100aC i pod pozytywowa ^ti^dteWi^^iaiwietlano 5000 W lampa ksenonowa prz# odleglosci 65 cni w ciagu 2 minut. Nastepnie wywolano strumieniem zimnej wody, przy czym warstwa w miejscach nie naswietlonych ulegla wy- gi&k&niu z oczek tkaniny z zachowaniem ostrych konturów. Po wysuszeniu mozna bylo szablon przy uzyciu handlowyeh; zawierajacych rozpusz¬ czalnik farb sitodrukowych zastosowac do druku na papierze i na tworzywach sztucznych.Lakier sitodrukowy i powleczona nim uprzednio tkanina daje sie przechowywac bez zmiany swia- tloczulosci co najmniej w ciagu 10 tygodni w tem¬ peraturze pokojowej.Przyklad II. Do roztworu 32,3 g siarczanu 3-metoksydwufenyioamino-4-dwuazoniowego w 210 ml 86%-go kwasu fosforowego dodano porcja¬ mi, mieszajac 33,3 g drobno sproszkowanego 1,3- -bis-hydroksymetylo-4,6-dwuizopropylobenzenu. Po 12,5 godzinach kondensacji w temperaturze 40°C i po 4,5-dniowym pozostawieniu w spokoju w tem¬ peraturze pokojowej rozpuszczono mieszanine w 550 ml wody o temperaturze 60°C i metanosulfo- nian produktu kondensacji wytracono przez doda¬ nie 800 ml wodnego roztworu, zawierajacego 240 g metanosulfonianu sodowego, i ochlodzenie do tem¬ peratury pokojowej. Produkt w celu oczyszczenia rozpuszczono powtórnie w wodzie i wytracono po¬ nownie w ten sam sposób, wreszcie oddzielono i wysuszono. Wydajnosc 50 g.Ze 100 g emulsji sitodrukowej, skladajacej sie z jednakowych ilosci wagowych 25°/o-go roztworu polialkoholu winylowego o liczbie K 75 i zawar¬ tosci pozostalych grup acetylowych okolo 12% (Mowiol N 75—88) oraz dyspersji kopolimeru octa¬ nu winylu o zawartosci 55% substancji stalej (Mo- wilith DM 2) zmieszano roztwór wodny 2 g otrzy¬ manego w sposób opisany wyzej zwiazku dwuazo- wego. Mieszanina ta powleczono w znany sposób poliestrowa tkanine sitodrukowa, wysuszono, na¬ swietlono, wywolano woda i wysuszono. W celu lepszego uwidocznienia obrazu zabarwiono przed wysuszeniem wywolany szablon przez polanie wod¬ nym roztworem fioletu krystalicznego. Nadmiar barwnika niezaadsorbowanego w partiach warstwy usunieto przed suszeniem przez splukanie. Szablon sitodrukowy nadaje sie znakomicie do druku na wyrobach wlókienniczych za pomoca znanych wod¬ nych farb tekstylnych.Przyklad III. Do roztworu 42,5 g siarczanu 2,5,4'-trójetoksydwufenylo-4-dwuazoniowego (N6,2%) w 300 ml 93%-go kwasu fosforowego wkroplono, mieszajac, 25,9 g 4,4'-bis-metoksymety- lo-dwufemyloeteru. Po 3,25 godzinach kondensacji w temperaturze 40°C mieszanine rozcienczono za pomoca 300 ml wody i wytracono metanosulfonian przez dodanie 860 ml 26°/o-go roztworu kwasu me- tanosulfonowego, po czym oddzielono go po po¬ wtórnym rozpuszczeniu i wytraceniu i wysuszono.Wydajnosc 67,3 g (C 48,1%, N 3,0%, S 8,1%, P 3,8%).Okolo 30%-wy roztwór polialkoholu winylowego sporzadzony przez 8-godzinne zmieszanie z woda w otwartym kotle w temperaturze okolo 85°C poli¬ alkoholu winylowego o liczbie K 50 i zawartosci pozostalych grup acetylowych okolo 12% (Mowiol N 50—88), do którego dodano 1% poliglikolu P 1200 (produkcji Dow Corning Co) jako srodka przeciw pienieniu, zmieszano w stosunku 3:1 z 55%-wa 5 dyspersja kopolimeru octanu winylu z maleinianem (Mowilith DM 1). Do 250 g mieszaniny dodano, mieszajac, 4 g wyzej opisanego rozpuszczalnego w wodzie zwiazku dwuazowego.Tak sporzadzonym lakierem sitodrukowym po- io wleczono sito, wysuszono, naswietlono, wywolano i wytworzony w ten sposób szablon sitodrukowy zastosowano do druku na tworzywach polichloro- winylowych. Szablon ten nie wykazywal wad war¬ stwy, tzw. „tlustych oczek", stad bez regeneracji 15 byl uzyteczny do drukowania duzych nakladów.Jesli szablon nie ma byc wiecej uzywany, mozna tkanine oczyscic przez usuniecie warstwy np. wap¬ nem chlorowanym lub podchlorynem sodowym, ko¬ rzystnie roztworem pochlorynu litowego, po czym 20 nadaje sie ona do ponownego zastosowania.Przyklad IV. Do roztworu 32,3 g siarczanu 3-metoksydwufenyloamino-4-dwuazoniowego w 100 ml 86%-go kwasu fosforowego wkroplono, mieszajac, 25,8 g 4,4'-bis-metoksymetylo-dwufenylo- 25 eteru. Po 17 godzinach kondensacji w temperaturze 40°C wydzielono metanosulfonian w sposób poda¬ ny w poprzednich przykladach, oczyszczono i wy¬ suszono. Wydajnosc 53 g (C 55,3%, N 6,5%, S 6,2%, P 1,9%, Cl < 0,1%, HzO 4,3%). 30 Do 1000 g emulsji sitodrukowej, skladajacej sie z 3 czesci 53%-wej dyspersji kopolimeru octanu winylu (Mowilith DM 2HB) i 2 czesci wykonanego przez rozpuszczenie i zatezenie 24%-go roztworu alkoholu poliwinylowego zastosowanego w przy- 35 kladzie II, dodano, mieszajac, wodny roztwór 15 g wyzej opisanego kondensatu dwuazowego i 4 g barwnika Imperonblau K-B (Farbwerke Hoechst).Tym lakierem do kopiowania powleczono 3-krotnie, suszac za kazdym razem, perforowany, niklowy 40 cylinder rotacyjny o 576 oczkach na cm2 (60 mesh), przesuwajac rakiel gumowy wypelniony lakierem z dolu do góry po zewnetrznej powierzchni stoja¬ cego, dziurkowanego cylindra. Otwory cylindra ro¬ tacyjnego zostaly przy tym wypelnione lakierem 45 swiatloczulym. Po naswietleniu wokolo rurowa lampa rteciowa, przy czym cylinder oklejony ma¬ skownica powoli obracano, wyplukano warstwe z tworów w miejscach nienaswietlonych pod prysz¬ nicem wodnym. Nastepnie niemal calkowicie po- 50 zbawiony pekniec wloskowatych szablon walcowy nieco podretuszowano i utwardzono przez wygrze¬ wanie w temperaturze 150—180°C, i przygotowano do druku. Ta forma drukarska mozna bylo dru¬ kowac duze powierzchnie wyrobów tekstylnych. 55 Z wyeksploatowanego niklowego szablonu rotacyj¬ nego mozna usunac warstwe kwasem mrówkowym i w ten sposób perforowany cylinder rotacyjny przeznaczyc do ponownego uzytku.Przyklad V. Mieszanine kondensacyjna z 6o przykladu IV kondensowano w ciagu 5 godzin w temperaturze 40°C i produkt kondensacji, w spo¬ sób tam opisany, wydzielono w postaci soli kwasu chlorometanosulfonowego.Wodnym roztworem 4 g tej substancji uczulono 65 250 g 30%-go roztworu polialkoholu winylowego,13 81660 14 zastosowanego w przykladzie I, zawierajacego 5% drobno sproszkowanego polioctanu winylu (Mowi- lith 30). Przy uzyciu tego roztworu sporzadzono szablony do sitodruku w znany sposób przez po¬ wleczenie, wysuszenie, naswietlenie, wywolanie i suszenie.Przyklad VI. W celu wytworzenia konden¬ satu dwuazowego postepowano analogicznie jak w przykladzie V. Wydzielenie nastapilo jednak w po¬ staci soli kwasu propano-2-sulfonowego. 10°/o-wy wodny roztwór hydroksyetylocelulozy (Tylose HEC H 20 p) zmieszano z l°/o wyzej opisa¬ nego zwiazku swiatloczulego.Przez 3-krotne obustronne powleczenie gestej tkaniny sitodrukowej oraz naswietlenie, wywola¬ nie woda i wysuszenie, wytworzono dobry szablon do druku sitowego z uzyciem farb rozpuszczalni¬ kowych.Podobne wyniki uzyskano stosujac kondensat dwuazowy wytracony jako sól kwasu butano-1-sul- fonowego i poddany dalszej przeróbce w ten sam sposób. PL PL
Claims (10)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Swiatloczula masa do kopiowania, zwlaszcza do druku sitowego, zawierajaca produkt kon¬ densacji aromatycznego zwiazku dwuazoniowego oraz hydrofilowy utwardzamy srodek wiazacy, zna¬ mienna tym, ze produkt kondensacji zawiera co naj¬ mniej po jednym czlonie ogólnego typu JV(—D)n oraz B, zlaczonych ze soba podwójnie wiazacymi mostkami, które stanowia pochodne zdolnego do kondensacji zwiazku karbonylowego, przy czym A oznacza reszte zwiazku, zawierajacego co najmniej dwa izo- lub heterocykliczne pierscienie aroma¬ tyczne i zdolnego w kwasnym srodowisku do kon¬ densacji w co najmniej jednym miejscu czasteczki z aktywnym zwiazkiem karbonylowym, D oznacza grupe soli dwuazoniowej, znajdujaca sie przy weglu aromatycznym zwiazku A, n oznacza liczbe calko- 5 wita 1—10, a B oznacza reszte zwiazku wolnego od grup dwuazowych, zdolnego w kwasnym sro¬ dowisku do kondensacji w co najmniej jednym miejscu swej czasteczki z aktywnym zwiazkiem karbonylowym, przy czym anion soli dwuazonio- 10 wej jest pochodna alifatycznego kwasu jednosulfo- nowego o 1—6 atomach wegla.
2. Masa wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze pro¬ dukt kondensacji stanowi sól kwasu metanosulfo- nowego. 15
3. Masa wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze pro¬ dukt kondensacji jest kondensatem soli 3-alkoksy- -dwufenyloamino-4-dwuazoniowej i pochodnej dwu- fenyloeteru, dwufenylosiarczku, dwufenylometanu lub dwufenylu. 20
4. Masa wedlug zastrz. 1 lub 3, znamienna tym, ze produkt kondensacji zawiera czlony A(—D)n i B w stosunku molowym 1 : 0,5 do 1:2.
5. Masa wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze za¬ wiera produkt kondensacji w ilosci 2—20% jej za- 25 wartosci substancji stalej.
6. Masa wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze wy¬ stepuje w postaci wodnego roztworu.
7. Masa wedlug zastrz. 6, znamienna tym, ze za¬ wiera dodatkowo zdyspergowany wypelniacz. 30
8. Masa wedlug zastrz. 7, znamienna tym, ze zdyspergowany wypelniacz jest nierozpuszczalnym w wodzie polimerem organicznym.
9. Masa wedlug zastrz. 6, znamienna tym, ze hy¬ drofilowym srodkiem wiazacym jest polialkohol 35 winylowy.
10. Masa wedlug zastrz. 8 i 9, znamienna tym, ze nierozpuszczalnym w wodzie polimerem orga¬ nicznym jest produkt polimeryzacji octanu winylu. PL PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2041395A DE2041395C2 (de) | 1970-08-20 | 1970-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckformen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL81660B1 true PL81660B1 (pl) | 1975-08-30 |
Family
ID=5780284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1971150100A PL81660B1 (pl) | 1970-08-20 | 1971-08-19 |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS549521B1 (pl) |
| AT (1) | AT308778B (pl) |
| AU (1) | AU464160B2 (pl) |
| BE (1) | BE771429A (pl) |
| BR (1) | BR7105399D0 (pl) |
| CA (1) | CA964515A (pl) |
| CH (1) | CH580288A5 (pl) |
| CS (1) | CS152403B2 (pl) |
| DE (1) | DE2041395C2 (pl) |
| ES (1) | ES394368A1 (pl) |
| FR (1) | FR2107058A5 (pl) |
| HU (1) | HU166246B (pl) |
| IL (1) | IL37517A0 (pl) |
| NL (1) | NL169524C (pl) |
| PL (1) | PL81660B1 (pl) |
| SE (1) | SE370583B (pl) |
| TR (1) | TR18288A (pl) |
| YU (1) | YU36313B (pl) |
| ZA (1) | ZA715564B (pl) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT997623B (it) * | 1972-11-25 | 1975-12-30 | Licentia Gmbh | Procedimento e massa di copiatura per produrre uno schermo fluorescente per tubi a raggi catodici |
| DE2655553A1 (de) * | 1976-12-08 | 1978-06-15 | Licentia Gmbh | Mittels einer diazoniumverbindung sensibilisierte waesserige loesung eines polymerisates sowie verwendung einer solchen loesung zur herstellung von leuchtschirmen fuer farbbildkathodenstrahlroehren |
| US5112743A (en) * | 1989-05-24 | 1992-05-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3794384A (en) * | 1972-05-17 | 1974-02-26 | Goodyear Tire & Rubber | Disk wheel |
-
1970
- 1970-08-20 DE DE2041395A patent/DE2041395C2/de not_active Expired
-
1971
- 1971-08-04 AU AU31977/71A patent/AU464160B2/en not_active Expired
- 1971-08-10 NL NLAANVRAGE7111004,A patent/NL169524C/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-08-13 CS CS5885A patent/CS152403B2/cs unknown
- 1971-08-17 CA CA120,710A patent/CA964515A/en not_active Expired
- 1971-08-17 TR TR18288A patent/TR18288A/xx unknown
- 1971-08-17 AT AT717771A patent/AT308778B/de active
- 1971-08-17 BE BE771429A patent/BE771429A/xx unknown
- 1971-08-17 CH CH1206371A patent/CH580288A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-08-18 IL IL37517A patent/IL37517A0/xx unknown
- 1971-08-18 HU HUKA1309A patent/HU166246B/hu unknown
- 1971-08-19 YU YU2135/71A patent/YU36313B/xx unknown
- 1971-08-19 FR FR7130208A patent/FR2107058A5/fr not_active Expired
- 1971-08-19 BR BR5399/71A patent/BR7105399D0/pt unknown
- 1971-08-19 PL PL1971150100A patent/PL81660B1/pl unknown
- 1971-08-19 ES ES394368A patent/ES394368A1/es not_active Expired
- 1971-08-19 SE SE7110568A patent/SE370583B/xx unknown
- 1971-08-20 JP JP6353971A patent/JPS549521B1/ja active Pending
- 1971-08-20 ZA ZA715564A patent/ZA715564B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR7105399D0 (pt) | 1973-04-12 |
| YU36313B (en) | 1982-06-18 |
| ZA715564B (en) | 1972-04-26 |
| AU464160B2 (en) | 1975-08-21 |
| AT308778B (de) | 1973-07-25 |
| JPS549521B1 (pl) | 1979-04-25 |
| BE771429A (fr) | 1972-02-17 |
| FR2107058A5 (en) | 1972-05-05 |
| DE2041395A1 (de) | 1972-02-24 |
| NL169524C (nl) | 1982-07-16 |
| TR18288A (tr) | 1976-12-09 |
| DE2041395C2 (de) | 1983-10-13 |
| SE370583B (pl) | 1974-10-21 |
| CS152403B2 (pl) | 1973-12-19 |
| AU3197771A (en) | 1973-02-08 |
| CH580288A5 (pl) | 1976-09-30 |
| HU166246B (pl) | 1975-02-28 |
| ES394368A1 (es) | 1975-04-01 |
| YU213571A (en) | 1980-09-25 |
| CA964515A (en) | 1975-03-18 |
| IL37517A0 (en) | 1971-11-29 |
| NL169524B (nl) | 1982-02-16 |
| NL7111004A (pl) | 1972-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3849392A (en) | Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds | |
| US3573917A (en) | Light-sensitive printing plate composition | |
| US3867147A (en) | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same | |
| CA1112092A (en) | Light-sensitive copying composition including a branched polyurethane prepolymer with free terminal isocyanate groups | |
| US2649373A (en) | Paper printing foils for lithographic purposes and a process of preparing them | |
| JPS6239732B2 (pl) | ||
| US3984250A (en) | Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements | |
| PL97540B1 (pl) | Swiatloczuly material kopiowy | |
| AU610263B2 (en) | Photostencils for screenprinting | |
| CA2180580A1 (en) | Sulfonamido substituted acetal polymers and use thereof in photo-sensitive compositions and lithographic printing plates | |
| JPS6262340B2 (pl) | ||
| HK49893A (en) | Photosensitive positive composition and photosensitive registration material prepared therefrom | |
| US3595656A (en) | Reprographic materials containing a water-insoluble azidochalcone | |
| CA1281581C (en) | Process for producing an aqueous developable photographic element | |
| JPH07119192B2 (ja) | 新規の感放射線化合物、それで調製された感放射線混合物および複写材料 | |
| US4021243A (en) | Diazo light-sensitive copying composition and process of using in the manufacture of screen printing stencils | |
| PL81660B1 (pl) | ||
| EP0173708B1 (en) | Screen printing compositions | |
| DE2024242C2 (de) | Verfahren zur Herstellung Diazoniumgruppen enthaltender Kondensationsprodukte | |
| US5122442A (en) | Method for forming an image from a high speed screen printing composition on a screen mesh | |
| US4670507A (en) | Resin | |
| AU653645B2 (en) | Photosensitive resin and resin composition for lithographic printing | |
| KR100300146B1 (ko) | 가교결합가능한수성염기현상가능한포토레지스트조성물및이의사용방법 | |
| BRPI0712624A2 (pt) | composição fotossensìvel tendo um componente de emulsão e um componente sensibilizador, processo para a preparação de uma composição fotossensìvel e uso de uma composição fotossensìvel | |
| KR920005780B1 (ko) | 내열성이 우수한 포토레지스트 조성물 |