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KR20210081597A - 성막 시스템 및 전자 디바이스 제조방법 - Google Patents

성막 시스템 및 전자 디바이스 제조방법 Download PDF

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KR20210081597A
KR20210081597A KR1020190173719A KR20190173719A KR20210081597A KR 20210081597 A KR20210081597 A KR 20210081597A KR 1020190173719 A KR1020190173719 A KR 1020190173719A KR 20190173719 A KR20190173719 A KR 20190173719A KR 20210081597 A KR20210081597 A KR 20210081597A
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mask
film
film forming
substrate
chamber
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KR1020190173719A
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에이이치 마츠모토
Original Assignee
캐논 톡키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 성막 시스템은, 기판을 소정의 반송 경로를 따라 순차 반송시키는 반송기구를 갖는 성막 시스템에 있어서, 상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 직렬로 접속되어 있는 복수의 제1 성막실과, 마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제1 성막실 각각과 마스크를 주고받기 위한 제1 마스크 스톡 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

성막 시스템 및 전자 디바이스 제조방법{FILM FORMING SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE}
본 발명은 마스크를 통해 기판에 성막을 행하는 성막 시스템 및 전자 디바이스 제조방법에 관한 것이다.
유기 EL 표시장치(유기 EL 디스플레이)의 제조에 있어서는, 유기 EL 표시장치를 구성하는 유기 발광소자(유기 EL 소자; OLED)를 형성할 때에, 성막장치의 증발원으로부터 증발한 증착재료를 화소 패턴이 형성된 마스크를 통해 기판에 성막함으로써, 유기물층이나 금속층을 형성한다.
이러한 성막 장치 또는 이를 포함하는 성막 시스템으로, 클러스터 타입의 성막 시스템이 널리 사용되고 있다. 클러스터 타입의 성막 시스템에서는, 기판에 성막이 행해지는 복수의 성막실이, 반송로봇이 설치되는 반송실 주위에 클러스터 형상으로 배치되며, 기판이 반송로봇에 의해 각 성막실로 순서대로 반송되어 성막됨으로써, 유기 발광 소자를 구성하는 복수층의 막이 형성된다.
그리고 클러스터 타입의 성막 시스템에서는, 반송실 주위에 마스크 스톡실이 함께 배치된다. 마스크 스톡실에는, 성막실에서 사용될 새로운 마스크와, 사용이 완료된 마스크가 수납된다. 반송로봇은, 성막 공정에 사용될 새로운 마스크를 마스크 스톡실로부터 성막실로 반송하고 또한 사용이 완료된 마스크를 성막실로부터 마스크 스톡실로 반송한다.
한편, 유기 EL 표시장치의 제조 단가를 낮추기 위하여, 성막 공정에 사용되는 기판은 점점 대형화되고 있다. 예컨대, 6세대 풀사이즈 기판은 약 1500 ㎜ × 약 1850 ㎜의 크기를 가지지만, 8세대 풀사이즈 기판은 약 2200 ㎜ × 약 2500 ㎜의 크기를 가진다.
그런데, 기판이 대면적화함에 따라, 마스크도 이에 대응하여 대면적화되어야 하는데, 금속 등으로 형성되는 마스크의 중량이 중량화하는 문제가 있다. 예컨대, 6세대 기판에 사용되는 마스크의 무게는 약 80kg이지만, 8세대 기판에 사용되는 마스크의 무게는 약 200kg이나 된다. 이와 같이, 기판의 대면적화에 수반하여 마스크가 중량화하면, 마스크 반송 시 어려움이 따른다.
클러스터 타입의 성막 시스템에서는, 다관절 아암에, 기판(W) 또는 마스크(M)를 보유지지하는 핸드가 장착된 구조를 갖는 로봇이, 반송로봇으로 주로 사용된다. 하지만, 이러한 구조의 반송로봇으로는 200kg 이상이 되는 중량화한 마스크를 반송하기는 어렵다.
본 발명은, 중량화한 마스크에 대응하여 반송 로봇을 사용하지 않고 대면적화된 기판에의 성막이 가능한 성막 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1 태양에 따른 성막 시스템은, 기판을 소정의 반송 경로를 따라 순차 반송시키는 반송기구를 갖는 성막 시스템에 있어서, 상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 직렬로 접속되어 있는 복수의 제1 성막실과, 마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제1 성막실 각각과 마스크를 주고받기 위한 제1 마스크 스톡 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제2 태양에 따른 성막 시스템은, 반송기구에 의해 기판이 반송되면서 성막되는 성막 시스템에 있어서, 상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 반송되면서, 마스크를 통해 기판에 증착재료가 성막되는 제1 성막실과, 상기 마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 성막실과 마스크를 주고받기 위한 제1 마스크 스톡 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제3 태양에 따른 성막 시스템은, 기판을 소정의 반송 경로를 따라 순차 반송시키는 반송기구를 갖는 성막 시스템에 있어서, 성막원이 설치되어 있고, 상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 직렬로 접속되어 있는 복수의 제1 성막실과, 마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향을 따라 병설되거나 또는 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제1 성막실 각각에 마스크를 전달하기 위한 제1 마스크 스톡 장치와, 상기 복수의 제1 성막실에 대하여 상기 제1 마스크 스톡 장치의 반대측에, 상기 복수의 제1 성막실과 나란하게 직렬로 접속되도록 배치되어 있는, 성막원이 설치되는 복수의 제2 성막실과, 마스크가 수납되어 있고, 상기 복수의 제2 성막실에 대하여 상기 복수의 제1 성막실의 반대측에, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향을 따라 병설되거나 또는 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제2 성막실 각각에 마스크를 전달하기 위한, 제2 마스크 스톡 장치와, 성막원이 설치되어 있고, 상기 제1 성막실의 하류측에 직렬로 접속되는 하나 또는 복수의 제3 성막실과, 상기 제3 성막실에 마스크를 전달하기 위한 제3 마스크 스톡 장치와, 성막원이 설치되어 있고, 상기 제2 성막실의 하류측에 직렬로 접속되는 하나 또는 복수의 제4 성막실과, 상기 제4 성막실에 마스크를 전달하기 위한 제4 마스크 스톡 장치를 포함하고, 상기 제1 성막실 및 상기 제2 성막실에서는, 상기 기판을 정지시킨 상태에서 상기 성막원을 이동시켜 성막을 행하도록 구성되고, 상기 제3 성막실 및 상기 제4 성막실에서는, 상기 기판을 반송 또는 회전시키면서 상기 성막원에 의해 성막을 행하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제4 태양에 따른 전자 디바이스 제조방법은, 상기 성막 시스템을 사용하여 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 인라인 타입의 성막시스템에서, 중량화한 마스크의 성막실로의 반입과 반출이, 마스크 스토커 이동로를 따라 이동가능하게 설치된 마스크 스톡 장치에 의해 수행될 수 있다.
도 1은, 유기 EL 표시장치의 성막시스템을 나타내는 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 시스템의 일부 구성을 보여주는 모식도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시형태에 따른 성막 시스템의 일부 구성을 보여주는 모식도이다.
도 4는 마스크 스톡 장치의 구성을 모식적으로 보여주는 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따른, 마스크 스톡 장치와 성막실과의 사이의 마스크 반송 기구를 설명하기 위한 모식도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 시스템에 의해 제조되는 전자 디바이스를 나타내는 모식도이다.
이하에 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 단, 이하에 기재되어 있는 구성부품의 치수, 재질, 형상 및 그들의 상대 배치, 혹은 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 플로우, 제조 조건 등은, 발명이 적용되는 장치의 구성이나 각종 조건에 의해 적절히 변경될 수 있으며, 본 발명의 범위를 이하에 기재된 실시형태로 한정하는 취지의 것이 아니다. 또한, 동일한 구성요소에는 원칙적으로 동일한 참조번호를 부여하고, 설명을 생략한다.
본 발명은, 성막 대상물에 증발에 의한 성막을 행하는 성막 시스템에 바람직하며, 전형적으로는 유기 EL 패널을 제조하기 위해서 기판에 대하여 유기 재료 및/또는 금속성 재료 등을 증착하여 성막하는 성막 시스템에 적용할 수 있다. 성막 대상물인 기판의 재료는, 척킹이 가능한 재료이면 되고, 유리 이외에도, 고분자 재료의 필름, 금속, 실리콘 등의 재료를 선택할 수 있다. 기판은, 예를 들면, 유리 기판 상에 폴리이미드 등의 필름이 적층된 기판 또는 실리콘 웨이퍼이어도 된다. 성막 재료로서도, 유기 재료 이외에, 금속성재료(금속, 금속산화물 등) 등을 선택해도 된다.
<성막 시스템의 전체 구성>
도 1은, 유기 EL 표시장치의 성막 시스템(100)의 전체 구성을 나타내는 개념도이다. 개략적으로, 성막 시스템(100)은, 성막 처리 공정 반송로(110a)와 리턴 반송로(110b)를 포함하며, 성막 처리 공정 반송로(110a)와 리턴 반송로(110b) 사이에서 반송 캐리어(C)를 회수 및 공급하기 위한, 캐리어 회수 반송로(110c), 및 캐리어 공급 반송로(110d)를 구비함으로써, 순환형 반송로를 구성한다. 성막 시스템(100)은 순환형 반송로를 구성하는 각 구성요소, 예를 들면 기판 반입/반전실(101), 성막실(103), 기판 반전/배출실(105)을 포함한다. 그리고 본 발명의 실시형태에 따른 성막 시스템(100)은, 성막실(103)과 마스크(M)를 주고받기 위한 마스크 스톡실(107)을 더 포함한다.
본 실시형태에 따른 성막 시스템(100)에서는, 외부로부터 기판(G)이 반송 방향으로 반입되며, 기판(G)과 마스크(M)가 반송 캐리어(C) 상에 위치결정되어 보유지지되고, 반송 캐리어(C)가 성막 처리 공정 반송로(110a)상을 이동하면서 기판(G)에 대해 성막 처리가 실시된 후, 성막 완료된 기판(G)이 배출된다. 리턴 반송로(110b)에서는, 성막 완료된 기판(G)의 배출 후의 빈 반송 캐리어(C)가, 기판 반입 위치측으로 복귀한다.
실시형태에 따라, 순환형 반송로는, 얼라인먼트실과 마스크 분리실을 더 포함하여 구성되는 경우도 있다. 이 경우에, 순환형 반송로는, 얼라인먼트실로 마스크를 공급하는 마스크 공급 반송로와 마스크 분리실로부터 마스크를 회수하는 마스크 회수 반송로를 더 포함하며, 리턴 반송로(110b)를 통해, 반송 캐리어(C)와 함께 마스크(M)도 회수 및 공급된다.
이하, 도 1을 참조하여, 성막 시스템(100)에 포함되는 구성요소에서의 동작 및 처리에 대해 보다 상세히 설명한다.
성막 시스템(100)의 성막 처리 공정 반송로(110a)에서는, 먼저, 외부로부터 기판(G)이 기판 반입/반전실(101)로 반입되어 반송 캐리어(C)상에 보유지지되며, 반송 캐리어(C)와 함께 상하로 반전(플립)된다.
즉, 외부의 기판 스토커(미도시)로부터, 성막 처리 공정 반송로(110a) 상의 기판 반입/반전실(101)에 기판(G)이 반입되고, 먼저 반입되어 있던 빈 반송 캐리어(C) 상의 소정의 보유지지 위치에서, 기판 척킹 수단(예컨대, 정전척 또는 점착척)에 의해 척킹된다. 이 때, 반송 캐리어(C)는 기판 보유지지면 또는 기판 척킹면이 상방을 향한 자세이다. 기판(G)은, 반송 로봇(미도시)에 의해 기판 척킹면 위쪽으로 반입되어, 기판 척킹면에 재치된다.
이어서, 기판(G)을 보유지지한 반송 캐리어(C)는 기판 반입/반전실(101)의 회전 구동 장치(미도시)에 의해 상하가 반전(플립)된다. 예컨대, 회전 구동 장치는, 기판(G)을 보유지지한 반송 캐리어(C)를 진행 방향에 대하여 180도 회전시킨다. 이에 의해, 반송 캐리어(C) 및 기판(G)의 상하 관계가 반전하여, 기판(G)이 반송 캐리어(C)의 척킹면의 하방측이 되며, 기판(G)의 성막면은 하방을 향하게 된다. 실시형태에 따라, 회전 구동 장치는 얼라인먼트 기구를 포함하는 경우도 있다.
반전된 반송 캐리어(C)는 롤러 반송 또는 자기 부상 반송 방식에 의해, 성막실(103)로 반입된다. 실시형태에 따라, 성막실(103)은 기판(G)의 반송 경로를 따라 복수의 성막실이 직렬로 접속되어 있고, 각 성막실에서는 기판(G)이 정지한 상태에서 성막이 행해지는 경우(도 2 참조)도 있고 또한 하나 이상의 성막실을 포함하고 성막실에서는 기판(G)이 반송되면서 성막이 행해지는 경우(도 3 참조)도 있다. 즉, 전자의 실시형태에서는 복수의 성막실에 순차적으로 기판(G)이 반송되어 각 성막실에서 성막 공정이 이루어지지만, 후자의 실시형태에서는 성막실 내에서 기판(G)이 반송되면서 성막이 이루어진다. 이하, 전자의 실시형태를 위주로 설명하기로 한다.
반송 캐리어(C)가 반입된 첫 번째 성막실(103a, 도 2 참조)에서는 우선 기판(G)과 마스크(M)의 얼라인먼트 동작이 행해진다. 첫 번째 성막실(103a)에는, 마스크 스톡실(107)로부터 반입된 마스크(M)가, 반입된 반송 캐리어(C)의 하방에 설치되어 있는, 마스크 지지 유닛(미도시)에 의하여 지지되고 있다. 마스크 지지 유닛의 상승에 의해 반송 캐리어(C)에 보유지지된 기판(G)에 접근하며, 소정의 거리(계측위치)가 되면, 기판(G)과 마스크(M)의 얼라인먼트 동작이 행해진다.
얼라인먼트 동작에서는, 얼라인먼트 카메라에 의해, 기판(G)과 마스크(M)에 미리 형성되어 있는 얼라인먼트 마크를 촬상하여 양자의 위치 어긋남량 및 방향을 계측한다. 계측된 위치 어긋남량 및 방향에 기초하여, 반송 캐리어(C)의 반송 구동계(예컨대, 자기 부상 반송계)에 의해 반송 캐리어(C)의 위치를 미세하게 이동함으로써 위치 조정(얼라인먼트)을 행한다. 기판(G)과 마스크(M)의 상대 위치 어긋남량이 소정의 임계치내로 들어오면, 반송 캐리어(C)에 설치된 자력인가수단(미도시)에 의해 마스크(M)가 끌어당겨져, 마스크(M)가 기판(G)에 밀착된다.
첫 번째 성막실(103a)에서는, 반송 캐리어(C)에 보유지지된 기판(G)과 마스크(M)를 밀착시킨 상태에서, 성막실(105) 하부에 배치된 증발원을 소정의 속도로 이동시키면서 유기 EL 발광 재료를 증발시켜 상방의 기판(G)에 진공 성막한다. 실시형태에 따라서는, 증발원은 고정시킨 상태에서, 반송 캐리어(C)에 보유지지된 기판(G)과 이에 밀착된 마스크(M)를 소정의 속도로 이동시키거나 또는 회전하면서, 성막 공정을 수행하는 경우도 있다. 첫 번째 성막실(103a)에서의 성막 공정이 완료되면, 마스크 지지 유닛이 하강하여, 마스크(M)가 기판(G)으로부터 소정의 거리만큼 이격된다. 그리고 기판(G)을 보유지지하고 있는 반송 캐리어(C)는, 롤러 반송 또는 자기 부상 반송 방식에 의해, 첫 번째 성막실(103a)로부터 배출되어 두 번째 성막실(103b, 도 2 참조)로 반송된다. 두 번째 성막실(103b)에서도, 첫 번째 성막실(103a)에서와 마찬가지로, 기판(G)과 마스크(M)의 얼라인먼트 공정이 수행된 다음, 성막 공정이 순차적으로 수행된다. 그리고 두 번째 성막실(103b)에서 성막 공정이 완료되면, 기판(G)을 보유지지하는 반송 캐리어(C)는, 두 번째 성막실(103b)로부터 배출되어 다음 성막실로 반송된다. 이후, 세 번째 성막실(103c, 도 2 참조), 네 번째 성막실(103d, 도 2 참조) 등에서도 동일한 방법으로 얼라인먼트 공정과 성막 공정이 순차적으로 수행된다.
만일, 마스크(M)의 교체가 필요한 경우에는, 사용 완료된 마스크(M)는 해당 성막실(103)로부터 마스크 스톡실(107)로 반출되며, 새로운 마스크(M)가 마스크 스톡실(107)로부터 해당 성막실(103)로 반입된다. 이를 위하여, 마스크 스톡실(107)이 성막실(103)에 인접하게 배치되어 있다.
모든 성막실(103)에서 성막 처리를 마치고 성막실(103)로부터 배출된 반송 캐리어(C)는, 기판(G)만을 보유지지한 채 기판 반전/배출실(105)로 이동한다. 기판 반전/배출실(105)내에서는, 회전 구동 장치(미도시)가 반송 캐리어(C)를 진행 방향으로 180도 회전시킨다. 이에 의해, 기판(G)의 성막면이 상방을 향하게 된다.
이어서, 기판(G)이 반송 캐리어(C)로부터 척킹 해제되며, 기판(G)은 도시하지 않는 배출 기구에 의해 다음 공정으로 반송된다.
기판 반전/배출실(105)에서 기판(G)을 배출하여 빈 상태가 된 반송 캐리어(C)는, 캐리어 회수 반송로(110c)를 따라, 리턴 반송로(110b)의 시점 위치로 반송된다. 그리고 빈 반송 캐리어(C)는 리턴 반송로(110b)를 따라 기판 반입/반전실(101)측으로 복귀한다. 이때, 캐리어 공급 반송로(110d)에서는, 리턴 반송로(110b)를 따라 반송된 빈 반송 캐리어(C)가, 리턴 반송로(110b)로부터 성막 처리 공정 반송로(110a)의 시점 위치인 기판 반입 및 반전 위치로 반송된다.
이에 의해, 본 발명의 실시형태에 따른 성막 시스템(100)은 순환형의 반송로를 이루게 된다.
그리고 성막 시스템(100)은, 순환형 반송로에 배치된 구성요소들 이외에, 전술한 바와 같이, 복수의 성막실(103) 각각과 마스크(M)를 주고받기 위한 마스크 스톡실(107)을 더 포함한다. 실시형태에 따라, 마스크 스톡실(107)은, 복수의 성막실(103) 각각에 대응하도록, 복수 개가 구비되는 경우도 있다.
반면, 본 발명의 실시형태에 의하면, 마스크 스톡실(107)은, 성막 처리 공정 반송로(110a)와 나란히 배치된, 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 이동 가능하게 배치된다. 이에 의하면, 마스크 스톡실(107)이 마스크 스토커 이동로(110e)에 하나만 배치되므로, 성막 시스템(100)의 구성이 간단해진다. 마스크 스톡실(107)은 미도시된 반송 롤러 등에 의해, 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 반송된다.
이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 마스크 스톡실(107, 마스크 스톡 장치)를 포함하는, 본 발명의 실시형태에 따른 성막 시스템에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 시스템(100a)의 일부 구성을 보여주는 개념도이다. 도 2에 도시된 성막 시스템(100a)은, 도 1에 도시한 순환형 반송로의 성막 시스템(100) 2개가 인접하게 배치되어 있는, 2라인 구조의 인라인 타입의 성막 시스템인 경우이다. 도 2의 성막 시스템(100a)은, 예컨대 유기물을 성막하기 위한 유기 성막 시스템이어도 되나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
도 2를 참조하면, 성막 시스템(100a)의 각 라인의 성막 처리 공정 반송로(110a)에는, 복수의 성막실(103a ~ 103d)이 직렬로 접속되도록 배치되어 있다. 기판(G)이 척킹되어 있는 반송 캐리어(C)는, 반송 롤러 또는 자기부상기구 등과 같은 반송기구에 의해 복수의 성막실(103a ~ 103d)을 따라 반송된다. 전술한 바와 같이, 성막실(103a ~ 103d) 각각으로 반송 캐리어(C)가 반입되면, 미리 반입되어 있는 마스크(M)와의 얼라인먼트 공정이 수행된 다음, 증발원(S)으로부터 방출되는 증착재료가 마스크(M)를 통해 기판(G)에 성막된다.
이 때, 반송 캐리어(C)는 성막실(103a ~ 103d) 내에 고정되어 있으며, 증발원(S)이 성막실(103a ~ 103d) 내에서 이동하면서 기판(G) 전체에 대한 성막이 행해진다. 증발원(S)은 도시된 바와 같이, 반송 캐리어(G)의 반송 방향과 나란한 방향으로 이동해도 되고 또는 반송 캐리어(G)의 반송 방향에 교차하는 방향으로 이동되어도 된다. 또는, 증발원(S)은 고정되고 기판(G)이 회전하면서 성막 공정이 행해지는 경우도 있다. 각 성막실(103a ~ 103d)에서 성막 공정이 완료되면, 반송 캐리어(C)는 다음 성막실(103b ~ 103d) 또는 기판 반전/배출실(105)로 반송된다.
2라인 구조의 인라인 타입의 성막 시스템(100a)에서는, 제1 라인의 성막실(103a ~ 103d)과 제2 라인의 인접한 성막실(103a ~ 103d) 사이에서 증발원(S)은 이동될 수 있다. 이에 의하면, 제1 라인의 성막실(103a ~ 103d)에서 얼라인먼트 공정 등과 같이 성막 준비가 진행되는 동안 제2 라인의 성막실(103a ~ 103d)에서 성막 공정을 수행할 수 있으며, 반대로 제1 라인의 성막실(103a ~ 103d)에서 성막 공정을 수행하는 동안 제2 라인의 성막실(103a ~ 103d)에서는 얼라인먼트 공정 등과 같이 성막 준비가 진행될 수 있다. 따라서, 증착재료의 손실을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 생산성을 향상시킬 수가 있다.
마스크 스톡 장치(107)는, 성막 처리 공정 반송로(110a)와 나란하게 이동가능하도록, 마스크 스토커 이동로(110e)에 배치되어 있다. 마스크 스톡 장치(107)는, 반송 롤러나 자기 부상 이동 기구 등과 같은 소정의 이동기구에 의해 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 이동된다. 이에 의해, 마스크 스톡 장치(107)는, 복수의 성막실(103a ~ 103d) 중 어느 하나의 성막실과 마스크(M)를 주고받을 수 있는 위치로 이동된다. 즉, 마스크 스톡 장치(107)는 마스크(M)의 교환이 필요한 성막실로, 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 이동하여, 해당 성막실로부터 사용완료된 마스크(M)를 전달받은 다음 새로운 마스크(M)를 해당 성막실로 전달한다.
도 3은 본 발명의 다른 실시형태에 따른 성막 시스템(100b)의 일부 구성을 보여주는 개념도이다. 도 3에 도시된 성막 시스템(100b)도, 도 2의 성막 시스템(100a)와 마찬가지로, 도 1에 도시한 순환형 반송로의 성막 시스템(100) 2개가 인접하게 배치되어 있는, 2라인 구조의 인라인 타입의 성막 시스템인 경우이다. 도 3에 도시된 성막 시스템(100b)은 금속 물질을 성막하기 위한 금속 성막 시스템이어도 되나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
도 3을 참조하면, 성막 시스템(100b)의 각 라인의 성막 처리 공정 반송로(110a)는, 하나 또는 그 이상의 성막실(103e, 103f)을 포함한다. 즉, 각 라인의 성막 처리 공정 반송로(110a)에는 하나의 성막실(103e)만이 배치되어 있는 경우도 있다는 점에서, 도 2의 성막 시스템(100a)와 차이가 있다. 그리고 도 3에 도시되어 있는 성막실(103e)에서는, 증발원(S)은 고정되어 있고, 반송 캐리어(C)와 마스크(M)가 얼라인먼트가 된 이후에 함께 반송되면서 성막 공정이 수행된다는 점에서도, 도 2의 성막 시스템(100a)과 차이가 있다.
보다 구체적으로, 성막실(103e, 103f) 각각으로 반송 캐리어(C)가 반입되면, 마스크 스톡 장치(107)로부터 미리 반입되어 있는 마스크(M)와의 얼라인먼트 공정이 각 성막실(103e, 103f)의 입구부에서 수행된다. 실시형태에 따라, 각 성막실(103e, 103f)의 앞에는 얼라인먼트실이 별도로 설치되어 있는 경우도 있다.
그리고 얼라인된 반송 캐리어(C)과 마스크(M)가 성막실(103e, 103f)을 따라 출구부쪽으로 반송되는 동안, 증발원(S)으로부터 방출되는 증착재료가 마스크(M)를 통해 기판(G)에 성막된다. 이 때, 증발원(S)은 성막실(103e, 103f) 내에 고정되어 있다. 각 성막실(103e, 103f)에서 성막 공정이 완료되면, 반송 캐리어(C)는 다음 성막실(103f) 또는 기판 반전/배출실(105)로 반송된다.
마스크 스톡 장치(107)는, 성막 처리 공정 반송로(110a)와 나란하게 이동가능하도록, 마스크 스토커 이동로(110e)에 배치되어 있다. 반송 롤러 등과 같은 이동기구에 의해, 마스크 스톡 장치(107)는 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 이동된다. 이에 의해, 마스크 스톡 장치(107)는, 복수의 성막실(103e, 103f) 각각의 입구부로 마스크(M)를 전달하고, 복수의 성막실(103e, 103f) 각각의 출구부로부터 마스크(M)를 전달받을 수 있다. 즉, 마스크 스톡 장치(107)는, 마스크(M)를 성막실(103e, 103f)의 입구부로 전달한 다음, 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 성막실(103e, 103f)의 출구부로 이동한 다음, 성막실(103e, 103f)의 출구부로부터 마스크(M)를 받아서 회수한다. 실시형태에 따라서는, 마스크 스톡 장치(107)로부터 첫 번째 성막실(103e)의 입구부나 얼라인먼트실(미도시)로 마스크(M)가 반입되고, 마지막 성막실(103f)의 출구부나 마스크 분리실(103g)에서 마스크(M)가 반송 캐리어(C)로부터 분리되는 경우도 있다.
또한, 도 3에 도시한 금속 성막 시스템은, 도 2에 도시한 유기 성막 시스템의 하류측에 접속한 구성으로 하여도 된다. 즉, 성막실(103a~103d)의 하류측에 직렬로 성막실(103e)(또는, 성막실(103e 및 103f))을 설치한 구성으로 하여도 된다. 이 경우, 기판은 반송 로봇을 사용하지 않고 각 성막실에 설치되는 반송 기구에 의해 순차 반송되어, 대면적 기판에 대한 유기막 및 금속막의 성막을 효율적으로 행할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 실시형태에 따른 성막 시스템(100a, 100b)에서는, 마스크 스토커 이동로(110e)를 따라 이동 가능한 마스크 스톡 장치(107)와 각 성막실(100a ~ 100f) 사이에서 마스크(M)의 반송이 이루어지는데, 이하 이를 위한 마스크 스톡 장치(107)와 성막실(100a ~ 100f) 사이의 마스크 반송 기구에 대하여 설명한다.
<마스크 반송 기구>
마스크(M)에는 소정의 증착 패턴이 형성되어 있고, 증발원(S)으로부터 증발된 증착 재료는 이 마스크(M)의 증착 패턴을 거쳐 피증착체인 기판(G) 상에 증착된다. 증착(성막) 공정이 반복 진행됨에 따라, 마스크(M) 상에는 증착 재료의 잔류물이 점차 부착되게 되는데, 이러한 증착 잔류물에 의해 마스크(M)dl 개구가 막힘으로써, 기판(G)에 형성되는 증착 패턴의 정밀도가 저하되는 원인이 될 수 있다. 따라서, 마스크(M)는 소정 매수의 기판(G)에 대한 증착이 행해졌을 때마다 새로운 마스크로 교체될 필요가 있다. 마스크 반송 기구는 마스크 스톡 장치(107)와 성막실(103a ~ 103f)과의 사이에 마스크를 반송하기 위한 수단이다.
마스크 스톡 장치(107)는 이러한 마스크(M) 교환을 위해, 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크와 사용이 끝난 마스크를 수납하기 위한 수납 장치로서의 역할을 한다. 즉, 사용이 끝난 마스크는 성막실(100a ~ 100f)로부터 마스크 스톡 장치(107) 내로 반송되어 수납되고, 새로운 마스크가 마스크 스톡 장치(107)로부터 성막실(100a ~ 100f) 내로 반송된다.
도 4는 일 실시형태에 따른 마스크 스톡 장치(107)의 구성을 모식적으로 보여주는 정면도이다.
도 4를 참조하면, 마스크 스톡 장치(107) 내에는, 마스크(M)를 수납하는 카세트(210, 220)가 배치된다. 카세트(210, 220)는, 복수의 마스크(M)를 수납할 수 있는 복수의 단(도시한 예에서는 4단) 구조로 되어 있다. 즉, 카세트(210, 220)는, 카세트의 양 측벽에 마스크(M)의 양단을 지지할 수 있는 지지부(211, 221)가 상하로 복수 단으로 설치되어 있다. 그리고 마스크의 수납 용량을 증가시키기 위해, 마스크 스톡 장치(107) 내부에는, 복수의 카세트(210, 220)가 상하로 복수 적층하여 배치하고 있다. 도시된 예는, 상하로 2개의 카세트(210, 220)가 배치된 예이다.
상하로 적층 배치된 카세트(210, 220)는 승강 기구(215)에 연결되어, 승강 기구(215)의 구동에 의해 가이드 레일(214)을 따라 이동함으로써 마스크 스톡 장치(120)의 대략 중앙 높이 위치에 설치된 마스크 반송구(미도시)를 향해 승강된다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 카세트(210, 220)는, 후술하는 성막실(103a ~ 103f)의 마스크 반출입용 밸브(246, 도 5 참조)의 높이까지 승강된다.
예컨대, 상하 적층의 카세트(210, 220) 중 가장 위의 마스크 수납 위치인 최상단 지지부(211)로부터 마스크를 반출(또는 해당 위치로 마스크를 반입)하고자 하는 경우에는, 적층된 카세트(210, 220)를 마스크 스톡 장치(107)의 바닥 위치까지 하강시킨 뒤, 최상단 지지부(211)가 마스크 반송구 및/또는 마스크 반출입용 밸브(246)의 높이에 위치하도록 한다. 그리고 상하 적층의 카세트(210, 220) 중 가장 아래의 마스크 수납 위치인 최하단 마스크 지지부로부터 마스크를 반출(또는 해당 위치로 마스크를 반입)하고자 하는 경우에는, 적층된 카세트(210, 220)를 마스크 스톡 장치(107)의 천정 위치까지 상승시킨 뒤, 최하단 지지부(211)가 마스크 반송구 및/또는 마스크 반출입용 밸브(246)의 높이에 위치하도록 한다. 이러한 카세트(210, 220)의 승강 기구로서는, 예컨대, 마스크 스톡 장치(107)의 양측 측벽에 가이드 레일(214)을 설치하고, 이 가이드 레일(214)을 따라 카세트(210, 220)를 적재한 스테이지가 모터의 구동에 의해 승강하도록 하는 구조 등이 채용된다.
본 발명의 실시형태에 의하면, 반출하고자 하는 마스크(M)가 수납되어 있는 카세트(210, 220)의 지지부(211) 또는 반입하고자 하는 마스크(M)가 수납될 카세트(210, 220)의 지지부(211)가 마스크 반송구 또는 마스크 반출입용 밸브(246)의 높이에 위치되면, 해당 지지부(211)와 성막실(103a ~ 103f), 보다 구체적으로는 성막실(103a ~ 103f)의 마스크 지지 유닛(미도시) 사이의 마스크의 교환은, 지지부(211)와 마스크 지지 유닛 각각에 구비되어 있는 마스크 반송 기구에 의해 행해진다. 즉, 본 발명의 실시형태에 의하면, 반송 로봇을 사용하지 않는 대신에, 마스크(M)를 지지하는 지지부(211) 각각과 성막실(103a ~ 103f) 각각의 마스크 지지 유닛에, 별도의 마스크 반송 기구를 설치하여, 지지부(211)와 성막실(103a ~ 103f) 사이에서 마스크(M)를 반송한다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따른, 마스크 스톡 장치(107)와 성막실(103a ~ 103f)과의 사이의 마스크 반송 기구를 설명하기 위한 모식도이다.
도 5를 참조하면, 마스크 반송 기구는, 카세트(210, 220)의 지지부(211) 각각에 설치된 카세트측 반송기구(242)와 성막실(103a ~ 103f) 각각의 마스크 지지 유닛에 설치된 성막실측 반송기구(244)를 포함한다. 마스크 반송 기구는 또한 성막실(103a ~ 103f)의 마스크 스토커 반송로(100e)측 벽면에 설치되어, 개폐 가능한 마스크 반출입용 밸브(246)를 더 포함한다. 마스크 반출입용 밸브(246)는, 마스크 스톡 장치(107)와의 마스크(M)의 교환이 있는 경우에만 개방됨으로써, 마스크(M) 반송 과정에서 생길 수 있는 성막실(103a ~ 103f) 내의 진공파괴를 최소화한다.
카세트측 반송기구(242)는, 카세트(210, 220)의 지지부(211)로부터 마스크 스톡 장치(107)의 마스크 반송구까지 연장되도록 설치된다. 그리고 성막실측 반송기구(244)는, 마스크 지지 유닛(230)으로부터 마스크 반출입용 밸브(246)까지 연장되도록 설치된다. 이에 의하여, 마스크(M)를 수취하여 반송하는 반송 로봇이 없이도, 카세트(210, 220)의 지지부(211)와 성막실(103a ~ 103f)의 마스크 지지 유닛(230) 사이에서 마스크(M)가 반송될 수 있다.
성막실측 반송기구(244)는, 성막실(103a ~ 103f) 내의 다른 구성요소들, 예컨대 반송 캐리어(C)의 반송 롤러 등과 간섭되지 않는 높이에 설치된다. 또는, 실시형태에 따라서는, 성막실측 반송기구(244)는, 성막실(103a ~ 103f) 내의 다른 구성요소들과 간섭되지 않도록 승강가능하게 설치되는 경우도 있다.
본 실시형태의 일 태양에 의하면, 카세트측 반송기구(242)와 성막실측 반송기구(244)는 각각 자기 부상용 레일을 포함한다. 이 경우, 마스크(M)의 프레임에는 자석이 설치되어 있으며, 자기 부상용 레일에는 자력을 발생시키기 위한 수단이 설치된다. 이에 의하면, 마스크(M)는 별도의 캐리어에 탑재되어 반송되지 않아도 된다. 또한, 자기 부상용 레일 상에서 자력에 의해 마스크(M)가 부상되어 반송되므로, 반송 과정에서 파티클이 생기기 어려우며, 성막 공정에서 불량이 생기는 것을 억제할 수 있다.
본 실시형태의 다른 태양에 의하면, 카세트측 반송기구(242)와 성막실측 반송기구(244)는 각각 반송 롤러를 포함한다. 반송 롤러는 개별적으로 구동되는 경우도 있고 또는 전체가 일체로 구동되는 경우도 있다. 이 경우, 마스크(M)의 프레임이 반송 롤러 상에 위치하며, 반송 롤러가 회전함에 따라 마스크(M)가 반송된다. 따라서 마스크(M)는 별도의 캐리어에 탑재되어 반송되지 않아도 된다. 또한, 반송 롤러를 사용하면, 자기 부상 반송 기구를 사용하는 전술한 실시형태에 비하여, 카세트(210, 220)의 지지부(211)나 마스크 지지 유닛(230)의 구성이 보다 단순해진다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 따른 성막 시스템은, 성막 처리 공정 반송로에 인접하게 마스크 스토커 반송로가 구비되어 있다. 그리고 마스크 스토커 반송로를 따라서 이동 가능한 마스크 스톡 장치가 성막실 각각과 마스크를 주고받는다. 이러한 마스크 스톡 장치와 성막실 사이의 마스크의 반송은, 마스크 스톡 장치의 마스크 지지부에 구비된 마스크측 반송기구와, 성막실의 마스크 지지 유닛에 구비된 성막실측 반송기구에 의해 수행되므로, 마스크를 반송하기 위한 반송 로봇은 필요 없다.
<전자디바이스의 제조방법>
다음으로, 본 실시형태의 성막장치를 이용한 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 설명한다. 이하, 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시장치의 구성 및 제조 방법을 예시한다.
우선, 제조하는 유기 EL 표시장치에 대해 설명한다. 도 6(a)는 유기 EL 표시장치(60)의 전체도, 도 6(b)는 1 화소의 단면 구조를 나타내고 있다.
도 6(a)에 도시한 바와 같이, 유기 EL 표시장치(60)의 표시 영역(61)에는 발광소자를 복수 구비한 화소(62)가 매트릭스 형태로 복수 개 배치되어 있다. 상세 내용은 후술하지만, 발광소자의 각각은 한 쌍의 전극에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다. 또한, 여기서 말하는 화소란 표시 영역(61)에 있어서 소망의 색 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 지칭한다. 본 실시예에 관한 유기 EL 표시장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광소자(62R), 제2 발광소자(62G), 제3 발광소자(62B)의 조합에 의해 화소(62)가 구성되어 있다. 화소(62)는 적색 발광소자, 녹색 발광소자, 청색 발광소자의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 황색 발광소자, 시안 발광소자, 백색 발광소자의 조합이어도 되며, 적어도 1 색 이상이면 특히 제한되는 것은 아니다.
또한, 화소(62)를 같은 발광을 나타내는 복수의 발광소자로 구성하고, 각각의 발광소자에 대응하도록 복수의 다른 색 변환 소자가 패턴 형상으로 배치된 칼라 필터를 사용하여, 하나의 화소가 표시 영역(61)에 있어서 원하는 색의 표시를 가능하게 하여도 된다. 예를 들어, 화소(62)를 적어도 3개의 백색 발광소자로 구성하고, 각각의 발광소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 청색의 각 색 변환 소자가 배열된 칼라 필터를 사용하여도 된다. 또는, 화소(62)를 적어도 3개의 청색 발광소자로 구성하고, 각각의 발광소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 무색의 각 색 변환 소자가 배열된 칼라 필터를 사용하여도 된다. 후자의 경우에는, 칼라 필터를 구성하는 재료로서 양자점(Quantum Dot; QD) 재료를 사용한 양자점 칼라 필터(QD-CF)를 이용함으로써, 양자점 칼라 필터를 이용하지 않는 통상의 유기 EL 표시 장치보다 표시 색역을 넓게 할 수 있다.
도 6(b)는 도 6(a)의 A-B선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(62)는 기판(63) 상에 양극(64), 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67), 음극(68)을 구비한 유기 EL 소자를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67)이 유기층에 해당한다. 또한, 본 실시형태에서는, 발광층(66R)은 적색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66G)는 녹색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66B)는 청색을 발하는 유기 EL 층이다. 또한, 상술한 바와 같이 칼라 필터 또는 양자점 칼라 필터를 사용하는 경우에는, 각 발광층의 광 출사측, 즉, 도 6(b)의 상부 또는 하부에 칼라 필터 또는 양자점 칼라 필터가 배치되는데, 이에 대한 도시는 생략한다.
발광층(66R, 66G, 66B)은 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광소자(유기 EL 소자라고 부르는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 양극(64)은 발광소자별로 분리되어 형성되어 있다. 정공 수송층(65)과 전자 수송층(67)과 음극(68)은, 복수의 발광소자(62R, 62G, 62B)와 공통으로 형성되어 있어도 좋고, 발광소자별로 형성되어 있어도 좋다. 또한, 양극(64)과 음극(68)이 이물에 의해 단락되는 것을 방지하기 위하여, 양극(64) 사이에 절연층(69)이 설치되어 있다. 또한, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(70)이 설치되어 있다.
도 6(b)에서는 정공수송층(65)이나 전자 수송층(67)이 하나의 층으로 도시되었으나, 유기 EL 표시 소자의 구조에 따라서, 정공블록층이나 전자블록층을 포함하는 복수의 층으로 형성될 수도 있다. 또한, 양극(64)과 정공수송층(65) 사이에는 양극(64)으로부터 정공수송층(65)으로의 정공의 주입이 원활하게 이루어지도록 할 수 있는 에너지밴드 구조를 가지는 정공주입층을 형성할 수도 있다. 마찬가지로, 음극(68)과 전자수송층(67) 사이에도 전자주입층이 형성될 수 있다.
다음으로, 유기 EL 표시장치의 제조 방법의 예에 대하여 구체적으로 설명한다.
우선, 유기 EL 표시장치를 구동하기 위한 회로(미도시) 및 양극(64)이 형성된 기판(63)을 준비한다.
양극(64)이 형성된 기판(63) 위에 아크릴 수지를 스핀 코트로 형성하고, 아크릴 수지를 리소그래피 법에 의해 양극(64)이 형성된 부분에 개구가 형성되도록 패터닝하여 절연층(69)을 형성한다. 이 개구부가 발광소자가 실제로 발광하는 발광 영역에 상당한다.
절연층(69)이 패터닝된 기판(63)을 제1 유기재료 성막장치에 반입하여 및 정전척으로 기판을 보유 지지하고, 정공 수송층(65)을 표시 영역의 양극(64) 위에 공통층으로서 성막한다. 정공 수송층(65)은 진공 증착에 의해 성막된다. 실제로는 정공 수송층(65)은 표시 영역(61)보다 큰 사이즈로 형성되기 때문에, 고정밀의 마스크는 필요치 않다.
다음으로, 정공 수송층(65)까지 형성된 기판(63)을 제2 유기재료 성막장치에 반입하고, 정전척으로 보유 지지한다. 기판과 마스크의 얼라인먼트를 행하고, 기판(63)의 적색을 발하는 소자를 배치하는 부분에 적색을 발하는 발광층(66R)을 성막한다.
발광층(66R)의 성막과 마찬가지로, 제3 유기재료 성막장치에 의해 녹색을 발하는 발광층(66G)을 성막하고, 나아가 제4 유기재료 성막장치에 의해 청색을 발하는 발광층(66B)을 성막한다. 발광층(66R, 66G, 66B)의 성막이 완료된 후, 제5 유기재료 성막장치에 의해 표시 영역(61)의 전체에 전자 수송층(67)을 성막한다. 전자 수송층(67)은 3 색의 발광층(66R, 66G, 66B)에 공통의 층으로서 형성된다.
전자 수송층(67)까지 형성된 기판을 금속재료 성막장치로 이동시켜 음극(68)을 성막한다.
그 후 플라스마 CVD 장치로 이동시켜 보호층(70)을 성막하여, 유기 EL 표시장치(60)를 완성한다.
절연층(69)이 패터닝 된 기판(63)을 성막장치로 반입하고 나서부터 보호층(70)의 성막이 완료될 때까지는, 수분이나 산소를 포함하는 분위기에 노출되면 유기 EL 재료로 이루어진 발광층이 수분이나 산소에 의해 열화될 우려가 있다. 따라서, 본 예에 있어서, 성막장치 간의 기판의 반입, 반출은 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기 하에서 행하여진다.
상기 실시예는 본 발명의 일 예를 나타낸 것으로, 본 발명은 상기 실시예의 구성에 한정되지 않으며, 그 기술사상의 범위내에서 적절히 변형하여도 된다.
100, 100a: 성막 시스템
110a: 성막 처리 공정 반송로
110b: 리턴 반송로
110c: 캐리어 회수 반송로
110d: 캐리어 공급 반송로
110e: 마스크 스토커 이동로
103a~103f: 성막실
105: 기판배출/반전실
107: 마스크 스톡 장치
C: 반송 캐리어
G: 기판
M: 마스크
S: 증발원

Claims (17)

  1. 기판을 소정의 반송 경로를 따라 순차 반송시키는 반송기구를 갖는 성막 시스템에 있어서,
    상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 직렬로 접속되어 있는 복수의 제1 성막실과,
    마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제1 성막실 각각과 마스크를 주고받기 위한 제1 마스크 스톡 장치를 포함하는 성막 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 마스크 스톡 장치는, 상기 제1 성막실과 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는, 복수의 지지부를 갖는 제1 카세트를 하나 이상 포함하고,
    상기 복수의 제1 성막실 각각은, 상기 제1 카세트와 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는 제1 마스크 지지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 카세트의 지지부는, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하도록 상기 제1 카세트의 양 측벽에 상하로 설치되어 있는, 카세트측 마스크 자기 부상용 레일을 포함하고,
    상기 제1 마스크 지지 유닛은, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하는, 성막실측 마스크 자기 부상용 레일을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1 카세트의 지지부는, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하도록 상기 제1 카세트의 양 측벽에 상하로 설치되어 있는, 카세트측 반송 롤러를 포함하고,
    상기 제1 마스크 지지 유닛은, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하는, 성막실측 반송 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 제1 성막실의 상기 제1 마스크 스톡 장치측의 측벽에는, 마스크의 반입 및 반출을 위한, 개폐 가능한 마스크 반출입용 밸브가 설치되어 있고,
    상기 제1 카세트는 상기 제1 마스크 스톡 장치 내에 승강가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제1 성막실에 대하여 상기 제1 마스크 스톡 장치의 반대측에, 상기 복수의 제1 성막실과 나란하게 직렬로 접속되게 배치되어 있는, 복수의 제2 성막실과,
    마스크가 수납되어 있고, 상기 복수의 제2 성막실에 대하여 상기 복수의 제1 성막실의 반대측에, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제2 성막실 각각과 마스크를 주고받기 위한, 제2 마스크 스톡 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 마스크 스톡 장치는, 상기 제2 성막실과 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는, 복수의 지지부를 갖는 제2 카세트를 하나 이상 포함하고,
    상기 복수의 제2 성막실 각각은, 상기 제2 카세트와 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는 제2 마스크 지지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2 카세트의 지지부는, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하도록 상기 제2 카세트의 양 측벽에 상하로 설치되어 있는, 카세트측 마스크 자기 부상용 레일을 포함하고,
    상기 제2 마스크 지지 유닛은, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하는, 성막실측 마스크 자기 부상용 레일을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제2 카세트의 지지부는, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하도록 상기 제2 카세트의 양 측벽에 상하로 설치되어 있는, 카세트측 반송 롤러를 포함하고,
    상기 제2 마스크 지지 유닛은, 마스크의 양 단부를 반송가능하게 지지하는, 성막실측 반송 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    상기 제2 성막실의 상기 제2 마스크 스톡 장치 측의 측벽에는, 마스크의 반입 및 반출을 위한, 개폐 가능한 마스크 반출입용 밸브가 설치되어 있고,
    상기 제2 카세트는 상기 마스크 스톡 장치 내에 승강가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  11. 반송기구에 의해 기판이 반송되면서 성막되는 성막 시스템에 있어서,
    상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 반송되면서, 마스크를 통해 기판에 증착재료가 성막되는 제1 성막실과,
    상기 마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 성막실과 마스크를 주고받기 위한 제1 마스크 스톡 장치를 포함하는 성막 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 마스크 스톡 장치는, 상기 제1 성막실과 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는, 복수의 지지부를 갖는 제1 카세트를 하나 이상 포함하고,
    상기 제1 성막실은, 상기 제1 카세트와 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는 제1 마스크 지지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 제1 성막실에 대하여 상기 제1 마스크 스톡 장치의 반대측에, 상기 제1 성막실과 나란하게 배치되어 있는, 제2 성막실과,
    마스크가 수납되어 있고, 상기 제2 성막실에 대하여 상기 제1 성막실의 반대측에, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 제2 성막실과 마스크를 주고받기 위한, 제2 마스크 스톡 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제2 마스크 스톡 장치는, 상기 제2 성막실과 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는, 복수의 지지부를 갖는 제2 카세트를 하나 이상 포함하고,
    상기 제2 성막실은, 상기 제2 카세트와 마스크를 주고받을 수 있도록, 마스크를 반송가능하게 지지하는 제2 마스크 지지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  15. 기판을 소정의 반송 경로를 따라 순차 반송시키는 반송기구를 갖는 성막 시스템에 있어서,
    성막원이 설치되어 있고, 상기 반송기구에 의한 기판의 반송 경로를 따라 직렬로 접속되어 있는 복수의 제1 성막실과,
    마스크가 수납되어 있고, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향을 따라 병설되거나 또는 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제1 성막실 각각에 마스크를 전달하기 위한 제1 마스크 스톡 장치와,
    상기 복수의 제1 성막실에 대하여 상기 제1 마스크 스톡 장치의 반대측에, 상기 복수의 제1 성막실과 나란하게 직렬로 접속되도록 배치되어 있는, 성막원이 설치되는 복수의 제2 성막실과,
    마스크가 수납되어 있고, 상기 복수의 제2 성막실에 대하여 상기 복수의 제1 성막실의 반대측에, 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향을 따라 병설되거나 또는 상기 기판의 반송 경로와 나란한 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있으며, 상기 복수의 제2 성막실 각각에 마스크를 전달하기 위한, 제2 마스크 스톡 장치와,
    성막원이 설치되어 있고, 상기 제1 성막실의 하류측에 직렬로 접속되는 하나 또는 복수의 제3 성막실과,
    상기 제3 성막실에 마스크를 전달하기 위한 제3 마스크 스톡 장치와,
    성막원이 설치되어 있고, 상기 제2 성막실의 하류측에 직렬로 접속되는 하나 또는 복수의 제4 성막실과,
    상기 제4 성막실에 마스크를 전달하기 위한 제4 마스크 스톡 장치를 포함하고,
    상기 제1 성막실 및 상기 제2 성막실에서는, 상기 기판을 정지시킨 상태에서 상기 성막원을 이동시켜 성막을 행하도록 구성되고,
    상기 제3 성막실 및 상기 제4 성막실에서는, 상기 기판을 반송 또는 회전시키면서 상기 성막원에 의해 성막을 행하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1 성막실 및 상기 제2 성막실은, 상기 기판에 유기막을 성막하는 것이고,
    상기 제3 성막실 및 상기 제4 성막실은, 상기 기판에 금속막을 성막하는 것인 것을 특징으로 하는 성막 시스템.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 성막 시스템을 사용하여 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스 제조방법.
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