KR930001507B1 - 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법과 장치 - Google Patents
기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법과 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (16)
- (a) 기판과 상기 기판표면의 형성과 유사한 형상의 개구부를 한측면에 지닌 미완성탱크를 서로 밀착접촉시켜 상기 개구부를 상기 기판표면으로 폐쇄함으로써 탱크를 완성시킨다. (b) 탱크내 액면이 소정수준에 도달할때까지 상기 탱크속으로 코우팅액을 도입한다. (c) 상기 탱크와 기판을 고정시킨채, 상기 탱크벽의 구멍에 의해 상기 탱크의 하부단면과 연통되고 상기 구멍위치에서 하방으로 뻗는 흐름유선채널을 개재하여 탱크내 액면을 소정비율로 낮추도록 상기 탱크에서 코우팅액을 추출한다. 로 이루어진 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 구멍은 상기 탱크의 수평단면적의 1/6보다 큰 면적을 지니는 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 구멍의 상기 면적은 상기 수평단면적의 1/4 이상인 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 공정(b)은 우선 상기 탱크내 액면을 상기 소정수준을 약간 초과하도록 함으로써 일부의 코우팅액이 상기 탱크를 넘쳐흐르게하는 서브-스텝으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 미완성탱크의 상기 개구부는 상기 기판표면보다 작은 면적을 지녀서 유체막이 상기 기판표면의 선택된 영역에만 코우팅되는 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 코우팅액은 유기용매내의 금속알콕시드용액인 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기판은 유리판인 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 방법.
- 기판을 보유하는 수단, 상기 기판표면과 유사한 형상의 개구부를 한측면에 지니는 미완성유체탱크, 상기 탱크의 하부단면에 형성된 구멍에 의해 상기 탱크와 연통되고 상기 구멍의 위치에서 하방으로 뻗는 흐름유선채널을 구획하는 수단, 상기 탱크의 상기 개구부가 기판에 의해 폐쇄되도록 기판과 상기 미완성탱크를 서로 밀착접촉시킴으로써 탱크를 완성시키고 탱크와 기판을 밀착접촉된 상태로 고정유지시키는 수단, 기판과 밀착유지된 상기 탱크에 코우팅액을 도입시키는 수단, 상기 유선채널을 개재하여 상기 탱크에서 소정비율로 코우팅액을 추출하는 수단으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 구멍은 상기 탱크의 수평단면적의 1/6 이상인 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 구멍의 상기 면적은 상기 수평단면적의 1/4 이상인 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 유선채널을 구획하는 수단은 상기 탱크에 부착되고 상기 탱크의 바닥보다 낮은 단면에서 하방으로 테이퍼되어 있는 박스형골조로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 탱크는 상단이 개방되어 있고 상기 탱크벽의 최상부는 상기 탱크에 도입된 코우팅액을 넘쳐흐르게 하도록 절단되어 있는 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제12항에 있어서, 상기 벽의 상부모서리는 톱니로 되어있는 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 탱크로 코우팅액을 도입시키는 상기 수단과 상기 탱크에서 코우팅액을 추출하는 상기 수단은 단일성분으로 코우팅액저장소, 상기 저장소와 상기 유선채널의 하단사이에 연통하는 튜브, 상기 저장소의 수직위치를 변화시키기 위해 상기 저장소를 이동시키는 수단으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 탱크에서 코우팅액을 추출하는 상기 수단은 상기 유선채널의 하단에서 뻗는 파이프와 개방도가 조절될 수 있게 상기 파이프에 형성된 밸브로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 미완성탱크의 상기 개구부는 상기 기판표면보다 작은 면적을 지니는 것을 특징으로 하는 기판표면에 얇은 유체막을 코우팅하는 장치.
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| US3052565A (en) * | 1958-06-30 | 1962-09-04 | Union Carbide Corp | Intermittent resin melt application |
| US3084662A (en) * | 1960-08-10 | 1963-04-09 | Afton C Badger | Apparatus for the continuous application of coating to strip material |
| US3190260A (en) * | 1963-02-13 | 1965-06-22 | American Optical Corp | Device for applying a thin coating on an article |
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| US3557749A (en) * | 1969-03-12 | 1971-01-26 | George Farago | Immersion apparatus |
| US3692592A (en) * | 1970-02-12 | 1972-09-19 | Rca Corp | Method and apparatus for depositing epitaxial semiconductive layers from the liquid phase |
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| US3905325A (en) * | 1974-10-10 | 1975-09-16 | Pitney Bowes Inc | Envelope flap moistening apparatus |
| US3980046A (en) * | 1975-08-11 | 1976-09-14 | The Raymond Lee Organization, Inc. | Paper hanger's paste applicator |
| US4018953A (en) * | 1976-08-12 | 1977-04-19 | Xerox Corporation | Coating method |
| US4620996A (en) * | 1983-01-27 | 1986-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating device and coating method by use thereof |
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