KR20180091900A - 비타민 c를 전달하기 위한 이온도입 방법들, 이온도입 조성물, 키트 및 이온도입 디바이스 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 피부를 통해 비타민 C를 전달하는 이온도입 방법으로서, 그 이온도입 방법은, 연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합 중 어느 하나의 선택된 전류 프로파일을, 적어도 하나의 전극을 포함하는 임의의 디바이스 및/또는 지지체로부터 생물학적 대상에게 적용하는 단계로서, 상기 연속적인 직류 전류, 상기 펄스형 전류 또는 상기 둘 다의 조합은 비타민 C를 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 특성 및 지속기간을 갖는, 상기 적용하는 단계와, 선택된 전류 모드에 따라 상기 피부를 가로질러 비타민 C의 상이한 레이트들을 수송하는 단계를 포함한다.
Description
피부를 통해 비타민 C를 전달하는 이온도입 방법
일부 실시형태들에서, 피부를 통해 비타민 C, 예를 들어 수성 비타민 C 조성물을 전달하는 방법은, 연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합 중 어느 하나의 선택된 전류 프로파일을 적어도 하나의 전극을 포함하는 임의의 디바이스 및/또는 지지체로부터 생물학적 대상에게 적용하는 단계로서, 연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합은 비타민 C, 예를 들어 수성 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 특징이고 지속기간 동안인, 상기 적용하는 단계와, 선택된 전류 모드에 따라 피부를 가로질러 상이한 레이트들의 비타민 C를 수송하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 0.001 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지, 특히 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 동시에 전달하는 단계와, 0.005 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지, 특히 0.05 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 100 마이크로초부터 500 마이크로초까지, 특히 200 마이크로초부터 300 마이크로초까지 범위의 펄스 지속기간; 및 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지, 특히 100 헤르츠부터 300 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 조성물, 예를 들어 0.1 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들; 0.01 중량%부터 10 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들; 및 적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는 수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은,
조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하며, 상기 조성물은,
0.01 중량%부터 100 중량%까지, 바람직하게는 0.5 중량%부터 60 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상을 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은,
수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하며, 상기 수성 조성물은,
0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들;
0.01 중량%부터 10 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들; 및
적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은, 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들; 0.01 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 비-이온성 폴리머들; 및 적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는 수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 비타민 C, 특히 수성 활성제 조성물을 경피적으로 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계; 및 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 10 마이크로초부터 500 마이크로초까지 범위의 펄스 지속기간; 및 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계; 수성 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 지속기간의 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 온도, 피부의 임피던스, 및 조성물의 pH 중 적어도 하나를 측정하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 전류 프로파일의 적용은 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 안전 수준으로 감소된다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 조성물의 pH를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 pH가 pH 안전 범위를 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 안전 수준, 예를 들어 1 V 미만, 이를테면 0.5 V의 안전 수준으로 스위칭된다. pH 안전 범위는 pH 4 내지 7일 수도 있다. 일부 실시형태에서, 측정된 pH가 pH 안전 범위, 예를 들어 4부터 7까지 범위를 초과할 때, 디바이스는 pH를 재평형화하는 것을 가능하게 하기 위해 짧은 시간 동안 극성을 스위칭한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 임피던스를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 임피던스가 임피던스 안전 범위를 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 부작용을 피하기 위해 안전 수준으로 감소된다. 안전 수준은 1 V 미만, 이를테면 0.5 V일 수도 있다. 임피던스 안전 범위는 50 Ω 내지 1 MΩ일 수도 있다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 온도를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 온도가 온도 안전 값을 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 안전 수준, 예를 들어 1 V 미만, 이를테면 0.5 V로 스위칭된다. 온도 안전 값은 42 ℃ 미만으로 선택될 수도 있다.
이온도입 방법의 바람직한 실시형태들에서, 그 방법은,
-
피부의 온도를 측정하는 단계,
-
조성물의 임피던스를 측정하는 단계, 및
-
조성물의 pH를 측정하는 단계를 포함한다.
그러면, 그 디바이스는 결과들을 처리하고 미세전류 및 극성을 조정하도록 구성된다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물이 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 재료들; 및 적어도 20 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하며; 이온도입 조성물은 이온도입 조성물의 총 중량에 대하여 적어도 30중량%인 수성 상을 가진다.
일부 실시형태에서, 측정된 pH가 pH 안전 범위, 예를 들어 4부터 7까지 범위를 초과할 때, 디바이스는 pH를 재평형화하는 것을 가능하게 하기 위해 짧은 시간 동안 극성을 스위칭한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 조성물은 0.01 중량%부터 10중량%까지 범위로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들을 더 포함하며; 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상은 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 조성물은 0.01 중량%부터 20중량%까지 범위로 존재하는 하나 이상의 비-이온성 폴리머들을 더 포함하며; 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상은 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 그 조성물은 2부터 7.5까지 범위의 pH를 더 포함한다.
일부 실시형태들에서, 본 발명은 이온도입 키트를 또한 제공하는데,
그 이온도입 키트는:
- 이온도입 조성물로서,
예를 들어 위에서 설명된 바와 같은 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상을 포함하는 이온도입 조성물, 및
- 위에서 설명된 바와 같은 이온도입 방법을 수행하는 이온도입 디바이스를 포함한다.
그 조성물은 수성 조성물일 수도 있다.
이온도입 키트는 조성물이 피부에 도포될 때 비타민 C와 물이 조성물 내에서 이미 혼합되어 있도록 구성될 수도 있다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 하나를 포함할 수도 있다. 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 두 개를 포함할 수도 있다. 일 실시형태에서, 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서를 포함할 수도 있다.
디바이스는 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 전류 프로파일의 적용이 안전 수준으로 감소되도록 구성될 수도 있다.
바람직한 실시형태에서, 위의 방법은 손들 상의 그리고/또는 얼굴 상의 그리고/또는 목 상의 그리고/또는 데콜테 (d
collet
) 상의 반점들, 예를 들어 노화점들 및/또는 흑점 및/또는 주근깨들 및/또는 질병으로 인한 반점들을 감소시키는 것을 가능하게 한다. 그러면, 위의 방법은, 특히 색소침착이 처음에 너무 높은 영역들에서 피부의 색소탈실을 가능하게 한다. 본 발명의 방법의 여러 사용들 또는 단일 사용 후, 피부의 색은 더 균일하고 균질성이 증가된다.
다른 실시형태에서, 그 방법은 피부의 매끈함, 질 및 피부의 외관을 개선하기 위해, 주름들 (winkles) 및 노화 징후들을 치료하는데 사용된다.
다른 실시형태에서, 그 방법은 피부 노화방지, 및/또는 색소침착, 및/또는 부피, 및/또는 처진 주름, 및/또는 이벤트 톤 (event tone) 및/또는 반점들을 최소화하는데, 그리고/또는 피부의 견고성 (firmness), 및/또는 광채 (radiance), 및/또는 매끈함, 및/또는 부드러움을 개선하는데 사용된다. 본 발명의 방법은 마이크로 전류 (μcurrent) 에 연관된 활성제들의 도포에 연관될 수도 있다.
이온도입
디바이스는
적어도 하나의 전극과 수성 활성제를 포함하는 전극 조립체를 포함함
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는, 적어도 하나의 전극과 활성제, 특히 비타민 C, 예를 들어 수성 활성제 조성물을 포함하는 전극 조립체; 및 전극 조립체에 동작적으로 커플링되고 적어도 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동일한 전극에 동시에 생성하도록 구성되는 회로부로서, 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극은 활성제, 특히 비타민 C, 예를 들어 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 특징이고 지속기간 동안인, 상기 회로부를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 자극은 0.001 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지, 특히 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 자극은 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류 자극은 0.005 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지, 특히 0.05 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 100 마이크로초부터 500 마이크로초까지, 특히 200 마이크로초부터 300 마이크로초까지 범위의 펄스 지속기간; 및 5 헤르츠부터 500 헤르츠까지, 특히 100 헤르츠부터 300 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수를 가질 수도 있다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류 자극은 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류 자극은 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류 자극은 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 교번 극성을 갖는 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류 자극은 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도; 500 마이크로초의 교류 펄스 지속기간; 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체가 활성제, 특히 활성제 조성물, 예를 들어 수성 활성제 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 화장품 조성물, 특히 활성 조성물; 예를 들어 활성 수성 조성물을 보유하는 저장소에 전기적으로 커플링되는 적어도 하나의 활성 전극을 포함하며, 전극 조립체는, 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동시에 생성하도록 구성되는 회로부로부터의 하나 이상의 입력들에 응답하여, 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하도록 동작 가능하다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 적어도 하나의 전원에 전기적으로 커플링된다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 적어도 하나의 활성 전극 조립체와 적어도 하나의 카운터 전극 조립체를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는, 화장품 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함하며, 화장품 조성물은, 보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 (seboregulating) 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물, 또는 얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물, 또는 모발 조성물, 특히, 모발을 세정하기 위한, 모발 캐어 또는 컨디셔닝을 위한, 모발의 일시적 형태 유지 또는 성형을 위한, 모발의 일시적, 반영구적 또는 영구적 염색을 위한, 또는 이완 또는 영구적 웨이빙을 위한 조성물, 특히, 모근들 및 모발을 이완, 염색 또는 표백하기 위한 조성물, 또는 두피를 위한 조성물, 특히, 비듬방지 조성물, 모발 손실을 방지하기 위한 또는 모발의 재성장을 촉진하기 위한 조성물, 항지루 조성물, 항염증 조성물, 항과민 (anti-irritation) 또는 진정 조성물, 자국 방지 조성물 또는 두피를 자극 또는 보호하기 위한 조성물을 포함한다.
그 조성물은 수성 조성물일 수도 있다.
이온도입 키트는 조성물이 피부에 도포될 때 활성제와 물이 조성물 내에서 이미 혼합되어 있도록 구성될 수도 있다.
이온도입 디바이스는 이온도입 디바이스가 사용되는 때에만 활성제와 물이 혼합되도록 구성될 수도 있다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 하나를 포함할 수도 있다. 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 두 개를 포함할 수도 있다. 일 실시형태에서, 이온도입 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서를 포함할 수도 있다.
디바이스는 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 전류 프로파일의 적용이 안전 수준으로 감소되도록 구성될 수도 있다.
바람직한 실시형태에서, 위의 방법은 손들 상의 그리고/또는 얼굴 상의 그리고/또는 목 상의 그리고/또는 데콜테 상의 반점들, 예를 들어 노화점들 및/또는 흑점 및/또는 주근깨들 및/또는 질병으로 인한 반점들을 감소시키는 것을 가능하게 한다. 그러면, 위의 방법은, 특히 색소침착이 처음에 너무 높은 영역들에서 피부의 색소탈실을 가능하게 한다. 본 발명의 방법의 여러 사용들 또는 단일 사용 후, 피부의 색은 더 균일하고 균질성이 증가된다.
다른 실시형태에서, 그 방법은 피부의 매끈함, 질 및 피부의 외관을 개선하기 위해, 주름들 및 노화 징후들을 치료하는데 사용된다.
다른 실시형태에서, 그 방법은 피부 노화방지, 및/또는 색소침착, 및/또는 부피, 및/또는 처진 주름, 및/또는 이벤트 톤 및/또는 반점들을 최소화하는데, 그리고/또는 피부의 견고성, 및/또는 광채, 및/또는 매끈함, 및/또는 부드러움을 개선하는데 사용된다. 본 발명의 방법은 마이크로 전류 (μcurrent) 에 연관된 활성제들의 도포에 연관될 수도 있다.
일 실시형태에서, 활성제는 비타민 C이다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 방법이,
연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계로서, 캐릭터의 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 화장품 조성물을 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 지속기간 동안 전달하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 지속기간; 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도; 500 마이크로초의 펄스 지속기간; 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 교류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 펄스형 전류는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 교번 극성을 갖는 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 화장품 조성물을 전달하는 단계를 더 포함하며, 화장품 조성물은, 보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물, 얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물로부터 선택된다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은,
0.01 중량%부터 100 중량%까지, 바람직하게는 0.5 중량%부터 60 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 활성제를 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 온도, 피부의 임피던스, 및 조성물의 pH 중 적어도 하나를 측정하는 단계를 포함한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 전류 프로파일의 적용은 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 안전 수준으로 감소된다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 조성물의 pH를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 pH가 pH 안전 범위를 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 안전 수준, 예를 들어 1 V 미만, 이를테면 0.5 V의 안전 수준으로 스위칭된다. pH 안전 범위는 pH 4 내지 7일 수도 있다. 일부 실시형태에서, 측정된 pH가 pH 안전 범위, 예를 들어 4부터 7까지 범위를 초과할 때, 디바이스는 pH를 재평형화하는 것을 가능하게 하기 위해 짧은 시간 동안 극성을 스위칭한다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 임피던스를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 임피던스가 임피던스 안전 범위를 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 부작용을 피하기 위해 안전 수준으로 감소된다. 안전 수준은 1 V 미만, 이를테면 0.5 V일 수도 있다. 임피던스 안전 범위는 50 Ω 내지 1 MΩ일 수도 있다.
이온도입 방법의 일부 실시형태들에서, 그 방법은 피부의 온도를 측정하는 단계를 포함한다. 측정된 온도가 온도 안전 값을 초과할 때, 전류 프로파일의 적용은 안전 수준, 예를 들어 1 V 미만, 이를테면 0.5 V로 스위칭된다. 온도 안전 값은 42 ℃ 미만으로 선택될 수도 있다.
이온도입 방법의 바람직한 실시형태에서, 그 방법은,
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피부의 온도를 측정하는 단계,
-
조성물의 임피던스를 측정하는 단계, 및
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조성물의 pH를 측정하는 단계를 포함한다.
그러면, 그 디바이스는 결과들을 처리하고 미세전류 및 극성을 조정하도록 구성된다.
개시된 발명의 주제의 전술한 양태들 및 다수의 수반하는 장점들은 그것들이 첨부 도면들과 연계하여 취해질 때 다음의 상세한 설명에 대한 참조에 의해 더 잘 이해될 수 있기 때문에 더 쉽사리 이해될 것인데, 도면들 중:
도 1은 이온도입 디바이스의 개략적인 예시도이며;
도 2는 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 3은 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 4는 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 5는 비타민 C의 투여에 대한 상이한 전기 파형 자극들의 효능을 비교하는 전기 파형 자극의 선도이며;
도 6은 하나의 실시형태에 따른 방법의 흐름도이며;
도 7은 하나의 실시형태에 따른 방법의 흐름도이다.
도 1은 이온도입 디바이스의 개략적인 예시도이며;
도 2는 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 3은 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 4는 하나의 실시형태에 따른 전기 파형 자극의 선도이며;
도 5는 비타민 C의 투여에 대한 상이한 전기 파형 자극들의 효능을 비교하는 전기 파형 자극의 선도이며;
도 6은 하나의 실시형태에 따른 방법의 흐름도이며;
도 7은 하나의 실시형태에 따른 방법의 흐름도이다.
비타민 C 및 그것의 다양한 형태들 (예컨대, 아스코르브산, 아스코르브산 염들, L-아스코르브산, 아스코르베이트, 2-옥소-L-트레오-헥소노-1,4-락톤-2,3-엔디올, R)-3,4-디히드록시-5-((S)-1,2-디히드록시에틸)퓨란-2(5H)-온, 산화 형태 아스코르브산, 아스코르브산 데히드로아스코르빅의 음이온들 등) 이 하나 이상의 유리한 용도들을 가질 수도 있다. 예를 들어, 비타민 C는 인간들에서의 산화 스트레스에 대한 산화방지제로서 역할을 할 수도 있다. 비타민 C는 환원제 및 자유 라디칼 스캐빈저 둘 다로서 또한 역할을 할 수도 있다. 그러나, 하나의 문제는, 비타민 C가 비-수성 매질에서 매우 낮은 용해도를 가진다는 것이다. 덧붙여, 용해된다면, 비타민 C는 쉽게 산화되고 그러므로 기능을 상실한다. 따라서, 일부 실시형태들은 활성제 조성물, 예를 들어 수성 활성제 조성물, 이를테면 비타민 C를, 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하는 기술들 및 방법론들을 위한 것이다.
이온도입은 하전된 분자들을 피부 속으로 전달하기 위한 목적으로 전류를 도통하는 과정이다. 그 기법은 하전된 분자들을 전극에서부터 피부 속으로 이동시키는 반발 효과를 생성하기 위해 유사하게 하전된 전극을 관심 분자로서 사용함으로써 하전된 분자에의 약한 전류의 인가를 수반한다. 일부 실시형태들에서, 간단한 이온화의 효과 (일렉트로마이그레이션) 는 이온도입이 그 수송 성질들을 생성하게 하는 주요 메커니즘이다. 그러나, 전류에 의해 생성되는 전기삼투 (electroosmosis) 및 전기천공 (electroporation) 이라 불리는 추가적인 메커니즘들이 있다. 전기삼투는 하전되지 않은 분자들을 애노드 대 캐소드 방향으로 운반하는 용매의 흐름을 유도한다. 일부 실시형태들에서, "이온도입"은 분자의 수송이 일렉트로마이그레이션 또는 전기삼투 또는 전기천공을 통하는지에 상관없이 분자들을 피부 속으로 전달하기 위해 전류를 사용하는 기법이다.
피부 캐어 조성물들에서의 많은 활성 분자들이 이온 형태들을 가지므로, 이온도입은 이들 활성 분자들의 투여를 위한 효과적인 도구일 수 있다. 비타민 C는 L-아스코르브산이라 또한 지칭되거나, 또는 체계적인 (국제 순수 및 응용 화학 연합) 이름들에 의해, 2-옥소-L-트레오-헥소노-1,4-락톤-2,3-엔디올 또는 (R)-3,4-디히드록시-5-((S)-1,2-디히드록시에틸)퓨란-2(5H)-온이라고 지칭된다. 비타민 C는 생리적 pH에서 음으로 하전된 분자이며, 따라서, 발명자는 비타민 C가 이온도입을 통한 투여를 위한 양호한 후보일 것으로 인식한다. 따라서, 비타민 C의 피부 속으로의 투여를 위한 전기 파형 자극들을 사용하는 방법들이 개시된다. 일부 실시형태들에서, 비타민 C의 투여는 살아있는, 인간에 대해 수행된다. 일부 실시형태들에서, 비타민 C의 투여는 임의의 생물학적 대상에 대해 수행된다. 일부 실시형태들에서, 생물학적 대상들은 인간을 포함하는 포유류들을 비제한적으로 포함한다.
비타민 C의 국소 도포의 효능은 낮은데 그것이 비-수성 매질에서 매우 낮은 용해도를 가지고, 용해되면, 비타민 C가 쉽게 산화되고 그러므로 기능을 상실하기 때문이다. 일부 실시형태들에서는, 화장품에서, 비타민 C는 분자를 안정하게 하기 위해 폴리머들을 포함하는 조성물들에서 사용된다. 비록 이러한 물질들의 존재가 보통 제형화 성질들에서 긍정적인 역할을 하지만, 그 물질들은 비타민 C의 피부 속으로의 효율적인 전달을 또한 제한할 수도 있다. 따라서, 또한 개시되는 것은, 바람직하게는 아스코르브산 형태의 비타민 C의 피부 속으로의 침투를 전류들에 의해, 바람직하게는 이온도입에 의해 증가시키도록 제형화된 조성물들이다. 피부 침투 프로파일들의 분석은 펄스형 전류와 커플링된 갈바닉 전류 (직류 전류 (DC) 라도 또한 지칭됨) 가 활성제들의 국소 수송을 상당히 개선하였음을 시사한다. 일부 실시형태들에서, 이러한 활성제들은 분자의 침투가 "이온도입"에 의해 효율적으로 향상되는 촉진된 흡수 상을 주로 포함하는 아스코르브산 형태의 비타민 C를 포함한다. 피부 침투 속도는 비타민 C의 물리화학적 성질들 외에, 제형화 성분들의 영항으로 인해 주로 적용되는 제형화의 유형에 대해 증가한다.
도 1을 참조하면, 이온도입 디바이스 및 전극 조립체가 개략적으로 예시된다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스 및 전극 조립체는 전원 (102), 전류 파형 생성기 (104), 제 1 (활성) 전극 (114), 제 2 (카운터 또는 회귀) 전극 (116), 플런저 (112), 및 제 1 전극 (114) 단부의 저장소 (120) 를 포함한다. 이온도입 디바이스들은 추가적인 특징들 또는 더 적은 특징들로 이용가능하다는 것이 이해된다. 그러므로, 다른 디바이스들은 도시되지 않은 많은 다른 컴포넌트들을 포함하거나 또는 도시되는 컴포넌트들의 일부를 실행할 수도 있다. 도 1의 목적은 본 명세서에서 개시되는 비타민 C 조성물들 또는 다른 활성제 조성물들의 도포를 위해 다양한 방법들의 실시형태들 중 하나 이상을 실행하는데 사용되는 이온도입 디바이스의 주요한 기능적 컴포넌트들의 일부를 예시하고 설명하는 것이다. 도 1에서 암시적이고 내재하는 것은 이온도입 디바이스의 기능들을 수행하기 위해 사용되는 회로부라는 것이 이해되어야 한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 처치 동안 한 손으로 수행하기에 적합한 핸드헬드 디바이스로서 패키징된다. 핸드헬드 디바이스들을 사용한 처치는 활성 전극 (114) 이 접촉하는 동안 피부의 표면을 가로질러 이동되도록 이온도입 디바이스를 피부 위에서 일정하게 이동시키는 것을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 고정 데스크톱 디바이스로서 패키징되고, 활성 전극 (114) 은 움직이지 않고 피부 상의 단일 로케이션에, 이를테면 접착제를 통해 가해진다. 이온도입 디바이스의 주요 기능적 컴포넌트들은 이제 설명될 것이다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 전원 (102) 을 포함한다. 적합한 전원이 다양한 다른 회로들 및 디바이스들에 전력을 공급하기 위해 전류를 생성할 수 있는 임의의 전원일 것이다. 일부 실시형태들에서, 배터리가 전원으로서 사용된다. 덧붙여, 일부 실시형태들에서, 변압기에 커플링된 교류 전원이 전원 (102) 에 접속될 수도 있다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 벽 소켓에 꽂혀진다. 일부 실시형태들에서, 전원 (102) 은 연속적인 직류 전류를 생성한다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 연속적인 직류 전류 외의 전기 파형들을 생성하는데 사용된다. 전원 (102) 은 음극과 양극을 가진다. 일반적으로, 음의 극성이 제 1 전극 (114) 에 인가될 것이다. 그러나, 회로부 및 전기 디바이스들, 이를테면 스위치들을 통해, 제 1 (114) 및 제 2 (116) 전극들의 극성들은 펄스 및 교류 전류 파형들을 성취하기 위해 순간적으로 반전될 수 있다.
일부 실시형태들에서, 전원 (102) 은 전류 파형 생성기 (104) 에 접속된다. 전류 파형 생성기 (104) 는 다양한 유형들의 전류 파형들을 생성하는 기능을 한다. 일부 실시형태들에서, 전류 파형 생성기 (104) 는 본 명세서에서 설명되는 회로부와 같은 하드웨어 및 소프트웨어를 통해 파형들을 생성한다. 일부 실시형태들에서, 파형 생성기 (104) 는 전극 조립체에 동작적으로 커플링되는 회로부를 포함하고, 그 회로부는, 캐릭터의 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극인, 적어도 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동일한 전극에 동시에, 화장품 조성물을 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 지속기간 동안 생성하도록 구성된다. 전류 생성기 (104) 는 제 1 (114) 및 제 2 (116) 전극들에 접속되고 전류 자극들을 본 명세서에서 설명되는 다양한 파형들로 인가하기 위해 전극들을 가로질러 전위를 인가할 수 있다. 이를 위해, 전류 파형 생성기 (104) 는 펄스 생성기 (106) 와 극성 생성기 (108) 를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 기능적으로, 펄스 생성기 (106) 는 제어된 진폭 및 지속기간의 전류의 펄스들을 생성한다. 일부 실시형태들에서, 기능적으로, 극성 생성기 (108) 는 제 1 전극 (114) 및 제 2 전극 (116) 에서 극성을 제어한다. 일부 실시형태들에서, 극성 생성기 (108) 는 제 1 (114) 및 제 2 (116) 전극들의 극성들을 일정하게 유지한다. 일부 실시형태들에서, 극성 생성기 (108) 는 제로 극성을 제 1 및 제 2 (116) 전극들에 인가한다. 일부 실시형태들에서, 극성 생성기 (108) 는 미리 정의된 레이트 및 지속기간의 펄스들로 제 1 및 제 2 (116) 전극들에 극성을 인가한다. 일부 실시형태들에서, 극성 생성기 (108) 는 제 1 (114) 및 제 2 (116) 전극들의 극성들을 미리 정의된 레이트 또는 간격으로 반전시킨다. 일부 실시형태들에서, 극성 생성기 (116) 는 일정한 극성, 펄스들, 또는 역 극성을 미리 정의된 지속기간들 동안, 순차적으로 또는 임의의 순서로 인가하도록 구성된다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 제어기 (122) 를 포함할 것이다. 일부 실시형태들에서, 기능적으로, 제어기 (122) 는 사용자 인터페이스 (124) 로부터 입력을 수신할 것이고, 펄스 생성기 (106) 및 극성 생성기 (108) 와 연계하여, 사용자/오퍼레이터에 의해 입력된 사양들로 전류 밀도 파형들을 제어한다. 일부 실시형태들에서, 제어기 (122), 펄스 생성기 (106), 및 극성 생성기 (108) 는 하드웨어 컴포넌트들, 이를테면 아날로그 회로부, 디지털 회로부, 마이크로프로세서들, 또는 그 조합들, 또는 소프트웨어 컴포넌트들로 구현된다.
일부 실시형태들에서, 제어기 (122) 는 인가될 파형 자극에 의존하여 다양한 파라미터들을 입력할 것을 사용자에게 안내하는 명령들을 가진다. 사용자 인터페이스 (124) 는 사용자에게 정보를 프롬프트할 수 있다. 일부 실시형태들에서, 제어기 (122) 는 전류 밀도 자극 출력 파형을 위해 일정 (DC) 값, 펄스 파, 또는 일정 값 및 펄스 파 두 다로부터 자극 출력을 선택할 것을 사용자에게 요청할 것이다. 일단 제어기 (122) 가 하나 이상의 자극 파 유형들의 입력을 수신하면, 제어기 (122) 는 선택된 파 출력 유형 또는 유형들에 대응하는 파라미터들을 사용자 인터페이스 (124) 상에서 사용자에게 프롬프트한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 사용자 인터페이스 (124) 를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 기능적으로, 사용자 인터페이스 (124) 는 전기 자극들로서 인가될 파형 유형들에 관련한 데이터의 입력을 위한 것이다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 영숫자 키보드와 디스플레이를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 데이터를 메모리 속에 입력하기 위한 방향 화살표 버튼들과 엔터 버튼을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 영숫자 키보드는 터치 스크린 디스플레이로서 구현된다. 일부 실시형태들에서, 파 파라미터들의 입력은 텍스트 박스들의 사용을 통한다. 일부 실시형태들에서, 파 파라미터들의 입력은 스크롤링 메뉴들의 사용을 통한다.
데이터 입력의 방식에 상관없이, 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 정보를 입력하기 위해 사용자에게 다양한 프롬프트들을 전달한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 처치 단계의 지속기간을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 처치 단계의 지속기간은 임의의 하나 이상의 파 유형들의 전류의 인가 시간의 합이고 전류가 펄스 파들에 대해 오프되는 시간을 포함한다. 예를 들어, 50%의 듀티 사이클로 설정된 펄스 파가 시간의 50% 동안 전류 오프를 가지는데, 이는 각각의 펄스가 각각의 펄스 사이클의 절반임을 의미한다. 그러나, 처치 지속기간은 펄스 사이클의 오프 기간을 포함할 것이다.
일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 전류 밀도 출력이 연속적인 직류 전류인지, 펄스 전류인지, 교류 펄스 전류인지, 또는 임의의 조합인지와, 각각의 파 유형의 지속기간을 입력하는 것을 사용자에게 허용하는 옵션들을 제공한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 상이한 파 유형들이 서로 중첩되는지의 여부를 사용자에게 프롬프트한다. 예를 들어, 펄스 파가 연속적인 직류 전류 파 상에 중첩될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 상이한 파 유형들이 시퀀스로 결합되는지의 여부를 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 각각의 파 유형에 대해 출력할 전류 밀도 값들을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 평균 전류 밀도, 제곱 평균 제곱근 전류 밀도, 또는 피크 전류 밀도로서 입력된다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는, 대응하는 일정한 또는 펄스형 전류 출력과 함께, 제 1 전극 (114) 에서, 양, 음, 또는 교류를 위한 둘 다를 포함하는 극성을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 전극의 단면적들을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 피부 온도를 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 펄스들의 주파수, 펄스들의 최대 및 최소 진폭들, 그리고 펄스들의 지속기간을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 단방향성 펄스들의 % 듀티 사이클을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 각각의 이극 펄스들의 % 듀티 사이클을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 펄스들 사이의 시간을 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 파속 (파열) 의 지속기간과, 파속들의 주파수를 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 파속 (파열) 에서의 펄스들의 수를 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 또는 삼각형 파형들을 포함하는 펄스 파 형상을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 처치 영역을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 교번하는 양 및 음의 펄스들을 인가할지의 여부를 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 펄스들이 단극 또는 이극인지의 여부를 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다.
단극 펄스는 펄스형 전류가 하나의 방향으로 이동함을 의미한다. 이극 펄스는 펄스형 전류가 두 방향들 또는 역 방향들로 이동함을 의미한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 음의 펄스 대 양의 펄스의 비율 또는 양의 펄스 대 음의 펄스의 비율을 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 둘 이상의 상이한 파형들을 동시에 제공하기 위해 임의의 연속적인 직류 전류 파형과 임의의 펄스 파형을 결합할지의 여부를 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 둘 이상의 파형들을 동시에, 동기적으로, 순차적으로, 또는 번갈아 인가할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 파형들이 교번하면 각각의 파형의 지속기간 및 각각의 파형의 사이클 시간을 입력할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서, 사용자 인터페이스 (124) 는 펄스 간격 지속기간을 사용자에게 프롬프트한다.
일부 실시형태들에서, 단일 처치에서 둘 이상의 파형들을 사용할 때, 사용자 인터페이스 (124) 는 상이한 파형들의 처치 지속기간들과, 각각의 파형이 얼마나 자주 순환하는지를 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다. 일부 실시형태들에서 연속적인 직류 전류가 펄스 파와 동시에 사용될 때, 사용자 인터페이스 (124) 는 펄스 파의 파라미터들을 특정할 것을 사용자에게 프롬프트한다.
일부 실시형태들에서, 제어기 (122) 는 파 유형 정보가 입력되도록 하는 적절한 프롬프트들을 사용자에게 제시할 것을 사용자 인터페이스 (124) 에게 지시하는 로직 루틴들을 수행한다. 그러면 제어기 (122) 는 펄스 생성기 (106) 및 극성 생성기 (108) 를 비제한적으로 포함하는 회로부를 통해, 사용자 입력 파라미터들에 따른 적절한 자극 파를 생성하기 위해 파 유형 파라미터들을 사용한다.
일부 실시형태들에서, 활성 전극이라고 또한 지칭되는 제 1 전극 (114) 은 파형 생성기 (104) 를 통해 전원 (102) 에 접속된다. 제 1 전극 (114) 은 비타민 C 조성물 또는 임의의 활성제 조성물을 보유하는 저장소 (102) 를 자신의 단부에 포함한다. 일부 실시형태들에서, 저장소 (120) 는 제 1 전극 (114) 단부의 중공 함요부 (indentation) 인데, 그 저장소는 겔 또는 겔 유사 비타민 C 조성물을 포함하는데 사용된다. 대안적으로, 일부 실시형태들에서, 저장소 (120) 는 비타민 C 조성물을 포함하기 위한 흡수제 재료이다. 일부 실시형태들에서, 일반적으로, 제 1 전극 (114) 의 설계는 음의 극성을 갖는 제 1 전극 (114) 을 고려한다. 이온도입 디바이스가 핸드헬드 디바이스로서 패키징될 때, 제 1 전극 (114) 에는 플런저 (112) 에 의해 피딩되는 볼 및 소켓과 같은 한 유형의 롤-온 도포기 (roll-on applicator) 가 제공된다.
피부 (118) 는 시스템 상의 부하를 나타낸다.
일부 실시형태들에서, 카운터 또는 회귀 전극으로서 또한 지칭되는 제 2 전극 (116) 은, 파형 생성기 (104) 를 통해 전원 (102) 에 접속된다. 제 2 전극 (116) 의 극성은 제 1 전극 (114) 의 극성의 반대가 되도록 파형 생성기 (104) 에 의해 유지된다. 일부 실시형태들에서, 일반적으로, 제 2 전극 (116) 의 설계는 양의 극성을 갖는 제 2 전극 (116) 을 고려한다. 일부 실시형태들에서, 제 2 전극 (116) 은 처치를 받는 사람에 의해 보유되는 핸드헬드 전극이다. 다른 실시형태들에서, 제 2 전극 (116) 은 제 2 전극이 디바이스 사용자에 의해 보유되고 처치를 받는 사람의 피부 상에 사용자에 의해 가해지도록 하는 절연 커버와 노출된 팁을 가진다.
일부 실시형태들에서, 제 1 전극 (114) 상의 저장소 (120) 는 플런저 (112) 에 접속된다. 일부 실시형태들에서, 기능적으로, 플런저 (112) 는 저장소 (120) 내의 비타민 C 조성물 또는 임의의 활성제 조성물을 보충한다. 일부 실시형태들에서, 플런저 (112) 는 실린더형 컨테이너 내에 피스톤 및 푸시 로드를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 플런저 (112) 는 이온도입 디바이스의 사용자에 의한 처치 동안 동작되는 트리거 메커니즘에 의해 동작된다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 활성 (도너) 및 회귀 (카운터) 전극 조립체들, 피부 접촉 층, 및 활성제 층을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 다중 적층 구조를 갖는 활성 및 회귀 전극 조립체들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 활성제 조성물을 수동적 확산 또는 이온도입을 통해 전달하도록 구성되는 다중 적층 구조를 갖는 전극 조립체들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 폴리머 매트릭스들의 다중 층들에 의해 각각 형성되는 활성 및 회귀 전극 조립체들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 도전성 수지 필름 전극 층, 친수성 겔 저장소 층, 알루미늄 또는 은 포일 도체 층, 및 절연 배킹 층을 갖는 전극 조립체들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 이온도입 패치 설계를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 이온도입 다중 적층 설계를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 이온도입 안면 마스크 설계를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 이온도입 연성 기판 설계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 적어도 하나의 전극과, 공동, 겔, 적층, 멤브레인, 다공성 구조, 매트릭스, 기판 등과 같은 저장소에 저장되는 에이전트를 갖는 하나 이상의 조성물들을 포함한다. 활성제들의 비제한적 예들은 전기-삼투 흐름을 통해 전달될 수 있는 전기적으로 중성 에이전트들, 분자들, 또는 화합물들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 중성 에이전트들은, 예를 들어, 전기이동 동안 용매의 흐름에 의해 운반된다. 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스가 전극과, 비타민 C 조성물 또는 임의의 에이전트 조성물의 유효량을 포함하는 저장소를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 저장소가 엘리먼트, 조성물, 화합물, 활성제, 약학 조성물 등을 액체 상태, 고체 상태, 기체 상태, 혼합 상태 또는 전이 상태에서 유지하기 위해 채용되는 임의의 형태 또는 물질을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 저장소가 엘리먼트, 조성물, 화합물, 활성제, 약학 조성물, 전해질 용액 등을 적어도 일시적으로 유지할 수 있는 하나 이상의 이온 교환 멤브레인들, 반투 (semi-permeable) 멤브레인들, 다공성 멤브레인들 또는 겔들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 저장소가 구조에 의해 형성된 하나 이상의 공동들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 저장소가 엘리먼트, 조성물, 화합물, 활성제, 약학 조성물, 전해질 용액 등을 기전력 또는 전류에 의한 생물학적 계면 속으로의 방전 전에 유지하는 역할을 한다. 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 활성제 저장소 및 생물학적 계면 사이의 극성 선택 장벽으로서 역할을 하도록 위치될 수도 있는 하나 이상의 이온 교환 멤브레인들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 전극 조립체가 전극과 유효량의 비타민 C 조성물 또는 임의의 활성제 조성물, 예를 들어 수성 활성제 조성물을 포함하는 저장소를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 활성 전극 조립체에 커플링되는 회로부를 포함하는데, 그 회로부는 펄스형 또는 연속적인 것으로부터 적어도 전류 자극들을 동시적 방식으로 생성하도록 구성된다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 이온도입 디바이스와 도 1에 예시된 전류 파형 생성기 (104) 내에 포함된다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 활성 및 대향 전극들을 가로질러 전위를 인가하며, 회로부는 선택된 파형, 진폭, 지속기간, 극성의 전류 자극을 생성한다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 활성제를 생물학적 대상에게 전달하기 위하여 활성제들의 전기 반발을 초래한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는, 무엇보다도, 프로세서 (예컨대, 마이크로프로세서, 양자 프로세서, 큐비트 프로세서 등), 중앙 프로세싱 유닛 (CPU), 디지털 신호 프로세서 (DSP), 주문형 집적회로 (ASIC), 필드 프로그램가능 게이트 어레이 (FPGA) 등, 또는 그것들의 임의의 조합들과 같은 하나 이상의 컴퓨팅 디바이스들을 포함하고, 이산 디지털 또는 아날로그 회로 엘리먼트들 또는 전자기기, 또는 그 조합들을 포함할 수 있다. 일부 실시형태들에서, 모듈이 복수의 미리 정의된 로직 컴포넌트들을 갖는 하나 이상의 ASIC들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 모듈이 복수의 프로그램가능 로직 컴포넌트들을 각각 갖는 하나 이상의 FPGA들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 하나 이상의 전기회로들, 인쇄 회로들, 도전체들, 전극들, 전기지짐 (electrocautery) 전극들, 공동 공진기들, 도통 트레이스들, 세라믹 패턴 전극들, 전기-기계 컴포넌트들, 트랜스듀서들 등을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 서로에게 동작적으로 커플링되는 (예컨대, 통신적으로, 전자기적으로, 자기적으로, 초음파적으로, 광학적으로, 유도적으로, 전기적으로, 용량적으로 커플링되는, 무선으로 등으로 커플링되는) 하나 이상의 컴포넌트들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 하나 이상의 원격으로 위치된 컴포넌트들을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 원격으로 위치된 컴포넌트들은, 예를 들어, 무선 통신을 통해 동작적으로 커플링된다. 일부 실시형태들에서, 원격으로 위치된 컴포넌트들은, 예를 들어, 하나 이상의 통신 모듈들, 수신기들, 송신기들, 트랜시버들 등을 통해 동작적으로 커플링된다.
일부 실시형태들에서, 회로부는, 예를 들어, 명령들 또는 정보를 저장하는 메모리를 포함한다. 메모리의 비제한적 예들은 휘발성 메모리 (예컨대, 랜덤 액세스 메모리 (RAM), 동적 랜덤 액세스 메모리 (DRAM) 등), 비휘발성 메모리 (예컨대, 판독전용 메모리 (ROM), 전기 소거가능 프로그램가능 판독전용 메모리 (EEPROM), 콤팩트 디스크 판독전용 메모리 (CD-ROM) 등), 영구적 메모리 등을 포함한다. 메모리의 추가의 비제한적 예들은 소거가능 프로그램가능 판독전용 메모리 (EPROM), 플래시 메모리 등을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 메모리는, 예를 들어, 하나 이상의 명령들, 정보, 또는 파워 버스들에 의해 하나 이상의 컴퓨팅 디바이스들에 커플링된다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 하나 이상의 컴퓨터-판독가능 매체 드라이브들, 인터페이스 소켓들, 유니버셜 직렬 버스 (USB) 포트들, 메모리 카드 슬롯들 등과, 예를 들어, 그래픽 사용자 인터페이스, 디스플레이, 키보드, 키패드, 트랙볼, 조이스틱, 터치-스크린, 마우스, 스위치, 다이얼 등과 같은 하나 이상의 입출력 컴포넌트들, 그리고 임의의 다른 주변 디바이스를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 모듈이, 예를 들어, 턴-ON 전압에서의 검출된 시프트들에 응답하여 하나 이상의 조직 (tissue) 열 성질들을 결정하는 것에 연관된 적어도 하나의 파라미터를 (전기, 전기기계식, 소프트웨어 구현, 펌웨어 구현, 또는 다른 제어, 또는 그 조합들로) 제어하도록 구성되는 적어도 하나의 컴퓨팅 디바이스에 동작적으로 커플링되는 하나 이상의 사용자 입출력 컴포넌트들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 신호 보유 (signal-bearing) 매체 (예컨대, 컴퓨터-판독가능 메모리 매체, 컴퓨터-판독가능 기록 매체 등) 를 수용하도록 구성되는 컴퓨터-판독가능 매체 드라이브 또는 메모리 슬롯을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 시스템으로 하여금 개시된 방법들 중 임의의 방법을 실행하게 하는 프로그램이, 예를 들어, 컴퓨터-판독가능 기록 매체, 신호 보유 매체 등 상에 저장될 수 있다. 신호 보유 매체의 비제한적 예들은 자기 테이프, 플로피 디스크, 하드 디스크 드라이브, 콤팩트 디스크 (CD), 디지털 비디오 디스크 (DVD), 블루레이 디스크, 디지털 테이프, 컴퓨터 메모리 등과 같은 기록가능형 매체, 뿐만 아니라 디지털 또는 아날로그 통신 매체 (예컨대, 광섬유 케이블, 도파관, 유선 통신 링크, 무선 통신 링크 (예컨대, 수신기, 송신기, 트랜시버, 송신 로직, 수신 로직 등)) 와 같은 송신 유형 매체를 포함한다. 게다가, 신호 보유 매체의 비제한적 예들은, DVD-ROM, DVD-RAM, DVD+RW, DVD-RW, DVD-R, DVD+R, CD-ROM, 수퍼 오디오 CD, CD-R, CD+R, CD+RW, CD-RW, 비디오 콤팩트 디스크들, 수퍼 비디오 디스크들, 플래시 메모리, 자기 테이프, 광자기 디스크, MINIDISC, 비휘발성 메모리 카드, EEPROM, 광 디스크, 광 스토리지, RAM, ROM, 시스템 메모리, 웹 서버 등을 비제한적으로 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 음향 트랜스듀서들, 전기음향 트랜스듀서들, 전기화학적 트랜스듀서들, 전자기 트랜스듀서들, 전기기계식 트랜스듀서들, 정전기 트랜스듀서들, 광전 트랜스듀서들, 무선음향 트랜스듀서들, 열전기 트랜스듀서들, 초음파 트랜스듀서들 등을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 트랜스듀서 (예컨대, 액추에이터, 모터, 압전 결정, MEMS (Micro Electro Mechanical System) 등) 와 전기적으로 커플링되는 전기 회로부를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 회로부는 적어도 하나의 이산 전기 회로를 갖는 전기 회로부, 적어도 하나의 집적 회로를 갖는 전기 회로부, 또는 적어도 하나의 주문형 집적회로를 갖는 전기 회로부를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 회로부는
컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 범용 컴퓨팅 디바이스 (예컨대, 본 명세서에서 설명되는 프로세스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램 및/또는 디바이스들에 의해 구성되는 범용 컴퓨터, 또는 본 명세서에서 설명되는 프로세스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램 및/또는 디바이스들에 의해 구성되는 마이크로프로세서) 를 형성하는 전기 회로부, 메모리 디바이스 (예컨대, 메모리의 형태들 (예컨대, 랜덤 액세스, 플래시, 판독 전용 등)) 를 형성하는 전기 회로부, 통신 디바이스 (예컨대, 모뎀, 통신 스위치, 광-전기 장비 등) 를 형성하는 전기 회로부, 및/또는 그것에 대한 임의의 비-전기 아날로그, 이를테면 광학적 또는 다른 유사물들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 회로부는 생물학적 대상에 연관된 적어도 하나의 생리적 특성을 검출하도록 구성되는 하나 이상의 센서들을 포함한다.
이온도입 디바이스 및 회로부를 설명하였지만, 일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 적어도 하나의 전극 및 화장품 조성물을 포함하는 전극 조립체를 포함하고; 회로부는 전극 조립체에 동작적으로 커플링되고, 캐릭터의 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극인 적어도 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동일한 전극에 동시에, 화장품 조성물을 생물학적 대상에 전달하기에 충분한 지속기간 동안 생성하도록 구성된다.
일부 실시형태들에서, 동작 동안, 이온도입 디바이스는 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭, 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭, 2 펄스부터 20 펄스까지를 갖는 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속의 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭, 교번 극성을 갖는 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열), 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속의 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 디바이스는 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도, 500 마이크로초의 교류 펄스 지속기간, 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하도록 구성되는 회로부를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 활성제 조성물, 예를 들어 수성 활성제 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 화장품 조성물, 특히 활성제 조성물; 예를 들어 활성제 수성 조성물을 보유하는 저장소에 전기적으로 커플링되는 적어도 하나의 활성 전극을 포함하며, 전극 조립체는, 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동시에 생성하도록 구성되는 회로부로부터의 하나 이상의 입력들에 응답하여, 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하도록 동작 가능하다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 적어도 하나의 전원에 전기적으로 커플링된다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는 적어도 하나의 활성 전극 조립체와 적어도 하나의 카운터 전극 조립체를 포함한다.
이온도입 디바이스의 일부 실시형태들에서, 전극 조립체는, 화장품 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함하며, 화장품 조성물은, 보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물, 또는 얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물, 또는 모발 조성물, 특히, 모발을 세정하기 위한, 모발 캐어 또는 컨디셔닝을 위한, 모발의 일시적 형태 유지 또는 성형을 위한, 모발의 일시적, 반영구적 또는 영구적 염색을 위한, 또는 이완 또는 영구적 웨이빙을 위한 조성물, 특히, 모근들 및 모발을 이완, 염색 또는 표백하기 위한 조성물, 또는 두피를 위한 조성물, 특히, 비듬방지 조성물, 모발 손실을 방지하기 위한 또는 모발의 재성장을 촉진하기 위한 조성물, 항지루 조성물, 항염증 조성물, 항과민 또는 진정 조성물, 자국 방지 조성물 또는 두피를 자극 또는 보호하기 위한 조성물을 포함한다.
도 2 내지 도 4는 비타민 C 또는 임의의 다른 수성 활성제 조성물을 투여하기 위해 이온도입 디바이스의 회로부에 의해 생성되는 대표적인 전류 밀도 파형들의 전기 자극들의 실시형태들을 예시한다.
도 2를 참조하면, 제 1 전류 밀도 파형이 이온도입을 위해 예시된다. 도 2는 도 1의 회로부 및 이온도입 디바이스에 의해 생성될 수 있는 파형의 하나의 실시형태를 예시한다. 도 1은 연속적인 직류 전류 파형 자극을 예시한다. 전류 밀도 파형은 이온도입 처치의 지속기간 또는 임의의 일부에 대해 평균 상수 값으로 제어된다. 일부 실시형태들에서, 상수 값으로 제어되는 전류 밀도 파형이 연속적인 직류 전류이라 지칭되고, "직류 전류", "DC 전류", "갈바닉 전류", 및 "DC"라는 용어들이 교환 가능하다. 일부 실시형태들에서, 음의 전류 밀도는 제 1 전극 (114) 의 극성이 음이라는 것을 의미한다. 제 1 전극이 음의 극성을 가질 때 제 2 전극 (116) 은 양의 극성을 가진다. 협약에 따라, 이는 전류가 제 2 양의 전극 (116) 으로부터 제 1 음의 전극 (114) 으로 흐름을 의미한다. 반대로, 제 1 전극 (114) 이 양의 극성을 가지고 제 2 전극 (116) 이 음의 극성을 가질 때, 전류는 제 1 양의 전극 (114) 으로부터 제 2 음의 전극 (116) 으로 흐르고, 이는 그래프 상에서 전류 밀도의 양의 값에 의해 표현될 것이다. 기존대로, 전자들은 전류에 반대 방향으로, 즉, 음의 극성부터 양의 극성으로 흐르도록 정의될 것이다. 전류 밀도는 (활성 전극의 단면의) 면적 단위 당 암페어 단위들로서 정의된다.
도 2가 특정한 연속적인 직류 전류 밀도 값 및 지속기간을 묘사하지만, 예시된 값들은 예시적인 것임이 이해될 이해되어야 한다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 0.5 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 0.2 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 0.01 mA/cm2과 0.5 mA/cm2 사이로 제어된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 다음의 값들, 즉, 0.01, 0.05, 0.1, 0.15, 0.2, 0.25, 0.3, 0.35, 0.4, 0.45, 0.5 mA/cm2 중 어느 하나의 값으로 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 범위로 제어된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 진폭은 위의 값들 중 임의의 값으로 제어되고 전류는 적어도 1 분의 지속기간 동안 인가된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 진폭은 위의 값들 중 임의의 값으로 제어되고 전류는 10 분부터 20 분까지의 지속기간 동안 인가된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 진폭은 위의 값들 중 임의의 값으로 제어되고 전류는 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5, 10, 10.5, 11, 11.5, 12, 12.5, 13, 13.5, 14, 14.5, 15, 15.5, 16, 16.5, 17, 17.5, 18, 18.5, 19, 19.5, 20, 20.5, 21, 21.5, 22, 22.5, 23, 23.5, 24, 24.5, 25, 25.5, 26, 26.5, 27, 27.5, 28, 28.5, 29, 29.5, 30, 30.5, 31, 31.5, 32, 32.5, 33, 33.5, 34, 34.5, 35 35.5, 36, 36.5, 37, 37.5, 38, 38.5, 39, 39.5, 40, 40.5, 41, 41.5, 42, 42.5, 43, 43.5, 44, 44.5, 45, 45.5, 46, 46.5, 47, 47.5, 48, 48.5, 49, 49.5, 50, 50.5, 51, 51.5, 52, 52.5, 53, 53.5, 54, 54.5, 55, 55.5, 56, 56.5, 57, 57.5, 58, 58.5, 59, 59.5, 60, 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위의 지속기간 (분 단위) 동안 인가된다. 도 2의 연속적인 직류 전류 파형의 실시형태들 중 일부의 실시형태들에서, 파형의 지속기간 동안 제 1 전극 (114) 은 음이고 제 2 전극 (116) 은 양이다.
도 3을 참조하면, 제 2 전류 밀도 파형이 이온도입을 위해 예시된다. 도 3은 도 1의 회로부 및 이온도입 디바이스에 의해 생성될 수 있는 파형의 하나의 실시형태를 예시한다. 도 3은 펄스 파를 도시한다. 전류 밀도 파형은 이온도입 처치의 지속기간 또는 임의의 일부에 대해 음의 펄스들 (극성이 전극 (114) 에서 음임) 로 제어된다. 일부 실시형태들에서, 극성은 반전될 수 있다. 도 3의 펄스들은 단극성인데, 이는 전류가 하나의 방향으로 이동함을 의미한다. 도 3의 펄스가 최대 진폭을 가진다. 펄스 파형은 최소 진폭으로부터 증가하며, 최대 진폭에 도달한 다음, 최소 진폭으로 감소하며, 최소 진폭으로 유지될 것이고, 사이클은 반복될 것이다. 일부 실시형태들에서, 펄스가 최소 진폭부터 시작하여, 최대 진폭에 도달한 다음, 최소 진폭으로 복귀하게 카운트된다. 따라서, 펄스는 최소 진폭의 기간을 포함하지 않는다. 일부 실시형태들에서, 펄스 사이클이 최소 진폭에서의 기간을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 최대 및 최소 진폭들의 지속기간들은 동일하다.
일부 실시형태들에서, 펄스 파는 % 듀티 사이클을 갖도록 표시된다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파에 대해 % 듀티 사이클을 표시하는 것은 전류가 % 듀티 사이클 동안 온이라는 것을 의미한다. 예를 들어, 50 % 듀티 사이클은 전류가 펄스 사이클의 50% 동안 온이고 50% 동안 오프임을 의미하고, 30% 듀티 사이클은 전류가 펄스 사이클의 30% 동안 온이고 70% 동안 오프임을 의미한다. 일부 실시형태들에서, 단방향성 펄스들의 % 듀티 사이클은 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95, 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 각각의 이극 펄스의 % 듀티 사이클은 0.01, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95, 100 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스들의 듀티 사이클은 1%부터 90%까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, "온" 기간을 의미하는 펄스는 시간의 단위를 갖는 지속기간으로서 표시될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 "오프" 기간은 지속기간으로서 표시될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 초 당 사이클 수를 의미하는 헤르츠로 표시될 것이다. 일부 실시형태들에서, 펄스들은 제 1 및 제 2 전극들의 극성들을 음과 양 사이에서 교번함으로써 반전될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 이극 펄스들, 교류 펄스들, 양방향성 펄스들, 및 반전 펄스들이 동일한 것을 의미한다. 일부 실시형태들에서, 음의 전류 밀도 펄스들에는, 최소에 유지되는 일 없이, 양의 전류 밀도 펄스들이 뒤따를 것이다. 음 및 양의 전류 밀도 펄스들 둘 다를 포함하는 펄스 파형이 음의 펄스들에 대한 최대 값, 양의 펄스들에 대한 최대 값을 포함하고, 그 값들은 동일할 필요가 없다. 게다가, 일부 실시형태들에서, 음의 전류 밀도 펄스의 지속기간은 양의 전류 밀도 펄스의 지속기간과 동일할 필요가 없다. 일부 실시형태들에서, 펄스들의 지속기간은, 펄스들이 음인지 또는 양인지에 상관없이, 동일한 지속기간일 필요가 없다.
일부 실시형태들에서, 펄스 파형이 둘 이상의 펄스 파형들을 동시에 또는 번갈아 결합할 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파형은 음의 펄스들과, 뒤따르는 양의 펄스들을 포함할 수 있다. 따라서, 음의 펄스들에 대한 최대 및 최소 진폭과 양의 펄스들에 대한 최대 및 최소 진폭을 가진다.
도 3이 최대 및 최소 펄스 진폭들 및 펄스 지속기간의 특정한 전류 밀도 값들을 묘사하지만, 예시된 값들은 단지 예시적이라는 것이 이해되어야 한다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 많아야 0.2 mA/cm2으로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.5 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.2 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.05 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.2 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.01, 0.05, 0.1, 0.15, 0.2, 0.25, 0.3, 0.35,0.4, 0.45, 0.5 mA/cm2으로 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 범위로 제어된다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 제곱 평균 제곱근 (rms) 으로서 주어진다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 평균 전류 밀도로서 주어진다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 피크 전류 밀도로서 주어질 수 있는데, 이는 각각 50% 및 25%의 듀티 사이클을 갖는 1 mA/cm2 또는 2mA/cm2 정도로 높을 수 있다.
일부 실시형태들에서, 펄스는 최대 진폭에 대해 양의 일정 기울기 (수직이 아님) 와, 뒤따르는 일정한 최대 진폭의 지속기간과, 뒤따르는 0에 대한 음의 일정 기울기 (수직이 아님), 뒤따르는 0에서의 지속기간을 가진다. 일부 실시형태들에서, 최소는 0이 아닐 수 있다. 일부 실시형태들에서, 기울기는, 지수와 같이, 일정한 것이 아닐 수 있다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 펄스들은 삼각형이 아니다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 펄스들은 최대 및 최소 진폭들이 동일한 지속기간이거나 또는 아닌 정사각형 파이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 펄스들은 정사각형 파가 아니다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 사인파, 비-사인파, 또는 임의의 조합이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 주기적 정사각형 파, 직사각형 파, 톱니파, 스파이크형 파, 사다리꼴 파, 삼각형 파, 또는 그 조합들이다.
도 3의 일부 실시형태들에서, 펄스들의 최대 진폭의 지속기간은 펄스들 사이의 최소 진폭의 지속기간 미만이다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 두 개의 최소들 사이에서 최대 (양 또는 음 중 어느 하나) 를 갖는 화소들 사이의 시간으로서 정의된다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 시간 단위로 주어진다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초부터 1 밀리초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 200 마이크로초부터 300 마이크로초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 10 마이크로초부터 500 마이크로초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초부터 5 밀리초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초 미만 또는 5 밀리초보다 더 크다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 500 마이크로초이다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 펄스들의 최대 진폭의 지속기간은 펄스들 사이의 최소 진폭의 지속기간보다 더 길다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최소 진폭은 0 mA/cm2이다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 최소 진폭은 0 mA/cm2보다 더 크다 (도 3에 대해 0보다 "더 많이" 음임을 의미함). 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 증가할 수 있다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 감소할 수 있다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 증가할 수 있고, 그 다음에 펄스 단위로 감소하고, 반복된다.
도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 100 헤르츠부터 300 헤르츠까지이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 1 헤르츠부터 200 헤르츠까지이다. 일부 실시형태들에서, 펄스는 1 헤르츠 미만이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 200 헤르츠이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지이다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들의 레이트가 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지, 또는 1 헤르츠의 증분들로 사이의 임의의 값인 펄스들로 제어된다.
도 3의 실시형태들의 일부에서, 펄스 파가 파속들 (또는 파열) 로 이동된다. 일부 실시형태들에서, 파속들은 펄스들의 수, 패킷에서의 펄스들의 지속기간 또는 폭, 펄스들의 평균 전류 밀도, 파속에서의 펄스들의 듀티 사이클, 및 파속들의 주파수에 의해 정의된다. 일부 실시형태들에서, 파속은 교번 극성을 갖거나 또는 갖지 않고서 2 펄스 이상을 가질 수 있다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 파속은 교번 극성을 갖거나 또는 갖지 않고서 2 펄스부터 20 펄스까지를 가질 수 있다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 파속들은 10 헤르츠 이상의 주파수에서 생성될 수 있다. 도 3의 일부 실시형태들에서, 파속들은 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지의 주파수에서 생성될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 파속들에서의 펄스들의 듀티 사이클은 1%부터 90%까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스들은 0.01mA/cm2 내지 10 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 가진다.
도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 이온도입 처치는 1 분부터 5 분까지의 지속기간 동안 인가된다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 이온도입 처치는 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5, 10, 10.5, 11, 11.5, 12, 12.5, 13, 13.5, 14, 14.5, 15, 15.5, 16, 16.5, 17, 17.5, 18, 18.5, 19, 19.5, 20, 20.5, 21, 21.5, 22, 22.5, 23, 23.5, 24, 24.5, 25, 25.5, 26, 26.5, 27, 27.5, 28, 28.5, 29, 29.5, 30, 30.5, 31, 31.5, 32, 32.5, 33, 33.5, 34, 34.5, 35 35.5, 36, 36.5, 37, 37.5, 38, 38.5, 39, 39.5, 40, 40.5, 41, 41.5, 42, 42.5, 43, 43.5, 44, 44.5, 45, 45.5, 46, 46.5, 47, 47.5, 48, 48.5, 49, 49.5, 50, 50.5, 51, 51.5, 52, 52.5, 53, 53.5, 54, 54.5, 55, 55.5, 56, 56.5, 57, 57.5, 58, 58.5, 59, 59.5, 60, 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위의 지속기간 (분 단위) 동안 인가된다. 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 펄스들이 0 아래로 연장할 때 제 1 전극 (114) 은 음의 극성을 가지고 제 2 전극 (116) 은 양의 극성을 가진다. 그러나, 펄스들이 0 위로 연장할 때 제 1 전극 (114) 은 양이고 제 2 전극 (116) 은 음이다. 따라서, 전류의 방향에서의 반전을 나타낸다.
도 4를 참조하면, 제 3 전류 밀도 파형이 이온도입을 위해 예시된다. 도 4는 도 1의 이온도입 디바이스에 의해 생성될 수 있는 파형의 하나의 실시형태를 예시한다. 도 4는 펄스 파와 동시 발생하는 연속적인 직류 전류를 도시한다. 전류 밀도 파형은 음의 단극성 펄스들로 그리고 펄스들 사이로 제어되고, 전류 밀도는 연속적인 직류 전류로서 제어된다. 다른 방식으로 말하면, 도 4의 전류 파형은 100%보다 더 작은 듀티 사이클을 갖는 오프셋 직류 전류로서 취해지는 직류 전류 및 양방향성 펄스 사이의 조합으로서 설명될 수 있다. 두 개의 파형들은 이온도입 처치의 지속기간 또는 임의의 일부에 대해 동시에 인가된다. 구체적으로는, 펄스 파는 온 및 오프 기간을 가진다. 연속적인 직류 전류 위의 펄스 파의 중첩은 전류 프로파일로 하여금 직류 전류의 일정 값에서 시작하는 펄스를 보여주게 한다. 그 펄스는 미리 결정된 지속기간 동안 최대에 도달한 다음 그 프로파일은 0이 된다. 0 값으로부터의 오프 기간 후, 연속적인 직류 전류는 그러면 다음 펄스까지 인가된다. 따라서, 파형의 전류 밀도는 제 1 진폭의 연속적인 직류 전류와 제 2 진폭의 펄스의 가산으로서 기술될 수 있는데, 그 펄스는 직류 전류를 다시 인가하기 전에 오프 기간을 가진다. 펄스가 직류 전류 진폭부터 시작하여, 최대 펄스 진폭에 도달한 다음, 최소 진폭 또는 0으로 복귀하게 카운트된다. 따라서, 펄스가 0에서 최소 진폭의 기간을 포함하지 않는다. 펄스 사이클이 최소 진폭에서의 기간을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 최대 및 최소 진폭들의 지속기간들은 동일하다.
일부 실시형태들에서, 펄스는 % 듀티 사이클을 갖도록 표시된다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파에 대해 % 듀티 사이클을 표시하는 것은 전류가 % 듀티 사이클 동안 온이라는 것을 의미한다. 예를 들어, 펄스들의 50 % 듀티 사이클은 전류가 펄스 사이클의 50% 동안 온이고 50% 동안 오프임을 의미하고, 펄스들의 30% 듀티 사이클은 전류가 펄스 사이클의 30% 동안 온이고 70% 동안 오프임을 의미한다. 일부 실시형태들에서, 단방향성 펄스들의 % 듀티 사이클은 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95, 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 각각의 이극 펄스의 % 듀티 사이클은 0.01, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95, 100 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스들의 듀티 사이클은 1%부터 90%까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, "온" 기간을 의미하는 펄스는 지속기간으로서 표시될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 "오프" 기간은 지속기간으로서 표시될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 초 당 사이클 수를 의미하는 헤르츠로 표시된다. 일부 실시형태들에서, 펄스들은 제 1 및 제 2 전극들의 극성들을 음과 양 사이에서 교번함으로써 반전될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 이극 펄스들, 교류 펄스들, 양방향성 펄스들, 및 반전 펄스들이 동일한 것을 의미한다. 일부 실시형태들에서, 음의 전류 밀도 펄스들에는, 최소에 유지되는 일 없이, 양의 전류 밀도 펄스들이 뒤따를 것이다. 음 및 양의 전류 밀도 펄스들 둘 다를 포함하는 펄스 파형이 음의 펄스들에 대한 최대 값, 양의 펄스들에 대한 최대 값을 포함하고, 그 값들은 동일할 필요가 없다. 게다가, 일부 실시형태들에서, 음의 전류 밀도 펄스의 지속기간은 양의 전류 밀도 펄스의 지속기간과 동일할 필요가 없다. 일부 실시형태들에서, 펄스들의 지속기간은, 펄스들이 음인지 또는 양인지에 상관없이, 동일한 지속기간일 필요가 없다.
일부 실시형태들에서, 펄스 파형이 둘 이상의 펄스 파형들을 동시에 또는 번갈아 결합할 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파형은 음의 펄스들과, 뒤따르는 양의 펄스들을 포함할 수 있다. 따라서, 음의 펄스들에 대한 최대 및 최소 진폭과 양의 펄스들에 대한 최대 및 최소 진폭을 가진다.
도 4가 최대 및 최소 펄스 진폭들 및 펄스 지속기간의 특정한 전류 밀도 값들을 묘사하지만, 예시된 값들은 단지 예시적이라는 것이 이해되어야 한다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하게, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 많아야 0.2 mA/cm2으로 제어되고 최소 진폭은 0이다. 이는 직류 전류에의 펄스의 추가가 총 0.4 mA/cm2이 됨을 의미한다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하게, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.5 mA/cm2에 또는 그 아래에 있고 최소 진폭은 0이고, 직류 전류 평균 전류 밀도는 0.5 mA/cm2의 평균으로 또는 그 아래로 제어된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하게, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.2 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지로 제어되고 최소 진폭은 0이고, 직류 전류 평균 전류 밀도는 0.2 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지로 제어된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하게, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.2 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어되고 최소 진폭은 0이고, 직류 전류 평균 전류 밀도는 0.2 mA/cm2으로 또는 그 아래로 제어된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하여, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지로 제어되고, 직류 전류 평균 전류 밀도는 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지로 제어된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하여, 평균 전류 밀도는 펄스들 및 직류 전류에서 제어되고 각각의 펄스 최대는 0.01, 0.05, 0.1, 0.15, 0.2, 0.25, 0.3, 0.35,0.4, 0.45, 0.5 mA/cm2에서 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 범위에서 평균에 대해 제어된다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 제곱 평균 제곱근 (rms) 으로서 주어진다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 평균 전류 밀도로서 주어진다. 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 피크 전류 밀도로서 주어질 수 있는데, 이는 각각 50% 및 25%의 듀티 사이클을 갖는 1 mA/cm2 또는 2mA/cm2 정도로 높을 수 있다.
도 4의 일부 실시형태들에서, 펄스들은 정의된 최대 및 최소를 갖는 삼각형이며, 최대 및 최소 진폭들은 동일한 지속기간으로 된다. 구체적으로, 펄스는 최대 진폭에 대해 양의 일정 기울기 (수직이 아님) 와, 뒤따르는 일정 최대 진폭의 기간과, 뒤따르는 0에 대한 음의 일정 기울기 (수직이 아님) 와, 뒤따르는 0에서의 기간을 가진다. 일부 실시형태들에서, 최소는 0이 아닐 수 있다. 일부 실시형태들에서, 기울기는, 지수와 같이, 일정한 것이 아닐 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 사인파, 비-사인파, 또는 임의의 조합이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 파는 주기적 정사각형 파, 직사각형 파, 톱니파, 스파이크형 파, 사다리꼴 파, 삼각형 파, 또는 그 조합들이다.
도 4의 일부 실시형태들에서, 펄스들의 최대 진폭의 지속기간은 펄스들 사이의 최소 진폭의 지속기간 미만이다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 두 개의 최소들 사이에서 최대 (양 또는 음 중 어느 하나) 를 갖는 화소들 사이의 시간으로서 정의된다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 시간 단위로 주어진다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초부터 1 밀리초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 200 마이크로초부터 300 마이크로초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 10 마이크로초부터 500 마이크로초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초부터 5 밀리초까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 50 마이크로초 미만이거나 또는 5 밀리초보다 더 크다. 일부 실시형태들에서, 펄스 지속기간 (또는 폭) 은 500 마이크로초이다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 펄스들의 최대 진폭의 지속기간은 펄스들 사이의 최소 진폭의 지속기간보다 더 길다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최소 진폭은 0 mA/cm2이다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 최소 진폭은 0 mA/cm2보다 더 크다 (도 4에 대해 0보다 "더 많이" 음임을 의미함). 도 3의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 증가할 수 있다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 감소할 수 있다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 최대 (및 최소) 진폭은 펄스 단위로 증가할 수 있고, 그 다음에 펄스 단위로 감소하고, 반복된다.
도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들과 일치하게 직류 전류로서 제어되고 펄스들의 레이트는 100 헤르츠부터 300 헤르츠까지이다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들과 일치하게 직류 전류로서 제어되고 펄스들의 레이트는 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지이다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 평균 전류 밀도는 펄스들의 레이트가 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지, 또는 1 헤르츠의 증분들로 사이의 임의의 값인 펄스들과 일치하게 직류 전류로서 제어된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하여, 평균 전류 밀도는 위의 값들 중 임의의 값에서 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지이다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 각각의 펄스는 0.001 초 내지 1 초 사이의 또는 그 사이의 임의의 값의 지속기간을 가진다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 직류 전류와 일치하여, 평균 전류 밀도는 펄스들로 제어되고 펄스들의 레이트는 200 헤르츠이고 각각의 펄스는 500 마이크로초의 지속기간을 가진다.
도 4의 실시형태들의 일부에서, 펄스들은 파속 (또는 파형) 으로서 인가된다. 일부 실시형태들에서, 파속들은 펄스들의 수, 패킷에서의 펄스들의 지속기간 또는 폭, 펄스들의 평균 전류 밀도, 파속에서의 펄스들의 듀티 사이클, 및 파속들의 주파수에 의해 정의된다. 일부 실시형태들에서, 파속은 교번 극성을 갖거나 또는 갖지 않고서 2 펄스 이상을 가질 수 있다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 파속은 교번 극성을 갖거나 또는 갖지 않고서 2 펄스부터 20 펄스까지를 가질 수 있다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 파속들은 10 헤르츠 이상의 주파수에서 생성될 수 있다. 도 4의 일부 실시형태들에서, 파속들은 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지의 주파수에서 생성될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 파속들에서의 펄스들의 듀티 사이클은 1%부터 90%까지의 범위이다. 일부 실시형태들에서, 파속들의 펄스들은 0.01mA/cm2 내지 10 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 가진다.
도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 이온도입 처치는 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위의 지속기간 (분 단위) 동안 적용된다. 도 4의 파형의 일부 실시형태들에서, 전류는 연속적인 직류 전류로서 그리고 1, 1.5, 2, 2.5, 3, 3.5, 4, 4.5, 5, 5.5, 6, 6.5, 7, 7.5, 8, 8.5, 9, 9.5, 10, 10.5, 11, 11.5, 12, 12.5, 13, 13.5, 14, 14.5, 15, 15.5, 16, 16.5, 17, 17.5, 18, 18.5, 19, 19.5, 20, 20.5, 21, 21.5, 22, 22.5, 23, 23.5, 24, 24.5, 25, 25.5, 26, 26.5, 27, 27.5, 28, 28.5, 29, 29.5, 30, 30.5, 31, 31.5, 32, 32.5, 33, 33.5, 34, 34.5, 35 35.5, 36, 36.5, 37, 37.5, 38, 38.5, 39, 39.5, 40, 40.5, 41, 41.5, 42, 42.5, 43, 43.5, 44, 44.5, 45, 45.5, 46, 46.5, 47, 47.5, 48, 48.5, 49, 49.5, 50, 50.5, 51, 51.5, 52, 52.5, 53, 53.5, 54, 54.5, 55, 55.5, 56, 56.5, 57, 57.5, 58, 58.5, 59, 59.5, 60, 또는 끝점들로서 역할을 하는 임의의 두 개의 값들 사이의 임의의 범위의 지속기간 (분 단위) 동안 펄스들로 인가된다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 펄스들은 단극성 펄스들이다. 도 4의 전류 파형의 일부 실시형태들에서, 펄스들이 0 아래로 연장할 때 제 1 전극 (114) 은 음의 극성을 가지고 제 2 전극 (116) 은 양의 극성을 가진다. 그러나, 펄스들이 0 위로 연장할 때 제 1 전극 (114) 은 양이고 제 2 전극 (116) 은 음이다. 따라서, 전류의 방향에서의 반전을 나타낸다.
일부 실시형태들에서, 도 2, 도 3 및 도 4의 전류 파형들은 수성 활성제 조성물들, 이를테면 비타민 C 조성물들의, 피부 속으로의 이온도입의 사용을 통한 투여를 위한 동시발생 파형들을 제공하도록 결합될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 도 2, 도 3 및 도 4의 전류 파형들은, 보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물, 얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물, 모발 조성물, 특히, 모발을 세정하기 위한, 모발 캐어 또는 컨디셔닝을 위한, 모발의 일시적 형태 유지 또는 성형을 위한, 모발의 일시적, 반영구적 또는 영구적 염색을 위한, 또는 이완 또는 영구적 웨이빙을 위한 조성물, 특히, 모근들 및 모발을 이완, 염색 또는 표백하기 위한 조성물, 그리고 두피를 위한 조성물, 특히, 비듬방지 조성물, 모발 손실을 방지하기 위한 또는 모발의 재성장을 촉진하기 위한 조성물, 항지루 조성물, 항염증 조성물, 항과민 (anti-irritation) 또는 진정 조성물, 자국 방지 조성물 또는 두피를 자극 또는 보호하기 위한 조성물 중 하나 이상의 조성물의 투여를 위한 동시발생 파형들을 제공하도록 결합될 수 있다.
일부 실시형태들에서, 도 2, 도 3 및 도 4의 전류 파형들은 도 1의 이온도입 디바이스의 회로부에 의해 생성되는 파형들의 조합들을 제공하도록 결합될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 임의의 도 2 내지 도 4의 전류 파형은 제 1 지속기간 동안 인가되며, 이어서
임의의 도 2 내지 도 4의 상이한 전류 파형이 제 2 지속기간 동안 인가되거나 또는 그 반대의 순서로 인가된다. 일부 실시형태들에서 둘 이상의 상이한 전류 파형들은 전체 전류 처치 지속기간 동안 순환될 수 있다. 도 2 내지 도 4에 대해 위에서 설명된 바와 같은 파형의 특정사항 (particular) 들은 둘 이상의 상이한 파형들을 인가하는 결합된 처치들에 마찬가지로 적용 가능하다. 다시 말하면, 직류 전류 파형의 실시형태들 중 임의의 하나 이상의 실시형태들이 펄스 파형들 중 임의의 하나 이상의 파형들과 시퀀스로 또는 동시에 결합될 수 있다.
도 2, 도 3, 및 도 4의 파형들의 경우, 최대 피크에서의 피크 전압은 99 볼트이다. 일부 실시형태들에서, 도통 전류의 최대 지속기간은 이온도입 처치 동안 120 분이다.
도 2, 도 3, 및 도 4와 파형들의 조합에 관련하여 설명되는 전류 밀도 파형들의 모든 실시형태는 조성물들의 모든 실시형태의 이온도입을 위해 사용될 수 있다.
도 6은 특정한 파형 유형들의 전기 자극들의 생성을 통해 화장품 조성물을 전달하는 방법 (600) 의 실시형태들을 예시한다. 일부 실시형태들에서, 그 방법은 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계 602를 포함하며, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류는 화장품 조성물을 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 특징이고 지속기간 동안이다.
일부 실시형태들에서, 예시된 단계들 (604, 606, 608, 및 610) 은 옵션적이다. 게다가, 일부 실시형태들에서, 단계들 (604, 606, 608, 및 610) 의 시퀀스는 임의의 순서로 되고 예시로 한정되지 않는다. 일부 실시형태들에서, 방법 (600) 은 파형들을 생성하는 단계 604를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 전기 자극들을 구성하는 선택된 파형 또는 파형들을 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (600) 은 전류 밀도를 생성하는 단계 606을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 전류 밀도를 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (600) 은 펄스 지속기간을 생성하는 단계 608을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 펄스 지속기간을 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (600) 은 펄스 주파수를 생성하는 단계 610을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 펄스 주파수를 생성하게 하는 선택들을 한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 지속기간, 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도, 500 마이크로초의 펄스 지속기간, 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 교류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭, 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열), 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티를 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도, 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭, 교번 극성을 갖는 2 펄스부터 20 펄스까지를 갖는 적어도 하나의 파속 또는 파열, 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수, 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 방법 (600) 은, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 방법 (600) 은 화장품 조성물을 전달하는 단계를 포함하며, 화장품 조성물은, 보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물, 얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물로부터 선택된다.
도 7은 특정한 파형 유형들의 전기 자극들의 생성을 통하여 수성 활성제 조성물, 이를테면 수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 생물학적 대상에게 전달하는 방법 (700) 의 실시형태들을 예시한다.
일부 실시형태들에서, 방법 (700) 은 연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합 중 어느 하나의 선택된 전류 프로파일을, 적어도 하나의 전극을 포함하는 임의의 디바이스 및/또는 지지체로부터 생물학적 대상에게 적용하는 단계 702를 포함하며, 연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합은 수성 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 특징이고 지속기간 동안이며, 따라서, 선택된 전류 모드에 따라 피부를 가로질러 비타민 C의 상이한 레이트들을 수송한다.
일부 실시형태들에서, 예시된 단계들 (704, 706, 708, 및 710) 은 옵션적이다. 게다가, 일부 실시형태들에서, 단계들 (704, 706, 708, 및 710) 의 시퀀스는 임의의 순서로 되고 예시로 한정되지 않는다. 일부 실시형태들에서, 방법 (700) 은 파형들을 생성하는 단계 704를 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 전기 자극들을 구성하는 선택된 파형 또는 파형들을 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (700) 은 전류 밀도를 생성하는 단계 706을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 전류 밀도를 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (700) 은 펄스 지속기간을 생성하는 단계 708을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 펄스 지속기간을 생성하게 하는 선택들을 한다. 일부 실시형태들에서, 방법 (700) 은 펄스 주파수를 생성하는 단계 710을 포함한다. 일부 실시형태들에서, 사용자는 이온도입 디바이스로 하여금 선택된 펄스 주파수를 생성하게 하는 선택들을 한다. 단계 712에서, 방법 (700) 은 수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 동시에 전달하는 단계와, 0.05 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지의 평균 전류 밀도; 200 마이크로초부터 300 마이크로초까지의 펄스 지속기간; 및 1 헤르츠부터 300 헤르츠까지의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함한다.
일부 실시형태들에서, 수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 은, 0.1 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들; 0.01 중량%부터 10 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들; 및 적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는 수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시형태들에서, 수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 은, 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들; 0.01 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 비-이온성 폴리머들; 및 적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는 수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함한다.
수성 비타민 C 조성물을 피부를 통해 전달하는 방법 (700) 의 일부 실시형태들에서, 수성 활성제 조성물을 경피적으로 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계; 및 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 10 마이크로초부터 500 마이크로초까지 범위의 펄스 지속기간; 및 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계; 수성 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 지속기간의 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 포함한다.
도 6 및 도 7에 관련하여 위에서 설명된 이온도입 방법들과 함께 사용하기 위한 이온도입 조성물이 개시된다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 재료들; 및 적어도 20 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하며; 이온도입 조성물은 이온도입 조성물의 총 중량에 대하여 적어도 30중량%인 수성 상을 가진다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 0.01 중량%부터 10중량%까지 범위로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들을 더 포함하며; 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상은 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 0.01 중량%부터 20중량%까지 범위로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들을 더 포함하며; 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상은 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 2부터 7.5까지 범위의 pH를 더 포함한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 하나 이상의 실리콘 재료들은 하나 이상의 실리콘 계면활성제들을 포함한다. 이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 실리콘 함유 계면활성제들은 폴리디메틸실록산, 폴리[옥시 (디메틸실릴렌)], 폴리비닐 실록산, 시클로헥사실록산, 그 유도체들, 또는 그것들의 임의의 조합을 포함한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 이온성 폴리머들과 비이온성 폴리머들은 아크릴로니트릴/메틸 메타크릴레이트/비닐리덴 클로라이드 코폴리머, 바이오사카라이드 검-1, 나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머, 크산탄 검, 암모늄 폴리아크릴로일디메틸 타우레이트, 그 유도체들, 그것들의 이온들, 및 그것들의 임의의 조합으로부터 선택된다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 비타민 C 유도체들은 아스코르빌 팔미테이트 및 마그네슘 아스코르빌 포스페이트, 아스코르빌 테트라-이소팔미토일, 테트라헥실데실 아스코르베이트, 나트륨 아스코르빌 포스페이트, 및 그것들의 임의의 조합으로부터 선택된다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 조성물은 비타민, 지방, 용매, 보습제, 점도 저하제, 방부제, 킬레이트제, 점도 조절제, 피부 컨디셔너, 피부연화제, 유화제, 청정제, 유화 안정제, 점도 상승제, 산화방지제, 결합제, 피부 표백제, pH 조절제, 완충제, 변성제, 팽화제, 불투명화제를 더 포함한다.
이온도입 조성물의 일부 실시형태들에서, 조성물은 바이오사카라이드 검-1 (및) 나트륨 레불리테이트 (및) 글리세릴 카프릴레이트 (및) 아니스산 나트륨, 아크릴레이트들/c10-30 알킬 아크릴레이트 크로스폴리머, 카르보머, 나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머, 나일론-12, 크산탄 검, 그 유도체들, 그것들의 이온들, 또는 그것들의 임의의 조합으로부터 선택된 이온성 폴리머들 및 비이온성 폴리머들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 2부터 7.4까지의 pH를 가진다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 2부터 7까지의 pH를 가진다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 5.7부터 6.3까지의 pH를 가진다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 2부터 6.3까지의 pH를 가진다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 비타민 B5, 비타민 A, 비타민 B3, 및 비타민 E로부터 선택되는 하나 이상의 비타민들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 견과유, 씨 기름, 및 식물성유로부터 선택되는 하나 이상의 지방들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 물, 탈이온수, 및 오 드 라 로슈-뽀세이 (Eau de la Roche-Posay™) 로부터 선택되는 하나 이상의 용매들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 글리세린, 카프릴릴 글리콜, 및 히알우론산 나트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 보습제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 글리세린으로부터 선택되는 하나 이상의 점도 저하제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 페녹시에탄올, 살리실산, 및 메틸파라벤 나트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 방부제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 이나트륨 EDTA로부터 선택되는 하나 이상의 킬레이트제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 이나트륨 EDTA, 암모늄 폴리아크릴디메틸아우르아미드, 및 나일론-12로부터 선택되는 하나 이상의 점도 조절제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 C12-15 알킬 벤조에이트, 카프릴릴 글리콜, 글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트, 토코페릴 아세테이트, 히알우론산 나트륨, 에틸헥실 팔미테이트, 디메티콘 및 디메티코놀, 디메티콘, 디메티콘 및 디메티콘/비닐 디메티콘크로스폴리머, 바이오사카라이드 검-1, 옥소티아졸리딘카르복실산, 아스코르브산, 나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머, 살리실산, 시클로헥사실록산, 수소화 폴리이소부텐, 바이오사카라이드 검-1 및 레불리네이트 나트륨 및 글리세릴 카프릴레이트 및 아니스산 나트륨, 레몬 추출물, 알코올 및 겐티아나 루테아 근 추출물, 그리고 디메티콘 및 폴리에틸렌 글리콜/폴리프로파일렌 글리콜-18/18 디메티콘으로부터 선택되는 하나 이상의 피부 컨디셔너들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 C12-15 알킬 벤조에이트, 카프릴릴 글리콜, 글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트, 에틸헥실 팔미테이트, 디메티콘 및 디메티코놀, 디메티콘, 디메티콘 및 디메티콘/비닐 디메티콘크로스폴리머, 시클로헥사실록산, 수소화 폴리이소부텐, 바이오사카라이드 검-1 및 레불리네이트 나트륨 및 글리세릴 카프릴레이트 and 아니스산 나트륨, 그리고 디메티콘 및 폴리에틸렌 글리콜/폴리프로파일렌 글리콜-18/18 디메티콘으로부터 선택되는 하나 이상의 피부연화제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트, 세틸 알코올, 크산탄 검, 트라이에탄올아민, 바이오사카라이드 검-1 및 레불리네이트 나트륨 및 글리세릴 카프릴레이트 및 아니스산 나트륨, 그리고 디메티콘 및 폴리에틸렌 글리콜/폴리프로파일렌 글리콜-18/18 디메티콘으로부터 선택되는 하나 이상의 유화제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트로부터 선택되는 하나 이상의 청정제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 세틸 알코올, 크산탄 검, 암모늄 폴리아크릴디메틸아우르아미드, 나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머, 카르보머, 및 아크릴레이트들/C10-30 아크릴레이트 크로스폴리머로부터 선택되는 하나 이상의 안정제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 세틸 알코올, 크산탄 검, 디메티콘 및 디메티콘/비닐 디메티콘크로스폴리머, 카르보머, 그리고 아크릴레이트들/C10-30 아크릴레이트 크로스폴리머로부터 선택되는 하나 이상의 점도 상승제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 토코페릴 아세테이트와, 아스코르브산으로부터 선택되는 하나 이상의 산화방지제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 크산탄 검으로부터 선택되는 하나 이상의 결합제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 옥소티아졸리딘카르복실산으로부터 선택되는 하나 이상의 피부 표백제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 트라이에탄올아민, 수산화 칼륨, 및 수산화나트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 pH 조절제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 수산화 칼륨 및 히드록시에틸피페라진 에탄 술폰산, 그리고 수산화나트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 완충제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 수산화나트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 변성제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 나일론-12로부터 선택되는 하나 이상의 팽화제들을 포함한다.
일부 실시형태들에서, 이온도입 조성물은 나일론-12로부터 선택되는 하나 이상의 불투명화제들을 포함한다.
다음은 이온도입 처치들에서 전류 파형들의 모든 실시형태들과 함께 사용하기에 적합한 10 중량% 비타민 C 조성물 (10% 비타민 C 화학식 1) 의 대표적인 성분들이다. 그 양들은 중량 퍼센트로 주어진다. 성분명들은 국제 화장품 성분 명명법 (INCI US) 을 따른다.
물 (용매): 43.525% (30% 내지 50%의 범위와, 사이의 임의의 값);
글리세린 (보습제 및 점도 저하제): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
페녹시에탄올 (방부제): 0.4% (0%와 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
이나트륨 EDTA (킬레이트제 및 점도 조절제): 0.05% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
C12-15 알킬 벤조에이트 (피부 컨디셔너 및 피부연화제): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
카프릴릴 글리콜 (피부 컨디셔너, 피부연화제, 및 보습제): 0.3% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트 (피부 컨디셔너, 피부연화제, 유화제, 및 청정제): 2.5% (0% 내지 5%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
세틸 알코올 (안정제, 유화제, 및 점도 상승제): 2% (0% 내지 4%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
토코페릴 아세테이트 (산화방지제 및 피부 컨디셔너): 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
크산탄 검 (결합제, 안정제, 유화제, 및 점도 상승제): 0.25% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
히알우론산 나트륨 (보습제 및 피부 컨디셔너): 0.05% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
암모늄 폴리아크릴디메틸아우르아미드 (안정제 및 점도 조절제): 0.8% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
에틸헥실 팔미테이트 (피부 컨디셔너 및 피부연화제): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
디메티콘 및 디메티코놀 (피부 컨디셔너 및 피부연화제): 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
디메티콘 (피부 컨디셔너 및 피부연화제): 1% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
디메티콘 및 디메티콘/비닐 디메티콘크로스폴리머 (피부 컨디셔너, 피부연화제 및 점도 상승제): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
바이오사카라이드 검-1 (피부 컨디셔너): 3.4% (0% 내지 7%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
오 드라 로슈 뽀세이™ (물 용매): 1% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
탈이온수 (용매): 2% (0% 내지 4%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
옥소티아졸리딘카르복실산 (피부 표백제 및 피부 컨디셔너): 0.15% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
트라이에탄올아민 (유화제 및 pH 조절제): 0.15% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
아스코르브산 (비타민 C) (산화방지제 및 피부 컨디셔너): 10% (0.1% 내지 25%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
수산화 칼륨 (완충제 및 pH 조절제): 5.9% (0% 내지 12%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머 (안정제 및 피부 컨디셔너): 3.125% (0% 내지 7%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
아크릴로니트릴/메틸 메타크릴레이트/비닐리덴 클로라이드 코폴리머 (하전된 폴리머): 0.3% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
방향제: 0.1% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
pH
5.7 내지 6.3와 그 사이의 임의의 값.
다음은 이온도입 처치들에서 전류 파형들의 모든 실시형태들과 함께 사용하기에 적합한 5 중량% 비타민 C 조성물 (5% 비타민 C 화학식 2) 의 대표적인 성분들이다. 그 양들은 중량 퍼센트로 주어진다. 성분명들은 국제 화장품 성분 명명법 (INCI US) 을 따른다.
물 (용매): 40% (30% 내지 50%의 범위와, 사이의 임의의 값);
글리세린 (보습제 및 점도 저하제): 7% (0% 내지 14%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
이나트륨 EDTA (킬레이트제 및 점도 조절제): 0.05% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
살리실산 (피부 컨디셔너 및 방부제): 0.2% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
메틸파라벤 나트륨 (방부제): 0.2% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
페녹시에탄올 (방부제): 0.7% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
히드록시에틸피페라진 에탄 술폰산
(완충제): 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
탈이온수 (용매): 29.517% (20% 내지 40%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
크산탄 검 (결합제, 안정제, 유화제, 및 점도 상승제): 0.2% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
시클로헥사실록산 (피부연화제 및 피부 컨디셔너): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
수소화 폴리이소부텐 (피부연화제 및 피부 컨디셔너): 4% (0% 내지 8%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
토코페릴 아세테이트 (산화방지제 및 피부 컨디셔너): 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
방향제: 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
카르보머 (안정제 및 점도 상승제): 0.8% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
아크릴레이트들/C10-30 알킬 아크릴레이트 크로스폴리머 (안정제 및 점도 상승제): 0.4% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
수산화나트륨 (변성제, pH 조절제, 및 완충제): 0.6% (0% 내지 2%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
탈이온수 (용매): 1.323% (0% 내지 3%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
바이오사카라이드 검-1 및 레불리네이트 나트륨 및 글리세릴 카프릴레이트 및 아니스산 나트륨 (피부 컨디셔너들, 피부연화제들, 유화제들): 3% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
레몬 추출물 (피부 컨디셔너 및 방향제): 0.05% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
알코올 및 겐티아나 루테아 근 추출물 (피부 컨디셔너 및 방향제): 0.1% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
디메티콘 및 폴리에틸렌 글리콜/폴리프로파일렌 글리콜-18/18 디메티콘 (피부 컨디셔너, 피부연화제, 및 유화제): 1.5% (0% 내지 3%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
나일론-12 (팽화제, 불투명화제, 및 점도 조절제): 0.5% (0% 내지 1%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
탈이온수 (용매): 15% (0% 내지 30%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
아스코르브산 (비타민 C) (산화방지제 및 피부 컨디셔너): 5% (0.1% 내지 25%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
수산화 칼륨 (완충제 및 pH 조절제): 2.86% (0% 내지 6%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
나트륨 스티렌/말레산 무수물 코폴리머 (안정제 및 피부 컨디셔너): 2.5% (0% 내지 5%의 범위와, 그 사이의 임의의 값);
pH
6.4 내지 7.0와 그 사이의 임의의 값.
일부 실시형태들에서, 본 명세서에서의 비타민 C 조성물은 특정된 컴포넌트들을 "포함하여", 다른 미특정된 성분들의 가능성을 열어 둔다.
일부 실시형태들에서, 본 명세서에서의 비타민 C 조성물은 특정 성분들로 "이루어져", 조성물이 특정된 성분들만을 포함함을 의미한다. 다른 방식으로 말하면, 특정된 성분들은 100중량%의 비타민 C 조성물을 구성한다.
예들
이온이동 수송 실험들은 0.2 mA/cm2의 이온이동 전류 밀도 (활성 전극에서 음의 극성) 및 5 분의 처치 적용에서 두 개의 제형화물들 (활성 성분의 5% (5% 비타민 C 화학식 2) 및 10% (10% 비타민 C 화학식 1) 로 이루어짐) 로부터 아스코르브산 (비타민 C) 의 피부 침적 (skin deposition) 을 정량화하도록 수행되었다.
다음의 세 개의 전류 프로파일들이 0.2 mA/cm2의 전류 밀도를 사용하였다: (i) 갈바닉 (DC) (음), (ii) 정사각형 펄스 전류 (음이고, 2000 헤르츠, 듀티 사이클 50%), 및 (iii) 펄스 전류 (음이고, -0.4 mA/cm²에서 0.25 ms 및 0 mA/cm²에서 0.25 ms 폭) 200Hz 반복과 커플링된 갈바닉 전류 (음). 제어는 조성물의 국소 적용이다. 결과들은 도 5에 도시된다.
결과들은 DC 전류와 펄스 전류와 조합하는 DC 전류를 사용하는 이온도입이, 5% 비타민 C를 포함하는 조성물을 위한 대조군과 비교하여, 비타민 C의 더 많은 침적이 되게 하였음을 보여준다. DC 전류를 사용한 침적물은 3.5% 비타민 C였고, 펄스 전류를 이용하는 DC 전류의 경우, 침적물은 4.5% 비타민 C였다. 결과들은, 10% 비타민 C를 포함하는 조성물들을 위한 대조군과 비교하여, 펄스 전류와 조합하는 DC 전류를 사용한 이온도입이 비타민 C의 더 많은 침적 (약 3.3%) 이 되게 함을 또한 보여준다.
비타민 C는 수성 용해도를 입증하며, 이온들을 형성하며, 수성 시스템들에서는 생리학적으로 허용 가능한 pH에서 음의 전하들을 운반하고, 높은 농도에서 제형화될 수 있다. 일부 실시형태들에서, 펄스 전류와 커플링되는 DC 전류를 사용한 이온 도입은 5% 및 10% 비타민 C 조성물들에 대조군보다 더 많은 침적이 되게 한다.
10% 비타민 C 화학식 1 및 5% 비타민 C 화학식 2는 많은 상이한 부형제들을 갖는 복잡한 조성들을 가지고 중성 (하전되지 않은) 아스코르브산의 피부 속으로의 수동적 투여를 촉진하도록 개발되었다. 수용액에서의 아스코르브산의 pKa = 4.70 이다. pKa는 각각 6.7 및 6의 pH의 유기성, 비-수성 용매들 및 제형화물의 존재로 증가하는 경향이 있다는 것을 고려하면, 아스코르브산의 상당 부분이 중성 상태로 남아 있을 가능성이 있다. 그러므로, 아스코르브산이 이온화되지 않는 이벤트에서, 일정 전류의 인가 시 캐소드로부터의 일렉트로마이그레이션으로 이익을 얻을 수 없다. 실제로, 이온화되지 않은 분자들은 애노드로부터 인가되고 이온도입에 의한 자신들의 전달을 개선하기 위하여 전기삼투를 사용하며 - 그 분자들이 캐소드로부터 인가되면 그것들의 전기수송 (electrotransport) 은 방해 받을 것이다. 이 경우, 아스코르브산이 캐소드에서 전기이동되었던 이들 제형화물들에서 자신의 하전되지 않은 형태로 존재한다고 가정하면, 프로파일 (iii) 을 사용하여 보인 결과들은 일렉트로마이그레이션으로 인한 것이 아니었고 피부의 수동적 투자율을 증가시킴에 있어서 이 전류 프로파일의 효과에 기인할 수 있다는 것이 가능하다. 프로파일 (iii) 은 전기천공의 경우와 같이 변형된 피부 장벽을 통한 수동적 확산을 용이하게 하는 물리적 향상 방법으로서 기능을 할 수 있다.
구체적인 실시형태들이 예시되고 설명되었지만, 청구된 요지의 정신 및 범위로부터 벗어남 없이 다양한 변경들이 본 명세서에서 이루어질 수 있다는 것이 이해될 것이다.
Claims (48)
- 피부를 통해 비타민 C를 전달하는 이온도입 방법으로서,
연속적인 직류 전류, 펄스형 전류 또는 둘 다의 조합 중 어느 하나의 선택된 전류 프로파일을, 적어도 하나의 전극을 포함하는 임의의 디바이스 및/또는 지지체로부터 생물학적 대상에게 적용하는 단계로서, 상기 연속적인 직류 전류, 상기 펄스형 전류 또는 상기 둘 다의 조합은 비타민 C를 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 특성 및 지속기간을 갖는, 상기 적용하는 단계와, 선택된 전류 모드에 따라 상기 피부를 가로질러 비타민 C의 상이한 레이트들을 수송하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 0.001 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 선택된 전류 프로파일을 생물학적 대상에게 적용하는 단계는, 상기 연속적인 직류 전류 및 상기 펄스형 전류를 동시에 전달하는 단계와, 0.005 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지의 평균 전류 밀도; 100 마이크로초부터 500 마이크로초까지의 펄스 지속기간; 및 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하며, 상기 조성물은,
0.01 중량%부터 100 중량%까지, 바람직하게는 0.5 중량%부터 60 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상을 포함하는, 이온도입 방법. - 제 7 항에 있어서,
수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하며, 상기 수성 조성물은,
0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들;
0.01 중량%부터 10 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들; 및
적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
수성 조성물을 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하며, 상기 수성 조성물은
0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상;
0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 계면활성제들;
0.01 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 비-이온성 폴리머들; 및
적어도 30 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하는, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
비타민 C, 특히 수성 활성제 조성물을 경피적으로 전달하는 단계는,
0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계; 및
0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 10 마이크로초부터 500 마이크로초까지 범위의 펄스 지속기간; 및 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하고;
상기 연속적인 직류 전류 및 상기 펄스형 전류는 수성 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하기에 충분한 지속기간인, 이온도입 방법. - 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
피부의 온도, 피부의 임피던스, 및 조성물의 pH 중 적어도 하나를 측정하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 11 항에 있어서,
상기 전류 프로파일의 적용은 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 안전 수준으로 감소되는, 이온도입 방법. - 이온도입 조성물로서,
0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상; 및
0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 실리콘 재료들; 및
적어도 20 중량%의 양으로 존재하는 물을 포함하며,
상기 이온도입 조성물은 상기 이온도입 조성물의 총 중량에 대하여 적어도 30 중량%인 수성 상을 갖는, 이온도입 조성물. - 제 13 항에 있어서,
0.01 중량%부터 10 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 이온성 폴리머들을 더 포함하며;
비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 상기 하나 이상은 0.1 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는, 이온도입 조성물. - 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
0.01 중량%부터 20 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 하나 이상의 비-이온성 폴리머들을 더 포함하며;
비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 상기 하나 이상은 0.01 중량%부터 30 중량%까지 범위의 양으로 존재하는, 이온도입 조성물. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
2부터 7.5까지 범위의 pH를 더 포함하는, 이온도입 조성물. - - 이온도입 조성물로서,
비타민 C, 비타민 C 유도체들, 비타민 C의 이온들, 및 비타민 C 유도체들의 이온들 중 하나 이상을 포함하는, 상기 이온도입 조성물, 및
- 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항의 이온도입 방법을 수행하는 이온도입 디바이스를 포함하는, 이온도입 키트. - 제 17 항에 있어서,
상기 조성물은 수성 조성물인, 이온도입 키트. - 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서,
상기 키트는 상기 조성물이 피부에 도포될 때 비타민 C와 물이 상기 조성물 내에서 이미 혼합되어 있도록 구성되는, 이온도입 키트. - 제 17 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 디바이스는 온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 하나를 포함하는, 이온도입 키트. - 제 20 항에 있어서,
상기 디바이스는 전류 프로파일의 적용이 센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 안전 수준으로 감소되도록 구성되는, 이온도입 키트. - 적어도 하나의 전극과 활성제를 포함하는 전극 조립체; 및
상기 전극 조립체에 동작적으로 커플링되고 적어도 연속적인 직류 전류 자극 및 펄스형 전류 자극을 동일한 전극에 동시에 생성하도록 구성된 회로부로서, 상기 연속적인 직류 전류 자극 및 상기 펄스형 전류 자극은 활성제를 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 특성 및 지속기간을 갖는, 상기 회로부를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 자극은 0.001 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 자극은 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류 자극은, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초, 바람직하게는 100 마이크로초부터 500 마이크로초까지 범위의 펄스 폭; 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류 자극은 0.001 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 1 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류 자극은 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 교번 극성을 갖는 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류 자극은 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도; 500 마이크로초의 교류 펄스 지속기간; 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,
전극 조립체가 활성제, 특히 활성제 조성물, 예를 들어 수성 활성제 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전극 조립체는 화장품 조성물, 특히 활성제 조성물을 보유하는 저장소에 전기적으로 커플링되는 적어도 하나의 활성 전극을 포함하며; 상기 전극 조립체는, 상기 연속적인 직류 전류 자극 및 상기 펄스형 전류 자극을 동시에 생성하도록 구성되는 상기 회로부로부터의 하나 이상의 입력들에 응답하여, 상기 활성제 조성물을 생물학적 대상에게 경피적으로 전달하도록 동작 가능한, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전극 조립체는 적어도 하나의 전원에 전기적으로 커플링되는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항에 있어서,
상기 전극 조립체는 적어도 하나의 활성 전극 조립체와 적어도 하나의 카운터 전극 조립체를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전극 조립체는 화장품 조성물을 보유하는 적어도 하나의 저장소를 포함하며,
상기 화장품 조성물은,
보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물,
얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물,
모발 조성물, 특히, 모발을 세정하기 위한, 모발 캐어 또는 컨디셔닝을 위한, 모발의 일시적 형태 유지 또는 성형을 위한, 모발의 일시적, 반영구적 또는 영구적 염색을 위한, 또는 이완 또는 영구적 웨이빙을 위한 조성물, 특히, 모근들 및 모발을 이완, 염색 또는 표백하기 위한 조성물, 및
두피를 위한 조성물, 특히, 비듬방지 조성물, 모발 손실을 방지하기 위한 또는 모발의 재성장을 촉진하기 위한 조성물, 항지루 조성물, 항염증 조성물, 항과민 또는 진정 조성물, 자국 방지 조성물 또는 두피를 자극 또는 보호하기 위한 조성물을 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물이 피부에 도포될 때 활성제 및 물이 조성물 내에서 이미 혼합되어 있도록 구성되는 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 활성제는 비타민 C인, 이온도입 디바이스. - 제 22 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,
온도 센서, 임피던스 센서, 및 pH 센서 중 적어도 하나를 포함하는, 이온도입 디바이스. - 제 36 항에 있어서,
센서들 중 하나의 센서에 의해 측정되는 측정된 값이 안전 범위 또는 안전 값을 초과할 때 전류 프로파일의 적용이 안전 수준으로 감소되도록 구성되는, 이온도입 디바이스. - 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계로서, 상기 연속적인 직류 전류 및 상기 펄스형 전류는 화장품 조성물을 생물학적 대상에게 전달하기에 충분한 특성 및 지속기간을 갖는, 상기 전달하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법.
- 제 38 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 0.5 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 또는 제 39 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도를 갖는 연속적인 직류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 지속기간; 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 펄스 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 갖는 펄스형 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 0.2 mA/cm2의 평균 전류 밀도; 500 마이크로초의 펄스 지속기간; 및 200 헤르츠의 펄스 주파수를 갖는 펄스형 교류 전류 자극을 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류는 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 43 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 펄스형 전류 자극은 0.01 mA/cm2부터 10 mA/cm2까지 범위의 평균 전류 밀도; 50 마이크로초부터 1 밀리초까지 범위의 펄스 폭; 2 펄스부터 20 펄스까지 범위의 적어도 하나의 파속 (또는 파열); 교번 극성을 갖는 10 헤르츠부터 500 헤르츠까지 범위의 파속들의 주파수; 및 1%부터 90%까지 범위의 펄스들의 듀티 사이클을 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 44 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 사인 파형들, 비-사인 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 45 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연속적인 직류 전류 및 펄스형 전류를 생물학적 대상에게 동시에 전달하는 단계는, 주기적 정사각형 파형들, 직사각형 파형들, 톱니 파형들, 스파이크형 파형들, 사다리꼴 파형들, 삼각형 파형들, 또는 그 조합들을 갖는 펄스형 전류를 생성하는 단계를 포함하는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 46 항 중 어느 한 항에 있어서,
화장품 조성물을 전달하는 단계를 더 포함하며,
상기 화장품 조성물은,
보습제 또는 보습 활성제들, 항노화 활성제들, 예를 들어 탈색 활성제들, 피부 미세순환에 작용하는 활성제들, 또는 세보레귤레이팅 활성제들로부터 선택된 활성제를 특히 포함하는 얼굴 캐어 또는 신체 캐어 조성물,
얼굴 또는 신체를 메이크업하는 조성물로부터 선택되는, 이온도입 방법. - 제 38 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 있어서,
0.01 중량%부터 100 중량%까지, 바람직하게는 0.5 중량%부터 60 중량%까지 범위의 양으로 존재하는 활성제를 경피적으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 이온도입 방법.
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