KR900000354B1 - Electron gun - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 종래 음극선광용 전자총에 대한 정면도.1 is a front view of a conventional cathode ray gun electron gun.
제2도는 종래의 전자총의 전극 조립체에 대한 단면도.2 is a cross-sectional view of an electrode assembly of a conventional electron gun.
제3도는 종래 전자총의 전극중 제4그리드 전극에 대한 사시도.3 is a perspective view of a fourth grid electrode of the electrode of the conventional electron gun.
제4도는 본 발명에 대한 전자총의 정면도.4 is a front view of an electron gun according to the present invention.
제5도는 본 발명의 전자총에 대한 단면도.5 is a cross-sectional view of an electron gun of the present invention.
제6도는 본 발명의 제3, 제4그리드 전극의 립에 대한 확대 사시도.6 is an enlarged perspective view of the lip of the third and fourth grid electrodes of the present invention.
제7a도는 본 발명의 제3, 제4그리드 전극에 대한 사시도, b도는 본 발명의 제3, 제4그리드의 다른 실시 상태도, c도는 본 발명의 제3, 제4그리드의 다른 실시 상태도.7a is a perspective view of the third and fourth grid electrode of the present invention, b is another embodiment of the third, fourth grid of the present invention, c is another embodiment of the third, fourth grid of the present invention .
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명.* Explanation of symbols for the main parts of the drawings.
1 : 제1그리드 전극 2 : 제2그리드 전극1: first grid electrode 2: 2nd grid electrode
3 : 제3그리드 전극 4 : 제4그리드 전극3: third grid electrode 4: fourth grid electrode
5 : 음극지지체 6 : 비드글라스5: cathode support 6: bead glass
8 : 차폐컵 9 : 급전핀8: shielding cup 9: feed pin
10 : 스템(Stem) 14, 15 : 외위통10: Stem 14, 15: outer tube
14a, 15a : 폐쇄면 17, 17', 17", 18, 18', 18" : 립14a, 15a: Closed
25 : 정전전자렌즈25: electrostatic lens
본 발명은 음극선관용 전자총에 관한 것으로, 특히 다수의 전자빔을 발생시켜 접속시킴으로서 음극선관 스크린에 화상을 재현시키는 칼라 음극선관에서 다수의 전자빔을 동(同)전위로서 접속시키기 위한 일체화 전극을 원통형립(Lip) 형태로 돌출시켜 부품의 가공이 용이하고, 빔스프트 특성과 내전압이 양호한 전극 구조를 갖는 전자총에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
종래의 음극선관용 전자총은 제1도와 같이 제1그리드 전극(1')과 제2그리드 전극(2')고 제3그리도 전극(3') 및 제4그리드 전극(4')그리고 음극을 지지하기 위한 음극 지지체(5)가 2개의 비드 글라스(Bead Glass)(6)에 의해 소정의 간격을 유지한 체, 지지됨으로써 전극 조립체(7')를 구성하였고, 이 전극 조립체(7')의 제4그리드 전극(4')의 개방단측에는 차폐컵(8')이 설치되고 비드 글라스(6)의 하단에는 음극선관내에서 전자총이 동작할 때 동작 전원을 공급하기 위한 다수의 급전핀(9)을 구비한 스템(Stem)(10)이 접속되어 전자총을 형성하였다.The conventional electron gun for cathode ray tubes is the first grid electrode 1 'and the second grid electrode 2' as shown in FIG. 1, and the third grid electrode 3 'and the fourth grid electrode 4' and the cathode are supported. The cathode support 5 for supporting the electrode assembly 7 'is supported by two bead glass 6 at a predetermined interval, thereby supporting the electrode assembly 7', and the fourth of the electrode assembly 7 ' A shielding cup 8 'is installed at the open end side of the grid electrode 4' and a plurality of feed pins 9 are provided at the lower end of the bead glass 6 for supplying operating power when the electron gun is operated in the cathode ray tube. One
이러한 전자총의 내부 구조는 제2도에서와 같이 다수의 음극(11)이 소정의 간격으로 동평면에 각각 배치되고 그 전면에는 판형태의 전극인 제1그리드 전극(1') 및 제2그리드 전극(2')이 다수의 전자빔 통과공을 일렬로 동표면에 배설하여 일체화로 구성되어 있으며 그 전면에는 통(筒) 형태의 제3그리드 전극(3')과 제4그리드 전극(4')이 역시 다수의 전자빔 통과공을 일렬로 동평면에 배설된 체 일체화로 형성하였다.As shown in FIG. 2, the inner structure of the electron gun has a plurality of
상기 구성중에 제3그리드 전극(3')과 제4그리드 전극(4')의 마주보는 부분에서의 공간은 음극(11)으로부터 방사된 전자빔을 가늘게 접속시키는 역할을 하는 부분으로 다수의 전자빔에 대하여 각각 한쌍의 금속원통에 다른 전압이 인가됨으로써 한쌍의 원통사이에 형성되는 등전위선들을 소위 정전전자 렌즈로 이용할 수 있었던 것으로 이에 대한 제3그리드 전극(3')과 제4그리드 전극(4')의 한쌍의 원통은 제2도와 제3도와 같이 제3,제4그리드 전극(3')(4')을 형성하는 외위통(14')(15')로부터 내측방향으로 돌출된 3개의 원통립(Lip)(13)(13')(13")의 구성을 이루면서 원통립에 전자빔통과공(16)(16')(16")가 형성되어 있다.In the above configuration, the space in the opposite portions of the third grid electrode 3 'and the fourth grid electrode 4' serves to thinly connect the electron beam emitted from the
상기와 같은 구성을 이루는 종래의 음극선관용 전자총은 다수의 음극(11)으로부터 방사된 전자들은 제1그리드 전극(1'), 제2그리드 전극(2')에 의하여 전자빔으로 형성되어 제3그리드 전극(3')과 제4그리드 전극(4')사이에 형성되어 있는 정전 전자렌즈쪽으로 가속되어 입사한다. 이때 제3도에 도시된 그리드 전극(3')의 외위통(14')는 전자빔의 형성영역인 제2그리드 전극(2')부분과 전자빔을 가늘게 집속시키는 정전전자렌즈부분사이의 전자빔통광로(路)로서 외부의 불필요한 필드(field)를 차폐시켜 이 전자빔 통과로는 다수의 전자빔에 대하여 왜곡되지 않도록 하는 역할을 한다.In the conventional cathode ray tube electron gun constituting the above configuration, electrons emitted from the plurality of
이 전자빔 통과로는 다수의 전자빔에 대하여 하나의 공통인 외위통(14')으로 구성되며 전자빔 통과로를 지난 다수의 전자빔은 각각의 정전전자렌즈를 형성하고 있는 일치된 원통립(12,13)(12',13')(12",13")으로 이때 원통립쌍(12,13)(12',13')(12",13")들은 각각 동일한 접속작용을 나타내는 것으로 이를 제6도로 설명하면 제3그리드 전극에 전압 Vf가 인가되고, 제4그리드 전극에 전압 Eb가 인가되며 한쌍의 원통립(12,13)사이에는 V1,V2 … Vn의 등전위선이 형성된다.The electron beam passages consist of one common envelope 14 'for multiple electron beams, and the multiple electron beams passing through the electron beam passages form coincided
여기서 전자빔이 제3그리드 전극 측에서 입사하면 라그랑지의 굴절법칙 ; V1y1Q1 = V2y2Q2(1)에 따라 접속하게 된다.Where the electron beam is incident on the third grid electrode, Lagrange's law of refraction; The connection is made according to V1y1Q1 = V2y2Q2 (1).
따라서 다수의 각 원통립(12,13)(12',13')(12",13")들은 다수의 전자빔에 대하여 정전전자렌즈로 작용하여 전자빔을 가늘게 집속하지만 외위통의 상면에서부터 내향으로 다수의 원통립을 형성시킬 때 외위통할 상면의 평탄도가 나쁘게 되는 경우가 종종 발생하게 되며 이는 특히 원통립의 길이를 외위통 내벽의 길이에 대해 50%이상(원통립에 형성되는 등전위선이 외위통 주변에 형성되는 등전위선에 의해 교란을 받지 않을 최소의 원통립 길이는 외위통 내벽길이에 대해 50%이다)으로 가공할 때 많이 발생하는 경우가 있고, 이러한 평판도에 의해서 한쌍의 원통립이 대향하는 부근에서 등전위선들에 대한 왜곡현상이 발생하여 빔 스포트(Beam Spot) 특성을 나쁘게 하여 음극선관의 해상도를 저하시켰던 것이다.Therefore, each of the plurality of
뿐만 아니라 제3그리드 전극에 인가되는 전압(Vf)은 "Vf=4∼7[KV]"이고 제4그리드 전극에 인가되는 전압(Eb)은 "Eb=20∼30[KV]"로 이들 양전극 사이의 좁은 공간(0.8mm∼1.2mm)에 비해 높은 전위차가 걸리므로 외위통의 상면에서 아킹(Arcing)이 발생하기 쉬운 결점이 있었던 것이다.In addition, the voltage Vf applied to the third grid electrode is VV = 4 to 7 [KV] and the voltage Eb to the fourth grid electrode is Eb = 20 to 30 KV. Compared to the narrow space (0.8mm to 1.2mm) between the high potential difference takes place because the arcing (Arcing) is likely to occur in the upper surface of the outer tube.
이와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 안출한 본 발명은 제3그리드 전극과 제4그리드 전극에 형성하는 다수의 원통립의 설치위치를 새롭게 설정하므로서 종래의 문제점을 해결함은 물론 부품이 가공성을 높힐 수 있는 것으로 이를 첨부도면과 함께 상세히 설명하면 다음과 같다.In order to solve the above problems, the present invention solves the conventional problems by increasing the installation positions of the plurality of cylindrical grains formed on the third grid electrode and the fourth grid electrode. It will be described in detail with the accompanying drawings as follows.
제4도는 본 발명에 대한 전자총의 정면도로 전자총은 제1그리드 전극(1), 제2그리드 전극(2), 제3그리드 전극(3), 제4그리드 전극(4) 및 음극을 지지하기 위한 음극 지지체(5)가 2개의 비드글라스(6)에 의해 소정의 간격을 유지한 채 지지되게 구성하여 전극조립체(7)을 형성한다.4 is a front view of the electron gun according to the present invention, the electron gun is for supporting the
그리고 전극조립체(7)의 제4그리드 전극(4)의 개방측에 차폐컵(8)을 설치하고 비드글라스(6)의 하단에 음극선관내에서 전자총이 동작할 때 동작전원을 공급하기 위한 다수의 급전핀(9)을 구비한 스템(10)을 접속시켜 전자총을 구성한다.A plurality of shielding cups 8 are provided on the open side of the fourth grid electrode 4 of the
제5도는 본 발명의 전자총에 대한 단면도로서 다수의 음극(11)은 소정의 간격으로 각각 동평면에 일렬로 배치되고, 그 전면에는 판형태의 전극인 제1그리드 전극(1) 및 제2그리드 전극(2)이 다수의 전자빔 통과공을 일렬로 동표면에 배설하여 일체화로 구성되어 있으며 다시 그 전면에는 통 형태의 제3그리드 전극(3)과 제4그리드 전극(4)이 역시 다수의 전자빔 통과공을 동평면에 일렬로 배치하여 일체화 구성한다.FIG. 5 is a cross-sectional view of the electron gun of the present invention, in which a plurality of
그리고 제5도와 제7a도에 도시된 바와 같이 제3그리드 전극(3)과 제4그리드 전극(4)의 외위통(14)(15)의 폐쇄면(14a)(15a)에서 외향으로 수직되게 다수의 원통립(17)(17')(17")(18)(18')(18")을 돌출시켜 형성하고, 이들의 돌출된 원통립(17)(17')(17")(18)(18')(18")이 제3,제4그리드 전극(3)(4) 사이에 일정한 간격을 유지하며 마주보게 설치하여 3개의 전자빔 통과공(16)(16')(16")을 형성하는 정전전자렌즈(25)를 형성한다.As shown in FIGS. 5 and 7a, the outwardly perpendicular surfaces of the closed surfaces 14a and 15a of the
상기의 구성에서 원통립의 돌출길이(1)는 전자빔 통과공의 직경(D)에 대해조건을 만족하게 형성함이 좋다.In the above configuration, the protruding
상기 구성에 따른 본 발명의 전자총에 대한 작용효과를 설명하면 다수의 음극(11)으로부터 방사된 전자들이 제1그리드 전극(1), 제2그리드 전극(2)에 의해 다수의 전자빔으로 형성되어 제3그리드 전극(3)이 공통 외위통(14)내를 지나서 외위통(14)의 상면에서 외향으로 돌출되어 마주보고 있는 원통립쌍(17∼18)(17'∼18')(17"∼18")은 각각 동일한 작용을 하는 동일한 현상과 동일한 치수의 것으로 소정의 간격을 두고 연속하여 배열된 2원통에 다른 전위를 인가함으로써 이곳을 지나는 전자빔을 가늘게 집속시키는 작용을 한다.Referring to the effect of the electron gun of the present invention according to the configuration described above the electrons emitted from the plurality of
이때 전극의 외위통(14)(15)으로부터 원통립을 외향으로 형성함에 따라 정전전자렌즈(25)를 형성하는 원통립쌍(17,18)(17',18')(17",18")의 사이는 단지 원통립 자체의 치수적인 정밀eh에만 의존하여 등전위선(V1,V2‥Vn)이 형성되므로 양호한 접속작용을 갖게 되고, 외위통(14)(15)내를 전자빔이 지날 때에도 원통립이 외위통 내부에는 없으므로 외위기 내부의 등전위선을 교란시키는 경우가 없게 된다.The
상기와 같이 외위통의 외향으로 배설한 원통립을 갖는 통형태의 전극에 의하면 한쌍의 원통립쌍(17,18)(17',18')(17",18")으로 형성되는 정전자렌즈(25)의 입구 및 출구측이 모두 교란이 없는 양호한 등전위선을 형성할 수 있으므로 양호한 빔스포트 특성을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 대향하는 원통립쌍(17,18)(17',18')(17",18")의 선단간격이 "0.8∼1.2[mm]"로 유지됨으로서 외위통(14)(15)의 상면은 원통립의 길이의 2배에 해당하는 만큼 멀어져 고전압의 전위차에 의한 아킹(arcing) 현상을 대폭 감소시키는 효과가 있다는 것이다.According to the cylindrical electrode having the cylindrical grains disposed outwardly of the outer tube as described above, the electrostatic lens formed of a pair of
즉, 종래의 전자총에 있어서는 제3그리드 전극(3') 및 제4그리드 전극(4')이 각각 외위통(14')(15')의 상면을 "0.8∼1.2[mm]"의 간격을 유지한 채 대향시키고, 상기 외위통 상면과 동평면에서 각각 외위통(')(')의 내향으로 돌출된 3쌍의 원통 립(Lip)(12,13)(12',13')(12",13")사이에서 정전 전자렌즈를 형성시키기 때문에, 3쌍의 원통립(12,13)(12',13')(12",13") 형성부분을 제외한 외위통(14')(15')의 상면 전역에 걸쳐 아킹(arcing)이 발생할 수 있으나, 본 발명에 의한 전자총에 있어서는 제3그리드 전극(3) 및 제4그리드 전극(4)의 폐쇄면(14a)(15a)의 외출상면에서부터 외향으로 돌출된 3쌍의 원통립(17,18)(17',18')(17",18")이 형성되어 이들 원통립(17,17',17")(18,18',18") 사이의 간격이 "0.8∼1.2[mm]"이며 또한 원통립(17,17',17")(18,18',18")의 소정의 돌출길이를 가지므로 폐쇄면(14a)(15a)의 외측상면 사이의 거리는 방전(arcing)이 발생할 수 있는 거리 이상이 된다.That is, in the conventional electron gun, the third grid electrode 3 'and the fourth grid electrode 4' each have an interval of 0.8 to 1.2 [mm] mm between the upper surfaces of the outer cylinders 14 'and 15', respectively. 3 pairs of
그리고 단지 좁은 부분의 면적을 가지는 원통립(17,18)(17',18')(18",18")사이만 방전(arcing)이 발생할 수 있는 곳인데 이곳은 통상 정전전자렌즈의 형성을 위하여 세심한 처리를 행하는 곳으로 좀처럼 아-킹이 발생치 않는다.And where arcing can occur only between
또한 음극선관용 전자총의 빔스포트는 전자총의 정전전자렌즈에 의해 다음 관계식으로 나타나는 렌즈배율에 크게 의존하는데 In addition, the beam spot of the electron gun for cathode ray tube is highly dependent on the lens magnification represented by the following relationship by the electrostatic lens of electron gun.
여기서 제4그리드 전극의 전압(Ed)과 정전전자렌즈에서 음극선관의 스크린까지의 상(像)거리(b)는 통상고정이므로 음극에서부터 정전전자렌즈부터의 물점(物點) 거리(a)를 크게하면 배율은 작아져 작은 빔 스포트를 얻을 수 있게 된다.Here, the voltage Ed of the fourth grid electrode and the image distance b from the electrostatic electron lens to the screen of the cathode ray tube are normally fixed, so that the object distance a from the cathode to the electrostatic electron lens is fixed. When the magnification is increased, the magnification becomes small to obtain a small beam spot.
이때 물점거리(a)는 제3그리드 전극(3)의 길이(1c3)로 설정하는데 "Vf/Eb=20[%]"일 때 "1c3=14[mm],Vf/Eb=28%"일 때 "1c3=23[mm]"로 설정한다.At this time, the focal length a is set to the length 1c3 of the
이와 같이 빔 스포트를 작게 하기 위하여 제3그리드 전극(3)의 길이[1c3]를 길게할 경우 외위통을 길게 해야 하는데 본 발명의 경우 외향으로 원통립을 형성하는 제3그리드 전극의 외위통을 원통립의 돌출길이에 의해서 외위통을 길게 하지 않아도 되므로 부품의 가공성이 월등하게 우수한 효과가 있다.As described above, when the length [1c3] of the
이러한 원통립을 제3,제4그리드 전극에 형성함에 있어 제7b도와 같이 통형태 전극(22)은 외위통(19)과 원통립 조립체(20)을 별도로 제작하여 이들을 용접접속함으로 구성하되 다수개의 원통립(17)(17')(17")을 판(21)에 천설시켜 형성할 수도 있다.In forming the cylindrical grains on the third and fourth grid electrodes, as illustrated in FIG. 7B, the
이러한 타실시에는 제7a도와 같이 일체화된 형상을 가공할 때 보다 가공방법에 있어 여러 공정을 거치게 되나 원통립의 진원도는 향상시킬 수가 있다.In this other embodiment, when processing the integrated shape as shown in Fig. 7a, the processing method goes through several processes, but the roundness of the cylindrical grain can be improved.
또한 원통립의 형성방법에 있어 다른 실시 상태로는 제3, 제4그리드전극(3)(4)의 외위통(19)을 전자빔 통과공까지 뚫어 형성하고 원통립(17)(17')(17")을 각각으로 형성하여 전자빔 통과공위에 용접으로 접속시킬 수도 있다.In another embodiment of the method for forming the cylindrical grains, the outer cylinders 19 of the third and
이와 같은 다른 실시에 있어서는 가공작업을 여러공정 거치게 되나 진원도를 더욱 향상시킬 수 있어 본 발명으로 해결하고자 하는 접속작용의 양호함과 동전원선에 교환이 없는 효과와 아킹현상을 대폭감소시키는 효과를 얻을 수 있는 것이다.In other implementations such as this, the processing operation is subjected to several processes, but the roundness can be further improved, and thus the goodness of the connection action to be solved by the present invention, the effect of no exchange in the coin source line, and the effect of drastically reducing the arcing phenomenon can be obtained. It is.
Claims (3)
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| KR1019870010855A KR900000354B1 (en) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | Electron gun |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| KR1019870010855A KR900000354B1 (en) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | Electron gun |
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Family Applications (1)
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1987
- 1987-09-29 KR KR1019870010855A patent/KR900000354B1/en not_active Expired
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| KR890005809A (en) | 1989-05-17 |
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