KR810001139B1

KR810001139B1 - Manufacturing method for electronic photo exposure substance

Info

Publication number: KR810001139B1
Application number: KR7401928A
Authority: KR
Inventors: 긴 이찌로 나릿다; 히데오 엔도; 요시유끼 미무라; 구니오 스기모또; 유지 야마자끼
Original assignee: 후지이 요시오; 가세이 옵토닉스 가부시끼 가이샤
Priority date: 1974-03-23
Filing date: 1974-03-23
Publication date: 1981-09-20

Abstract

내용 없음.No content.

Description

Manufacturing method of electrophotographic photosensitive member

제1도 및 제2도 : 일반적인 전자사진 감광체의 구조1 and 2: structure of a general electrophotographic photosensitive member

제3도 본 발명의 제조방법으로 사용된 전착도포조(電着途布槽)한 예의 약도.3 is an illustration of an electrodeposition coating bath used in the production method of the present invention.

제4도 본 발명의 제조방법에 의해 얻어지는 전자사진 감광판의 제조중에 인가된 전압과, 얻어진 감광층과의 관계를 나타낸 도면.4 is a diagram showing the relationship between the voltage applied during the production of the electrophotographic photosensitive plate obtained by the production method of the present invention and the obtained photosensitive layer.

제5도 본 발명의 제조방법에 의해 얻어지는 전자사진 감광판의, 감광층두께와 어두운 곳에서 +5KV의 코로나 대전시의 표면 전위와의 관계를 나타낸 도면.Fig. 5 is a diagram showing the relationship between the photosensitive layer thickness and the surface potential at the time of corona charging of +5 KV in the dark of the electrophotographic photosensitive plate obtained by the manufacturing method of the present invention.

제6도 본 발명의 제조방법 의해 얻어지는 전자사진 감광체의 암감쇠(暗減衰)(실선) 및 과감쇠(점선)를 나타낸 도면.6 is a diagram showing dark attenuation (solid line) and overdamping (dashed line) of an electrophotographic photosensitive member obtained by the manufacturing method of the present invention.

제7도 광조사하에 절연층을 전착도포한 전자사진 감광도면(a)과 어두운 곳에서 절연층을 전착 도포한 전자사진 감광드럼(b)를 연속 회전하에서 -6KV의 부(-)코로나 대전시킴 경우의 표면 전윙의 변화를 나타낸 도면.FIG. 7-Electrophotographic photosensitive drawing (a) electrodeposited with an insulating layer under light irradiation and electrophotographic photosensitive drum (b) electrodeposited with an insulating layer in a dark place are charged with -6 KV of negative corona under continuous rotation. The figure which shows the change of the surface wing of the case.

본 발명은 새로운 전자사진 감광체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a new electrophotographic photosensitive member.

전자사진 감광체는, 기본적으로 도전성기반(基盤)과 전기도전성 기반상에 형성시킨 전자사진용 광도전체로 이루어진 감광층으로 구성되어었다.The electrophotographic photosensitive member was basically composed of a photosensitive layer composed of an electrophotographic photoconductor formed on a conductive base and an electroconductive base.

대부분의 경우에는, 이 기본적인 구조를 가진 전자사진 감광체가 실제 상으로는 복사에 이용되지만, 감광층 상에 절연층을 가진 구조를 가진 것도 사용된다.In most cases, an electrophotographic photosensitive member having this basic structure is actually used for radiation, but one having a structure having an insulating layer on the photosensitive layer is also used.

제1도는 전자의도전성 기반과 감광층, 제2도는 후자의 도전성기반, 감광층 및 절연층으로 된 전자사진 감광층의 단면을 나타낸 것이다. 즉 제1도 및 제2도에 있어서, 11 및 21은 도전성 기반을 나타낸 것이고 12 및 22는 감광층을 각각 나타낸 것이며 제 2도에 있어서, 23은 절연층을 나타낸 것이다.1 shows a cross-section of an electroconductive base and a photosensitive layer, and FIG. 2 shows an electrophotographic photosensitive layer of the latter conductive base, a photosensitive layer and an insulating layer. That is, in FIGS. 1 and 2, 11 and 21 represent a conductive base, 12 and 22 represent a photosensitive layer, and in FIG. 2, 23 represents an insulating layer.

또, 전자사진 감광체의 형태로서는 도전성기반이 평판인것, 즉 전자사진 감광판과, 도전성기반이 원통 혹은 원주의 것(타원형 등의 원통, 원주가 변형된 것도 포함된다. 이후 원통으로 총칭한다)인 전자사진 감광드럼이 있다.In addition, the electrophotographic photosensitive member may include a conductive base having a flat plate, that is, an electrophotographic photosensitive plate, and a conductive base having a cylinder or cylinder (eg, a cylinder such as an ellipse or a deformation of the cylinder). There is an electrophotographic photosensitive drum.

전자사진 감광판은 광도전체로서 예를들면 ZnO와 같은 분말 광도전체를 사용하고, 이것과 결합체로 이루어진 감광층을, 도전성을 갖도록 처리된 종이 혹근 금속평판등의 도전성 기반사에 도포하여 만든다.The electrophotographic photosensitive plate is made by using a powder photoconductor such as ZnO as a photoconductor, and applying a photosensitive layer composed of a combination thereof to a conductive base yarn such as a paper or metal flat plate treated to have conductivity.

한편 전자사진 감광드럼은 예를 들면 금속셀렌과 같은 광도전체를 종단이 아닌 원통형 도전성 기반상에 진공 증착시켜 만든다. 특히 전자 사진 감광드럼의 경우에는 보통 종이에의 복사, 즉 간접 복사가 가능하고 전자 사진 감광드럼은 반복해서 사용하는데 적합하다.Electrophotographic photosensitive drums, on the other hand, are made by vacuum depositing a photoconductor, such as a metal selenium, onto a cylindrical conductive base, rather than on the end. In particular, in the case of electrophotographic photosensitive drums, copying onto ordinary paper, that is, indirect copying, is possible, and electrophotographic photosensitive drums are suitable for repeated use.

최근에 분말 광도전체를 사용한 감광파에 있어서도 보통종이에의 간접복사에, 감광판을 원통형으로 한것을 사용하고 있다. 이것은 감광판이 그대로 복사지로서 이용되는 직접복사의 여러가지 결점, 즉 복사지가 보통 종이에 비해 무겁고, 또 가격이 비싸며, 복사지상에 써넣는것이 보통 종이에 비해 어려울 뿐 아니라 복사형의 큰트라스트가 낮아지며, 또한 발생장애가 생기기 쉬운점등을 개선하여 좋은 복사를 얻기 위한것이다.Recently, in photosensitive waves using a powder photoconductor, a photosensitive plate having a cylindrical shape has been used for indirect radiation to ordinary paper. This is due to the various drawbacks of direct copying in which the photosensitive plate is used as a copy paper, that is, the copy paper is heavier and more expensive than the plain paper, and it is difficult to write on the copy paper, and the copy type has a low contrast. This is to improve the lighting that is prone to occurrence disorder and to obtain good copy.

분말 광도전체를 사용하여 간접복사를 하기위한 감광판은, 얇븐 금속평판을 도전성기반으로서 하는 것이 많으며, 시제로 복사장치에서는 이 감광판을 원통형의 지지체에 붙여서 사용하고 있다. 이 때문에 이러한 종류의 감광체에서는 이음 자리의 흔적을 없앨수 없으며 간접 복사시에는 부적합하다. 왜냐하면, 감광체상의 이용위치를 규정하는 부속 장치가 필요하고 또 이에 따라 감광체는 그 이용위치가 편기(片寄)하므로써 수명의 면에서도 전체가 평균적으로 이용되고 이온자리가 없는 감광체와 비교해볼 때 불리한 점은 피할 수가 없다.BACKGROUND ART Photosensitive plates for indirect radiation using a powder photoconductor often have a thin metal plate as a conductive base, and in a copying apparatus, a photosensitive plate is attached to a cylindrical support. Because of this, traces of seams cannot be eliminated in this type of photoreceptor and are inadequate for indirect radiation. This is because an accessory device for defining the position of use on the photoreceptor is required and the photoreceptor has a disadvantage in comparison with a photoreceptor having an average use in terms of lifetime and an ion site because the position of the photoreceptor is biased. Inevitable

그러나 상기 구조 및 형태를 가진 전자사진 감광체를 제조하는 방법으로서는 진공증착법. 유도(流途)법침지법, 닥터 플레이트법, 스프레이법등이 있다.However, as a method of manufacturing the electrophotographic photosensitive member having the above structure and shape, vacuum deposition method. Induction method immersion method, doctor plate method, spray method and the like.

그러나 진공 증착법은 감광층을 진공중에서만들기 때문에 값비싼 장치가 필요하고 증착의 제어가 어려우며 얻어진 감광체의 특성에 불균일이 많아지는 등의 결점이 있다. 또 사용한 광도전체에 대해서도 제어 조건이 극히 복잡한 결점이 있다. 예를들면 cds, cu 와 같은 미량의 부활제(付活劑)를 열처리하여 첨가하지 않으면 양호한 전자사진용 광도전체를 얻을수 없으며 진공증착법 의해 양호한 특성을 가진 감광체를 얻기가 극히 곤란하다.However, the vacuum evaporation method requires a costly device because the photosensitive layer is made in a vacuum, it is difficult to control the deposition, and there are drawbacks such as unevenness in the characteristics of the obtained photoconductor. Moreover, the used photoconductor also has the disadvantage that control conditions are extremely complicated. For example, a good electrophotographic photoconductor cannot be obtained unless a small amount of activators such as cds and cu are heat treated and it is extremely difficult to obtain a photosensitive member having good characteristics by vacuum deposition.

또 유도법, 침지법, 닥터플레이트법, 스프레이법은 도면의균일성, 막두께의 균일성, 도포면 및 도포막의 재현성, 용제 사용에 의한 화재 및 인체에의 장애등 문제성이 많다.특히 이은 자리가 없는 감광드럼을 얻기 위해서는 운통기반 상에 직접도포할 경우 문제점 많고, 진공 증착법, 스프레이법 이외에는 실시 되지 않는 실정이다.Induction method, immersion method, doctor plate method, and spray method have many problems such as uniformity of drawing, uniformity of film thickness, reproducibility of coating surface and coating film, fire by using solvent and obstacle to human body. In order to obtain a photosensitive drum, there are many problems when applying directly on a transport base, and the vacuum deposition method and the spray method are not performed.

스프레이법을 이용한 제조방법으로서는 일본특허공보 43-14514호에 공고되어 있지만, 이 방법도 아주 우수한 것은 아니다. 왜냐하면 가연사용제를 사용하여 공기중에서 도포를 하므로서 먼지가 들어가고, 이것이 감광체 표면의 평활성에 악영향을 주며, 전자사진 감광체에서는 전기적인 특정이 중시되는데 결합제와 광도전체와의 혼합비가 전기적 특성에 의해 엄밀히규정 되어 도포 특성이 거의 없어지며 또한 재현성이 나쁘기 때문이다.As a manufacturing method using the spray method, it is disclosed in Japanese Patent Publication No. 43-14514, but this method is also not very excellent. This is because dust is introduced by applying in the air using a flammable agent, and this adversely affects the smoothness of the surface of the photoconductor. In the electrophotographic photoconductor, the electrical specificity is emphasized. This is because the coating properties are almost lost and the reproducibility is bad.

본 발명은 상술한 여러 제조방법이 가진 결점을 제거한 새로운 전자사진 감광체의 제조방법을 제공하는데 있다.The present invention is to provide a method for manufacturing a new electrophotographic photosensitive member to remove the drawbacks of the above-described various manufacturing methods.

또, 본발명은, 분말광도체를 사용하여 도전성기반이 평판인 경우는 물론, 원통인 경우에서도, 이온자리가 없는 전자사진 감광체의 제조방법을 제고하는데 있다. 즉, 본발명자들은 전자사진 감광체의 제조에 있어서, 전착도포법을 사용함으로써 상술한 종래법의 결점을 제거할 수가 있고, 도전성 기반이 평판인 경우는 물론, 원통인 경우에 있어서도 전혀 이온자리가 없는 전자사진 감광체를 얻을수가 있음을 발견하였다.In addition, the present invention provides a method for producing an electrophotographic photosensitive member having no ion sites, even when the conductive base is a flat plate as well as a cylinder using a powder photoconductor. That is, the present inventors can eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional method by using the electrodeposition coating method in the production of the electrophotographic photosensitive member, and there is no ion site even when the conductive base is a flat plate as well as a cylinder. It has been found that electrophotographic photosensitive members can be obtained.

전착도포법은, 결합제인 수용성 수지 또는 수분산성수지와 안료로된 수성도료를 너흔 용기내에 피도물(被塗物)을 침지시켜 양극으로 하고, 이양극과응기 자체 또는 따로 설치한 음극과의 사이에 전류를 통하여 수성도료를 양극상에 전기적으로 부착시키는 방법이다.In the electrodeposition coating method, an aqueous coating made of a water-soluble resin or a water-dispersible resin and a pigment as a binder is immersed in a container to make a positive electrode, and the positive electrode is separated from the positive electrode and the negative electrode installed separately. It is a method of electrically attaching an aqueous paint on an anode through a current.

본 발명은 상술한 전착도포법의 특징을 전자사진 감광체의 제조방법으로 활용한 것이고 수용성수지 또는 수분산성수지에 분말 광도전체를 분산시킨 것을 수성도 료로서 사용한다. 또 전자사진 감광체의 기반으로된 도전성 평판 또는 도전성 원통을 직접 피도물 즉 양극으로 한다.The present invention utilizes the characteristics of the electrodeposition coating method described above as a method for producing an electrophotographic photosensitive member, and uses a dispersion of a powder photoconductor in a water-soluble resin or a water-dispersible resin as an aqueous paint. In addition, a conductive plate or a conductive cylinder on which the electrophotographic photosensitive member is based is directly used as a workpiece, that is, an anode.

제3도는 본 발명에 사용되는 전착도포조의 일례를 개략적으로 나타낸 것이다.3 schematically shows an example of the electrodeposition coating bath used in the present invention.

제3도에 있어서, 31은 양극 즉 피도물이고, 32는 대향(對向) 전극이다.In Fig. 3, 31 is an anode or a workpiece, and 32 is an opposing electrode.

33은 전국 31,32사이에 필요한 전압을 걸위한 직류전원이고, 정극은, 양극 31인 도전성기반에, 음극은 대향전극 32에 각각 접속되어 있다. 34는 광조사를 위한 광원(후슬함), 35는오버 플로우(over flow)층, 36은 도료를 순환시키기 위한 펌프, 37은 도료를 가열 호근 냉각하기 위한 열교환기, 38은 과잉아민 및 무기 불순물 이온을 제거하기 위한 이온 교환장치를 나타낸 것이다.33 is a direct current power source for applying the necessary voltage between 31 and 32 nationwide. The positive electrode is connected to the opposite electrode 32 on the conductive base of the anode 31. 34 is a light source for light irradiation, 35 is an overflow layer, 36 is a pump for circulating paint, 37 is a heat exchanger for heating and cooling the paint, 38 is excess amine and inorganic impurities An ion exchange apparatus for removing ions is shown.

본 발며의 전착도포법에 있어서는, 양전극간에 수십-수백 볼트의 전압을 인가(印加)하므로써 양극에서 도전성기반의 음극에 가까운 부분에서 도폭 진행하여, 극사이의 거리가 먼 미도포 부분에도 도포된다.In the electrodeposition coating method of the present invention, by applying a voltage of several tens to hundreds of volts between the positive electrodes, the electrode proceeds at a portion close to the conductive-based negative electrode at the positive electrode, and is also applied to the uncoated portion at a distance between the poles.

이것은 도포된 부분의 저항이 점차로 증가함으로써 이부분의 도포가 지연되고 드디어는 종료되며 낮은저항으로 남아있는 미도포 부분의 도포가 촉진되기 때문이다. 그결과, 최종적으로는 양극 즉 도전성평판 혹은 도전성원통상에, 안료료서 분말 광도전체를 함유한 수성도르의 균일한막, 즉 감광층이 형성된다.This is because the resistance of the coated portion is gradually increased, thereby delaying the application of the portion, finally ending, and facilitating the application of the uncoated portion remaining with low resistance. As a result, a uniform film of an aqueous phase containing a pigment material powder photoconductor, that is, a photosensitive layer, is finally formed on the anode, that is, the conductive flat plate or the conductive cylinder.

더우기 도전성 기반이 평판인 경우, 다른면에도 도막이 형성되므로, 도전성평판을 2배 겹쳐 놓으므로써 2매의 감광판을 한번에 얻을수가 있다.Furthermore, when the conductive base is a flat plate, a coating film is formed on the other side, so that the two photosensitive plates can be obtained at once by stacking the conductive flat plates twice.

또 원통의 경우에는 감광층을 형성시키는 면이외는 접착절연 테이프로 가리는등의 마스킹을 하는 것이 바람직하다.In addition, in the case of a cylinder, masking, such as covering with an adhesive insulating tape, is desirable except for the surface which forms a photosensitive layer.

이상 감광층을 도전성평판 혹은 도전성원통에 전착 도포함으로써 제1도와 같은 구조를 가진 감광체를 얻는 방법을 주로 설명했지만, 본발명자들은,전착도포 혹은다른 방법으로 도포된 감광층의 광도전체의 특성을 유효하게 이용하여, 전착도포법에 의해 감광층상에 다시 절연층을 부착시키수가 있음을 발견하였다. 즉 일반적은 전착도포법에서는 두번칠하는 것 아주 곤란하고, 또 결합제만을 추가 전착도포하는 것은 별의의가 없으나 이것을 전자사진 감광체로서 생각할 때 절연층으로서 중요한 의미가 있는 것은 착안하여, 제1도에 표시한 도전성기반 및 감광층으로된 구조를 가진 감광체를 다시 수용성수지 혹은 수분상성수지만이 있는 전착도포조에 넣고, 전술한 감광층의 경우와 같이 전착도포를 행하여 본바 극히 양호한 결과를 얻었다.The method of obtaining the photosensitive member having the structure shown in FIG. 1 by electrodeposition-coating the photosensitive layer on the conductive plate or the conductive cylinder has been mainly described. However, the present inventors have effectively applied the characteristics of the photoconductor of the photosensitive layer coated by electrodeposition coating or other methods. It was found that the insulating layer could be adhered again on the photosensitive layer by the electrodeposition coating method. In general, it is very difficult to apply the coating twice in the electrodeposition coating method, and it is not significant to apply only the electrodeposition of the binder. However, it is important to consider that it is important as an insulating layer when considering this as an electrophotographic photosensitive member. The photoconductor having the structure of the electroconductive base and the photosensitive layer indicated was placed in an electrodeposition coating bath containing only a water-soluble resin or a water-soluble resin, and electrodeposition coating was carried out as in the case of the photosensitive layer described above to obtain extremely good results.

이때, 피도물에 수천룩스의 빛이 골고루 조사되는 것이 바람직하다. 이것은 골고루 광조 사함으로써 감광층의 광도전체에 저항이 내려가는 것을 이용한 것으로 이결과 다시 전착 도포를 진행 시키도록 한 것이다.At this time, it is preferable that even light of thousands of lux is irradiated to the object. This is to use the resistance to the photoconductor of the photosensitive layer by light irradiation evenly, as a result of the electrodeposition coating to proceed again.

실험에 의하면, 절연층도포시의 인가전압은, 감광층의 도포시 인가전압과 같거나 혹은 그이상인 것이 바람직하다. 특히 이 절연층 도포의 결우 도포액의 불순물의 영향이 크기 때문에 희석제로서 사용된 순수한 무른 정제할 필요가 있으며 그비저항은 10Ωcm 이상인 것이 바람직하다. 수지 순도도 이와 같이 높은편이 바람직하며, 또한 광추과성이 우수한 수성수지 혹은 수분산성 수지를 선택할 필요가 있다.According to the experiment, it is preferable that the applied voltage at the time of coating the insulating layer is equal to or higher than the applied voltage at the time of coating the photosensitive layer. In particular, it is necessary to purify pure soft used as a diluent because the influence of impurities in the coating liquid of this insulating layer is large, and the specific resistance thereof is preferably 10 cm 3 or more. The higher the resin purity is, the more preferable it is, and it is necessary to select an aqueous resin or a water-dispersible resin excellent in light transmissivity.

본발명에 있어서 광도전층 혹은 절연층 형성용의 결합제로서 사용되는 수용성 수지 혹은 수분산성 수지로서는 아크릴수지, 에폭시수지, 페놀수지등 혹은 상기각수지에 가교 제로서 멜라민 수지등을 가한 것을 사용한다. 특히 바람직한 것은 유기 아민 호근 암모니아로 중하시켜서 완전히 들에 용해되어 투명한 액을 형성하는 수용성 수지를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, as the water-soluble resin or the water-dispersible resin used as the binder for forming the photoconductive layer or the insulating layer, an acrylic resin, an epoxy resin, a phenol resin, or the like, in which melamine resin is added as a crosslinking agent, is used. It is particularly preferable to use a water-soluble resin which is neutralized with organic amine amine ammonia and completely dissolved in the field to form a transparent liquid.

본 발명에서의 수용성 수지로서는 유기 아민 혹은 암모니아로 중화한 경우, 수지산염으로 되어 완전히 물에 용해하는 것이며 또 수분산성 수지로서는 물에 녹지 않거나 일부만이 녹는 수지를 적합한 계면활성제등을 사용하여 물에 분산시킨것 등이다.As the water-soluble resin in the present invention, when neutralized with organic amine or ammonia, it becomes a resinate and completely dissolved in water. As a water-dispersible resin, a resin which is insoluble in water or partially dissolved in water is dispersed in water using a suitable surfactant or the like. Etc.

또 본발명에 사용되는 분말광도전체는 전자사진용 감광체로서 사용할 경우와 같은 광도전 특성을 가지고 있어야 하는 것은 말할 필요도 없지만, 다음에 설명하는 바와 같은 여러 특성에 조건이 따른다.In addition, it goes without saying that the powder photoconductor used in the present invention should have the same photoconductive properties as when used as an electrophotographic photosensitive member, but the conditions are subject to various characteristics as described below.

첫째는 입자직경인데, 입자직경이 너무 큰 경우에는 분산액에서의 침강이 빨라지므로 바람직하지 않다.The first is the particle diameter, which is not preferable if the particle diameter is too large because the sedimentation in the dispersion is faster.

둘째는 결합제인 수용성수지 혹은 수분산성 수지와의 ＂친화성＂이다. 이 ＂친화성＂을 수치로서 표시한 것으로서는 JIS(일본공업규격) K 5101-1957에 규정된 흡유량(吸油量)이 있다. 흡유량이 커지면 결합제와의 응집이 현저해지고, 전착도포가 곤란하게 된다. 또 흡유량이 작은경우에는 응집은 없지만, 분말 광도전체의 결합제로서의 분리 침강이 현저해지고, 또 전착 도포가 곤란해진다.The second is "affinity" with the water-soluble resin or water-dispersible resin as a binder. As a numerical value of this "affinity", there is an oil absorption amount specified in JIS (Japanese Industrial Standard) K 5101-1957. When the oil absorption amount is large, aggregation with the binder becomes remarkable, and electrodeposition coating becomes difficult. When the oil absorption amount is small, there is no aggregation, but sedimentation and sedimentation as a binder of the powder photoconductor becomes remarkable, and electrodeposition coating becomes difficult.

본 발명에 전자사진 감광체의 제조방법으로 사용되는 분말 광도전체로서 Cds : Cu계 광도전체에 대해 예시하면 다음과 같다. 즉 Cds : Cu 광도전체는 생분(生紛)에 Cu를 소요량 첨가하여 처리함으로써 얻을수 있지만 , Cu의 첨가량은 CdS 1g에 대해 10^-3g 내지 10^-3g의 범위의 것이 바람직하다.Examples of the powder photoconductor used in the method of manufacturing an electrophotographic photosensitive member according to the present invention are as follows. That is, the Cds: Cu photoconductor can be obtained by adding a required amount of Cu to the raw meal and treating it, but the amount of Cu added is preferably in the range of 10 ^-3 g to 10 ^-3 g per 1 g of CdS.

Cu의 첨가량이 이 범위를 벗어나면 광감도가 낮게 되고 전자사진용 광도전체로서 부적합하다. CdS가 ZnS에 의해 0내지 30중량%의 범위로 치환되는 것이 바람직하다If the added amount of Cu is out of this range, the photosensitivity becomes low and is not suitable as an electrophotographic photoconductor. It is preferable that CdS is substituted by ZnS in the range of 0 to 30% by weight.

본 발명자의 상세한 실허메 의하면 CdS를 ZnS로 상술한 범위에서 치환시키면, 치환중량에 따라서 모체의 특성 변화하므로, 이것을 사용한 전자 사진감광체는 그 분광감도 특성이 변화되여 특색있는 감광체를 얻을수가 있다. 그러나 ZnS의 치환량이 30중량%를 초과하면, 광에 대한 감소가 현저히 저하하고 전역(前歷)현상이 현저해져서 감광체의 광감도의 저하가 일어남과 동시에 감광체의 반복사용에 저장을 받는것등이 판명되었다.According to the detailed description of the present inventors, when CdS is substituted with ZnS in the above-described range, the characteristics of the mother change depending on the substitution weight, so that the electrophotographic photosensitive member using the same changes the spectral sensitivity characteristic and thus obtains a characteristic photosensitive member. However, when the substitution amount of ZnS exceeds 30% by weight, the decrease in light is markedly reduced and the global phenomenon becomes remarkable, resulting in a decrease in light sensitivity of the photoconductor and storage for repeated use of the photoconductor. It became.

상기 전역 현상은, 일단 감광체에서 나오는 잠상이 쉽게 소멸되지 않고, 반복 사용할 시에 그 잠상이 새로운 잠상과 중첩하는 현상이다. 이것이 생기면 산분말형상제(공여체)로 현상된 경우, 복사상이 이중으로 현상된다. 또 전자사진 작상(作像) 공정중에 인가(印加)되는 전압 범위내 임의의 2점의 인가전압에 비교할 때, 기점으로 하는 인가전압보다도 3배 높은 인가전압의 암전류기, 기점으로 하는 인가전압의 암전류에 비해 10배 이상인 암전류의 전압 의존성이 바람직하다.The global phenomenon is a phenomenon in which the latent image emerging from the photosensitive member is not easily extinguished, and the latent image overlaps with the new latent image upon repeated use. When this occurs, when developed with an acid powder (donor), the radiated image is developed in duplicate. In addition, when compared to an applied voltage of any two points within a voltage range applied during an electrophotographic imaging process, a dark current device having an applied voltage three times higher than the applied voltage as a starting point, and an applied voltage as a starting point The voltage dependence of the dark current 10 times more than the dark current is preferable.

만일 이 조건이 만족되지 않는 Cds : Cu계 광도전체를 사용할 경우는, 얻어지는 감광체의 잠상 콘트라스트가 저하됨과 동시에, 해상력(解像力)이 저하되며 바람직하지 않은 결과가 나타난다.If a Cds: Cu-based photoconductor in which this condition is not satisfied is used, the latent image contrast of the resulting photoconductor is lowered, and the resolution is lowered, resulting in undesirable results.

입자직경 및 함유량에 대해서 다시설명하면, 평균입자직경은 비중천칭법에 따라 측정한 경우, 8미크론이하인 것이 바람직하다. 이 값보다도 평균 입자직경이 큰 경우에는 결합제중에 분산되었을 때, 입자의 침강속도가 빨라지고 충분한 전착도포가 행해지지 않으며 양호한 도포막을 얻을 수 없게 된다. 또 입자직경이 큰 경우에는 전자사진 감광체에 적용하였을 때, 일반적으로 해상력이 저하된다. 흡유량은 25에서 50의 범위의 것이 양호하다. 흡유량이 50보다 크면 음집이 현저히 일어나고, 또 흡유량이 25보다 작으면 결합제에서의 입자의 분해 침강이 현저해지며 또한 어느 경우에서나 전착도포는 곤란해진다.When the particle diameter and content are explained again, it is preferable that an average particle diameter is 8 microns or less, when measured by the specific gravity balance method. When the average particle diameter is larger than this value, when dispersed in the binder, the settling speed of the particles is increased, sufficient electrodeposition coating is not performed, and a good coating film cannot be obtained. In addition, when the particle diameter is large, the resolution is generally reduced when applied to an electrophotographic photosensitive member. The oil absorption amount is preferably in the range of 25 to 50. If the oil absorption amount is greater than 50, sound collection occurs remarkably, and if the oil absorption amount is less than 25, decomposition and sedimentation of particles in the binder becomes remarkable, and in any case, electrodeposition coating becomes difficult.

본 발명의 전자사진 감광체의 제조방법에서는 전기 화학적 원리에 따라 도막 저하에 의해 도포조건을 조절함으로써 도포면의 균일성, 막두께의 균일성 및 이들의 재현서, 도포 되지 않은 부분등 종래의 제조방법의 결점이 극복되는 특징이 있다.In the manufacturing method of the electrophotographic photosensitive member of the present invention, the coating conditions are adjusted by lowering the coating film according to the electrochemical principle, thereby improving the uniformity of the coated surface, the uniformity of the film thickness and their reproducibility, and the uncoated parts. There are features that overcome the drawbacks.

또 전극인가 전압, 전극간의 비저항등 도포조건의 제어를 집중적으로 할 수 있고, 다른 제조방법에 비해 도포조건의 제어가 아주 쉬우므로, 요구되는 막의 두께를 간단하게, 재현성이 좋도록 얻을 수 있다.In addition, the control of the coating conditions such as the electrode application voltage and the specific resistance between the electrodes can be centralized, and the control of the coating conditions is very easy compared to other manufacturing methods, so that the required thickness of the film can be obtained simply and with good reproducibility.

또, 종래의 제조방법에 있어서는 결합제의 희석제로서 인화 폭발의 위헙성을 가진 유해성 유기 용매를 사용하지 않으면 안되었지만, 본 발명의 제조방법에 있어서는 도포물을 물로 희석하기 때문에, 화재 및 인체에의 악 영향의 위험성 전혀 없다. 더욱이 본 발명의 전자사진 감광체의 제조방법 도포조내에서 도포가 종료될때에 이미 도포막이 견고히 되어 있으므로, 예를들면 스프레이법과 같이 도포 종료후의 건조시에 도포막이 손상을 받을 우려가 적으며 물로 세척하여도 침지법과는 반대로 도포막이 흩어져 흘러내리는 일도 없다.In addition, in the conventional manufacturing method, a hazardous organic solvent having a risk of ignition explosion must be used as the diluent of the binder. In the manufacturing method of the present invention, since the coating is diluted with water, it is harmful to fire and human body. There is no risk of impact. Furthermore, since the coating film is already hardened when the coating is finished in the coating method of the electrophotographic photosensitive member of the present invention, the coating film is less likely to be damaged during drying after the coating is finished, such as, for example, a spray method, and even if washed with water. Contrary to the immersion method, the coating film does not scatter and flow down.

본 발명의 제조방법에 의해 얻어지는 전자사진 감광체는, 그 감광층에 분말광도전체가 극히 밀집하여 있기 때문에, 흠이 나기 어렵다. 그위의 도포막은 아주 견고하기 때문에, 종래 방법 의한 감광체에 비해 감광체의 마모가 적고, 반복사용하는데 적합하며 수명이 길다. 특히 본발명의 제조방법에 의한 전자사진 감광드럼은 이은자리가 없고 또 종래와 같은 감광판을 드럼에 부착시킨 것이 아니므로, 그 제조 공정이 대폭적으로 간략화 된다. 또 본발명의 제조방법에 의한 절연층을 가진 전자사진 감광체는 이 절연층이 종래의 감광체와 같이 유기 접착제로 부착시킨 것이 아니므로 유기접착제의 변질에 의한 감광체의 성능저하, 혹은 절연층 접착시의 유기접착제의 불균일에 기인하는 화상의 불균일등 종래의 절연층을 가진 감광체가 가진 결점이 전혀 나타나지 않는다.The electrophotographic photosensitive member obtained by the manufacturing method of the present invention is hardly flawed because the powder photoconductor is extremely dense in the photosensitive layer. Since the coating film thereon is very strong, the wear of the photoconductor is less than that of the conventional photoconductor, suitable for repeated use, and long life. In particular, the electrophotographic photosensitive drum according to the manufacturing method of the present invention has no connecting portion and the conventional photosensitive plate is not attached to the drum, so the manufacturing process is greatly simplified. In addition, the electrophotographic photosensitive member having the insulating layer according to the manufacturing method of the present invention is not attached to the organic photosensitive adhesive like the conventional photosensitive member. The defect which the photosensitive member which has the conventional insulating layer, such as the image nonuniformity resulting from the nonuniformity of an organic adhesive, does not appear at all.

이상 제1도 혹은 제2도에 표시와 같은 도전성 기반과 감광층 혹은 도전성기반, 감광층 및 절연층으로 구성된 일반적인 전자사진 감광체에 대해 본 발명을 설명했지만, 본 발명의 제조방법을 상술한 일반적인 구조를 갖는 전자사진 감광체의 여러가지 변형 제조에도 적용할 수 있다.Although the present invention has been described above with respect to a general electrophotographic photosensitive member composed of a conductive base and a photosensitive layer or a conductive base, a photosensitive layer, and an insulating layer as shown in FIG. 1 or FIG. 2, the general structure in which the manufacturing method of the present invention is described above. It can also be applied to the production of various modifications of the electrophotographic photosensitive member having.

이하 실시예에 의해 본 발명을 상세히 설명한다.The present invention will be described in detail by the following examples.

[실시예1]Example 1

평균 입자직경 4미크론, 흡유량 33인 전자사진용 Cds : Cu 광도전체 분말 (Cu의 부활량(付活量)은 (10^-4g/g)을 수용성 아크릴수지 246A(다이닛뽕도료제)와 결합제인 멜라민 수지 1116(일본 카바이트제)으로 된 수용성 수지에 분산시켰다.Electrophotographic Cds: Cu photoconductor powder with an average particle diameter of 4 microns and an oil absorption of 33 (Cu's activator amount is (10 ^-4 g / g) to a water-soluble acrylic resin 246A (Dainippon paint) It disperse | distributed to the water-soluble resin which is made of phosphorus melamine resin 1116 (made by Japan Carbite).

분사는 롤밀을 사용하여 행하고 도료의 수용액 농도는 15중량%로 했다. 더우기 멜라민 수지의 아크릴 수지에 대한 배합비는 20중량%로 했다. 또 결합제와 전자사진용 CdS : Cu 광도전체 분말과의 혼합비는 중량비로서 결합제 고형분으로 환산하여 1/3로 했다. 더우기 이 혼합비는 1/2내지 1/6의 범위인것이 바람직하다. CdS : Cu 광도전전체 분말에 대한 결합제 고형분량이 1/2보다 클경우에는, CdS : Cu 광도전체 분말에 대한 결합제의 양이 많아지기 때문에 얻어지는 도포막( 즉 감광층)의 광감도가 현저히 저하하여 바람직하지 않다. 또 1/6보다 작을 경우에는 전착도포가 불가능하게 된다. 이것은 결합체가 많기 때문에 전계(電界)의 결합제에 대한 인력이 약해져서 감광층 형성을 불가능하게 하기 때문이다. 상술한 바와 같이 배합조정한 도포액을 제3도에 표시한 것과 같은 전착도포조에 넣고 알미늄 평판 또는 동평판을 양극으로 하고, 금속강을 음극으로하여 감광층의 전착도포를 행하였다. 전극간의 비 저하은 1180Ωcm, 도포액의 pH는 8,9 도포액 온도는 25

C ±2

로 하였다.Spraying was performed using a roll mill, and the aqueous solution concentration of the coating material was 15 weight%. Moreover, the compounding ratio of melamine resin to the acrylic resin was 20 weight%. In addition, the mixing ratio of the binder and the electrophotographic CdS: Cu photoconductor powder was 1/3 in terms of weight ratio of the binder solids. Furthermore, the mixing ratio is preferably in the range of 1/2 to 1/6. When the binder solids content of the CdS: Cu photoconductor powder is larger than 1/2, the amount of the binder to the CdS: Cu photoconductor powder is increased, so that the photosensitivity of the resulting coating film (ie, the photosensitive layer) is considerably lowered. Not. In case of less than 1/6, electrodeposition coating becomes impossible. This is because, because of the large number of binders, the attraction to the binder of the electric field becomes weak, making photosensitive layer formation impossible. The coating liquid adjusted and blended as mentioned above was put into the electrodeposition coating tank shown in FIG. 3, and the electrodeposition application of the photosensitive layer was performed using the aluminum plate or copper plate as an anode, and the metal steel as a cathode. Reduction of the ratio between electrodes is 1180Ωcm, pH of coating liquid is 8,9

C ± 2

It was set as.

양극간에 인가되는 전압은 비저항에 따라 결정되지만, 80V 내지 330V의 범위가 양호하였다.The voltage applied between the anodes was determined depending on the specific resistance, but the range of 80V to 330V was good.

80V 이하에서는 충분한 도포막 (감광층)이 얻어지지 않았다. 상기 조건에서 약 2분간 전착도포를 행한 후 150

C에서 30분간 건조하고, 소부(燒付)를 행하였다. 이와 같이 하여 제1도에 표시한 바와같은 구조를 갖는전자사진 감광판을 얻었다. 하기표는 본 실시예에 있어서 인가전압을 100, 150, 200,250V로 한 경우에 형성되는 감광층의 두께를 표시한다.At 80 V or less, sufficient coating film (photosensitive layer) was not obtained. 150 minutes after electrodeposition coating under these conditions

It dried for 30 minutes at C, and baked. Thus, an electrophotographic photosensitive plate having a structure as shown in FIG. 1 was obtained. The following table shows the thickness of the photosensitive layer formed when the applied voltage is 100, 150, 200, 250V in this embodiment.

제4도의 그래는 상기 표에 표시한 기반이 알미늄 평판의 감광판에 대해 행하여진 인가전압과 전척 도포된 감광층의 두께와의 관계를 표시한 것이다. 이 도면에서도 명백히 나타난 바와같이, 인가전압이 증가하는데 따라서, 감광층의 두께는 직선적으로 증가한다. 따라서 감광층 두께의 제어가 쉽게된다. 제5도는 상기표의 기반의 알미늄 평판의 감광판에 있어서 감광판의 두께와 암중에서 +5KV의 (+)코로나 대전시켰을 때의 감광판의 표면전위와의 관계를 표시한 것이다. 또 제6도의 곡선 a 및 a'는 각각 상기표의 *표의 감광판 암감쇠 및 광감쇠를 표시하는 것이다. 더우기 본 실시예에 있어서 아크릴 수지대신에 수용성 혹 수분산성의에폭시수지, 알키드수지, 페놀수지 등을 사용한 경우도 상기와 거의 같은 결과가 얻어졌다.The graph shown in FIG. 4 shows the relationship between the applied voltage applied to the photosensitive plate of the aluminum flat plate and the thickness of the photocoated layer applied to the base. As is also apparent from this figure, as the applied voltage increases, the thickness of the photosensitive layer increases linearly. Therefore, control of the photosensitive layer thickness becomes easy. FIG. 5 shows the relationship between the thickness of the photosensitive plate and the surface potential of the photosensitive plate when + 5KV (+) corona is charged in the dark in the aluminum plate photosensitive plate based on the above table. Curves a and a 'in Fig. 6 indicate the photosensitive plate dark attenuation and light attenuation of the asterisk in the above table, respectively. Moreover, in the present Example, the same result as the above was obtained also when water-soluble or water-dispersible epoxy resin, alkyd resin, phenol resin, etc. were used instead of acrylic resin.

[실시예 2]Example 2

평균 입자직경이 5.3 미크론, 흡유량이 27인 전자사진용 Cds : Cu 광도전체 분말(Cu의 부활량은 10^-4g/g)을 사용하고, 알미늄 원통기반상에 감광층을 전착 도포했다. 결합제는 실시예 1과 같은 것을 사용하고, 결합제와 CdS : Cu 광도전체 분말과의 혼합비는 중량비로서결합제 고형분으로 환산하여 1/6로 했다. 전극간의 비 저항은 1015Ωcm, 인가전압은 150V이고, 이외의조건은 실시예1과 같이 하였다. 전착 도포후 150

C에서 30분간 건조, 소부(燒付)하여 알미늄 원통 기반상에 30미크론 두께의 감광층을 형성시켰다. 얻어진 감광층을 가진 알미늄 원통기반을, 수용성 수지용액만이 있는 전착도포조에 넣고 골고루 빛을 조사하ㅕ 절연층의 전착 도포를 행하였다.Electrophotographic Cds: Cu photoconductor powders having an average particle diameter of 5.3 microns and an oil absorption of 27 (10 ~ ⁴ g / g of Cu was activated) were electrodeposited and coated with a photosensitive layer on an aluminum cylinder base. The binder was the same as in Example 1, and the mixing ratio of the binder and the CdS: Cu photoconductor powder was 1/6 in terms of weight ratio in terms of binder solids. The specific resistance between the electrodes was 1015? Cm, the applied voltage was 150 V, and the other conditions were the same as those in Example 1. 150 after electrodeposition

Drying and baking for 30 minutes at C to form a 30 micron thick photosensitive layer on the aluminum cylinder base. The aluminum cylindrical base having the obtained photosensitive layer was placed in an electrodeposition application tank containing only a water-soluble resin solution, and evenly irradiated with light to perform electrodeposition coating of the insulating layer.

수용성 수지로는 아크릴 수지 PN-034(미쓰미시레이온계)에 적당량의 아민을 가하여 투명도가 증가된것을 사용 하였다. 첨가한 아민의 양은, 아크릴 수지의 중량%가 적합하다. 아크릴 수지 PN-034 만을 물과 혼합할 경우, 수용액은 백색으로 흐려져서 조사한 빛이 양극의 감광층에 닿는 것을 방해하나 아민을 첨가함으로써 백색 혼탁이 해소되어 투명도가 증가 한다. 그러나 아민의 양이 많아지는 경우에는 비저항의 저하. 카론 효율이 저하 및 아크릴 수지에서의 포립(泡立)이 생기고, 도포막의 재용해, 핀 홀(pin hole) 등의 원인이 된다. 수용성 수지는 비저항이 10⁶

cm 이상의 탈이온수를 사용해서 희석한 20중량%의 수용액 농도로 하여 도포액으로서 사용하였다. 5000룩스의 빛을 골고루 조사하고 전극간에 200V의 전압을 인가하여 약 2분간 전착도포 했다.As a water-soluble resin, an appropriate amount of amine was added to acrylic resin PN-034 (Mitsumishi Rayon) to increase the transparency. As for the quantity of the added amine, the weight% of acrylic resin is suitable. When only acrylic resin PN-034 is mixed with water, the aqueous solution becomes white, preventing the irradiated light from reaching the photosensitive layer of the anode, but by adding amine, white turbidity is eliminated and transparency is increased. However, when the amount of amine increases, the specific resistance decreases. Charon efficiency decreases, the grains in an acrylic resin generate | occur | produce, and it becomes the cause of re-dissolution of a coating film, a pin hole, etc. Water-soluble resins have a specific resistance of 10 ⁶

It was used as a coating liquid by making it the aqueous solution concentration of 20 weight% diluted using deionized water of cm or more. The light of 5000 lux was evenly irradiated and electrodeposition was applied for about 2 minutes by applying a voltage of 200V between the electrodes.

150

에서 30분간 건조, 소부하여, 14미크론 두께의 절연층을 가진 제2도에 표시한 바와 같은구조를 가진 전자사진 감광드럼을 얻었다.150

The sample was dried and baked for 30 minutes at, thereby obtaining an electrophotographic photosensitive drum having a structure as shown in FIG. 2 with an insulating layer of 14 micron thickness.

아크릴 수지 PN-034 대신에 수용성 에폭시수지 S-168-D(다이닛뽕 잉크화학제)를 사용한 경우도 거의 같은 두께의 절연층을 가진 전자사진 감광드럼이 얻어졌다.When the water-soluble epoxy resin S-168-D (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) was used instead of the acrylic resin PN-034, an electrophotographic photosensitive drum having an insulating layer of almost the same thickness was obtained.

빛을 조사하지 않고 전착도포한 경우에는 2 내지 3미크론 두께의 절연층 밖에 형성되지 않는다.In the case of electrodeposition coating without irradiation of light, only an insulating layer having a thickness of 2 to 3 microns is formed.

상술한 바와 같이 빛을 조사하여 전착 도포함으로써 얻어지는 감광드럼에 대하여 +7KV의 정(+) 코로나 대전한 후, 4룩스-초의 조건하에 노광함과 동시에 8KV 교류 코로나 대전을 행한 다음, 전면을 조사함으로써 200V 의 콘트라스트 전위를 얻었다. 또 -6KV의 부(-)코로나 대전을 행함과 동시에 5룩스-초의 조건하에 노광함으로써 200V의 콘트라스트 전위를 얻었다. 제7도는 본 실시예의 광조사하에 절연층의 전착도포를행한 드럼 (a)과 빛을 조사하지 않고 전착도포한 드럼(b)은 절연층이 거의 형성되지 않기 때문에, 표면 전위의 감도가 적고 도전성 기반 감광층 및 절연층으로된 정자사진감 광체로서는 부적합하다.As described above, the photosensitive drum obtained by electrodeposition and irradiation with light is subjected to positive corona charging of +7 KV, and then exposed under 4 lux-second conditions and subjected to 8KV AC corona charging, followed by irradiation of the entire surface. A contrast potential of 200 V was obtained. In addition, a negative potential of 200 V was obtained by performing negative corona charging of -6 KV and exposing under a condition of 5 lux-seconds. FIG. 7 shows that the drum (a) subjected to electrodeposition of the insulating layer under light irradiation of this embodiment and the drum (b) electrodeposited without irradiating with light have little formation of an insulating layer, so that the sensitivity of the surface potential is small and is conductive. It is not suitable as a sperm photosensitive member composed of a base photosensitive layer and an insulating layer.

[실시예 3]Example 3

평균 입자직경 4.6 미크론, 흡유량 30일 전자사진용(ZnS의 치환량은 10중량%)을 박막(薄膜)을 가진 도전성 우리기반위에 전착도포 했다. 결합제는 실시에1과 같은 것을 사용하고, 결합제와(Zn, Cd) S : Cu 광도전체 분말과의 혼합 중량비는 결합제 고형분으로 환산하여 1/5로 했다. 전극 사이의 비저항은1240

cm, 인가전압은 220V로 하고, 이외는 실시예 1과 같은 조건으로 해하였다. 얻어진 감광층의 두께는 30미크론 이었다. 제6도 곡선 b 및 b'는 각각 상술한 바와 같이 하여 얻어진, 제1도에 표시한 바와 가같이 하여 얻어진, 제1도에 표시한 바와 같은 구조를 가진 감광판의 암감쇠 및 광감쇠를 표시한 것이다.An average particle diameter of 4.6 microns and an oil absorption of 30 days for electrophotography (substitution amount of ZnS was 10% by weight) were electrodeposited onto a conductive cage having a thin film. The binder was the same as in Example 1, and the mixing weight ratio between the binder and (Zn, Cd) S: Cu photoconductor powder was 1/5 in terms of binder solid content. The specific resistance between the electrodes is 1240

cm and an applied voltage were set to 220V, except for the same conditions as in Example 1. The thickness of the obtained photosensitive layer was 30 microns. 6 are curves b and b 'respectively showing the attenuation and light attenuation of the photosensitive plate having the structure as shown in FIG. 1 obtained as shown in FIG. 1 obtained as described above. will be.

[참고예][Reference Example]

로즈벤갈 0.04 중량%로 색소증감을 하고, 평균입자 직경 1.3 미크론의 전자사진용 ZnO 광도전체 분말(Sazzex #4000 사까이 가가꾸 제품)을 알미늄 원통위에 전착도ㅍ했다. 수용성 수지느느 실시예1과 같은 것을 사용하고, 수용성 수지와 ZnO 광도전체 분말과의 혼합중량비는 결합제 고형분으로 환산하여 1/4로 했다. 전극간 비저항은 115

cm, 인가전압은 250V로 하고, 이외는실시예 1과 같은 조건으로 행했다. 얻어진 감광층의 두께는 25미크론 이었다.Pigmentation was carried out at 0.04% by weight of rosebengal, and electrophotographic ZnO photoconductor powder (manufactured by Sazzex # 4000) was deposited on an aluminum cylinder with an average particle diameter of 1.3 microns. The water-soluble resin used the same thing as Example 1, and the mixed weight ratio of water-soluble resin and ZnO photoconductor powder was made into 1/4 in conversion to binder solid content. The specific resistance between electrodes is 115

cm and an applied voltage were set to 250V, except the same conditions as in Example 1. The thickness of the obtained photosensitive layer was 25 microns.

상기와 같은 방법으로 얻어진, 제1도의 구조를 가진전자 사진 감광드럼의 암감쇠 및 광감쇠를 Cds : Cu계 광도전체를 사용한 경우와 비교해 볼때 Cds:Cu계 광도전체의 방법이 우수함을 알았다.It was found that the method of the Cds: Cu-based photoconductor was superior when comparing the attenuation and light attenuation of the electrophotographic photosensitive drum having the structure of FIG. 1 with the method described above with the case of using the Cds: Cu-based photoconductor.

Claims

In an aqueous road in which Cds: Cu photoconductor powder is dispersed in a water-soluble resin or water-dispersible resin diluted with water, the conductive layer and the negative electrode opposed thereto are immersed as positive electrodes, and low lead is applied between the positive electrodes to form a photosensitive layer on the conductive base. Electrophotographic photosensitive member manufacturing method characterized in that the electrodeposition coating.