LU85350A1 - Procede et dispositif de formation d'un revetement de compose metallique sur un substrat chaud en matiere vitreuse - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 108
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 106
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 title 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 45
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 24
- 230000036760 body temperature Effects 0.000 claims description 5
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 5
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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Description
♦ é.
La présente invention concerne un procédé de formation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplaçant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est 5 pulvérisée en direction du substrat par des moyens qui traversent le parcours du substrat de façon répétée de manière que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revêtement in situ sur le dit substrat, et un dispositif pour la mise en oeuvre d'un tel procédé.
s 10 Nombreux sont ces procédés qui sont bien connus et utilisés entre autres pour conférer des propriétés d'absorption et/ou de réflexion à eu verre destiné à être utilisé en tant que vitrage. On notera qu'il est souhaitable que de tels revêtements adhèrent fortement à la matière vitreuse et qu'ils présentent de bonnes propriétés optiques.
15 De tels procédés sont aussi utilisés pour déposer des revêtements conducteurs de l'électricité destinés à divers usages.
Un des objets de la présente invention est de fournir un procédé qui permet la formation d'un tel revêtement dont la structure soit plus uniforme qu’il n’a été possible jusqu'à ce jour.
20 La présente invention fournit un procédé de formation d'un revêtement de compos é métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplaçant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée en direction du substrat par des moyens qui traversent le parcours du subs-- 25 trat de façon répétée de manière que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revêtement in situ sur le dit substrat, caractérisé en ce que de l'énergie thermique radiante provenant de dispositifs de chauffage radiant disposés du coté du substrat que l'on revêt, est dirigée vers la région transversale 30 balayée par la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec le substrat.
Un procédé selon l'invention permet la formation d'un ; revêtement plus uniforme que cela n'a été possible jusqu'à ce jour, et donne un meilleur rendement d'utilisation de la matière à partir de 35 laquelle le revêtement est formé.
J/ En l'absence d'un tel chauffage, il se produirait une
.X
♦ 2 * chute de température du substrat chaud, sur une longueur correspondant à la région transversale balayée par la zone où la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le substrat. Cette chute de température peut être due à une ou plusieurs causes, par exemple, 5 le chauffage et l'évaporation de solvant utilisé pour pulvériser la matière à partir de laquelle le revêtement est formé, le chauffage de cette matière elle-même, ou l'absorption de chaleur par toute réaction endothermique de formation du revêtement qui se produirait. En l'ab-i sence d'un tel chauffage, l'énergie thermique nécessaire pour une ou 10 plusieurs de ces raisons provient du substrat. Les réactions de formation du revêtement qui se produisent ont une vitesse qui dépend de la température. Dans un exemple selon une technique antérieure, un revêtement d'oxyde d'étain de 950 nm d'épaisseur est déposé sur un ruban de verre chaud par pulvérisation d'une solution aqueuse de dichlorure d'étain, 15 la. vitesse de balayage du jet pulvérisé, la longueur de la zone atteinte par le jet et la vitesse d'avancement du ruban étant telles que chaque incrément de surface du ruban est traversé sept fois par le jet pour former le revêtement. On a remarqué que l'épaisseur du revêtement attribuable au premier passage du jet est 180 nm, tandis que celle due 20 au dernier passage est seulement de 100 nm et ceci malgré un débit de pulvérisation constant. Il y a également une chute de température de 30°C à 40°C sur la surface à revêtir, qui résulte de l'opération de revêtement. On a en outre calculé que moins de 10 % de l'étain pulvérisé est incorporé dans le revêtement.
25 Dès lors, en l'absence de chauffage selon la présente invention, la vites&e-des réactions de formation du revêtement décroTt lorsque l'épaisseur du revêtement augmente, et une proportion impor-; tante de réactif ne sera pas convertie en le revêtement voulu.
Le chauffage du substrat, du dessus, pendant 1' opé-* 30 ration de revêtement fournit de l'énergie pour évaporer le solvant pulvé risé et pour réduire la chute de température à la surface du substrat pendant l'opération de revêtement, de sorte que la vitesse des réactions de formation du revêtement n'est pas réduite ou n'est pas aussi réduite et le rendement de formation du revêtement est également favorablement 35 influencé. En opérant de cette façon, il est théoriquement possible de J7 réaliser une économie pouvant aller jusqu'à 25 % sur la quantité de ί 3 * réactif utilisée. La structure du revêtement résultant de réactions qui se produisent à une vitesse plus uniforme est bénéfique aux propriétés optiques et autres de celui-ci.
Un autre avantage important est également obtenu 5 lorsque le substrat est chauffé du dessus conformément à l'invention.
Un tel chauffage implique que la température dans l'atmosphère surmontant le substrat est plus élevée qu'elle ne le serait en l'absence d'un tel chauffage; il en résulte que le solvant et les réactifs ont moins tendance à condenser à l’intérieur du poste de revêtement, par exemple 10 sur les aspirateurs disposés à l'extrémité aval du poste de revêtement et utilisés pour extraire des produits de réaction. Dès lors, le risque - que des gouttelettes de condensation tombent sur le revêtement fraf- chement formé et le souillent est également réduit.
De préférence, la matière à partir de laquelle le 15 revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans une direction suivant ce parcours. Une telle disposition tend à donner une plus grande zone d'impact du jet pulvérisé et à diriger le rayonnement thermique vers cette zone plus facilement que lorsqu'on pulvérise normalement au substrat.
20 Avantageusement, la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours.
Avantageusement, les dispositifs de chauffage radiant ont une température de corps noir comprise entre 900°C et 1. 600eC .
25 Le rayonnement de longueurs d'ondes émises par un tel dispositif radiant ést fortement absorbé par la matière vitreuse portant le revêtement.
De cette manière, l'action du chauffage est confinée entièrement ou substantiellement entièrement à une couche superficielle de la face de la matière vitreuse portant le revêtement. On a trouvé 30 que ce chauffage sélectif d'une face du substrat facilite l'opération de recuisson du substrat après son revêtement, lorsqu'on passe d'une production de verre à couche à une production de verre sans couche, et vice-versa, et ceci est spécialement appréciable lorsque le substrat est constitué d'un ruban de verre fraîchement formé.
35 Lorsqu'on recuit un ruban ayant un gradient de Λ température significatif dans son épaisseur lorsqu'il quitte le poste de 4 revêtement, le programme de refroidissement suivant l'étape de revêtement doit être ajusté de manière appropriée pour tenir compte de ce gradient de température, si l'on veut que la recuisson soit effectuée de manière entièrement satisfaisante. Si, dans une installation de production 5 dans laquelle le ruban est chauffé de part en part de son épaisseur, avant ou pendant l'opération de revêtement, on désire à un moment donné commuter la production vers celle de verre sans couche, il n'est pas suffisant de désactiver le chauffage et le dispositif de revêtement. L'ajustement de l'installation de recuisson est également requise et cet ajustement né-10 cessite un délai très long. De même, un tel ajustement est également requis lorsqu'on retourne à la production de verre à couche et il peut " même être requis lorsqu'on passe d'un type ou d'une épaisseur de couche à un autre puisque ceci implique souvent un changement de la quantité de chaleur enlevée de la surface du ruban pendant le revêtement. Un procédé 15 adoptant cette caractéristique préférée de laprésente inventionpeut être mis enoeuvre de manière que l'ajustement des conditions de recuisson ne soit pas requis ou qu'il ne le soit que très faiblement même lorsqu'on passe de lapro-duction de verre à couche à la production de verre sans couche, et vice-versa.
De préférence, une pluralité de dispositifs de chauf-20 fage est disposée le long du parcours du substrat. Cela est particulièrement avantageux puisqu'on peut ajuster le chauffage suivant la longueur de la zone ou le jet pulvérisé atteint le substrat.
Avantageusement, l'intensité du rayonnement dirigé vers la région transversale où la matière atteint le substrat est réglée 25 par ajustement de la hauteur des dispositifs de chauffage radiant au-dessus du--parcours du substrat. Ceci constitue une façon très simple de contrôler le chauffage du substrat. En variante ou en complément, un tel contrôle peut être effectué par variation de l'alimentation en combustible ou en courant des dispositifs de chauffage radiant.
30 Dans des formes préférées de réalisation de l'in vention, le chauffage est réglé de manière que pour tout incrément de la surface du substrat, la température de la surface à revêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15°C entre le moment où cet incrément de surface coi'ncide pour la première fois avec la zone de 35 contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec jp le substrat et le moment où il coïncide avec cette zone pour la dernière </ 5 fois, et de préférence cette température varie de moins de 10°C.
Ceci favorise l'uniformité des réactions pendant la période où. le revêtement est formé.
Avantageusement, une pluralité de dispositifs de 5 chauffage est disposée au travers du parcours du substrat, de sorte que des quantités de chaleur dirigées vers différents incréments de largeur du substrat sont ajustables individuellement. Il est connu que des portions marginales du substrat chauffé tendent à perdre de la chaleur plus rapidement que ne le fait le centre, de sorte que l'adop-, 10 tion de cette caractéristique préférée permet la régularisation de la température du substrat à travers sa largeur et favorise ainsi l'uniformité du revêtement à travers le substrat. A cette fin, il est particulièrement préféré que le chauffage soit règle de manière que, pour tout incrément de longueur du substrat, la température de la surface à re-15 vêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15°C à travers la largeur du substrat pendant l'opération de revêtement.
L'invention fournit également un dispositif de formation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse, comprenant un convoyeur pour déplacer le substrat 20 à revêtir le long d'un parcours à travers un poste de revêtement pourvu de moyens de revêtement qui traversent le parcours du substrat de façon répétée pour pulvériser de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé de manière que celle-ci se décompose par pyrolyse et forme in situ le revêtement sur le dit substrat, caractérisé 25 en ce qu'il comprend des dispositifs de chauffage radiant disposés du meme côté-du-parcours du substrat que les moyens de revêtement,. ces dispositifs étant placés de manière à diriger de l'énergie thermique radiante vers la région transversale balayée par la zone où la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le parcours du 30 substrat.
Un tel dispositif comprend de préférence une ou plusieurs des caractéristiques facultatives suivantes : (i) les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle 35 le revêtement est formé vers le parcours du substrat et dans une di-rection suivant ce parcours Ä 6 (ii) les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours 5 (iii) les moyens de chauffage comprennent une plu ralité de dispositifs de chauffage disposée le long du parcours du substrat (iv) les moyens de chauffage sont ajustables en hauteur au-dessus du parcours du substrat 10 (v) les moyens de chauffage comprennent une plu ralité de dispositifs de chauffage ajustables individuellement disposée ' au travers du parcours du substrat.
L’invention sera maintenant décrite plus en détails à titre d'exemple en se référant aux figures 1 et 2 des dessins annexés 15 qui sont des sections transversales de deux formes de réalisation de dispositifs pour la mise en oeuvre de la présente invention.
Dans la figure 1, un substrat chaud de matière vitreuse est acheminé le long d'un parcours 1 par des rouleaux de convoyeur 2 dans une direction aval 3 le long d'un tunnel 4 contenant un 20 poste de revêtement 5.
Dans le poste de revêtement, une tête de pulvérisation 6 est montée sur un chariot 7 se déplaçant sur une piste 8 de manière à traverser de façon répétée le parcours 1 du substrat chaud en verre. La tête de pulvérisation émet un cône 9, de matière à partir 25 de laquelle le revêtement est formé, obliquement vers le substrat dans —__ia direction aval 3 le long du parcours du substrat 1 de manière qu'il I atteigne le substrat à une zone 10 qui se déplace à travers le parcours du substrat 1 en délimitant une région d'impact transversale. En accord avec l'invention, de la chaleur radiante est dirigée vers cette région 30 d'impact, à partir de moyens de chauffage radiant 11 disposés du même côté du parcours du substrat 1 que la tête de pulvérisation 6.
Dans le dispositif représenté à la figure 1, les moyens de chauffage 11 comprennent une pluralité d'éléments chauffants 12 traversant le parcours 1 du substrat et disposés le long de ce par-35 cours, portés par un support réfractaire 13 qui est monté en pivote-*1 ment (en 14) sur la voûte 15 du tunnel 4 de manière qu'ils puissent être 7 élevés ou abaissés au moyen de tiges filetées telles que 16, la charnière 14 servant de pivot, afin de varier l'intensité de la chaleur dirigée vers un substrat se déplaçant le long du parcours 1.
Un conduit d'évacuation 17 est prévu pour évacuer 5 des produits de réaction et du réactif non utilisé.
Les éléments chauffants 12 fournissent de la chaleur à la surface du substrat à revêtir et à l'atmosphère qui le surmonte, fournissant ainsi de la chaleur complémentaire pour l'évaporation du solvant contenu dans la matière pulvérisée à partir de laquelle le re-10 vêtement est formé et pour que se produise la réaction de revêtement.
La chaleur radiante est donc dirigée vers la zone 10 où. le cône de pulvérisation atteint le substrat, et elle est également dirigée vers le cône de pulvérisation 9 avant qu'il n'atteigne le substrat, ainsi que vers le substrat en aval de cette zone 10 où la réaction se produit sur la 15 surface portant le revêtement.
L'effet de chauffage des éléments chauffants 12 peut être et, de préférence, est réglé de manière que la température de chaque incrément de surface du substrat portant le revêtement est maintenue de manière aussi constante que possible pendant l'opération 20 de revêtement de sorte que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé, déposée par les passages successifs de la tête de pulvérisation 6, soit appliquée dans des conditions de température aussi identiques que possible et que les réactions amenant la formation du revêtement se produisent à vitesse uniforme pendant la durée 25 du dépôt.
______ L'emploi de moyens de chauffage 11 élève également la température du poste de revêtement lui-même et ainsi empêche la condensation de réactif ou de solvant par exemple sur la voûte 15 ou sur le conduit d'évacuation 17. Il en résulte un moindre risque que 30 des gouttelettes de condensation tombent sur la surface supérieure du verre et ne détériorent le revêtement.
Dans une disposition facultative préférée, les éléments chauffants 12 ne sont pas continus sur la largeur du parcours du substrat, mais comprennent plutôt une pluralité de sections de Z façon que différents incréments de largeur du parcours du substrat 1 puissent être chauffés de façon différentielle. Avec une telle disposition, 8 il est possible de compenser les pertes calorifiques vers le tunnel 4 ou ses parois latérales.
La forme de réalisation de l’invention illustrée à la figure 1 est spécifiquement destinée à revêtir des feuilles de verre.
5 Exemple 1
Dans un exemple spécifique, des feuilles de verre sont acheminées le long du parcours 1 à une vitesse de 60 cm/min. pour déposer un revêtement de SnO^ dopé au fluor de 250 nm d'épaisseur par pulvérisation d'une solution de SnCl^. δΗ^Ο et d'acide trifluor-10 acétique dans de la dimêthylformamide. La tête de pulvérisation 6 est disposée à 15 cm au-dessus du verre et aménagée de manière à traverser en va-et-vient le verre à raison de 16 cycles/minute pour pulvériser la matière à partir de laquelle le revêtement se forme sous un angle de 30° sur l'horizontale. Les éléments chauffants 12 commen-15 cent à environ 20 cm en aval de la tête de pulvérisation 6 et s'étendent sur une section de la voûte du tunnel longue d'environ 60 cm. Le support réfractaire 13 formant cette section de la voûte du tunnel est montée à pivotement vers le bas de manière que l'élément chauffant amont soit à 25 cm au-dessus du parcours du substrat et que l'élément chauffant 20 aval soit à 10 cm au-dessus de ce parcours. Les éléments chauffants ont une température de corps noir ajustable entre 900°C et 1. 600eC, et ont une puissance de sortie ajustable jusqu'à un maximum compris entre 60 et 100 kW. Les éléments chauffants sont réglés de manière à maintenir à 460°C la température dans l'atmosphère surmontant le 25 parcours du substrat, tandis que le verre pénètre dans le poste de revêtement à une température -de-550e C.
Un tel procédé donne un revêtement ayant une structure très uniforme et qui est substantiellement dépourvu de défauts dûs à la chute de gouttelettes de condensation.
30 La figure 2 illustre une variante de forme de réa lisation de l'invention dans laquelle un ruban de verre chaud fraîchement formé est acheminé dans une direction aval 18 le long d'un parcours 19 au moyen de rouleaux de convoyeur 20 à travers un tunnel 21 situé entre une machine de formage de ruban telle qu'une cuve de flottage Λ (non représentée) et une galerie horizontale de recuisson (non représentée). Le tunnel 21 comprend un poste de revêtement 22 pourvu » 10 * est réduit.
Exemple 2 ' Dans un exemple spécifique, un ruban de verre plat fraîchement formé pénètre au poste de revêtement à une tempéra- 5 ture de 600eC et à une vitesse de 4,5 m/min. Une solution aqueuse de
SnCL et NH.F.HF est pulvérisée selon un cône dont l'axe est à 30° sur 2 4 l'horizontale et qui atteint le ruban sur une région transversale de 85 cm de long. Le cône est émis à partir d'une tête de pulvérisation placée à 60 cm au-dessus du ruban et qui traverse le parcours du 10 ruban à raison de 25 cycles/minute afin de former' un revêtement de 750 nm d'épaisseur de SnO^ dopé au fluor. Le dispositif de chauffage 26 est placé à 50 cm au-dessus du parcours du ruban et est ajustable en hauteur jusqu'à 20 cm au-dessus de ce parcours. Le dispositif de chauffage occupe une longueur de 90 cm du tunnel, son extrémité aval 15 étant située à la verticale de l'extrémité aval de la région transversale atteinte par le cône de pulvérisation 24 sur le ruban de verre. Le dispositif de chauffage comprend une pluralité de brûleurs à gaz ajustables indépendamment suivant la longueur et la largeur du tunnel 21.
Les brûleurs à gaz ont une température de corps noir ajustable entre 20 900°C et 1. 600eC.
L'atmosphère surmontant le ruban à la zone de pulvérisation est maintenue à environ 450eC de sorte que du chlorure d'étain non utilisé dans la réaction de revêtement a une tension de vapeur élevée et est aspiré. Il en résulte que tout risque que du 25 chlorure d'étain se condense dans le tunnel 21, par exemple sur le conduit d'évacuation 28', et tombe., sur le ruban pour contaminer le revêtement fraîchement formé, est substantiellement éliminé.
On a trouvé que le revêtement formé à une structure substantiellement uniforme à travers son épaisseur.
A
9 d'une tête de pulvérisation 23 aménagée pour traverser de façon répétée le parcours 19 du ruban de verre chaud en pulvérisant un cône 24 de matière à partir de laquelle le revêtement est formé, obliquement vers le parcours du substrat dans la direction aval 18 de manière que 5 la matière atteigne le substrat dans une zone 25 qui balaye une région transversale où la matière atteint le substrat. De la chaleur radiante est dirigée vers le bas sur cette région à partir d'un dispositif de chauffage radiant 26 suspendu à la voûte 27 du tunnel 21 de telle manière que sa hauteur au-dessus du parcours du substrat soit variable.
10 Le dispositif de chauffage est constitué d'une pluralité de sections qui sont réglables, de manière à permettre la variation de la chaleur ' dissipée le long du tunnel et à travers sa largeur.
Un conduit d'évacuation 28 est prévu pour aspirer des produits de réaction et du réactif non utilisé.
15 Le dispositif de chauffage 26 a de préférence une température de corps noir comprise entre 900°C et 1.600eC de sorte que le rayonnement émis par lui ne pénétrera pas plus profondément - que dans une couche superficielle du substrat à revêtir. De cette manière, le chauffage du substrat peut être réglé de manière que le 20 chauffage complémentaire fourni compense la chaleur absorbée du substrat par les réactions de revêtement de façon que le substrat ait substantiellement le même gradient de température dans son épaisseur avant et après le revêtement. Ceci est spécialement important lorsque le substrat est un ruban continu de verre fraîchement formé sur lequel 25 on dépose un revêtement entre une machine de formage de verre, par exemple une cuve de flottage, et une galerie de recuisson (non représentées).
L'adoption de cette caractéristique permet le passage de la production de verre à couche à la production de verre 30 sans couche sans perturber le gradient de température à travers l'épaisseur du ruban de verre. Ceci signifie que l'on peut obtenir les mêmes conditions de recuisson pour le verre à couche et le verre sans couche, de sorte que les passages d'une production à l'autre peuvent être effectuées beaucoup plus rapidement. Ici aussi, l'utilisation d'un dispositif 35 de chauffage évite la condensation de réactif ou de solvant, de sorte tfc» que le risque que des gouttelettes de ces matières tombent sur le verre
Claims (17)
11
1. Procédé de formation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplaçant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée en direction 5 du substrat par des moyens qui traversent le parcours du substrat de façon répétée de manière que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revêtement in situ sur le dit substrat, caractérisé en ce que de l'énergie ther-, mique radiante provenant de dispositifs de chauffage radiant disposés du 10 côté du substrat que l'on revêt, est dirigée vers la région transversale balayée par la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec le substrat.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est 15 pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans une direction suivant ce parcours.
3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans la direction 20 aval de ce parcours.
4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que les dispositifs de chauffage radiant ont une température de corps noir comprise entre 900eC et 1.600eC.
5. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, - "2"5-caractérisé en ce qu'une pluralité de dispositifs de chauffage est dis posée le long du parcours du substrat.
6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que l'intensité du rayonnement dirigé vers la région transversale où la matière atteint le substrat est réglée par ajuste-30 ment de la hauteur des dispositifs de chauffage radiant au-dessus du parcours du substrat.
7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le chauffage est réglé de manière que pour tout incrément de la surface du substrat, la température de la surface 35 I à revêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15°C entre •4 # 12 le moment où cet incrément de surface coihcide pour la première fois avec la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revête-v ment est formé avec le substrat et le moment où il coiiicide avec cette zone pour la dernière fois.
8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la dite température varie de la sorte de moins de 10eC.
9. Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce qu'une pluralité de dispositifs de chauffage est disposée au travers du parcours du substrat, de sorte que des quantités 10 de chaleur dirigées vers différents incréments de largeur du substrat sont ajustables individuellement.
10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le chauffage est réglé de manière que, pour tout incrément de longueur du substrat, la température de la surface à revêtir varie, 15 pour autant qu'elle varie, de moins de 15eC à travers la largeur du substrat pendant l'opération de revêtement.
11. Dispositif de formation d'un revêtement de - composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse, com prenant un convoyeur pour déplacer le substrat à revêtir le long d'un 20 parcours à travers un poste de revêtement pourvu de moyens de revêtement qui traversent le parcours du substrat de façon répétée pour pulvériser de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé de manière que celle-ci se décompose par pyrolyse et forme in situ le revêtement sur le dit substrat, caractérisé en ce qu'il comprend 25 des dispositifs de chauffage radiant disposés du meme côté du parcours du substrat que les moyens de revêtement, ces dispositifs étant placés de manière à diriger de l'énergie thermique radiante vers la région transversale balayée par la zone où la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le parcours du substrat. , 30 12. Dispositif selon la revendication 11, caracté risé en ce que les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat et dans une direction suivant ce parcours.
13. Dispositif selon la revendication 12, caracté- ! risé en ce que les moyens de revêtement sont disposés de manière à 13 * pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours.
14. Dispositif selon l'une des revendications 11 5 à 13, caractérisé en ce que les moyens de chauffage comprennent une pluralité de dispositifs de chauffage disposée le long du parcours du substrat.
15. Dispositif selon l'une des revendications 11 à 14, caractérisé en ce que les moyens de chauffage sont ajustables en 10 hauteur au-dessus du parcours du substrat. A
16. Dispositif selon l'une des revendications lia 15, caractérisé en ce que les moyens de chauffage comprennent une pluralité de dispositifs de chauffage ajustables individuellement disposée au travers du parcours du substrat. 15
17. Matière vitreuse portant un revêtement déposé par un procédé selon l'une des revendications 1 à 10. v f k.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB08313285A GB2139612B (en) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | Coating a hot vitreous substrate |
| GB8313285 | 1983-05-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LU85350A1 true LU85350A1 (fr) | 1984-11-19 |
Family
ID=10542718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LU85350A LU85350A1 (fr) | 1983-05-13 | 1984-05-08 | Procede et dispositif de formation d'un revetement de compose metallique sur un substrat chaud en matiere vitreuse |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4598023A (fr) |
| JP (1) | JPS6071544A (fr) |
| AT (1) | AT390430B (fr) |
| BE (1) | BE899592A (fr) |
| CA (1) | CA1235027A (fr) |
| DE (1) | DE3417596C2 (fr) |
| ES (2) | ES532683A0 (fr) |
| FR (1) | FR2545818B1 (fr) |
| GB (1) | GB2139612B (fr) |
| IT (1) | IT1178939B (fr) |
| LU (1) | LU85350A1 (fr) |
| NL (1) | NL8401503A (fr) |
| SE (1) | SE461218B (fr) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0196178B1 (fr) * | 1985-03-22 | 1991-07-10 | Pilkington Plc | Procédé de revêtement |
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| NO168762C (no) * | 1985-12-20 | 1992-04-01 | Glaverbel | Belagt, flatt glass. |
| GB8531424D0 (en) * | 1985-12-20 | 1986-02-05 | Glaverbel | Coating glass |
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1983
- 1983-05-13 GB GB08313285A patent/GB2139612B/en not_active Expired
-
1984
- 1984-05-04 ES ES532683A patent/ES532683A0/es active Granted
- 1984-05-04 IT IT67448/84A patent/IT1178939B/it active
- 1984-05-04 ES ES532684A patent/ES532684A0/es active Granted
- 1984-05-07 FR FR848407183A patent/FR2545818B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-07 BE BE1/11018A patent/BE899592A/fr not_active IP Right Cessation
- 1984-05-08 LU LU85350A patent/LU85350A1/fr unknown
- 1984-05-09 US US06/610,086 patent/US4598023A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-09 AT AT0153184A patent/AT390430B/de not_active IP Right Cessation
- 1984-05-10 CA CA000454053A patent/CA1235027A/fr not_active Expired
- 1984-05-10 NL NL8401503A patent/NL8401503A/nl active Search and Examination
- 1984-05-11 JP JP59095454A patent/JPS6071544A/ja active Granted
- 1984-05-11 DE DE3417596A patent/DE3417596C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-05-11 SE SE8402553A patent/SE461218B/sv unknown
-
1986
- 1986-03-20 US US06/841,805 patent/US4664059A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2545818B1 (fr) | 1991-10-31 |
| IT8467448A0 (it) | 1984-05-04 |
| JPH0541576B2 (fr) | 1993-06-23 |
| FR2545818A1 (fr) | 1984-11-16 |
| AT390430B (de) | 1990-05-10 |
| ATA153184A (de) | 1989-10-15 |
| ES8504094A1 (es) | 1985-04-16 |
| US4598023A (en) | 1986-07-01 |
| GB2139612A (en) | 1984-11-14 |
| GB8313285D0 (en) | 1983-06-22 |
| IT8467448A1 (it) | 1985-11-04 |
| ES8504093A1 (es) | 1985-04-16 |
| GB2139612B (en) | 1987-03-11 |
| SE8402553L (sv) | 1984-11-14 |
| DE3417596C2 (de) | 1995-01-26 |
| SE461218B (sv) | 1990-01-22 |
| US4664059A (en) | 1987-05-12 |
| JPS6071544A (ja) | 1985-04-23 |
| IT1178939B (it) | 1987-09-16 |
| ES532684A0 (es) | 1985-04-16 |
| ES532683A0 (es) | 1985-04-16 |
| BE899592A (fr) | 1984-11-07 |
| CA1235027A (fr) | 1988-04-12 |
| NL8401503A (nl) | 1984-12-03 |
| SE8402553D0 (sv) | 1984-05-11 |
| DE3417596A1 (de) | 1984-11-15 |
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