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KR930006008A - N-치환 헤테로고리 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약화 조성물 - Google Patents

N-치환 헤테로고리 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약화 조성물 Download PDF

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KR930006008A
KR930006008A KR1019920016618A KR920016618A KR930006008A KR 930006008 A KR930006008 A KR 930006008A KR 1019920016618 A KR1019920016618 A KR 1019920016618A KR 920016618 A KR920016618 A KR 920016618A KR 930006008 A KR930006008 A KR 930006008A
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뻬로 삐에르
뮈노 끌로드
뮈노 이베뜨
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삐에르 마레스떼
엘프 사노피
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Abstract

본 발명은 N-치환 헤테로고리 유도체 및 이의 염에 관한 것이다.
이들 유도체는 하기 식을 갖는다.
[상기 식중, -R1및 R2는 동일 또는 상이하고, 각각 독립적으로, 수소이거나, C1-C6알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아미노메틸, 카르복실, 알콕시가 C1-C4알콕시인 알콕시카르보닐, 시아노, 테트라졸릴, 메틸테트라졸릴, 메틸술포닐아미노, 트리플루오로메틸술포닐아미노, 트리플루오로메틸술포닐아미노메틸, N-시아노아세트아미드, N-히드록시아세트아미드, N-(4-카르복시-1, 3-티아졸-2-일)아세트아미드, 우레이도, 2-시아노-구아니디노카르보닐, 2-시아노-구아니디노메틸, 이미다졸-1-일카르보닐 및 3-시아노-메틸이소티오우레이도메틸에서 선택한 기이고, 단, 치환기 R1또는 R2중 적어도 하나는 수소가 아니어야 하며, -R3은 수소, 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 치환되거지 않은 C1-C6알킬, C2-C6알케닐, C2-C7시클로알킬, 페닐, 알킬이 C1-C3알킬인 페닐알킬, 또는 알케닐이 C2-C3알케닐인 페닐알케닐(상기에서, 페닐기들은 할로겐 원자, C1-C4알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4폴리할로게노알킬, 히드록실 또는 C1-C4알콕시로 단일치환 또는 다중치환되거나 비치환된 페닐기들이다)이고, -R4는 비치환되거나 1종 이상의 할로겐 원자로 치환된 C1-C6알킬이며, -R5는 시클로알킬이 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 C3-C7시클로알킬인시클로알킬 또는 시클로알킬메틸이거나, -R4및 R5가 각각 시클로프로필이고, -X는 산소 원자 또는 황 원자이며, -z 및 t는 0이거나, 하나가 0이고 다른 하나는 1이다)

Description

N-치환 헤테로고리 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약학 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 이의 염.
    [상기 식중, -R1및 R2는 동일 또는 상이하고, 각각 독립적으로, 수소이거나, C1-C6알킬, C1-C4알콕시, 아미노, 아미노메틸, 카르복실, 알콕시가 C1-C4알콕시인 알콕시카르보닐, 시아노, 테트라졸릴, 메틸테트라졸릴, 메틸술포닐아미노, 트리플루오로메틸술포닐아미노, 트리플루오로메틸술포닐아미노메틸, N-시아노아세트아미드, N-히드록시아세트아미드, N-(4-카르복시-1, 3-티아졸-2-일)아세트아미드, 우레이도, 2-시아노-구아니디노카르보닐, 2-시아노-구아니디노메틸, 이미다졸-1-일카르보닐 및 3-시아노-메틸이소티오우레이도메틸에서 선택한 기이고, 단, 치환기 R1또는 R2중 적어도 하나는 수소가 아니어야 하며, -R3은 수소, 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 치환되거지 않은 C1-C6알킬, C2-C6알케닐, C3-C7시클로알킬, 페닐, 알킬이 C1-C3알킬인 페닐알킬, 또는 알케닐이 C2-C3알케닐인 페닐알케닐(상기에서, 페닐기들은 할로겐 원자, C1-C4알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4플리할로게노알킬, 히드록실 또는 C1-C4알콕시로 단일치환 또는 다중치환되거나 비치환된 페닐기들이다)이고, -R4는 비치환되거나 1종 이상의 할로겐 원자로 치환된 C1-C6알킬이며, -R5는 시클로알킬이 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 C3-C7시클로알킬인시클로알킬 또는 시클로알킬메틸이거나, -R4및 R5가 각각 시클로프로필이고, -X는 산소 원자 또는 황 원자이며, -z 및 t는 0이거나, 하나가 0이고 다른 하나는 1이다)
  2. 제1항에 있어서, R1이 오로토 위치에 있고, 카르복실 또는 테르라졸릴기이며, R2가 수소인 화합물.
  3. 제1항 또는 2항에 있어서, R4가 메틸이고, R5가 시클로헥실인 화합물.
  4. 제1항 또는 2항에 있어서, R3이 직쇄 C1-C6알킬기인 화합물.
  5. 제1항 또는 2항에 있어서, X가 산소인 화합물.
  6. 제1항 또는 2항에 있어서, z 및 t가 0인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, 2-n-부틸-4-메틸-4-시클로헥실-1[(2′-(테트라졸-5-일)비페닐-4-일)메틸]-2-이미다졸린-5-온 또는 이의 산 또는 염기와의 염중 하나인 화합물.
  8. 하기 단계들을 특징으로 하는, 청구범위 제1항 내지 7항 중 어느 한 항에 청구한 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법. a1) 하기 일반식 2의 헤테로고리 유도체를 하기 일반식 3의 (비페닐-4-일)메틸 유도체와 반응시큰 단계, b1) 적당하다면, 하기 일반식 4의 생성 화합물을 로엔슨 시약 [2, 4-비스(4-메톡시페닐)-1, 3-디티아-2, 4-디포스페탄 2, 4-디슬피드]으로 처리하는 단계, c1) a1) 또는 b1)에서 수득한 하기 일반식 5의 화합물을 처리하여 R′1및/또는 R′2의 기를 R′1및/또는 R′2의 기로 각각 전환시킴으로써 일반식(Ⅰ)의 화합물을 얻는 단계, 및 d1) 적당하다면, 이렇게 수득한 화합물을 그의 염들 중 하나로 전화시키는 단계.
    (상기 식들중, X, z, t, R3, R4및 R5는 청구범위 제1항의 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같으며, Hal은 할로겐 원자이고, R′1는 R′2는 각각 R1및 R2의 전구체(precursor)기이다.)
  9. 하기 단계들을 특징으로 하는, 청구범위 제1항 내지 7항 중 어느 한 항에서 청구한 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법. a2) 하기 일반식 7의 아미노산을 하기 일반식 8의(비페닐-4-일)메틸아민 유도체와 반응시키는 단계, b2) 아민을 탈보호시킨후, 생성된 하기 일반식 9의 화합물을 일반식 R3C(OR2)(10)(여기에서, R3은 청구범위 제1항의 일반식(Ⅰ)에서 정의된 바와 같고, R은 C1-C4알킬이다)의 오로토-에스테르로 처리하는 단계, c2) 적당하다면, 생성된 하기 일반식 4의 화합물을 로엔슨 시약 [2, 4-비스(4-메톡시페닐)-1, 3-디티아-2, 4-디포스페탄 2, 4-디술피드]으로 처리하는 단계, d2) b2 또는 c2에서 수득한 하기 일반식 5의 화합물을 R′1및/또는 R′2의 기를 R2및/또는 R1의 기들로 전화시킴으로써 화합물(Ⅰ)을 제조하기에 적당한 조건하에서 처리하는 단계, e2) 적당하면, 이렇게 수득한 화합물을 그의 염으로 전화시키는 단계.
    (상기 식들중, z, t, R4및 R5는 청구범위 제1항의 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같으며, 그의 아민기는 Pr기로 보호되며, R′1는 R′2는 각각 R1및 R2이거나 R1및 R2의 전구체기이다.)
  10. 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물.
    [상기 식중, -R3은 수소, 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬, C2-C3알케닐, C3-C7시클로알킬, 페닐, 알킬이 C1-C3알킬인 페닐알킬, 또는 알케닐이 C2-C3알케닐인 페닐알케닐(상기에서, 페닐기들은 할로겐 원자, C1-C4할로게노알킬, C1-C4알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C4폴리할로게노알킬, 히드록실 또는 C1-C4알콕시로 단일치환 또는 다중치환되거나 비치환된 페닐기들이다)이고, -R4는 비치환되거나 1종 이상의 할로겐 원자로 치환된 C1-C6알킬이며, R5는 시클로알킬이 1종 이상의 할로겐 원자로 치환되거나 비치환된 C2-C7시클로알킬인 시클로알킬 또는 시클로알킬메틸이거나, -R4및 R5가 각각 시클로프로필이고, -z 및 t는 0이거나, 하나가 0이고 다른 하나는 1이며, -X는 산소원자를 나타내며, 단, z=t=0이고, R5가 시클로알킬을 나타내면 R3은 페닐 또는 치환 페닐 이외의 것이다.)
  11. 제10항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ”)의 화합물임을 특징으로 하는 화합물.
    (상기 식중, R3, R4, R5및 X는 청구범위 제10항의 일반식(Ⅱ)에서 정의된 바와 같고, R3은 C1-C6알킬이다.)
  12. 제11항에 있어서, 하기 일반식의 화합물임을 특징으로 하는 화합물.
    (상기 식중, X는 산소원자이고 R3은 C1-C6알킬이다.)
  13. 제10항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ”)의 화합물임을 특징으로 하는 화합물.
    (상기 식중, R3, R4, R5및 X는 청구범위 제10항의 일반식(Ⅱ)에서 정의된 바와 같다.)
  14. 제10항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ´˝)의 화합물임을 특징으로 하는 화합물.
    (상기 식중, X, R3, R4및 R5는 청구범위 제10항의 일반식(Ⅱ)에서 정의된 바와 같다.)
  15. 하기 일반식 14의 화합물을 하기 일반식 13의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는, 청구범위 제10항 내지 14항 중 어느 한 항에 청구한 화합물의 제조방법.
    [상기 식중, R3은 청구범위 제10항의 일반식(Ⅱ)에서 정의된 바와같고, B는 -기 C(OR)3, -기또는 COHal이다. (여기에서, R은 C1-C4알킬이며, Hal은 할로겐 원자, 바람직하게는 염소이다.)]
    [상기 식중, R4및 R5는 청구범위 제10항의 일반식(Ⅱ)에서 정의된 바와 같고, A는 OH기, NH3기 또는 OR′기이다. (여기에서, R′은 수소 또는 C1-C4알킬이다.)]
  16. 청구범위 제1항 내지 7항중 어느 한 항에서 청구한 화합물이 활성 성분으로 존재함을 특징으로 하는 약학 조성물.
  17. 청구범위 제1항 내지 7항중 어느 한 항에서 청구한 화합물이 베타-차폐 화합물과 배합되어 존재함을 특징으로 하는 약학 조성물.
  18. 청구범위 제1항 내지 7항중 어느 한 항에서 청구한 화합물이 이뇨제와 배합되어 존재함을 특징으로 하는 약학 조성물.
  19. 청구범위 제1항 내지 7항중 어느 한 항에서 청구한 화합물이 비스테로이드성 소염제와 배합되어 존재함을 특징으로 하는 약학 조성물.
  20. 청구범위 제1항 내지 7항중 어느 한 항에서 청구한 화합물이 칼슘 길향제와 배합되어 존재함을 특징으로 하는 약학 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920016618A 1991-09-10 1992-09-09 N-치환 헤테로고리 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약화 조성물 Ceased KR930006008A (ko)

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