KR920008819B1 - 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (40)
- 하기식(II)의 화합물과 하기식(III)의 알데히드 및 하기식(IV)의 엔아민을 반응시켜 하기식(IA).화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I) 의 옥사디아졸리 -1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나가 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),,-S-,-S(O)- 또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시-저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, 아릴 또는 피리딜이다) 또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)] 또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X, 및 Y는 이미 정의하였다).
- 제2항에 있어서, T1이 저급알킬렌이고; T2가 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; R1및 R5가 저급알킬이고;R2가 아릴, 피리딜, 티에닐 또는 푸릴이고; R3가 아릴이고; R6가 수소이고, 저급알킬 또는 아르알킬이고; R7은 수소이고; R8은 포화 C1-C10탄화수소 라디칼 또는 피리딜이다)인 방법.
- 제3항에 있어서, T1이 메틸렌이고, R1,R5,R,6및 R8이 메틸인 방법.
- 제4항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-(3-피페리디노메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-4-페닐피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-(3-피페리디노메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-(3-피페리디노메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-4-(3,4-디클로로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(2,3-디클로로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[N-(4-메틸벤질)-N-메틸아미노)]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[N-(4-메톡시벤질)-N-메틸아미노)]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-메틸-N-펜에틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[N-메틸-N-(3-페닐프로필)아미노]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로 2,6-디메틸-3-[N-메틸-N-(3,4-디메톡시페닐)에틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[N-메틸-N-(3-피리딜)메틸아미노]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[4-(2-메톡시페닐)-1-피페라지닐]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[4-(3-트리플루오로메틸페닐)-1-피페라지닐]메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[5-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-메틸아미노)메틸-1,34-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제4항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[4-(2-메톡시페닐)-1-피페라지닐]에틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-에틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-이소프로필아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 에틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 이소프로필 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N=메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 2-메톡시에틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 시클로프로필메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 2-피리딜메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 3-피리딜메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(N-벤질-N-메틸아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-[2-(N-벤질-N-메틸아미노)에틸]-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 제3항에 있어서, 메틸 1,4-디히드로-2,6-디메틸-3-[3-(α메틸벤질아미노)메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일]-4-(3-니트로페닐)피리딘-5-카르복실레이트인 방법.
- 하기식(Ⅴ)의 화합물과 하기식(Ⅵ)의 화합물을 반응시켜 하기식(Ia)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나가 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼 N-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),,-S-,-S(O)-또는 -SO2-이고; X는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다)또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시-저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사니아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다) 또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)]또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다)이다.
- 하기식(Ⅱ)의 화합물과 하기식(Ⅵ)의 화합물 및 암모니아 또는 하기식(Ⅶ)의 아민을 반응시켜 하기식(Ia)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나가 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌 이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),,-S-,-S(O)- 또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케니라, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시-저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시콜로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기 [R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다)또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)]또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다).
- 하기식(I)의 R4가T1-X-T2-R2이고 R1및 R5가 동일한 치환제일 때, 하기식(Ⅱ)의 화합물 2몰 당량과 하기식(Ⅲ)의 알데히드 및 하기식(Ⅶ)의 암모니아 또는 아민을 반응시켜 하기식(Ib)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나가 질소이고, 다른하나는 탄소이고; T1은 페닐렌을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌 이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),,-S-,-S(O)- 또는 -S(O)2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는, 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시-저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기 [R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다)(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)]또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다)
- 하기식(Ic)의 화합물과 하기식(Ⅷ)의 알코올의 반응성 에스테르를 반응시켜 하기식(Id)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나의 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌은 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),,-S-,-S(O)- 또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하난는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시, 저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시오노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다) 또는(T3는 저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다)또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다).
- 하기식(I)의 Z가 산소이고, R1또는 R5가 아미노인 경우에 하기식(Ⅵ)의 화합물과 하기식(Ⅸ)의 니트릴을 반응시키거나, 하기식(Ⅹ)의 화합물과 하기식(XI)의 니트릴을 반응시켜 하기식(Ia)의 옥사디아졸릴-4H-피란 유도체를 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나의 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌은 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),, -S-, -S(O)- 또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시, 저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 알리, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사이디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다) 또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)] 또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다).
- 하기식(I)의 Z가 라디칼 NH이고, R1또는 R5가 아미노인 경우에 하기식(Ⅵ)의 화합물과 하기식(XII)의 화합물을 반응식키거나, 히기식(X)의 화합물과 하기식(XIII)의 화합물을 반응시켜 하기식(If)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A 또는 B의 하나의 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T1은 페닐렌은 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),, -S-, -S(O)- 또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급 알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시, 저급아킬, 저급알카노일옥시-저급알키, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에닐, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬. 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다) 또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)] 또는T1-X-T2-R2(A,B,R2,T1,T2,X 및 Y는 이미 정의하였다).
- 하기식(XIV)의 알코올 또는 그의 반응성 에스테르와 하기식(ⅩⅤ)의 화합물 또는 그의 알칼리염을 반응시켜 하기식(Ig)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1,4-디히드로 피리딘 유동체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A또는 B의 하나의 질소이고, 다른 하나는 탄소이고; T은 페닐렌은 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고; X는 라디칼-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),, -S-, -S(O)-또는 -SO2-이고; Y는 산소 또는 황이고; Z는 라디칼-R7(R7는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 산소이고; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 히드록시-저급알킬, 저급알콕시, 저급알킬, 저급알카노일옥시-저급알킬, 디-저급알콕시-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고 ; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤테로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5- 내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고 ; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에릴, 푸릴, 2,1,3-벤조옥사디아졸릴, 저급알킬, 저급시클로알킬, 아르알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동알하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소라디칼,-T3-R9기(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다)또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)]또는-X-T2-R2(A, B, R2, T1, T2, X 및 Y는 이미 정의하였다).
- 하기식(I)의 R4가 -COOR8기인 경우에, 하기식(Ih)의 카르복실산 또는 그의 반응성 유도체와 하기식(XVI)의 알코올과 반응시켜 하기식(Ii)의 화합물을 얻음을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 옥사디아졸릴-1, 4-디히드로피리딘 유도체 및 그의 산부가염의 제조방법.식중에서, A 또는 B의 하나의 질소이고, 다른 하나는 탄소이고 ; T1은 페닐렌은 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 저급알케닐렌이거나 단일 결합이고 ; T2는 카르보닐, 아릴을 함유할 수 있는 저급알킬렌 또는 단일 결합이고 ; X는 라디칼 N-R6(R6는 수소, 저급알킬, 저급 시클로알킬-저급알킬, 아르알킬이다),, -S-, -S(O)- 또는 -SO2-이고 ; Y는 산소 또는 황이고 ; Z는 라디칼(R7는 수소 또는 저급알킬이다)또는 산소이고 ; R1또는 R5의 하나가 저급알킬, 저급알케닐 또는 할로-저급알킬이고, 다른 하나는 저급알킬, 저급알케닐, 할로-저급알킬, 포르밀, 시아노 또는 아미노이고 ; R2는 아릴, 아릴옥시, 5 또는 6원 불포화 헤티로고리기, 저급시클로알킬 또는 아다만틸이고,기는 O-페닐렌을 함유하고, 그외에 저급알킬, 옥소, 아릴, 아르알킬, 또는 아로일을 함유할 수 있는 5-내지 8-원 포화 N-함유 헤테로고리기가 가능하고 ; R3는 아릴, N-옥사이드를 형성할 수 있는 피리딜, 티에릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬 또는 벤즈히드릴이고, 이러한 아릴 및 헤테로고리기는 할로겐, 니트로, 트리플루오로메틸, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 폴리플루오로-저급알콕시 및 벤질옥시로된 군에서 선택된 하나 또는 둘의 동일하거나 상이한 치환기로 임의 치환될 수 있고, R4는 수소, 시아노, 카르바모일, 저급알카노일, -COOR8기[R8는 포화 또는 불포화 C1-C10탄화수소 라디칼, -T3-R9RL(T3는 저급알킬렌이고, R9은 저급알콕시, 저급시클로알킬, 시아노, 폴리플루오로-저급알킬, 아릴 또는 피리딜이다)또는(T3는 저급알킬렌이고 R10및 R11은 저급알킬이다)]또는(A, B, R2, T1, T2및 Y는 이미 정의하였다).
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