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KR900001383B1 - 전착 조성물 및 그 조성물을 사용하여 전해피복을 하는 방법 - Google Patents

전착 조성물 및 그 조성물을 사용하여 전해피복을 하는 방법 Download PDF

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KR900001383B1
KR900001383B1 KR1019860004344A KR860004344A KR900001383B1 KR 900001383 B1 KR900001383 B1 KR 900001383B1 KR 1019860004344 A KR1019860004344 A KR 1019860004344A KR 860004344 A KR860004344 A KR 860004344A KR 900001383 B1 KR900001383 B1 KR 900001383B1
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KR
South Korea
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cationic
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furfuryl alcohol
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KR1019860004344A
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KR870000396A (ko
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차알즈 모리어리티 토마스
레이몬드 즈와크 로버어트
Original Assignee
피이피이지이 인더스트리이즈 인코포레이팃드
헬렌 에이 패브릭
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Abstract

내용 없음.

Description

전착 조성물 및 그 조성물을 사용하여 전해피복을 하는 방법
본 발명은 보호된 이소시아네이트 경화제를 함유하는 전착조성물, 보다 더 구체적으로는 양이온 전착 조성물에 관한 것이다.
보호된 이소시아네이트 경화제를 사용하는 양이온 전착 조성물들은 당분야에 잘 알려져 있다. 그 같은 조성물들은 비교적 낮은 온도에서 잘 경화되며, 이는 보호제가 락탐, 페놀 및 옥심일 경우에 특히 정확한 사실이다. 놀랍게도, 푸르푸릴 알콜로 보호된 폴리이소시아네이트 역시 양이온 전착시에 우수한 저온 경화를 제공해준다고 밝혀졌다. 비록 푸르푸릴알콜로 보호된 폴리이소시아네이트들이 미합중국 특허 제3,509,103호에 의하여 통상의 비전착 코우팅내 경화제로서 알려져 있으나, 이들이 저온 경화제로서 유용하다는 것은 발표되지 않았다는 점에서 이는 다소 놀라운 것이다.
본 발명에 따라서, 개선된 양이온 전착 조성물 및 이들 조성물을 사용하는 양이온 전착 방법이 발표되었다. 본 발명의 양이온 전착 조성물은 푸르푸릴 알콜로 보호된 폴리이소시아네이트 경화제와 양이온 수지로 구성된다.
본 발명을 실시하는데 사용되는 양이온 전착 조성물은 푸르푸릴 알콜로 보호된 폴리이소시아네이트와 양이온 수지를 필수성분으로서 함유한다. 전착시에 사용되기 위한 양이온 수지는 당분야에 잘 알려져 있다. 그러한 양이온 전착 수지의 예로써, 활성 수소를 함유하는 것들이 있으며, 미합중국 특허 제4,031,050호(Jerabek)에 기재된 것과 같
아민염의 기를 함유하는 수지외에, 4차 암모늄염의 기를 함유하는 수지가 사용될 수 있다. 이들 수지의 예로써 유기 폴리에폭시드를 3차 아민산염과 반응시킴으로써 생성된 것들이 있다. 그러한 수지들이 미합중국 특허 제3,962,165; 제3,975,346호 및 제4,001,156호에 기재되어 있다. 그외의 다른 양이온수지의 예로써, 미합중국 특허 제3,975,278호(DeBona)에 기재된 것들과 같은 3차 설포늄염 기(group)-함유 수지를 들 수 있다.
적어도 하나의 2차 아민기를 함유하는 디케티민(예 : 디에틸렌 트리아민의 메틸이소부틸 디케티민)과 폴리에폭시드를 반응시킴으로써 생성된 1차 아민기-함유 수지 같은 특별히 개조된 양이온 수지들이 사용될 수도 있으며, 사실상 이들을 사용함이 바람직하다. 그러한 수지들이 미합중국 특허 제4,017,438호에 기재되어 있다.
분자량을 증가시키기 위하여 폴리에폭시드의 사슬을 연장시킴으로써 얻어진 것과 같은 개조된 수지들도 본 발명을 실시함에 있어 역시 바람직한 것들이다. 그러한 물질들은 미합중국 특허 제4,148,772호(여기서는 폴리에스테르 폴리올을 사용하여 폴리에폭시드의 사슬을 연장시킴)와 미합중국 특허 제4,468,307호(여기서는 특정 폴리에테르 폴리올을 사용하여 폴리에폭시드의 사슬을 연장시킴)에 기재되어 있다. 또한 캐나다 특허 제1,179,443호에 발표된 바와 같은 사슬 연장이 사용될 수도 있다.
양이온 수지 제조시에 사용되는 에폭시 중합체는 폴리에폭시드, 즉 1보다 큰, 바람직하게는 약 2 또는 그이상의 1,2-에폭시 당량을 갖는 중합체이다. 바람직한 것은 에폭시에 대하여 이관능성인 폴리에폭시드이다. 바람직한 폴리에폭시드는 고리형 폴리올
폴리페놀의 폴리글리시딜에테르 이외에 사용될 수 있는 에폭시-함유 중합체는 에폭시기를 함유하는 아크릴 중합체들이다. 이들 중합체는 글리시딜 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 같은 불포화 에폭시기-함유 단량체를 하나 또는 그 이상의 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체와 중합시킴으로써 생성된다. 이들 중합체의 예가 미합중국 특허 제4,001,156호 컬럼 3의 59째줄에서 컬럼 5의 60째줄까지에 기재되어 있으며, 그 부분을 본 발명에 참고로 하였다.
폴리에폭시드-아민 반응 생성물의 제조시에 사용될 수 있는 아민의 예로써, 암모니아, 1차, 2차, 및 3차 아민과 그의 혼합물이 있다. 폴리에폭시드와 아민의 반응생성물은 산에 의하여 최소한 부분적으로 중화되어 아민염 및/또는 4차 암모늄염 기(group)를 함유하는 중합체 생성물을 형성한다. 폴리에폭시드와 아민과의 반응에 대한 조건, 여러가지 아민의 예, 그리고 산을 이용하는 최소한의 부분 중화가 미합중국 특허 제4,260,720호 컬럼 5의 20 째줄에서 컬럼 7의 4째줄까지에 나와 있으며 그 부분을 본 발명에 참고로 하였다.
서로 반응하는 유기아민과 폴리에폭시드의 양에 있어, 상대적인 양들은 양이온 염기, 예컨대 원하는 양이온염의 기(group)의 생성 정도에 따라 좌우되며 그 정도는 중합체의 분자량에 따라 좌우될 것이다. 양이온염기(group)의 생성 정도 및 반응 생성물의 분자량은, 생성된 양이온 중합체가 수성매체와 혼합될 때 안정한 분산액이 형성되도록 선택되어야 한다. 안정한 분산액은 침강되지 않는 것이거나, 혹은 그와 같은 침강이 일어날 경우 쉽게 분산될 수 있는 것이다. 몇몇 구체화에 있어서, 분산액은, 수성 분산액내
또한, 분쟈랑, 구조 및 양이온염의 기(group) 생성 정도는, 분산된 중합체가 기질위에 필름을 형성하는데 요구되는 흐름(전착의 경우에는 음극위에 필름을 형성하는데 요구되는 흐름)을 갖도록 조절되어야 한다. 필름은 욕조에서 제거된 후 피복된 표면으로부터 씻겨져버리거나 전착 욕조내에서 재용해되지 않을 정도로 수분에 대하여 감수성이 없어야 한다.
일반적으로, 본 발명을 실시함에 있어 유용한 대부분의 양이온 중합체는 500-100,000의 분자량을 가지며, 수지 고형분 1g당 0.01-10, 바람직하게는 약 0.1-5.0, 바람직하게는 약 0.3-3.0밀리당량의 염기성 기, 예컨대 양이온 기를 함유할 것이다. 명백히, 만족스러운 중합체에 도달하기 위해서는 분자량과 양이온기 함량을 결합시키는 당분야의 기술을 사용해야만 한다. 폴리글리시딜 에테르는 약 500-10,000, 바람직하게는 1,000-5,000의 분자량을 가질 것이다. 그 반면, 아크릴 중합체는 100,000정도로 높은 분자량, 바람직하게는 5,000-50,000의 분자량을 가질 것이다.
본 발명의 양이온 수지와 관련된 활성 수소들은 135-163℃의 온도범위에 걸쳐 이소시아네이트와의 반응성이 있는 어떠한 활성 수소로부터 선택될 수 있다. 전형적으로 활성 수소들은 히드록실, 1차 및 2차 아민과 티올 및 혼합기(예 : 히드록실 및 1차 아미노)와 관련된 것들일 것이다 .
경화제 제조시에 사용되는 폴리이소시아네이트는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트일 수 있으며, 방향족 폴리이소시아네이트는 더 낮은 온도의 경화에 바람직하다. 지방족 폴리이소시아네이트의 대표적 예로써 알킬렌 폴리이소시아네이트(예 : 트
방향족 폴리이소시아네이트의 예로는 파라-페닐렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐 디이소시아네이트 같은 아릴렌 폴리이소시아네이트; 4,4'-디페닐렌메탄 디이소시아네이트, 2,4-또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트 또는 그이 혼합물과 같은 알크아릴렌 폴리이소시아네이트; 디아니시딘 이이소시아네이트 같은 핵 치환 방향족 화합물들이 있다.
트리페닐메탄-4,4', 4＂-트리이소시아네이트 같은 트리이소시아네이트 및 1몰의 트리메틸올프로판과 3몰의 톨루엔 디이소시아네이트가 반응하여 탁월하게는 트리이소시아네이트를 형성한 것과 같은 폴리이소시아네이트와 폴리올과의 반응생성물이 사용될 수도 있다. 또한 톨루엔 디이소시아네이트 이량체 및 삼량체(예 : 폴리메틸렌 폴리페닐 이소시아네이트) 같은 중합 폴리이소시아네이트가 사용될 수도 있다.
폴리이소시아네이트 외에도 에틸렌형 불포화 모노이소시아네이트 같은 모노이소시아네이트가 아크릴 중합체 제조시에 사용될 수 있다. 비닐 이소시아네이트의 예로써, 알릴 이소시아네이트, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트 및 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트가 있다. 이들 물질을 푸르푸릴알콜로 보호하고, 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트를 비롯한 다른 아크릴 단량체와 반응시켜, 보호된 이소시아네이트기들을 함유하는 에폭시기-함유 아크릴 중합체를 형성시킬 수 있다. 이소시아네이트기들과 해롭게 반응할 성분들이 없는 한, 다른 비닐 단량체와의 반응 후에도 보호단계를 수행할 수 있다. 이제 이같은 중합체를, 산으로 부분 중화된 아민과 반응시킨으
유기 폴리이소시아네이트는 푸르푸릴알콜로 완전히 보호될 수 있으며 비겔화 양이온 수지와 함께 다성분 조성물의 한 성분으로서 사용될 수 있다. 그와는 달리 유기 폴리이소시아네이트를 푸르푸릴알콜로 부분적으로 보호하고(예컨대, 반(半)보호) 그같이 부분적으로 보호된 물질을 비겔화 양이온 수지의 활성 수소와 반응시킴으로써, 일체를 이루는 이소시아네이트 기들이 함유된 비겔화 양이온 수지를 형성시킬 수도 있다. 일체를 이루는 보호된 이소시아네이트 경화제와의 폴리에폭시드-아민 반응생성물을 제조하는 과정들은 미합중국 특허 제3,947,338호에 나와있다. 또한 완전히 보호되고 일체를 이루는 이소시아네이트의 혼합물이 사용될 수도 있다.
별개의 성분으로서 존재하든 혹은 활성수소-함유 비겔화 양이온 수지와 함께 일체를 이루든 간에, 보호된 폴리이소시아네이트는 조성물에게 완전결합를 부여하기에 충분한 양으로 존재한다. 전형적으로, 보호된 폴리이소시아네이트는 이소시아네이트 : 활성 수소 당량비가 0.05-1.5; v1, 바람직하게는 0.1-1.3 : 1이 되도록 존재한다. 이소시아네이트의 당량은 보호된 이소시아네이트기와 관련된 것이다. 활성 수소들은 양이온 수지 및, 예컨대 개조용 물질로서 조성물내에 존재할 수 있는 다른 비휘발성의 활성수소-함유 물질과 관련된 것들이다.
푸르푸릴알콜 그 자체외에도, 치환체가 고리위에 또는 메틸렌기위에 존재하는 치환된 푸르푸릴알콜이 사용될 수 있다. 치환체들이 고리에 치환되는 것이 바람직하다. 치환체들은 경화나 전착 조(槽)의 안정성에 악영향을 끼쳐서는 안된다. 적합한 치환체의 예에는 알킬, 아릴, 알크아릴, 아르알킬 및 할로가 포함된다. 푸르푸릴알콜 및 치환된 푸
비겔화 양이온 수지와 보호된 이소시아네이트 경화제는 수성 분산액 형태로 존재한다. ＂분산액＂이란 수지가 분산상이고 물이 연속상인 2-상(相)의 투명, 반투명 또는 불투명 수지 시스템을 말하는 것이라 생각된다. 수지 상(相)의 평균 입자직경은 10미크론 보다 작고, 바람직하게는 5미크론 보다 작다. 수성매체내의 수지상(비겔화 양이온 수지 및 보호된 폴리이소시아네이트 경화제)의 농도는 수성 분산액의 총 중량을 기준으로 보통은 적어도 약 0.5중량%, 보통 약 0.5-50중량%이다. 전착조에 사용되기 위한 전형적인 농도는 5-30중량%이다. 물외에도, 수성 매체는 응집체를 함유할 수 있다. 유용한 응집 용매의 예에는 탄화수소, 알콜, 에스테르, 에테르 및 케톤이 포함된다. 바람직한 응집용매의 예로는 알콜, 폴리올 및 케톤이 있다. 구체적인 응집용매의 예로써, 이소프로판올, 부탄올, 2-에틸헥산올, 이소포론, 4-메톡시펜탄온, 에틸렌 및 프로필렌글리콜, 그리고 에틸렌글리콜의 모노에틸, 모노부틸 및 모노헥실 에테르가 있다. 응집용매의 양은 과도하게 중요한 것이 아니며, 일반적을 약 0.01-40중량%, 바람직하게는 약 0.05-약 25중량%이다(수성매체의 총 중량을 기준으로).
몇몇 실예에 있어서는, 안료 조성물과 필요에 따라서는 계면활성제나 습윤제 같은 각종 첨가제들이 분산액속에 포함된다. 안료 조성물은, 예컨대 산화철, 산화납, 크롬산스트론륨, 카본블랙, 이산화티탄, 활석, 황산바륨 및 색채안료(예 : 카드뮴 옐로우, 카드뮴 레드, 크롬 옐로우등)로 이루어지는 통상적인 유형의 것일 수 있다. 분산액의 안료 함량은 안료 대(對) 수지 비율로 표현되는 것이 보통이다. 본 발명을 실시함에 있어서 안
조성물내에는 경화촉매가 사용되는 것이 보통이며, 그 예로써 디라우린산 디부틸주석 및 산화디부틸주석과 같은 유기주석 화합물이 있다. 촉매는 수지 고형분의 총 중량을 기준으로 약 0.1-5중량%의 양으로 존재하는 것이 보통이다.
전착시 사용하기 위하여, 수성 분산액을 전기전도성 양극 및 전기전도성 음극과 접촉되도록 놓는다(이때 피복되는 표면은 음극이다). 수성 분산액과의 접촉후, 코우팅 조성물의 필름이 음극위에 부착되고 충분한 전압이 전극들 사이에 인가된다. 전착이 수행되게 되는 조건은 다른 유형의 코우팅 전착시에 사용되는 것들과 유사함이 일반적이다. 적용되는 전압은, 예컨대 1볼트 정도로 낮은 것에서부터 몇천 볼트 정도로 높은 것에 이르기까지 다양할 수 있으나, 전형적으로는 50 내지 500볼트이다. 전류밀도는 보통 0.5-15암페어)제곱피이트이며 전착중에 감소하는 경향이 있는데, 이는 절연필름의 생성을 나타내주는 것이다.
본 발명의 코우팅 조성물은 각종 전기전도성 기질, 특히 강철, 알루미늄, 구리, 마그네슘등의 금속뿐 아니라 금속화 플라스틱 및 전도성 탄소-피복물질에 적용될 수 있다.
코우팅이 전해피복에 의하여 적용된 후에는, 보통은 고온에서의 열처리에 의하여 경화된다. 음극 전착은 후의 본 발명 조성물은 약 20-45분안에 약 135-163℃의 온도 범위에 걸친 저온하에 완전히 경화된다고 밝혀졌다. 경화된 증거는 경화된 코우팅의 내용매성 특히 아세톤에 대한 그의 저항성에 의하여 알수 있다. 본 발명의 조성물을 사용하여 본 발명의 방법에 의해서 제조되는 경화된 코우팅은 기질에 이르기까지 마멸되지
하기 실시예들은 본 발명을 예증해주는 것이지만, 본 발명이 그 세부사항에 한정되는 것은 아니다. 실시예뿐 아니라 명세서 전반에 걸쳐 나오는 모든 부와 백분율은 다른 언급이 없는한 중량에 관한 것이다.
[실시예]
하기 실시예들은 활성 수소를 함유하는 비겔화 양이온 수지와 푸르푸릴알콜로 보호된 폴리이소시아네이트 경화제로 이루어진 양이온 전착 조성물을 보여주는 것이다. 이 조성물을 음극위에 전착시키고 경화시켰다. 비교 목적상, 다른 알콜로 보호된 폴리이소시아네이트가 함유된 다른 양이온 전착 조성물들도 평가하였다.
[실시예 1]
푸르푸릴알콜로 보호된 폴리이소시아네이트가 함유된 비겔화 양이온 수지를 하기 성분들의 혼합물로 부터 제조하였다. 활성 수소기들에 대한 보호된 이소시아네이트의 당량비는 약 0.32 : 1이었다.
Figure kpo00001
1에피클로로히드린과 비스페놀 A를 반응시킴으로써 만들어지며 에폭시 당량이 약 188인 에폭시 수지 용액(쉴케미칼 캄파니제품).
2톨루엔디이소시아네이트(80/20 2,4-/2,6-이성질체 혼합물)를 푸르푸릴알콜로 반(半)을 보호하고 이 생성물을 3 : 1의 몰비율로 트리메틸올프로판과 반응시킴으로써 제조된 폴리우레탄 가교결합제, 이 가교결합제는 메틸이소부틸케톤내의 용액에서 약 68%의 고형분으로 존재한다.
3디에틸렌트리아민과 메틸이소부틸케톤으로 부터 유도된 디케티미(메틸이소부틸케톤내에서 73%의 고형분).
EPON 828, 비스페놀 A-산화에틸렌 부가물, 크실렌 및 비스페놀 A를 반응용기에 채우고 질소로 교반하면서 130℃로 함께 가열하였다. 벤질디메틸아민 촉매를 추가하고, 그 혼합물을 환류에 이르기까지 가열한 후 환류하게 반시간동안 유지시켜 물을 제거하였다. 반응혼합물을 145℃로 식힌후에 벤질디메틸아민 잔여부분을 참가하고, 감소된 가드너-홀트 점도(2-에톡시에탄올내의 50%수지용액) R이 얻어질때까지 약 145℃의 온도에서 반응을 유지시켰다. 폴리우레탄 가교결합제, 디케티민 유도체 및 N-메틸에탄올아민을 첨가하고, 반응혼합물의 온도를 125℃로 만든다음, 이 온도에서 약 1시간동안 유지시켰다. 1-페녹시-2-프로판올을 첨가한후, 이 반응 혼합물 1900부를 88%수성 유산 54.2g, 아래에 기재되어 있는 양이온 계면활성제 24.1g 및 탈이온수 806.1g으로된 혼합물 속에 분산시켰다. 탈이온수 2001g을 사용하여 더 희석한 후 수성 분산액의 고체함량은 32%였다. 이 분산액을 고체함량이 약 39%로 될때까지 진공 스트리핑하였다.
양이온 계면활성제는, Geigy 인더스트리알 케미칼즈로부터 GEIGY AMINE C로서 상업상 이용가능한 알킬이미다졸린 120부, 에어 프로덕츠 앤드 케미칼즈로부터 SURFYNOL 104로서 상업상 이용가능한 아세틸렌알콜 120 중량부, 2-부톡시에탄올 120중량부 및 빙초산 19중량부를 혼합함으로써 제조되었다.
[실시예 2]
보호재가 푸르푸릴알콜대신 2-에틸헥산올인 것 외에는 실시예 1과 유사한 조성물을 제조하였다. 활설 수소에 대한 보호된 이소시아네이트의 당량비는 실시예 1에서와 동일하였다.
[실시예 3]
보호재가 2-헥속시에탄올인 것을 제외하고는 상기 실시예 1 및 2와 유사한 조성물을 제조하였다. 활성 수소에 대한 보호된 이소시아네이트의 당량비는 실시예 1에서와 같았다.
[4원제(四元劑)]
하기 성분들의 혼합물로부터 4원제를 제조하였다 :
Figure kpo00002
2-에틸헥산올로 반이 보호된 톨루엔 디이소시아네이트를 실온하에 적합한 반응용기내의 디메틸에탄올아민에 첨가하였다. 혼합물을 발열시키고 80℃에서 1시간 동안 교반하였다. 다음에는, 유산을 집어넣은 후에 2-부톡시에탄올을 첨가하였다. 반응 혼합물을 65℃에서 약 1시간동안 교반하여, 원하는 4원제를 형성시켰다.
[안료 분쇄 전색제]
하기 충전물로부터 안료 분쇄 전색제를 제조하였다 :
Figure kpo00003
1에피클로로히드린과 비스페놀 A를 반응시킴으로써 제조되며 에폭시 당량이 약 188인 에폭시 수지 용액(쉴케미칼 캄파니 제품).
EPON 829와 비스페놀 A를 질소분위기하에 적합한 반응용기에 채워넣고 150-160℃로 가열하여 발열을 개시시켰다. 반응혼합물이 150-160℃에서 1시간동안 발열하도록 하였다. 다음에는 반응혼합물을 120℃로 식히고, 2-에틸헥산올로 반이 보호된 톨루엔 디이소시아네이트를 첨가하였다. 반응혼합물의 온도를 1시간동안 110-120℃로 유지시킨후 2-부톡시에탄올을 첨가하였다. 반응혼합물을 85-90℃로 식히고 균질화시킨후 물을 채워넣은 다음, 전술한 바와 같이 4원제를 첨가하였다. 1정도의 산가가 얻어질때까지, 반응혼홉물의 온도를 80-85℃로 유지시켰다. 반응 혼합물은 약 55%의 고형분 함량을 가졌다.
[촉매 페이스트]
산화 디부틸주석을 다음과 같이 분쇄 전색제속에 분산시켰다 :
Figure kpo00004
상기한 성분들을 함께 혼합하고 헤그만 No. 7분쇄물로 분쇄하였다.
[양이온 코우팅 조성물]
전술한 양이온 수지로부터 일련의 양이온 전착조를 제조하였다.
[실시예 4]
Figure kpo00005
[실시예 5]
Figure kpo00006
[실시예 6]
Figure kpo00007
미처리 강철 패널들을 전술한 바와 같은 전착조내에서 25℃의 욕조온도하에 250볼트에서 2분간 음극 전착시켰다. 피복된 페널들을 헹군후에 149℃에서 30분간 열처리하였다.
실시예 4의 양이온 전착조(푸르푸릴알콜로 보호된 폴리이소시아네이트)로 부터 부착된 코우팅(0.6밀)은 기질에 이르기까지 마멸되지 않으면서 100회의 아세톤 이중마찰에 잘 견디었다는 점에서 완전히 경화되었다.
실시예 5의 전착조(2-에틸헥실알콜로 보호된 폴리이소시아네이트)로 부터 부착된 코우팅(0.8밀)은 단지 5회의 아세톤 이중마찰 후에 완전히 닮아버렸다는 점에서 경화
실시예 6의 전착조로 부터 부착된 코우팅(0.6밀)은 금속에 이르기까지 마멸되는데에 약 50회의 아세톤 이중마찰이 요구되었다는 점에서 단지 부분적으로만 경화되었다.

Claims (11)

  1. 푸르푸릴알콜 또는 치환된 푸르푸릴알콜을 보호제로서 사용한다는 것을 그 특징으로 하며 활성수소에 대한 보호된 이소시아네이트의 당량비가 0.05-1.5 : 1인, 활성수소를 함유하는 양이온 수지와 보호된 폴리이소시아네이트 경화제로 된 혼합물로 이루어진 전착 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 보호제가 푸르푸릴알콜인 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 보호된 폴리이소시아네이트 경화제가 완전히 보호된 폴리이소시아네이트로서 조성물 내에 존재하고 있는 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온 수지와 보호된 폴리이소시아네이트 경화제가 수성 매체내에 분산되어있고 수성 분산액의 총 중량을 기준을 0.5-50중량%의 양으로 존재하고 있는 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온 수지가 최소한 부분적으로 산에 의해 중화된 폴리에폭시드-아민 반응생성물인 조성물.
  6. 양이온 전착 조성물이 제1항의 조성물이라는 사실을 그 특징으로 하며 전류를 양극과 음극사이에 통과시켜 코우팅이 음극위에 부착되도록 하는 것으로 구성되는, 양
  7. 제6항에 있어서, 보호제가 푸르푸릴알콜인 방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 보호된 폴리이소시아네이트 경화제가 완전히 보호된 폴리이소시아네이트로서 존재하는 방법.
  9. 제6항 또는 제7항에 있어서, 비겔화 양이온 수지와 보호된 폴리이소시아네이트 경화제가 수성 분산액의 총 중량을 기준으로 5-30중량%의 양으로 존재하고 있는 방법.
  10. 제6항 또는 제7항에 있어서, 비겔화 양이온 수지가 최소한 부분적으로 산에 의해 중화된 폴리에폭시드-아민 반응 생성물인 방법.
  11. 제6항 또는 제7항에 있어서, 보호된 폴리이소시아네이트 경화제가 비겔화수지와 일체를 이루고 있는 방법.
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DE3738219A1 (de) * 1987-11-11 1989-05-24 Basf Lacke & Farben Verfahren zur herstellung kathodisch abscheidbarer bindemitteldispersionen mit vernetzern auf der basis von mit hydroxylgruppen verkappten polyisocyanaten
DE19816626C2 (de) * 1998-04-15 2002-07-18 Basf Coatings Ag Mittel zum Blockieren von Polyisocyanaten, hiermit blockierte Polyisocyanate und Beschichtungsmittel, welche diese blockierten Polyisocyanate enthalten
DE10062411A1 (de) 2000-12-14 2002-06-20 Bayer Ag Blockierte Polyisocyanate auf HDI-Basis

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3509103A (en) * 1966-10-10 1970-04-28 Chrysler Corp Furan modified polyurethane
DE3002865C2 (de) * 1980-01-28 1983-04-21 Basf Farben + Fasern Ag, 2000 Hamburg Wäßrige Dispersion und deren Verwendung
US4513125A (en) * 1983-01-06 1985-04-23 Ford Motor Company Crosslinkable composition of matter - II

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