KR900004106B1

KR900004106B1 - N-(s-3-알킬헵타노일)-d-감마-글루타밀-글리실-d-알라닌의 제조방법 및 그 중간체

Info

Publication number: KR900004106B1
Application number: KR1019870009313A
Authority: KR
Inventors: 윌리암 머티아쇼우 찰스
Original assignee: 화이자 인코포레이티트; 윌리암 데이비스 훈
Priority date: 1986-08-27
Filing date: 1987-08-26
Publication date: 1990-06-15
Also published as: MY101823A; YU46663B; PL156175B1; CN1021436C; CN87105898A; KR880002896A; IL83657A; DK444887D0; JPH0637517B2; PT85581B; YU155987A; JPS6368598A; PL267444A1; PH27397A; IL83657A0; PT85581A; EG18303A; NZ221570A; DK444887A

Abstract

내용 없음.

Description

N-(S-3-알킬헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌의 제조방법 및 그 중간체

본 발명은 하기 일반식(I)의 면역 조절제의 유용한 제조방법 ; 트랜스-

-3-알킬-4-헵테노산(VIb,하기에 명시),

-3-메틸-6-헵테노산(Xb, 하기에 명시) 및

-3-알킬-헵테노산의 제조방법 및 그 중간체 ; 일반식(I)의 화합물의 합성에서 중간체로서 유용한 절대 입체화학적 일반식(II)의 후자물질의 제조방법 및 그 중간체 ; 및 절대 입체화학적 일반식(III)의 면역조절제(또는 전구체)에 관한 것이다.

상기식에서, R은 메틸 또는 에틸이고, R⁴및 R⁵은 각각 수소이거나, 또는 R⁴및 R⁵중의 하나는 수소이고 다른 하나는 (C₁-C₆)알킬 또는 (C₆-C₈)사이클로알킬메틸이고, R²및 R³은 둘다 수소(IIIa) 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염이거나 또는 각각 독립적으로 (C₁-C₆)알킬, (C₆-C₈)사이클로알킬메틸 또는 벤질(IIb)이며, 대시(dash)선의 한쪽 또는 다른 쪽(양쪽 전부는 아님)은 이중 결합을 나타내며, 단 여기서 이중 결합이 말단기 6,7-위치에 있으면 R은 메틸이다.

광학적으로 순수한

-3-메틸헵타노산(II, R=CH₃)은 처음에는-15℃에서 퀴닌염의 다중 결정화에 의해 불특정 수율로써 상응하는 라세메이트로부터 제조하였다[참고문헌 : Levene et a1., J.Biol.Chem., 95,pp.1-24, 1932, page 18, 여기서는 2-n-부틸부티르 산-4로 칭한다]. 그후 광학적으로 활성인 3-메틸헵타노산은 수많은 다른 방법에 의해 제조되어 왔으나[참고 : Soai et al., J.Chem.Soc., Chem.Commun.1985,pp.469-470; Oppolzer et al., Helv.Chim.Acta.68,pp.212-215(1985); Ohno et al., U.S.Patent 4,564,620(1986) : Mori et al., Synthesis 1982,pp.752-753; Oppolzer et al., Helv.Chim.Acta.64,pp.2808-2811(1981) ; Mukaiyama et a1., Chem.Lett.1981,pp.913-916 ; Posner et al., J.Am.Chem.Soc.103,pp.2886-2888(1981) : Mukaiyama et al., Bu11.Chem.Soc.Japan,51,pp.3368-3372(1978) : Meyers et al., J.Am.Chem.Soc.98,pp.2290-2294(1976)]. 일반적으로 이들 제조법은 한가지 이상의 단점(최대 가능 수율은 50%이며, 이때 원하지 않는 부산물의 적어도 50% 처분이 필요하며, 원하지 않는 부산물의 적어도 50%은 마지막 제조단계를 통해 처리되며; 생성물 산은 광학적으로 순수하지 못하며 : 유기 금속 시약의 사용은 큰 규모로 취급할 때 어려움이 뒤따르며 : 총 수율이 낮으며/거나 필요한 시약을 쉽게 구할 수 없다.)을 감수해야 한다.

현재 사용되는 비대칭 에폭시 반응(소위 샤플리스(Sharpless)분해라 칭함)은 참고문헌(Katsuki and Sharpless, J.Am.Chem.Soc.102,pp.5974-5976,1980 ; Sharpless et a1., Pure App1.chem.55, pp.589-604,1983)에 입체특이성 클래센(Claisen) 축합반응은 찬(chan)등이 발명한 미합중국 특허 제4,045,475호에 이미 발표되었다.

비교적 신규한 면역 약리학 분야 및 특히 면역변조로 취급되는 이들 분야는 급속하게 발전을 계속하고 있다. 자연적으로 발생하는 다양한 화합물이, 화학적으로 N²-[1-(N²-L-트레오닐-L-리실)-L-프롤릴]-L-아르기닌으로 알려진 테트라펩타이드 투프트신을 포함하여 조사되고 있다. 합성 펩티도글리칸 유도체, 특히 무라밀 디펩타이드로 알려진 유도체에 많은 관심이 집중되고 있다.

R⁴=R⁵=H일때 일반적으로 아모퍼스 리오필레이트(amorphous lyophilate)로서 일반식(I )의 면역조절제 및 이들의 사용법은 1985년 11월 25일에 출원되어 계류중인 PCT출원 제 PCT/US 85/02351호에 이미 발표되었다.

이 출원은 아직 공표되지 않았기 때문에, 실용화하기 위해 상기 화합물의 제조 및 이들의 사용법을 본 발명 내용에 인용하였다.

다른 면역자극제 펩타이드에 대해서는 수 많은 특허 명세서에 기술되어 있다 : L-알라닐-알파-글루타르 산 N-아실디펩타이드는 1981년 1월 15일에 공고된 독일연방공화국 제3,024,355호에 있다; D-알라닌-L-글루타밀 성분 또는 L-알라닐-D-글루타밀 성분을 함유하는 테트라-및 펜타-펩타이드는 1981년 2월 4일 1981년 l월 8일에 각각 공고된 영국 제2,053,231호 및 독일연방공화국 제3,024,281호에 있다;C-말단 아미노산이 리신 또는 디아미노피멜산인 N-아실-알라닐-감마-D-글루타밀 트리펩타이드 유도체는 1981년 1월 15일에 공고된 독일연방공화국 제3,024,369호에 있다 : N-락틸알라닐, 글루타밀, 디아미노피메릴 및 카르복시메틸아미노 성분으로 구성된 락토일 테트라펩타이드는 1980년 5월 13일에 공고된 유럽특허 제11283호에 있다; 하기 일반식(A)을 갖는 폴리펩타이드와 카르복시 및 아미노 그룹을 보호하는 이들 유도체에 대해서는 미합중국 특허제4,311,640호 및 제4,322,341호; 유럽특허 제25,482호 ; 제50,856호 ; 제51,812호 ; 제53,388호 ; 제55,846호 및 제57,419호에 기술되었다 ;

상기식에서, R^a는 수소 또는 아실이고 ; R^b는 특히 수소, 저급 알킬, 하이드록시메틸, 벤질이고 ; R^c및 R^d는 각각 수소, 카르복시,-CONR^gR^h(R^g는 수소, 임의로 하이드록시와 치환된 저급 알킬이고 R^h는 모노-디카르복시 저급 알킬)이고 ; R^e는 수소 또는 R^d및 R^e중에 하나가 수소이고 다른 하나가 카르복시 또는-CONR^gR^h일때면 카르복시이고 : m은 1 내지 3이며 ; n는 0 내지 2이다.

상기 일반식(A)의 화합물과 유사한 펩타이드는 R⁴가 염기성 아미노산 성분일때는 미합중국 특허 제4,565,653호 및 유럽 특허 제157,572호에 기술되어 있고, R⁴가 비균일환식 아미노산일때는 유럽특허원 제178,845호에 기술되어 있다.

일반식(A)의 화합물(여기서, n는 1이고 ; R^a는 CH₃CH(OH)-CO-이고 ; R^b는 CH₃이고 ; R^c및 R^e각각은-COOH이고; R⁴는-CONHCH₂COOH이며 R^f가 H일때)의 생물학적 응답 특성을 이끌어 낼 수 있는 미세 구조로서 N²(감마-D-글루타밀)-메소-2(L)·2(D)-디아미노-피멜산에 대해서는 다음 문헌(kitaura et al., J.Med.Chem.,25,335-337(1982))에 발표되었다. 일반식(A)의 상기 화합물은 FK-156로 알려져 있다.

지금 본 발명자들은 상기 일반식(A)의 면역 조절 화합물(R=CH₃및 R⁴=R⁵=수소 일때), 즉 N-(

-3-메틸헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌의 더욱 안정하고 결정형 형태를 제공한다.

또한 지금 본 발명자들은 유기 금속 시약 및 합성 후반중에 생성되는 R-엔안티오머의 폐수성 부산물을 제거하면서, 우수한 총 수율을 갖는 고 광학순도의 중간체

-3-알킬-4-헵테노산(VIb, 하기에 명시) 및-

-3-알킬헵테노산(II, 상기에 명시)의 효율적인 제조방법을 제공한다.

한 경로로써, 초기 단계는 하기 일반식(IV 및 V)의 트랜스-4-알켄-3-올의 샤플리스형 분해이다.

상기식에서, R은 상술한 것과 같다.

특히 상기 단계는 티타늄 테트라이소프로폭사이드 및 L-(+)-디이소프로필 타르트레이트의 존재중의 반응 불활성 용매하에,

-엔안티오머를 산화시키고 절대 입체화학적 일반식(V)의 원하는 미반응

-엔안티오머를 유지시키기에 충분한 양으로 일반식(IV)의 라세메이트를

-부틸 하이드로페록사이드와 반응시키는 것이다.

제2단계에서, 일반식(V)의 화합물을 입체특이성으로 트리 [(C₁-C₃)-알킬] 오르트아세테이트로 축합시키고, 분리 없이 반응 불활성 용매중의 산 존재하에 중간체 알릴-엔올 에테르를 재배열하여 하기 절대입체 화학적 일반식(VIa)의 (C₁-C₃)알킬

-3-알킬-4-헵테노에이트를 수득한다.

(VIa) X=OR¹; R¹=(C₁-C₃)알킬

(VIb) X=OH

(VIc) X=Cl

(VId) X=H

한 방법으로는, 에스테르를 트랜스-

-3-알킬-4-헵테노산(VIb)으로 가수분해 시킨 후, 필요하면

-3-알킬헵테노산으로 수소화시 킨다.

다른 한 방법으로는, 에스테르를 처음에 수소화시켜 (C₁-C₃)알킬

-3-알킬헵타노에이트를 수득한 후 가수분해하여 일반식(II)의 산을 얻는다. 또 다른 방법으로는, 일반식(V)의 분해된 트랜스-4-알켄-3-올을 머규릭 아세테이트 [Hg(OAc)₂)] 촉매 존재하에 에틸 비닐 에테르의 작용에 의해 알릴 비닐 에테르(IX)로 전환시킨다. 알릴 비닐 에테르를 가열하여 일반식(VId)의

-3-알킬-4-헵테날로 재배열하고, 이어서 예를 들어 존스(Jones) 시약(희석 무기산 중에 크롬무수물)으로 산화시켜 상기 R-3-알킬-4-헵테노산을 형성한다.

또한 본 발명자들은 쉽게 구할 수 있는 절대 입체화학적 일반식(XI)의

-시트로넬롤로부터 유기 금속시약 및

-엔안티오머의 페수성 부산물로 회피하면서, 우수한 총 수율로써 고 광학순도의 중간체

-3-메틸-6-헵테노산(Xd, 하기에 명시) 및

-3-메틸헵타노산(II, R=CH₃, 상기에 명시)의 유용한 제조방법을 제공한다.

본 합성의 초기 단계는 통상적이며 통상적인 실릴보호 그룹(t-부틸디메틸실릴 그룹과 같은 것)과 함께 알콜 그룹의 임의적 보호이며, 이어서 메틸설파이도 작용으로 가오존분해하여 하기 절대 입체화학적 일반식(XII)의 신규 화합물을 수득한다 :

상기식에서, R⁸는 수소(XIIa) 또는 실릴 하이드록시보호그룹(XIIb)이다. 사용된 방법은 특별히 하기 제조예에 나타냈으며 상기 일반식(V)의 화합물(R⁸이 t-부틸디메틸실릴일때)의 R-엔안티오머를 제조하는데

-시트로넬롤로 예전에 사용된 방법과 유사하다.

여기에는 사용하지 않지만 후자물질은 프록시포민의 합성에 사용된다(참고문헌 : Tapolczay et al., J.Chem. Soc., Chem. Commun.1985, pp.143-145) .

본 발명은 특히 일반식(V) 및 하기 일반식(X)의 중간체 화합물 및 일반식(XII)의 화합물을 일반식(Xd) 및 (II, R=CH₃)의 광학적인 활성 산으로 전환시키기 위한 방법에 관한 것이며, (a) 일반식(XII)의 화합물은 메틸렌트리페닐포스포란 [CH₂=P(C₆H₅)₃]과 반응시켜 일반식(Xa) 또는 (Xb)의 화합물을 형성하고 ; (b) 화합물이 일반식(Xb)의 화합물을 형성하기 위해 일반식(Xa)일 때, 개별 단계로써 또는 후속단계와 동시에 희석 무기산 가수분해를 수행하고; 및 (c) 일반식(Xb)의 화합물을 희석 무기산중의 크롬무수물로 산화시켜 일반식(Xd)의

-3-메틸-6-헵테노산을 형성하고 ; 필요하면, (d) 일반식(Xd)의 화합물의 촉매 수소화 반응하여 일반식(II) (여기서 R은 메틸이다.)의

-3-메틸헵타노산을 형성하는 단계를 포함한다.

(Xa) R⁹=CH₂OR¹⁰, R¹⁰=실릴 보호 그룹

(Xb) R⁹=CH₂OH

(Xc) R⁹=CHO

(Xd) R⁹=COOH

(Xe) R⁹=COCl

수소로서 R⁸은 몇 단계에서는 유리하지만, 실릴 보호 그룹으로써 R⁸은 단계(a)로부터 중간체 생성물을 분리하는데 더욱 용이한 정제 과정에서 유리하다. 바람직한 하이드록시 보호그룹은 트리메틸실릴,

-t-부틸펜에틸디메틸실릴 및 t-부틸디메틸실릴이다. 바람직한 희석 무기산은 H₂SO₄이다. 이것은

-시트로넬롤을 메틸설파이드 작용으로 가온존 분해에 의해 일반식(XIIa)의 화합물 : 및 (e)

-시트로넬롤을

-부틸디메틸실릴 클로라이드와 반응시키고; 및 (f) 메틸설파이드 작용으로 얻어진 하이드록시 보호 시트로넬롤을 가오존 분해하는 추가의 단계에 의해 R⁸이 t-부틸디메틸실릴 일때 일반식(XIIb)의 화합물을 합성하는 것이 바람직하다.

또한 본 발명은 (a) 상기 일반식(IIIb)(여기서 R²및 R³는 R⁶및 R⁷과 상응한다)의 중간체 화합물을 형성하기 위한 반응 불활성 용매하에서

-3-알킬-4-헵테노산 또는

-3-메틸-6-헵테노산(예를 들어, 산염화물이 VIC 또는 Xe일 때)의 활성화된 형태를 하기 일반식(Ⅶ)의 화합물과 커플링하고; (b) 수소화 반응 촉매 존재중의 반응 불활성 용매중에서 이중 결합의 동시 감소와 함께 상기 중간체 화합물의 수소화 반응 및 벤질 그룹 또는 그룹들의 수소화 가수분해하는 단계를 포함하는 일반식(I)의 면역 조절제의 개선된 제조방법에 관한 것이다;

상기식에서, R⁶및 R⁷은 둘다 벤질이거나, 또는 R⁶및 R⁷중의 하나는 벤질이고 다른 하나는 (C₁-C₆)알킬또는 (C₆-C₈)사이클로알킬메틸이다.

마지막으로, 본 발명은 면역 조절제 및/또는 상기 일반식(III)의 화합물(I) 전구체에 관한 것이다. 일반식(IIIa)의 화합물(즉, R²=R³=수소)은 일반식(IIIb)의 디에스테르 화합물의 통상적 에스테르 가수분해에 의해 얻어진다.

여기서 사용된 "반응 불활성 용매"의 표현은 원하는 생성물의 수율에 역효과를 주는 방식으로 출발물질, 중간체 또는 생성물과 상호 작용이 안된다는 것을 의미한다.

바람직한 R¹의 물질은 에틸이다. 바람직한 산 촉매는 루이스 산(예를 들어, 건조 HCI, AlCl₃)이다. 본발명을 한정시키려는 것은 아니지만, 라세믹 트랜스-4-헥센-3-올 또는 트랜스-4-헵텐-3-올의 바람직한 원물질은 에틸 그리그나드(Grignard) 시약을 크로톤알데하이드 또는 2-펜텐날과 각각 반응을 통해서이다.

본 발명을 쉽게 수행한다.

-트랜스-4-알킬-3-올(V)을 비대칭 에폭시 반응, 소위 샤플리스 분해(상기에서 인용된 문헌 참조)의 방법에 의해 얻는다. 본 방법에 따라, 원하지 않는 라세메이트(IV) 중의

-트랜스-2-헥센-4-올을 L-(+)디이소프로필 타르트레이트의 과량 몰 존재하에서 선택적으로 t-부틸하이드로페록사이드(적어도 0.5몰, 단 라세믹 헥센올 몰당 1몰 미만으로 한정)와 반응시키고 이어서 티타늄테트라이소프로폭사이드의 1몰 당량과 반응시킨다. 반응을 일반적으로-20 내지-80℃범위의 냉각 온도, 메틸렌클로라이드와 같은 반응 불활성 용매중의 무수 조건하에서 수행한다. 원하는 미반응

-트랜스-2-알켄-4-올(V)을 중류 또는 크로마토그라피와 같은 표준 방법으로 분리시킨다. 원하는 생성물의 상대적으로 높은 휘발성 때문에, 상기 크로마토그라피에서는 펜탄 및 에테르와 같은 저비점 용매를 사용하는 것이 바람직하다.

다음 단계는

-트랜스-4-알켄-3-올(V)과 (C₁-C₃)트리알킬 오르토아세테이트의 축합/클래센 재배열이다. 반응을 반응 불활성 용매하에서 수행할 수 있지만, 일반적으로 승온(예를 들어,120 내지 160℃)에서 오르토아세테이트 에스테르의 과량하에서 반응을 간략하게 수행하는 것이 바람직하다. 트리에틸 오르토아세테이트(비점 142℃)가 시약일 때, 환류 온도를 사용하는 것이 통상적이다. 반응을 산 촉매의 존재하에서 수행한다. 프로피온 산, 피발산, 2,4-디니트로페놀, 건조 HCl 및 AlCl₃와 같은 산이 효과적이다. 바람직한 촉매는 루이스 산이고 가장 바람직한 것은 AlCl₃이다.

다른 한 방법으로는, 일반식(VIa)의 얻어진 에스테르를 통상적인 방법에 의해 가수분해하여 일반식(VIb)의 상응 불포화 산을 수득하는 것이다.

또한 본 발명의 다른 방법도 쉽게 수행된다. 상업적으로 손쉽게 구할 수 있는

-시트로넬롤(XI)을 처음에 통상적인 방법에 의해 일반식(XII)의 광학적 활성 출발물질중의 하나로 전환시킨다(상기에 명시됐고 하기 제조예에 예시됨). 화합물(XII)을 상기 일반식(Xd)의

-3-메틸-6-헵테노산 또는

-3-메틸헵-타노 산으로 각각 전환시킨다(단계적 유형은 다음 분맥에서 상세히 서술한다).

제1단계에서, 하이드록시 또는 하이드록시 보호 알데하이드(XIIa 또는 XIIb)는 반응 불활성 비양자성용매, 예를들어 테트라하이드로푸란과 헥산의 혼합물, 예를 들어 하기 물질하에서 (메틸) 트리페닐포스포늄할라이드(통상적으로 브롬마이드)와 부틸리튬으로부터, 동일 반응계에서 일반적으로 새롭게 형성된 메틸렌트리페닐포스포란으로 비티그(wittig) 반응을 수행한다.

온도가 포스포란 형성의 중요한 요인이 아니라면, 바람직한 온도는 ±25℃ 범위이고, 가장 바람직한 것은 ±10℃ 범위이다. 알데하이드(XIIa) 또는 하이드록시 보호 알데하이드(XIIb)를 유사한 용매 및 유사한 온도 범위에서 포스포란과 반응시켜 일반식(Xb) 또는 (Xa)의 하이드록시 또는 하이드록시 보호 올레핀을 각각 형성시킨다.

제2단계에서, 하이드록시 보호 그룹만이 존재하는 것을 요구할때, 상기 보호 그룹을 제3단계에서 사용되는 수성산 조건에 의해 가장 통상적으로 가수분해에 의해 제거한다. 이 제3단계는 1급 알콜(Xb)을 산으로 (Xd)존스 산화시키는 것이다. 존스 산화반응은 소위 존스시약, CrO₃및 강산으로 부터 형성된 H₂CrO₄의 수성액을 사용한다. 전형적으로, 존스 시약은 약 1 : 1 물 중량과 함께 농축 H₂SO₄및 CrO₃의 과량으로 부터 제조된 후, 물로써 원하는 농도, 예를들어 약 3M로 희석시킨다. 알콜(XIIa)보호된 알콜(XIIb)을 일반적으로 용해성 물 및 아세톤과 같은 반응 불활성 유기 용매의 용액 중에서 존스 시약의 적어도 2몰 당량과 반응시킨다. 이 조건하에서, 특정 실릴 에테르 그룹의 급격한 가수분해에 의해 알콜을 형성하고, 그 후 산(Xd)로 산화시킨다. 온도는 중요한 요인이 아니며, 예를 들어 0 내지 50℃가 보통 만족스럽고, 순환 온도 예를 들어, 17 내지 27℃가 가장 편리하다.

알콜의 초기 산화반응을 통해 존스 산화반응이 일어나 일반식(Xc)의 알데하이드로 되지만, 보통 존스 산화반응에서는 분리되지 않는다. 만일 중간체 알데하이드의 분리를 원하면, 알콜을 분명하게 중간체 알데하이드(Xc)를 수득하는 피리디늄클로로메이트와 같은 더욱 선택적인 산화제와 산화시키는데 이어서 존스 시약 또는 다른 적합한 시약을 사용해 산(Xd)로 산화시킨다.

필요하면, 활성 형태 [예를들어, 일반식 (VIc) 또는 (Xe)의 산 클로라이드로써, 통상적인 혼합 무수물로써, 디사이클로헥실카르보디이미드와 같은 통상적인 탈수 결합제에 의한 활성화로써]를 통상적인 방법에 의해 하기 일반식(VIII)의 화합물과 커플링시켜 일반식(IIIb)의 면역 조절 디에스테르 화합물을 형성한다.

상기식에서, R⁹및 R¹⁰은 각각 독립적으로 (C₁-C₆)알킬,(C₆-C₈)사이클로알킬메틸 또는 벤질이다. 후자를 통상적인 방법에 의해 일반식(IIIa)의 면역조절 디에시드 화합물 또는 이의 약제학적 허용 염으로 가수분해한다.

다른 방법으로는 일반식(IIIb)의 화합물 (R²및/또는 R³가 벤질일때)을 수소화시켜 일반식(I)의 면역 조절 화합물을 형성한다. 상기 수소화 반응에서 이중결합이 수소로서 포화되고 벤질그룹(들)은 수소 가수분해된다. 수소화 반응을 수소화 반응 촉매, 예를들어, 니켈 또는 귀금속 ; 지지 촉매(예를들어, 라네이(Raney) 니켈, pd/c) 또는 비지지 촉매(예를들어, RhCl₃) 상에 반응 불활성 용매중에서 수행한다. 적당한 용매는 저급 알콜로 한정시키려는 것은 아니지만 디옥산, 데트라하이드로푸란 또는 디에톡시에탄과 같은 에테르, 및 에틸 아세테이트와 같은 에스테르이다. 어느정도 발열반응이지만 냉각하지 않고, 가열 또는 냉각비용을 회피하기 위해 순환온도를 사용하는 것이 바람직하다. 압력은 중요한 요인이 아니며 7기압 이하로서 고가의 고압 장치를 회피하는 것이 바람직한 것이다. 3 내지 6 기압에서 Pd/C상의 수소화반응이 특히 본 변형을 위해 매우 적합하다.

다른 방법으로는, 일반식(VIb) 또는 (Xd)의 불포화 산을 앞 문맥에서 상세히 설명한 것과 동일한 조건하에서 수소화시켜

-3-알킬헵타노산(II)을 수득하고, 또한 수소화반응/가수분해 단계를 바꿔(C₁-C₃)알킬

-3-알킬헵타노에이트를 통해 (C₁-C₃)알킬

-

-3-알킬-4-헵테노에이트(V I a)로부터 얻는다. 마지막으로 S-3-알킬헵타노산을 상기에 상세하게 서술한 방법으로 활성화시키고, 상기 일반식(V-II)의 디에스테르와 커플링하고 상술된 방법에 의해 상기 일반식(I)의 면역조절 화합물을 형성시킨다.

본 발명의 또 다른 방법으로,

-4-알켄-3-올(V)을 25 내지 40℃ 온도 범위에서, 통상적으로 에틸 비닐 에테르 (비점 36℃)의 환류 온도에서 반응 활성 용매(바람직하게는 에틸비닐 에테르의 과량)중의 촉매로서 Hg(OAc)₂존재하에서 에틸 비닐 에테르의 작용에 의해 일반식 (IX)의 상응 비닐 에테르로 전환시킨다. 얻어진 비닐 에테르(IX)를 일반적으로 크실렌 또는 데칼린과 같은 고비점, 친액성 반응불활성 용매하에서, 이것을 일반식(VId)의 불포화 알데하이드로 입체 특이성 재배열을 위한 필요한 압력하에서 140 내지 200℃로 가열시킨다. 일반식(VIb)의 불포화 산을 얻기 위해, 알데하이드를 CrO₃와 강산으로 부터 형성된 H₂CrO₄의 수성액, 즉 소위 통상적인 존스 시약으로써 쉽게 산화시킨다. 전형적으로 존스시약은 진한 H₂SO₄및 CrO₃의 과량과 함께 약 1 : 1 물 중량으로부터 제조된 후, 원하는 농도, 예를들어약 3M 로 물로써 희석시킨다. 일반적으로 용해성 물중의 용액에서 불포화 산(V Ib), 불포화 알데하이드(VId)를 형성하기 위해, 아세톤 같은 반응 불활성 유기 용매를 적어도 1몰 당량의 존스 시약과 반응시킨다. 온도는 중요한 요인이 아니며, 예를들어 0 내지 50℃가 보통 만족스럽고 순환 온도, 예를들어 17 내지27℃가 가장 만족스럽다.

일반식(I)의 화합물(R이 메틸이고 R₄=R₅=수소일때)의 결정상 형성은 유기 용매 또는 유기 용매의 합성물로 부터 결정화하여 얻어진다. 적당한 용매는 아세톤, 아세톤니트릴/에탄올 및 테트라하이드로푸란/에테르이다. 생성물 회수의 견지에서 바람직한 용매는 아세토니트릴/에탄올이지만 생성물 순도의 견지에서는 아세톤이 바람직하다. 상기 신규 형태는 아모포스티오필레이트의 전단계에서 명확한 안정성 이점이 있다. 이것은 더욱 조밀하고 덜 정전기적이어서, 더욱 섬세한 복용 형태의 제조에 매우 쉽게 취급할 수 있다.

일반식(I) 또는 (IIIa)의 화합물의 양제학적 허용 모노-및 디염기성 염은 일반적으로 용액, 바람직하게는 산의 수성액을 NaOH, KOH, Na₂CO₃또는 아민과 같은 염기로써 적당한 입체화학적 비율로 처리하여 얻어진다. 염은 증발 또는 침전에 의해 분리된다.

본 발명의 일반식(I) 또는 (III)의 생성물은 다양한 병원성 미생물, 특히 그램(gram)-음성 박테리아에 의해 발병하는 병의 임상적 및 치료학적 치료를 위해 사람을 포함해 포유동물에서 의약제로서 유용하다. 또한 이들은 잠복 또는 임상적-도입 면역 폐지로 인한 증가된 감염 위험을 갖는 인간을 포함한 포유동물에서 면역 자극제로서 유용하다. 시험 절차는 찰리스 리버 브리딩 (Charles River Breeding) 실험실로부터 얻은 정상적인 또는 면역성이 있는 C₃H /HeN 수컷 마우스를 사용한다. 마우스를 사용하기 전에 5일 동안 적응시키고 0.2ml양을 사용하여 시험화합물 또는 플라세보(피로겐 유리 살린)의 다양한 희석액 (100,10, 1 및 0.1mg/kg)으로써 피하(sc)로 또는 구강(po)으로 처리한다. 처리된 무리는 이용된 감염성 유기체에 좌우된다 : 징상적인 마우스에는 폐염간균을 24 및 0시간 전에 투입 : 면역성이 있는 마우스에는 대장균 또는 포도상구균을 3,2 및 1일전에 투입. 투입은 폐염간균의 경우에는 히프 근육내로 투여하고 대장균 또는 포도상구균의 경우에는 복강내로 투여한다. 투입을 위해 0.2ml양을 사용한다. 폐염균의 경우에는 7일 후에 생존수를 기록하고 다른 두개의 미생물체 투입의 경우에는 3일 후에 기록한다.

배양 제조 : 폐염간균, 대장균 또는 포도상구균 : 뇌 심장 냉침제(BHl) 한천상에 냉동 혈액 저장으로부터 순수성을 위해 배양을 스트리킹(streaking)한다. 세개의 균체를 18시간 플래트 배양으로 부터 추출해 9ml의 BHI 육즙내에 넣는다. 0.2ml를 몇개의 BHI 한천 슬란트(slant)표면상에 스트리킹시킨 후 육즙 배양을 회전 교반기상에 37℃에서 2시간 동안 배양한다. 37℃에서 18시간동안 배양에 이어, 슬란트를 BHI 육즙으로써 세척하고, 스팩트로닉 20를 사용하여 배양농도를 조절하고 정상 마우스내의 LD90 투입수준에 도달하기 위해 적절한 희석을 수행한다.

사람에게 항감염 또는 면역자극제로서 사용했을때, 본 발명의 화합물(I) 또는 (III)는 일반적으로 약제학적 관습내의 표준인 조성물 형태로써, 구경의, 근육내의, 정맥내의 또는 복강내의 경로를 통해 통상적으로 투여된다. 예를들어, 이들은, 녹말, 우유자당, 점토의 특정형태등과 같은 부형제를 함유하는 정제, 알약,분말 또는 과립 형태로써 투여할 수 있다. 이들은 동일한 또는 당량의 부형제와 함께 혼합물로써 캡슐화하여 투여할 수 있다. 또한 이들은 구경 현탁액, 용액, 유탁액, 시럽 및 감미제 및 색조제를 함유할 수도 있는 엘릭시르 형태로 투여할 수도 있다. 본 발명의 치료제로써 구경투여의 경우, 활성성분의 약 50 내지 약500mg을 함유하는 정제 또는 캡슐이 가장 적용하기에 적당하다.

내과의사가 개개의 환자에 대한 가장 적당한 복용량을 결정할 것이고 나이. 체중 및 특수한 환자의 반응및 투여경로에 따라 다양해질 것이다. 바람직한 구경 복용량 범위는 단일 또는 분할 복용으로써 약 1.0 내지 약 300mg/kg/일이다 : 가장 바람직한 범위는 약 1.0 내지 약 20mg/kg/일이다.

하기 실시예는 예시로써 나타낸 것이고 본 발명을 한정시키려는 것이 아니며, 본 발명의 많은 변형이 본 발명의 정신 및 범위내에서 가능하다.

[실시예 1]

R-트랜스-4-헥센-3-올

자기 교반기, 격벽(septum), 온도계 및 N₂유입부가 장치된 500ml 3구 환저 플라스크에 270ml CH₂Cl₂및 7.2g의 4A형태 분자체를 넣는다. 주사기를 통해 Ti[OCH(CH₃)] (10.7ml,0.036몰)를 가하고 혼합물을-66℃까지 냉각시키고, 이 온도에서 점도를 감소시키기 위해 10mlCH₂Cl₂로 희석시킨 L-(+)-디이소프로필 타르트레이트(10.lg,0.043몰)를 배관(cannula)을 통해 가하고 5ml 추가 CH₂Cl₂로 세척한다. 온도를-62℃까지 올린 후, 이 온도에서 라세믹 트랜스-2-헥센-4-올(3.60g, 0.036몰)을 가하고 5ml, CH₂Cl₂로 세척한다. 아세톤/건조 아이스 수조에서 8분 동안 교반한 후, 온도를-68℃까지 떨어뜨린 후, 이 온도에서 t-부틸 하이드록페록사이드(7.18ml의 3M톨루엔, 0.022몰)를 주사기를 통해 가한다. 반응 혼합물을-35℃까지 따뜻하게 하여 냉동장치(freezer)내애서 이 온도로 18시간 동안 유지시킨다. 그 후 홈이새겨진(f1uted) 여과지를 사용하여 냉각 혼합물을 여과한 후-20℃까지 냉각된 540ml아세톤 및 11ml H₂O의 교반 혼합물에 혼합시킨다. 혼합물을 상온까지 천천히 가열하면서 20시간 동안 교반한다. 혼합물을 규조토상에서 CH₂Cl₂세척액으로 여과시킨다. 합성된 여과액 및 세척액을 가열시키지 않고 오일(17.62g)로서 스트립핑시킨다. 원하는 생성물이 아주 휘발성이 있기 때문에 최상부 스트립핑 물질은 피한다. 오일은 용리제 (eluant)로서 4 : 1의 헥산 : 이소프로필 에테르를 사용하여 176g실리카겔상에서 크로마토그라피하고 티엘시(TLC)로 확인한다.

용매는 다양한 인취상부(take-off head)가 장치된 유리 헤리스(helice)로 충진된 소형 컬럼을 사용하여 증류에 의해 제거된다. 69.5℃(이 온도에서 상부온도가 떨어지기 시작한다)의 상부온도에서 비등하는 용매는 포트(pot)잔유물로서 상당량의 순수 표제 생성물을 남기고 그것으로서 제거된다 : tlc Rf 0.25(3 : 1의헥산 : 에테르). 상기 실험을 반복하는데, 더 휘발성이 있는 4 : 1의 펜탄 : 에테르를 용리제로서 사용하여,용매 제거를 촉진시키고 스트립핑하는데 생성물 손실을 최소화한다.

[실시예 2]

에틸 R-3-메틸-4-헥세노에이트

실시예 1의 생성물(0.4g), 트리에틸-오르토아세테이트(3ml) 및 피발산을 2.5시간 동안 환류물로 가열시키고, 냉각하여 총 반응 혼합물을 실리카겔상에서 두번 크로마토그라피하는데, 초기에는 용리제로써 6 : 1의 헥산 : 에테르를 사용하여 0.45g의 생성물을 수득하고, 후에는 용리제로서 7 : 1의 헥산 : 에테르를 사용하여 0.35g의 순수 표제 생성물을 수득한다 : IR(필름) 2960, 1736, 1456, l367, 1334, 1280, 1232, 1172, 1028, 962, 840cm^-1

다른 방법으로는, 순수 S-트랜스-2-헥센-4-올을 함유하는 펜탄/에테르 컬럼 분획을 초기에 반응 혼합물에서 증류된 펜탄 및 에테르와 함께 직접적으로 상기 단계에 도입하는 것이다.

피발산 대신에 프로피온산을 사용하여도 실질적으로 같은 결과를 얻을 수 있다. 또한 산촉매로서 건조HCl 및 2,4-디니트로페놀을 연속적으로 사용할 수 있지만 다음 실시예에서 사용된 AlCl₃가 바람직한 촉매이다.

[실시예 3]

R-3-메틸-4-헵테노산

[방법 A]

자기 교반기 및 심블(thimble)내에 4A-형 분자체를 포함하는 속슬레 추출기(soxhlet extractor)가 장치된 35ml플라스크에 실시예 2의 생성물(1.5g,0.015몰)을 넣는다. 그후 트리에틸 오르토아세테이트(9ml,(0.49몰) 및 AlCl₃(0.12g,0.009몰)을 가하고, 혼합물을 2시간 동안 속슬레 추출기상으로 환류하면, 이 시간내에 중간체인 에틸 R-3-메틸-4-헥세노에이트로의 전화가 완결되었다는 것을 TLC로 확인된다 : TLC-Rf 0.75(4 : 1 헥산 : 에틸 아세테이트), Rf 0.85(15 : 5 : 2 헥산 : 에테르 : 아세트산).

반응 혼합물을 냉각하고, 15ml 2N NaOH 및 12ml CH₃OH로 희석시키고 27시간 동안 순환온도에서 교반시키면, 이 시간내에 가수분해가 완결되었다는 것을 TLC로 확인된다. 반응 혼합물을 메탄올로 스트립핑하여,12ml H₂O로 희석시키고 25ml CH2Cl₂로 2회 추출시킨다. 합성된 CH₂Cl₂를 25ml 2N NaOH로 1회 역류 세척한다. 수성층 및 역류 세척액을 합성하여 pH가 1이 되도록 농축 HCl로 조정하고, CH₂Cl₂로 3회 추출한다. 후자인 유기층을 합성하여, MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑하여 1.28g(60%)오일로서 표제생성물을 얻는다 : tlc Rf 0.65(15 : 5 : 2 헥산 : 에테르 : 아세트산) :¹H-nmr(CDCl₃) 델타(ppm) 9.4(s,1H), -CO₂H), 5.5(m, 2H, -CH=CH-), 3.0-1.6(m, 5H), 1.3-0.8(m, 6H); ir(필름) 3400-2400,-2960, 2925, 2860, l708, 1458, 1410, 1380, 1295, 1228, 1190, 1152, 1100, 930cm^-1

[방법B]

실시예 3의 에스테르 생성물(0.24g)을 25ml CH₃OH 및 11.5ml 1N NaOH와 합성시킨다. 혼합물을 3.5시간 동안 순환온도에서 교반시키면, 이 시간내에 가수분해가 완결되었다는 것을 TLC로 확인된다. 혼합물을 35ml에테르로 2회 추출하고, 농축 HCl로 pH가 2가 되도록 조정하고 35ml에테르로 3회 추출한다. 산추출물을 합성하고, 건조시키고 스트립핑하여 방법 A의 생성물과 동일한 표제 생성물 0.20g을 얻는다.

[ 실시예 4]

에틸 S-3-메틸헵타노에이트

40ml 에틸 아세테이트중에 실시예 2의 생성물(0.20g)을 파르(Paar) 수소화 장치내에서. 수소의 4기압하에 3시간 동안 0.20g의 5% Pd/C(50% 습윤성)상에서 수소화시킨다. 규조토상에 여과에 의해 촉매를 회수한다. 용매의 추출물을 스트립핑하여 표제 생성물을 회수한다.

[실시예 5]

S-3-메틸헵타노산

[방법 A]

40ml 에틸 아세테이트중에 실시예 3의 생성물(0.20g)을 파르 수소화 장치내에서, 수소의 4기압하에 3시간 동안 0.2g의 5% Pd/C(50% 습윤성)상에서 수소화시킨다. 규조토상에서 여과에 의해 촉매를 회수하고 추출물을 스트립핑하여 0.2g의 오일로서 표제 생성물을 회수한다. 필요하다면, 고진공하에서 증류에 의해 정제 표제 생성물을 얻는다 : 비등점 77 내지 79℃/0.2mm ;¹H-nmr(CDCl₃) 델타(ppm) : 12.0(s,-COO

), 1.0(d, -

), 0.6-2.8(m, 잔기 13H) ; ir(필름) 3400-2400, 2960, 2925, 2860, 1708, 1458, 1410, -1380, 1295, 1228, 1190, 1152, 1100, 930cm^-1;

=6.41。(=1% CH₃OH에서) ;

[방법 B]

실시예 4의 생성물을 실시예 3의 방법 B에 따라 가수분해하여 표제 생성물을 얻는다.

[실시예 6]

S-3-메틸헵타노일 클로라이드

실시예 5 또는 실시예 27로부터 얻은 산 생성물(8.5g,0.062몰)을 18ml CH₂Cl₂로 용해시킨다. 옥살릴 클로라이드(5.36ml, 7.80g, 0.0614몰)를 용액에 혼합시키고 혼합물을 4시간 동안 방치하면, 이 시간내에 반응이 완결됨을 더이상의 기체 방출의 없음으로 입증된다. 상기 산 클로라이드 용액을 즉시 실시예 8, 방법 C에 직접적으로 사용한다. 다른 방법으로는 실시예 8, 방법 C에서 사용을 위해, 산클로라이드를 스트립핑으로써 용매에서 분리하고, 필요하다면 증류(비등점 45℃/1.5mm)에 의해 추가로 정제한다.

[실시예 7]

R-3-에 틸-4-헵타노일 클로라이드

실시예 3의 산 생성물(0.747g, 5몰)을 상기 실시예의 방법에 의해 표제 생성물의 CH₂Cl₂용액으로 전환하여 하기 실시예 9에 직접적으로 사용한다. 다른 방법으로는 반응 혼합물을 스트립핑하여 표제 생성물을 수득하고, 필요하다면 감압하에 증류한다.

[실시예 8]

N-(

-3-메틸헵타노일)-D-감마-글루타밀(알파벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질 에스테르-

[방법 A]

50ml 메틸렌 클로라이드 중에 1.0g(2.03 밀리몰) D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질 에스테르 염화수소(제조예 4) 및 616mg(6.09밀리몰) 트리에틸아민의 용액에 660mg(4.06밀리몰)

-3-메틸헵타노일 클로라이드를 가하고 반응 혼합물을 상온에서 80시간 동안 교반시킨다. 메틸렌 클로라이드를 진공하에서 증발시키고 잔유물을 에틸 아세테이트에 용해시킨다. 얻어진 용액을 2.5% 염산, 물, 10% 탄산칼륨, 물 및 불소 용액 순서대로 세척시킨다. 유기상을 분리하고 황산마그네슘상에 전조시키고 진공하에서 농축시킨다. 잔유물을 디에틸 에테르와 함께 가루로 만들고 질소하에서 여과하여 표제 생성물을 수득하며, 이 생성물 전부를 실시예, 방법 A에 직접적으로 사용한다.

[ 방법 B]

제조예 4의 생성물(0.75g, 1.53밀리몰), 5ml CH₂Cl₂및 트리에틸아민(0.212ml, 1.53밀리몰)을 합성하고 N₂하에 교반시킨다. 그 후 4ml CH₂Cl₂중에 ★스캔-3-메틸헵타노산(실시예 5 ; 0.20g, 1.39밀리몰) 및 디사이클로헥실카보디이미드(0.286g, 1.37밀리몰)을 가하고 반응물을 16시간 동안 교반시킨다. 반응 혼합물을 여과하고, 여과물을 스트립핑하여 10ml에틸 아세테이트중에 잔유물을 취하고 용액을 순서에 의해 5ml 2.5% HCl, 5ml H₂O, 5ml 10% K₂CO₃및 5ml 불소로 세척하고 MgSO₄상에서 건조시켜 71mg(88%)의 표제 생성물을 수득한다.

[방법 C]

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 N₂유입부가 장치된 500ml 4-구 환저 플라스크에 제조예 4의 생성물(32.8g, 0.059몰)을 175ml CH₂Cl₂에 용해시키고 0 내지 5℃로 냉각시킨다. 상기 온도 범위를 유지하면서, 트리에틸아민(24.7ml, 17.9g, 0.177몰, 3당량)을 15분 동안 느린 스트림으로써 가한다. 얼음-물 수조를 유지하면서 실시예 6으로부터 얻은 CH₂Cl₂중에

-3-메틸헵타노일 클로라이드의 전량을 온도가 21℃까지 상승할 때까지 15분 동안 가한다. 얼음-물 수조내의 교반을 45분 동안 계속하고, 이 시간내에 겔화성 혼합물이 너무 혼탁하여 더 이상 교반할 수 없게 된다. 겔화성 물질을 쪼개어 125ml의 10% HCl 및 5ml CH₂Cl₂와 혼합시킨다. 유기층을 분리하고, 순서대로 125ml H₂O로 2회, 125ml 10% K₂CO₃로 2회 및 125ml H₂O로 1회 세척하고 MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑하여 82.3g의 습윤성 백색 고체를 얻는다. 500ml의 뜨거운 에틸 아세테이트 내에서 상기 고체를 취한다. 순환온도로 서냉하면서, 표제 생성물을 짙게 결정화하고, 혼합물을 추가의 40ml에틸 아세테이트로서 희석시켜 용이한 교반을 유지시킨다. 정제 표제 생성물을 여과에 의해 회수하고 40℃에서 진공 건조시켜 31.1g생성물(90.5%)을 수득한다.

¹H-nmr(CDCl₃) 델타(ppm) : 8.4-8.1(m, 3H),7.15(s, 10H), 5.1(s, 4H), 4.4-4.2(m, 2H), 3.7(d, 2H), 2.2(t, 2H), 2.1-1.7(m, 6H), 1.4-1.1(m, 10H), 0.92-0.8(m, 6H).

[실시예 9]

N-(

-3-메틸-4-헵테노일)-D-감마-글루타밀-(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질-에스테르

실시예 8의 방법 C에 의해 제조예 4의 생성물(2.77g. 5밀리몰)을 실시예 7로부터 얻어진 CH₂Cl₂중의 산 클로라이드 전량과 커플링(coupling)시킨다. 세척되고 건조된 유기층을 스트립핑하고, 에틸 아세테이트중에 잔유물을 용해시키고 재스트립핑하는 과정을 반복하여 생성물을 회수한다.

[실시예 10]

N-(

-3-에틸헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌-

[방법 A]

실시예 8의 방법 A에서 얻어진 전 생성물을 65ml메탄올에 용해시킨다. 팔라듐 수산화물(250mg)을 용액에 가하고 3시간 동안 4수소 기압하에서 혼합물을 교반시킨다. 촉매를 여과하고 용매를 진공하에서 제거한다. 잔유물을 물에 용해시켜 동결 건조하여 원하는 생성물을 얻는다. NMR스펙트럼(DMSO-d₆)은 하기와같이 흡수성을 보여준다 :

8.27-8.03 (m, 3H), 4.32-4.1(m, 2H), 3.72 (d, J = 6Hz, 2H), 2.22 (t, J = 8Hz, 2H), 2.27-1.68(m, 6H), 1.42-1.0(m, 10H), 0.94-0.8(m, 6H).

25ml CH₃OH에서, 90mg의 20% Pd(OH)₂/C(31% 습윤성)를 사용하여 실시예 8의 표제 생성물의 중량(0.50g)을 수행할 때, 상기 방법은 동일하며 솜털 모양의 정전기 표제 생성물을 얻게 한다 : IR(뉴졸 멀(nujol mull)) 3300, 2940, 1740, 1650, 1540, 1468 및 1380cm^-1그러나 마지막 두 피크는 폭이 넓어 빈약하게 용해되어 있다.

[방법 B]

실시예 8의 방법 C의 생성물(30.8g)을 2리터 오토클레이브(autoclave)내에서 300ml 무수 에탄올로 가볍게 처리한다. 5% Pd/C 1.54g(50% 습윤성)을 가하고 혼합물을 4배의 대기압에서 1시간 동안 수소화시키면, 이 시간내에 수소의 흡수가 완결된다. 촉매를 여과에 의해 회수하는데, 처음에는 여과지상에서, 다음에는 0.45마이크론 나일론 밀리코어 상에서 행하며, 전달 및 세척을 위해 100 내지 150ml에탄올을 사용한다. 합성된 여과물 및 세척액을 스트립핑하여 습윤성 백색 고체를 얻고, 상기 고체를 1 : 10의 비인 무수 에탄올과 아세토니트릴의 혼합물 150ml에 용해시키고, 고온 여과에 의해 정제하고, 35ml로 될때까지 끓인 후, 천천히 상온으로 냉각시키고, 입상화하고 여과하여 결정형, 농축, 비-정전기적 표제 생성물 20.1g(94%)을 수득한다. 이 표제 생성물은 IR(뉴졸 멀) 분석에 의해 하기 지점에서 대부분 잘 분해된 뾰죽한 피크를 갖는 것이 특징이다 : 3340, 3300, 2900, 2836, 1725, 1650, 1628, 1580, 1532, 1455, 1410, 1370, 1280, 1240, 1216 및 1175cm^-1.

[방법 C]

방법 B에 따라 바로 제조된 결정성 생성물(9.4g)을 1시간 동안 환류로 가열하여 1000ml아세톤에 용해시킨다. 용액을 상온으로 냉각하고 극소량의 방법 B생성물을 살포하여 결정화를 유도한다. 6시간동안 교반한후, 소량의 아세톤 세척액으로 여과하고 35℃에서 진공 건조하여, 방법 B의 아세토니트릴/에탄올 결정체의 피크와 동일한 IR 피크를 갖는 추가의 정제된 표제 생성물 7.25g을 회수한다.

[방법 D]

실시예 10의 생성물(0.50g)올 파르 수소화 반응용기에서 125ml 무수 에탄올중에 0.026g의 5% Pd/C(50% 습윤성)과 합성시킨다. 혼합물을 2.5시간 동안 4수소 기압하에서 수소화시킨다. 촉매를 여과에 의해 회수하고 여과물을 스트립핑하여 끈적끈적한 고형물질로서 표제 화합물을 수득하고 이 물질을 바로 앞 방법에 따라 결정화한다.

[실시예 11]

N-(R-3-메틸-4-헵테노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌.

실시예 9의 생성물(1g)을 5ml CH₃OH에 용해시킨다.¹N NaOH(2.50ml)을 가하고 혼합물을 순환온도에서 3시간동안 교반한다. CH₃OH를 스트립핑하고 수성 잔유물을 7.5ml H₂O와 희석시켜 7.5ml 에틸 아세테이트로 2회 추출한 후 1N HCl로서 pH 3.0이 되도록 산성화시킨다. 산성화된 수용액을 새로운 에틸 아세테이트로 연속적으로 추출하고, 추출물을 스트립핑하여 표제 생성물을 수득하는데, 이 생성물은 실시예10의 방법 A에 따라 리오필레이트로 전환된다.

[실시예 12]

R-트랜스-4-헵텐-3-올

시약의 합성 동안 모든 단계에서 반응온도를-20℃로 하는 것을 제외하고, 실시예 1의 방법으로 제조예 5의 표제 생성물(10g, 0.088몰)을 본 표제 생성물로 전환한다. 모든 시약을 합성한 후, 혼합물을-20℃에서 1.5시간 동안 교반시킨 후, 따뜻하게 하여 상온으로 되게 하고 25ml H₂O의 적가에 의해 급냉시킨 후 6ml 30% NaOH(NaCl과 포화상태)로서 급냉시킨다. 급냉된 혼합물을 20분 동안 교반시키고, 30ml CH₂Cl₂로서 희석시키고 수성층을 분리하고 50ml의 새로운 CH₂Cl₂로서 2회 세척한다.

유기층을 합성하고 MgSO₄상에서 건조시키고 50ml의 잔유 용량이 되도록 증류하며, 이 잔유물을 실리카겔상에서 펜탄을 사용한 후 용리제로서 4 : 1의 펜탄 : 에테르를 사용해 크로마토그라피한다. 덜 극성화된 불순물을 함유하는 초기 분획을 버린다. R_f0.3(4 : 1 펜탄 : 에테르)인 순수 생성물 분획을 합성하고 스트립핑하여 투명 무색 액체(5.7g)로서 표제 생성물을 수득한다.

[실시예 13]

R-3-에틸-4-헵테노산

분리하는데 CH₂Cl₂대신에 에테르를 사용하는 것만을 제외하고 실시예 3의 방법 A에 의해, 실시예 12의 생성물(5.7g, 0.05몰)을 에틸 오르토아세테이트로 응축시키고, 재배열시키고 비누화시켜 1.4g의 오일로서 본 표제 생성물을 수득한다 : TLC R_f0.4(2 : 1 헥산 : 에테르), 중간체 에딜 에스테르는 동일한 TLC계에서 R_f0.25를 나타낸다.

[실시예 14]

S-3-에틸 헵타노산

실시예 13의 생성물(1.4g)을 4배의 대기압에서 1시간동안 0.1g 5% Pd(OH₂)/C상의 20ml CH₃OH내에서 수소화시킨다. 촉매를 여과에 의해 회수한다. 여과물을 용매에서 스트립핑하고 잔유물을 증류하고 1.0g의 표제 생성물을 수득한다 : 비등점 76 내지 77℃/0.4 torr :

(CH₃OH내에 C=2%).

[실시예 15]

S-3-에틸헵타노일 클로라이드

건조 N₂하에서, 실시예 14의 생성물(1.0g, 0.00633몰)을 10ml CH₂Cl₂에 용해시킨다. 옥살릴 클로라이드(0.547ml, 0.00627몰)를 가하고 혼합물을 1시간동안 교반시키면, 이 시간내에 기체발생이 멈춘다. 표제 생성물의 얻어진 용액을 N₂스트림하에서 증발하여 7ml로 되게하고 다음 단계에 직접적으로 사용한다.

동일한 방법으로, 실시예 13의 불포화산을 R-3-에틸-4-헵타노일 클로라이드의 용액으로 전환시킨다.

[실시예 16]

N-(S-3-에틸헵타노일)-D-감마-글루타밀(알파벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질 에스테르 제제예 4의 표제 생성물(1.1g, 0.00222몰)을 30ml CH₂Cl₂및 트리에틸아민(0.935ml, 0.00666몰)에 용해시킨다. 실시예 15의 S-3-에틸헵타노일 클로라이드(2.3몰, 0.00211몰)의 CH₂Cl₂용액을 가하고 혼합물을 N₂하에서 0.75시간 동안 교반하고, 순서에 의해 10% HCl, H₂O, 10% K₂CO₃및 소금물의 20ml로서 세척하고, MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑하여 고형 잔유물을 얻고, 에테르로 연마한 후 여과에 의해 0.8g을 회수한다. 후자의 물질을 에틸 아세테이트내에 흡수시켜 상기처럼 재세척하고 재스트립핑하에 0.7g의 제2고형물질을 얻고, 이 물질을 용리제로서 97 : 3의 CHCl₃: CH₃OH를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그라피하여 정제된 467mg의 표제 생성물을 수득한다.

동일 방법으로, 3-에틸-4-헵테노일 클로라이드를 제조예 4의 표제 생성물과 커플링시켜 N-(R-3-에틸-4-헵테노일)-D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질 에스테르를 수득한다.

[실시예 17]

N-(S-3-에틸헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌

앞 실시예의 표제 생성물(467mg)을 실시예 14 방법에 의해 수소화시킨다. 촉매를 회수한 후, 여과물을 포옴으로 스트립핑하고 H₂O에 용해시키고, 여과하고 동결건조하여 표제 생성물(238mg)을 수득한다.

¹H-nmr(DMSO-d₆) 델타(ppm) : 8.20-8.00(m, 3H), 4.24-4.16(m, 2H),3.74-3.60(m, 2H), 2.18(t, J = 7, 2H), 2.02 (d, J = 7, 2H), 2.02-1.60(m, 3H), 1.26(d, J = 6, 3H), 1.26-1.08(m, 8H), 0.92-0.74(m, 6H).

동일한 방법으로 앞 실시예의 불포화 생성물을 동일 생성물로 전환시킨다.

[실시예 18]

N-(R-3-에틸-4-헵테노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌

실시예 16의 불포화 생성물을 실시예 11의 방법에 의해 가수분해하여 본 표제 생성물을 얻는다.

[실시예 19]

N-(S-3-에틸헵타노일)-D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르

실시예 17의 방법에 의해, 실시예 16의 S-3-에틸헵타노일 클로라이드 및 D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르(1.0g, 0.00222몰)을 커플링시켜, 본 표제 생성물을 생성하고, 분리하고 유사한 방법을 정제한다. 수율량은 0.7g이다.

¹N-nmr(DMSO-d₆) 델타(ppm) : 8.22(d, J=7, 1H), 8.12-8.00(m, 2H),4.40-4.16(m,2H),4.08-3.95(m,2H), 3.75-3.62 (m,2H), 2.18(t, J = 6, 2H), 2.02 (d, J = 6, 2H), 2.04-1.62 (m, 3H) , 1.60-1.46(m, 2H), 1.38-1.10(m, 15H),0.90-0.75(m, 9H).

동일 방법으로 R-3-에틸-4-헵타노일 클로라이드를 N-(R-3-에틸-4-헵타노일)-D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르로 전환시킨다.

[실시예 20]

N-(S-3-에틸헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르

실시예 14의 방법으로, 앞 실시예의 표제 생성물을 수소화시켜 본 표제 생성물을 생성한다. 촉매의 회수에 이어, 여과물을 에테르로 연마하고 여과하여 회수된 고체(256mg, 융점 130-131℃)로 스트립핑시킨다.

동일한 방법으로, 앞 실시예의 불포화 생성물을 동일 생성물로 전환시킨다.

[실시예 21]

R-3-에틸-4-헵텐날

건조 에틸 비닐 에테르 300ml중에 실시예 12의 R-트랜스-4-헵텐-3-올(3.0g)의 용액을 환류로서 가열하는 동안 Hg(OAc)₂을 연속적으로 5회(1회당 2g, 2시간 간격으로)가한다. 추가로 18시간동안 환류로 가열한 후, 투명 용액을 상온으로 냉각시키고, 빙상의 아세트산 0.5ml로 처리하고 3시간동안 교반시킨다. 얻어진 용액을 에테르로 희석시키고 200ml 5% KOH 용액에 붓고, 에테르로 3회 추출한다. 그런 후 합성된 에테르 추출물을 K₂CO₃상에서 건조시키고 스트립핑시켜 알릴 비닐 에테르, R-트랜스-O-비닐-4-헵텐-3-올을 수득한다.

20ml 데칼린중에 상기 알릴 비닐 에테르(2.3g)의 용액을 10.5시간동안 환류시킨다. 그후 얻어진 용액을 상온으로 냉각시키고 실리카겔의 컬럼상에 직접적으로 배치한다. 헥산을 흘려보내 데칼린을 제거한 후, 에테르 및 스트립핑과 함께 컬럼의 용리과정에 의해 표제 생성물을 회수한다.

[실시예 22]

S-3-에틸-4-헵테노산

앞 실시예의 생성물(100mg)을 아세톤 4ml에 용해시키고 0 내지 5℃로 냉각시킨다. 분리 플라스크내에서 50ml H₂O와 함께 CrO₃(72.1g, 0.072몰)을 혼합하고 0 내지 5℃에서 교반하고 진한 H₂SO₄62.1ml를 서서히 가하고, 이 혼합물을 250ml H₂O에 희석시켜 2.88M 용액의 H₂CrO₄(존스(Jones)시약)을 수득한다. 후자 용액 (1ml)을 상기 아세톤 용액에 1시간 동안 조금씨 가한다. 온도가 상승하면 시약을 가해서 17 내지 25℃로 유지시킨다. 혼합물을 6℃로 재냉각하고 70ml의 2-프로판올을 10분(이 과정 동안 온도가 20℃까지 상승하는 것은 무방)동안 가한후, 진공상태로서 오일로 농축시키고 여기에 교반하면서 50분동안 2.5N NaOH 8ml를 가하고, 22±5℃ 온도로 유지시킨다. 혼합물을 가열하고 규조토상에서 뜨거운 2.5N NaOH세척액으로서 여과시킨다. 합성된 여과액 및 세척액을 300ml 이소프로필 에테르로 3회 추출한다. 합성된 유기층을 200ml 2N NaOH로 역추출한다. 합성된 수성층을 진한 HCl 0.5ml를 서서히 가해서 pH 1.0이 되도록 산성화시키고 생성물을 신선한 이소프로필 에테르 300ml로 3회 추출한다. 유기 추출물을 합성하고 추출하여 오일로서 표제 생성물을 수득한다.

[실시예 23]

S-7-(t-부틸 디메틸실릴옥시)-5-메틸-1-헵텐

교반기, 온도계, N₂유임부 및 첨가 깔대기가 장치된 500ml, 4-구 환저 플라스크에서,(메틸) 트리페닐포스포늄 브로마이드(25.7g, 0.072몰, 1.25당량)을 77ml THF(테트라하이드로푸란)에서 가볍게 처리하고 아세톤/습윤 얼음 수조에서 냉각시킨다. n-부틸리튬(헥산중에 1.6N 43.2ml, 0.069몰, 1.20당량)을 첨가깔때기에 넣는다. 초기에-8℃로 가볍게 처리하고 온도가 상승함에 따라 부틸 리튬을 1시간 정도로 가하면서 ±1℃로 유지시킨다. 14ml THF중에 제조예 2의 알데하이드 생성물(14.1g, 0.0567몰)을 40분 동안 조금씩 가하면서 3 내지 7℃ 온도로 유지시킨다. 추가의 15분 동안 교반시킨 후, 용리제(Rf 개시 알데하이드 0.6 : Rf 생성물 0.95)로서 3 : 1의 헥산 : 에테르를 사용한 TLC에 의해 개시 알데하이드가 감지되지 않음을 알 수 있다. 반응 혼합물을 순환온도까지 따뜻하게 하고 150ml 에틸 아세테이트 및 90ml H₂O로 희석시킨다. 유기층을 분리하고 100ml H₂O로 2회 세척한다. 3개의 수성층을 합성하여 40ml 에틸 아세테이트로써 역류시킨다. 유기층을 합성하고 MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑시켜 25g의 오일을 얻고, 이것을 10ml헥산으로 연마하고 신터(simter)유리 깔때기 상에서 여과하고, 고체를 10ml 헥산으로 4회 적절히 재펄프화하고, 합성된 헥산 추출액 및 세척액을 스트립핑하여 오일로서 표제 생성물(13.5g, 96.6%)을 수득한다 :¹H-nmr(CDCl₃) 델타(ppm) : 5.4-6.2(m, =

), 4.8-5.3(m, =

), 3.7(t, J=6.5Hz,

), 0.08(s, C(

)₃) 및 0.0(s, Si(

)₂), 8mol%(C₆H₅)₃PO(7.6, s, 1.25H)로 오염된 물질.

[실시예 24]

S-3-메틸헵트-6-엔-1-올

[방법 A]

앞 실시예의 방법에 의해(단 (메틸)트리페닐 포스포늄 브로마이드 및 n-부틸리튬의 각각 2.2당량을 사용하는 것을 제외), 제제예 6의 알데하이드 생성물(26.3g, 0.20몰; 순수성분에 대한 정확한 양)을 메틸렌트리페닐포스포란과 반응시킨다. 알데하이드 용액의 첨가 동안 고형 고무의 재형이 감지되지만, 일단 작업하기 위해 순환온도로 따뜻하게 하면 반응물은 엷은 슬러리가 된다. 반응 혼합물을 500ml H₂O 및 300ml에틸 아세테이트로써 희석시킨다. 층을 분리하고 250ml H₂O로 3회 세척한다. 합성된 수성층을 300ml 에틸아세테이트로 역류시킨다. 3개의 유기층을 합성하고 MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑시켜 25.6g의 표제생성물(100%) 및 약 40g의 트리페닐포스핀 산화물을 함유하는 65.7g의 오일을 수득하고, 이것은 상기 실시예 4에 있는 추가 과정을 위해 적합하다.

순수 표제 생성물을 실시예 23의 생성물의 통상적인 가수분해, 예를 들어 실시예 26의 희석 황산으로 더욱 쉽게 얻을 수 있다. 표제 생성물을 추출에 의해 에틸 아세테이트내로 분리하고 MgS0₄상에서 건조시키고 스트립핑 시킨다.

[실시예 25]

S-3-에틸-6-헵텐

앞 실시예의 표제 생성물(1.14g, 0.01몰)을 20ml CH₂Cl₂에 용해시키고 0℃로 냉각시킨다. 피리디늄 클로로크로메이트(4.30g, 0.02몰)을 가해서 0 내지 5℃로 온도를 유지시킨다. 혼합물을 순환 온도까지 따뜻하게 하고, 2시간 동안 교반시키고, 실리카 겔의 패드를 통해 여과하고 여과액을 스트립핑시켜 오일로서 표제 생성물을 수득하는데, 필요에 따라 증류에 의해 추가로 정제한다.

[실시예 26]

S-3-메틸-6-헵테노산

[방법 A]

교반기, 온도계 및 첨가 깔때기가 장치된 2000ml 3-구 환저 플라스크 내에서 실시예 23의 표제 생성물(81g, 순수성분에 대한 정확한 양, 0.33몰)을 400ml 아세톤에 용해시키고 0 내지 5℃까지 냉각시킨다. 분리 플라스크에서, CrO₃(72.1g, 0.72몰)를 50ml H₂O와 혼합시켜 0 내지 5℃에서 교반시키고 62.1ml 진한H₂SO₄를 서서히 가하고 혼합물을 H₂O로서 250ml까지 희석시켜 2.88M H₂CrO₄, 존스 시약)의 용액을 수득한다. 후자 용액(240ml, 0.67몰)을 1.2시간 동안 상기 아세톤 용액에 소량씩 가한다. 온도가 급격히 17℃로 올라가면 시약을 가하면서 17 내지 25℃로 유지시킨다. 발열이 일어나지 않으면 첨가를 멈춘다. 혼합물에 10분 동안(온도가 20℃까지 상승하는 동안) 70ml 2-프로판올을 가해서 6℃까지 재냉각시킨 후, 진공상태로서 오일로 농축시키고, 교반하면서 50분 동안 오일에 400ml 5N NaOH를 가해서 22±5℃ 온도로 유지시킨다. 혼탁한 반응 혼합물을 400ml의 H₂O로 희석시키고 규조토상에서 여과한다. 습윤 케이크를 400ml H₂O 및 50ml 5N NaOH 내에서 재펄프화 시키고 증기 수조상에서 따뜻하게 하여 재여과시킨다. 합성된 여과액을 300ml 이소프로필 에테르로 3회 세척한다. 합성된 유기층을 200ml 2N NaOH로서 역추출한다. 합성된 수성층을 50ml 진한 HCl의 느린 첨가에 의해 pH 1.0이 되도록 산성화시키고 생성물을 300ml 신선한 이소프로필 에테르로 3회 추출한다. 유기 추출물을 합성하고 스트립핑하여 오일로서 표제 생성물 29.1g(61%)을 수득한다. 규조토 상에서 여과 케이크의 제2기본 추출에 이어 유사한 분리에 의해서 추가의 생성물 7.7g(16%)을 얻는다. 합성된 생성물(CDCl₃) 델타(ppm)의¹H-nmr은 11.9(s,

), 5.8(m, =

, 5.08m, =

) 및 1.0(d,

) 및 이소프로필 에테르 8.6몰%(6.3중량%)와 오염된 것을 보여주는 3.7 및 1.1에서 이소프로필 에테르 피크를 갖게되며, 상기 오염은 추가의 과정에서 본 생성물의 사용에 방해하지는 않는다.

[방법 B]

실시예 24의 방법 A의 생성물(

-3-메틸헵트-6-엔-1-올의 26.3g, 0.20몰을 함유하는 65.7g)을 본 실시예의 방법 A에 따라 산화시킨다. 이소프로판을 급냉하여 1시간 동안 0 내지 5℃에서 교반하면, 이 시간내에 반응 혼합물이 완전히 녹색이 되며, 유기 용매를 스트립핑하고, 수성 잔사를 250ml H₂O로 희석시키고 이소프로필 에테르 250ml로 3회 추출한다. 유기 추출물을 합성하고 160ml 2N NaOH로 처리하면, 1N NaOH 세척액을 통해 여과에 의해 회수되는 (C₆H₅)₃PO의 중침전(출발물질에서 오염 성분)이 일어난다. 여과액 및 세척액을 합성하고, 층을 분리하고 유기층을 80ml 추가 1N NaOH로 세척시킨다. 모든 수성층을 합성하고, 250ml 이소프로필 에테르로 3회 세척하고 50ml 진한 HCl로 pH 1.0이 되도록 산성화시키고 원하는 생성물을 250ml 신선한 이소프로필 에테르로 3회 추출한다. 합성된 산 유기 추출물을 MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑시켜 표제 생성물 14.0g을 수득하며, 필요에 따라 증류에 의해 추가로 정제한다.

[실시예 27]

S-3-메틸헵타노산

파르 수소화 반응용기에 10%Pd/C(1.64g, 50% 습윤성), 150ml 에틸 아세테이트 및 앞 실시예의 불포화산(3.28g, 순수 성분에 대한 정확한 양)을 넣고 이 슬러리(slurry)를 4대기압에서 1.5시간 동안 수소화시키면 이 시간내에 H₂흡수가 완결된다. 촉매를 규조토상에서 여과에 의해 회수하고 여과액을 스트립핑하여 오일로서 표제 생성물,3.20g(96%)을 수득한다.

다른 방법으로, 5% Pd/C(2g, 50% 습윤성) 및 150ml 에틸 아세테이트 중에 앞 실시예의 표제 생성물(33.3g, 순수 성분에 대한 정확한 양)을 1리터 오토클레이브에 넣고 4기압, 30 내지 31℃에서 2시간 동안 수소화 시키면, 이 시간까지 H₂흡수가 완결된다. 촉매를 규조토 상에서 여과에 의해 회수하고 여과액을 스트립핑하여 35.4g의 오일을 얻고, 이 물질을 고진공하에서 증류하여 정제 표제 생성물, 29.6g(87.6%)을 수득한다 :

비등점 77-79℃/0.2mm :¹H-nmr(CDCl₃)(ppm) : 12.0(s,

), 1.0(d,

), 0.6-2.8(m,잔기 13H) : ir(필름) 3400-2400, 2960, 2925, 2860, 1708, 1458, 1410, 1380, 1295, 1228, 1190, 1152, 1100, 930cm^-1

(CH₃OH내에서 C=1%) :

[실시예 28]

S-3-에틸-6-헵테노일 클로라이드.

실시예 4의 산 생성물(0.747g, 5밀리몰)을 실시예 6의 방법에 의해 표제 생성물의 CH₂Cl₂용액으로 전환시켜 실시예 9에 직접적으로 사용된다. 다른 방법으로는 반응 혼합물을 스트립핑하여 표제 생성물을 수득하고, 필요하다면 감압하에서 증류시킨다.

[실시예 29]

N-(

-3-메틸-6-헵테노일)-D-감마-글루타밀-(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질-에스테르

실시예 8의 방법 C에 의해, 제조예 4의 생성물(2.77g, 5밀리몰)을 실시예 28로부터 얻은 CH₂Cl₂내에 산 클로라이드 전량과 커플링시킨다. 세척되고 건조된 유기층을 스트립핑하여 회수된 초기에 얻어진 생성물 2.77g을 200ml 뜨거운 에틸 아세테이트에 용해시키고, 용액을 20ml 헥산과 희석시키고 여과에 의해 정제된 생성물, 2.24g(77%, 융점 : 137.5-139.5℃)을 회수한다.

[실시예 30]

N-(

-3-메틸-6-헵테노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닐-

실시예 2g의 생성물(1g)을 5ml CH₃OH에 용해시킨다.¹N NaOH(2.50ml)을 가하고 혼합물을 순환 온도에서 3시간 동안 교반시킨다. CH₃OH를 스트립핑하고 수성 잔사를 7.5ml H₂O로 희석하고 7.5ml 에틸 아세테이트로 2회 추출하고, pH 3.0이 되도록 1N HCl로 산성화시킨다. 산성화된 수성액을 연속적으로 신선한 에틸 아세테이트로 추출하고, 추출물을 스트립핑하여 표제 생성물을 수득하고 이 생성물을 실시예 10의 방법 A에 따라 리오필레이트(lyophilate)로 전환시킨다.

[실시예 31]

N-(

-3-에틸-6-헵타노일)-D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르

D-감마 글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르(제조예 4)를 실시예 8의 방법 A에 의해 S-3-메틸-6-헵테노일 클로라이드(실시예 28)와 커플링시켜 본 표제 생성물을 수득한다.

[실시 예 32]

N-(

-3-메틸헵타노일)-D-감마-글루타밀-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르

실시예 10의 수소화 반응법에 의해, 앞 실시예의 생성물을 본 표제 생성물로 전환시킨다.

[제조예 1]

라세믹 트랜스-4-헥센-3-올

교반기, 첨가 깔때기, 온도계 및 질소 유입부가 장치된 3리터 4-구 플라스크에 400ml THF을 넣는다. THF를-70℃로 냉각하고, 에틸 마그네슘 브로마이드(THF에서 2M의 600ml, 1.2몰)를 가한다. 온도를-70℃ 내지-60℃로 유지하면서, 크로톤알데하이드(78ml, 0.94몰)를 7분에 걸쳐 가한다. -70℃에서 20분동안 교반한 후, 1시간 동안 혼합물이 점차적으로 -20℃까지 따뜻하게 되면, 혼합물을 -70℃까지 재냉각하고 조심스럽게 포화 NH₄Cl(초기 포오밍)로써 급냉하고, 순환온도까지 따뜻하게 하고 200ml CH₃COOH 및 100ml H₂O로 희석시킨다. 두층계(layer system)를 NaCl₂과 포화시킨다. 수성층을 분리하고 500ml 에테르로 2회 추출한다. 원래의 유기층과 에테르 추출물을 합성하고 250ml 포화 NaHCO₃로 4회 세척하고 MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑시켜 잔사를 대기압에서 증류한다 :

비등점 : 133 내지 137℃,¹H-nmr(CDCl₃) 델타(ppm) : 5.53(착화물 m, 2H), 3.93(m, 1H), 2.26(s, 1H), 1.71(d, 3H), 1.43(m, 2H), 0.84(t, 3H).

[제조예 2]

글리실-D-알라닌 벤질 에스테르 하이드로클로라이드

10g(57밀리몰)의 N-

-부틸옥시-카르보닐 글리신, 20g(57밀리몰)의 D-알라닌 벤질 에스테르 p-톨루엔 황산염 및 5.77g(57밀리몰)의 트리에틸아민을 함유하는 100ml 메틸렌 클로라이드의 냉각(℃) 용액에 12.3g(60밀리몰)의 디사이클로헥실카르보디이미드를 가하고 얻어진 반응 혼합물을 상온까지 상승하도록 따뜻하게 한다. 18시간후 혼합물을 여과하고 여과액을 진공상태로 농축시킨다. 잔사를 200ml의 에틸 아세테이트로 용해시키고 유기층을 2.5% 염산, 물, 포화 중탄산 나트륨 용액 및 소금 용액으로 세척한다. 유기층을 분리하고 황산 마그네슘상에서 건조시키고 감압하에서 증발시킨다. 얻어진 오일에 수소 염화물과 포화된 200ml의 디옥산을 가한다. 30분후 400ml의 디에틸 에테르를 가하고 생성물(10.9g(70% 수율))을 질소하에서 여과시킨다.

[제조예 3]

N-

-부톡시카르보닐-D-감마-글루타밀(알파벤질에스테르)하이드로석신아미드 에스테르

50g(143밀리몰)의 N-

-부톡시카르보닐-D-감마-글루탐산 알파-벤질 에스테르 및 17.3g(150밀리몰)의 N-하이드록시석신아미드를 함유하는 1500ml 메틸렌 클로라이드에 30.9g(15밀리몰)의 디사이클로헥실카르보디이미드를 가하고 얻어진 반응 혼합물을 18시간 동안 상온에서 교반시킨다. 고체를 여과하고 여과액을 진공상태에서 농축시킨다. 잔사를 디에틸 에테르와 동결건조시키고 고체(48.7g(68% 수율))을 질소하에서 여과한다.

[제조예 4]

D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 벤질 에스테르 하이드로클로라이드

100ml의 메틸렌 클로라이드중에 4.3g(9.45필리몰)의 N-

-부톡시카르보닐-D-감마-글루타밀(알파벤질 에스테르)하이드록시석신아미드 에스테르, 2.71g(9.92밀리몰)의 글리실-D-알라닌 벤질 에스테르 하이드로클로라이도 및 1.0g(9.92밀리몰)의 트리에틸아민을 함유하는 용액을 상온에서 18시간 동안 교반시킨후, 진공상태에서 농축시킨다. 잔사를 200ml의 에틸 아세테이트에 용해시키고 용액을 2.5% 염산, 물, 10% 탄산칼륨 및 소금물 용액으로 세척한다. 유기상을 분리하고, 황산 마그네슘상에서 건조시키고 감압하에서 증발시킨다. 잔사를 염화수소화 포화된 200ml의 디옥산으로 처리하고 2시간 동안 교반시킨다. 용액을 진공상태에서 건조상태가 되도록 농축시키고 잔사를 디에틸 에테르로 연마한다. 고체를 질소 3.41g(73%수율)하에 여과한다.

동일한 방법으로 앞 제조예 및 글리실-D-알라닌 부틸 에스테르의 생성물을 D-감마-글루타밀(알파 벤질 에스테르)-글리실-D-알라닌 부틸 에스테르로 전환한다.

[제조예 5]

라세믹 트랜스-4-헵텐-3-올

제조예 1의 방법으로, 단 용매로서 통상의 에테르를 사용하는 것을 제외하고 2-펜텐날(25g, 0.30몰)을 증류된 표제 생성물(25.6g, 비등점 145 내지 150℃)로 전환시킨다.

[제조예 6]

0-(t-부틸디메틸실릴)-S-시트로넬롤

교반기, 온도계, N₂유입부 및 첨가 깔때기가 장치된 500ml 4-구 환저 플라스크에서, S-시트로넬롤(547g, 3.5몰)을 순환온도(21℃)에서 547ml DMF(디메틸포름아미드)에 용해시킨다. 이미다졸(262, 1g, 3.85몰, 1.1당량)을 가한다. 온도를 13℃까지 내린후 추가로 아이스/아세톤 수조로써-6.5℃까지 떨어뜨린다. 1160ml DMF에 t-부틸 디메틸클로로실란(580.3g, 3.85몰)을 1.25시간에 걸쳐 가한후 고속으로 교반시켜 용해시킨 후 동일 시간 동안 온도를 11℃로 서서히 상승하도록 한다. 추가의 0.25시간후, tlc(3 : 1 헥산 : 에테르)는 원하는 생성물(출발물질의 Rf 0.2 : 생성물의 Rf 0.9)로 완전히 전환됐음을 보여준다.

분리하기 위해, 혼합물을 500ml헥산 및 1000ml얼음물에 가한다. 층을 분리하고 유기층을 얼음으로 냉각된 2000ml 0.25N NaOH로 세척한다. 두 수성층을 합성하고 500ml헥산으로 역류시키고 원래의 유기층과 합성하고, 500ml포화 NaHCO₃로 세척하고, MgSO₄상에 건조시키고 스트립핑하여 정량적 수율의 표제 생성물(986.7g, 용매의 미량 보유때문에 이론치의 104%)을 생성한다 :

¹H-nmr(CDCl₃) 델타 (ppm) : 5.2(t, J=7Hz=

), 3.65(t, J=6.5Hz, -O-

-)), 1.7과 1.65(2S, 2=C(

)), 0.8(s, -SiC(

)₃), 및 0.0(s,-Si(

)₂).

[제조예 7]

S-6-(t-부틸 디메 틸시릴옥시 )-4-메틸헥사날

기계적 교반기,O₃/O₂스트림을 위한 직선 유리 유입부, 온도계 및 포화 KI트랩과 연결된 방출부가 장치된 500ml, 4-구 환저플라스크에 앞 제조예의 생성물(81.2g, 용매 함량에 대한 정확한 수치, 0.30몰)을, 120ml CH₂Cl₂및 81ml CH₃OH에 용해시킨다. NaHCO₃(6.3g, 0.075몰, 0.25당량)을 가하고 혼합물을 아세톤/드라이 아이스 수조에서-10℃까지 냉각한다. 온도를 더욱 떨어뜨려-72℃ 내지-75℃로 유지하여 O₃/O₂를 반응내에 6시간 동안 버블 시킨다. 1시간 못되어, O₃가 더 이상 반응혼합물에 횹수되지 않는데KI트랩내에 노란색 형성에 의해 알수 있다. 헥산 용리제로서 tlc는 반응이 완결됐음을 보여준다(출발물질의Rf 0.3 : 중간물질의 Rf 0.0).

반응혼합물을 N₂와 함께 과량의 O₃로 퍼어징(Purging)하고 디메틸 설파이드(26.4ml, 22.4g, 0.36몰, 1.2당량)를 가하고, 수조를 제거하고 혼합물을 순환온도까지 따뜻하게 하고 N₂하에서 16시간 동안 교반시키는데, 이 시간내에 tlc(6 : 1 헥산 : 에테르)는 중간 물질이 잔존하지 않음을 보여준다(중간 물질의 Rf 0.8 : 생성물의 Rf 0.05). 그후 혼합물을 스트립핑하고 잔사를 150ml에틸 아세테이트 및 300ml H₂O사이에 분배시킨다. 유기층을 300ml신선한 H₂O로 세척한다. 합성된 H₂O층을 150ml 신선한 에틸 아세테이트로 역류시킨다. 유기층을 합성하고 MgSO₄상에서 건조시키고 궁극적으로 고진공하에 16시간동안 스트립핑하여 오일로서 정량적 수율의 생성물(74.7g, 소량의 용매 오염때문에 이론치의 101.9%)을 생성한다.

¹H-nmr(CDC₁₃) 델타 (ppm) : 9.75(t,

), 3.6(t,J=6Hz, -O-

-), 0.9(s, -SiC(

)₃), 0.0(s, -Si(

)₂) .

[제조예 8]

S-6-하이드록시-4-에틸헥사날

[방법 A]

자기 교반기, 온도계, 포화 KI를 함유하는 기체-세척용기에 연결된 기체 유입관 및 방출관을 250ml 3-구 환저 플라스크에 장치한다. 플라스크에 81ml CH₂C₁₂및 54ml CH₃OH중에 S-시트로넬롤(31.25g, 0.20몰)을 넣어 -8℃까지 냉각시킨다. -2。 및 -10℃사이 온도로 유지하면서 반응을 통해 4.5시간 동안 O₂/O₃을 버블시키면, 이 시간내에 KI용액에 의한 과잉 O₃의 트랩핑(trapping)을 보여주며 반응 혼합물상에 포지티브스타크/KI시험지(Positive Starch/KI Paper test)에 의해 반응이 완결됐음을 보여준다.

반응 혼합물을 -5℃에 유치시키고, N₂로써 퍼이징시키고 메틸 설파`이드(17.7ml, 15.0g, 0.24몰)를 가한다. 반응 혼합물을 순환온도까지 따뜻하게 한후, 16시간 동안 교반시키면, 이 시간내에 용리제로서 이소프로필 에테르를 사용한 tlc가 반응이 완결(s-시트로넬롤의 Rf 0.7 : 생성물의 Rf 0.4)됐음을 보여주며, 마지막으로 용매를 스트립핑하여 오일 50.8g을 수득한다. 오일을 30ml의 에틸 아세테이트 및 25ml H₂O로 희석시키고 단일상을 얻는다. 추가의 150ml 에테르를 가하여 2상을 얻는다. 층을 분리하여 무기상을 25ml H₂O로 2회 세척하고, MgSO₄상에서 건조시키고 스트립핑하여 무색 오일 23.9g을 수득한다. 합성된 수성층을50ml에틸 아세테이트로 2회 추출하고, 추출물을 합성하고, 건조시키고 스트립핑하여 추가의 무색오일 7.8g을 수득한다. 무색오일을 합성하고 추가로 스트립핑하여 표제 생성물(28.3g, 이론치의 108.7%)을 생성하며, 이것은 용매 오염만 제외하면 상술된 것처럼 추가의 반응에 사용하기에 적당한 tlc(상기에 명시됨)로 분명하게 확인할 수 있다.

[방법 B]

제조예 2의 생성물을 상기 실시예 4의 희석황산과 같은 통상적인 방법에 의해 가수분해한다. 표제 생성물을 에틸 아세테이트에 의한 추출로써 분리하고 동시에 상기 방법 A에서처럼 스트립핑한다.

Claims

(a) 티타늄 테트라이소프로폭사이드 및 L-(+)-디이소프로필 타르트레이트의 존재하에, S-엔안티오머를 산화하고 미반응된 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 유지시키기에 충분한 양으로, 라세믹 트랜스-4-헥센-3-올 또는 트랜스-4-헵텐-3-올을 3급-부틸 하이드로 페록사이드와 반응시키고 ; (b) 산의 존재하에서 상기 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 트리[(C₁-C₃)알킬]오르토아세테이트와 축합시켜 (C₁-C₃)알킬 R-3-메틸-4-헵테노에이트 또는 R-3-에틸-4-헵테노 에이트 에스테르를 수득하고 ; (c) 상기 (C₁-C₃)알킬 에스테르를 가수분해하여 상기 R-3-메틸-4-헵테노산 또는 R-3-에틸-4-헵테노 산을 형성시키는 단계를 포함하는 R-3-메틸-4-헵테노산 또는 R-3-에틸-4-헵테노산의 제조방법.
(a) 티타늄 테트라이소프로폭사이드 및 L-(+)-디이소프로필 타르트레이트의 존재하에, S-엔안티오머를 산화하고 미반응된 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 유지시키기에 충분한 양으로, 라세믹 트랜스-4-헥센-3-올 또는 트랜스-4-헵텐-3-올을 3급-부틸 하이드로 페록사이드와 반응시키고 ; (b) 산의 존재하에서 상기 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 트리[(C₁-C₃)알킬]오르토아세테이트와 축합시켜 (C₁-C₃)알킬 R-3-메틸-4-헵테노에이트 또는 R-3-에틸-4-헵테노 에이트를수득하고 ; (c) 상기 (C₁-C₃)알킬 에스테르를 에스테르 가수분해하여 R-3-메틸-4-헵테노산 또는 R-에틸-4-헵테노산을 형성시키고 ; (d) 상기 4-헵토노산을 촉매수소화 반응시켜 상기 S-3-메틸헵타노산 또는 S-3-에틸헵타노산을 생성하거나 ; (e) 상기 (C₁-C₃)알킬 에스테르를 촉매 수소화 반응시켜 (C₁-C₃)알킬 S-3-메틸헵타노에이트 또는 S-3-에틸휀타노에이트를 생성시키고 ; (f) 상기 S-3-메틸헵타노에이트 또는 S-3-에틸헵타노에이트 에스테르를 에스테르 가수분해하여 상기 S-3-메틸헵타노산 또는 S-3-에틸헵타노산을 생성하는 단계를 포함하는 S-3-메틸-헵타노 산의 제조방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, (C₁-C₃)알킬 그룹이 각각 에틸이고 산이 AlCl₃인 방법.
(a) 티타늄 테트라이소프로폭사이드 및 L-(+)-디이소프로필 타르트레이트의 존재하에, S-엔안티오머를 산화하고 미반응된 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 유지시키기에 충분한 양으로, 라세믹 트랜스-4-헥센-3-올 또는 트랜스-4-헵텐-3-올을 3급-부틸 하이드로 페록사이드와 반응시키고 ; (b) Hg(CH₃CO₂)₂의 존재하에 상기 트랜스-R-4-헥센-3-올 또는 트랜스-R-4-헵텐-3-올을 에틸 비닐 에테르와 반응시켜 상응 하는 O-비닐 에테르를 생성하고 ; (c) 반응 불활성 용매중에서 상기 O-비닐 에테르를 가열에 의해 재배열시켜 R-3-메틸-4-헵텐알 또는 R-3-에틸-4-헵텐알을 생성하고 ; (d) 상기 4-헵텐알을 희석 무기산중에서 크롬 무수물로 산화시켜 상기 R-3-메틸-4-헵테노산 또는 R-3-에틸-4-헵테노산을 형성시키는 단계를 포함 하는 R-3-메틸-헵테노산 또는 R-3-에틸-4-헵테노산의 제조방법.
제 4 항에 있어서, 무기산이 황산인 방법.
(a) S-6-하이드록시-4-메틸헥산알 또는 S-6-(실릴보호)하이드록시-4-메틸헥산알을 반응 불활성 용매중의 메틸렌 트리페닐포스포란과 반응시켜 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵탄 또는 S-7-(실릴보호)하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 형성시키고 ; (b) 단계(a)의 생성물이 실릴 보호 그룹을 함유하는 경우, 희석 무기산 중에서 상기 보호 그룹의 가수분해를 별개 단계로, 또는 후속 단계와 동시에 수행하여 상기 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 형성시키고 ; (c) 상기 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 희석 무기산 중의 크롬 무수물과 산화시켜 S-3-메틸-6-헵테노산을 형성시키는 단계를 포함하는 S-3-메틸-6-헵테노산의 제조방법.
제 6 항에 있어서, S-6-하이드록시-4-메틸헥산알이 단계(a)에서 반응물이고, 무기산이 황산인 방법.
제 6 항에 있어서, S-6-(실릴브호)하이드록시-4-헥산알이 단계(a)에서 반응물이고, 단계(b)와(c)는 동시에 수행하며, 실릴보호 그룹은 3급-부틸 디메틸실릴이고, 무기산이 황산인 방법.
(a) S-6-하이드록시-4-메틸헥산알 또는 S-6-(실릴보호)하이드록시-4-메틸헥산알을 반응 불활성 용매중의 메틸렌 트리페닐포스포란과 반응시켜 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵텐 또는 S-7-(실릴보호)하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 형성시키고 ; (b) 단계(a)의 생성물이 실릴 브호 그룹을 함유 하는 경우 무기산 중에서 상기 보호 그룹의 가수분해를 별개 단계로, 또는 후속 단계와 동시에 수행하여 상기 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 형성시키고 ; (c) 상기 S-7-하이드록시-5-메틸-1-헵텐을 희석 무기산 중의 크롬 무수물과 산화시켜 S-3-메틸-6-헵테노산을 형성시키고 ; (d) 상기 6-헵테노산중의 이중결합의 촉매수소화반응에 의해 상기 S-3-메틸헵테노산을 형성시키는 단계를 포함하는 S-3-메틸-헵테노산의 제조방법.
제 9 항에 있어서, S-6-하이드록시-4-메틸헥산알이 단계(a)에서 반응물이고, 무기산이 황산인 방법.
제 9 항에 있어서, S-6-(실릴보호)-하이드록시-4-헥산알이 단계(a)에서 반응물이고, 단계(b) 및 (c)가 동시에 수행되며, 실릴 보호그룹이 3급-부틸디메틸실릴이고 무기산이 황산인 방법.
(a) R-트랜스-3-메틸-4-헵테노산, R-트랜스-3-에틸-4-헵테노 또는 S-3-메틸-6-헵테노산의 활성 형태를 절대 입체화학적 일반식(II)의 화합물과 커플링시켜 절대 입체화학적 일반식(IIIc)의 화합물을 형성시키고 ; (b) 일반식(IIIc)의 화합물을 가수분해시켜 이중결합을 감소시킴과 동시에 벤질 에스테르 그룹(들)을 수소 가수분해 시킴을 포함 하는 절대 입체화학적 일반식(I)의 화합물의 제조방법.

상기식에서, R이 메틸 또는 에틸이고, R⁴및 R⁵은 각각 수소이거나, 또는 R⁴및 R⁵중의 하나가 수소이고 다른 하나가 (C₁-C₆)알킬 또는 (C₆-C₈)사이클로알킬메틸이고, R⁶및 R⁷은 각각 벤질이거나, 또는 R⁶및 R⁷중의 하나가 벤질이고 다른 하나가 (C₁-C₆)알킬 또는 (C₆-C₈)사이클로알킬메틸이고, 대시선의 한쪽 또는 다른쪽(양쪽 전부는 아님)은 이중결합을 나타내며 이중결합이 말단기 6,7-위치에 있으면, R은 메틸이다.
제 12 항에 있어서, 산의 활성 형태가 산 염화물이고 R⁶및 R⁷이 모두 벤질이고 R⁴및 R⁵가 모두 수소인 방법.
절대 입체화학적 일반식(IV)의 화합물 또는 R²및 R³가 수소인 이의 약제학적으로 허용되는 양이온염.

상기식에서, 대시선의 한쪽 또는 다른쪽이 이중결합을 나타내고, R이 메틸 또는 에틸이며 ; R²및 R³가 각각 수소이거나, 또는 각각 독립적으로 (C₁-C₆)알킬, (C₆-C₈)사이클로알킬메틸 또는 벤질이며, 단 여기서 이중결합이 말단기 6, 7-위치에 있으면, R은 메틸이다.
제 14 항에 있어서, R²및 R³가 각각 수소인 화합물.
절대 입체화학적 구조식(V)의 결정형 화합물.
R-트랜스-4-헥센-3-올 또는 R-트랜스-4-헵텐-3-올.
절대 입체화학적 일반식(VI)의 화합물 또는 X가 OH인 산의 다른 활성 형태의 화합물.

상기식에서, R이 메틸 또는 에틸이고, X가 수소, OR¹, OH 또는 C₁이고, R¹이 (C₁-C₃)알킬이다.
제 18 항에 있어서, X가 OH 또는 C₁인 화합물.
절대 입체화학적 일반식(Ⅶ)의 화합물 또는 R⁹이-COOH인 산의 다른 활성 형태의 화합물.

상기식에서, R⁹이-CH₂OR¹⁰,-CH₂OH,-CHO,-COOH 또는-COC₁이고, R¹⁰은 수소 또는 통상적인 실릴 하이드록시 보호 그룹.
제 20 항에 있어서, R⁹가-COOH 또는-COC₁인 화합물.