[go: up one dir, main page]

KR20180018249A - Transparent electrode and touch sensor including the same - Google Patents

Transparent electrode and touch sensor including the same Download PDF

Info

Publication number
KR20180018249A
KR20180018249A KR1020160178001A KR20160178001A KR20180018249A KR 20180018249 A KR20180018249 A KR 20180018249A KR 1020160178001 A KR1020160178001 A KR 1020160178001A KR 20160178001 A KR20160178001 A KR 20160178001A KR 20180018249 A KR20180018249 A KR 20180018249A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent electrode
layer
touch sensor
metal oxide
oxide layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
KR1020160178001A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
윤억근
노성진
유한태
금동기
서민수
조응구
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to TW106124920A priority Critical patent/TWI746603B/en
Priority to US15/661,413 priority patent/US10437112B2/en
Priority to CN201720975100.5U priority patent/CN207337957U/en
Priority to CN201710662030.2A priority patent/CN107705883B/en
Priority to JP2017152286A priority patent/JP7028578B2/en
Publication of KR20180018249A publication Critical patent/KR20180018249A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

본 발명은 투명 전극에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 메쉬 패턴은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하며, 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 20%인 것으로서, 높은 투과율 및 낮은 반사율을 가짐으로써 개선된 시인성을 가지고, 낮은 면저항 및 우수한 굽힘 특성을 가지며, 기재와의 밀착성이 높아 플렉서블 및 대면적 화상 표시 장치 적용에 적합한 투명 전극에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent electrode, and more particularly to a transparent electrode comprising a mesh pattern, wherein the mesh pattern comprises a first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer which are sequentially stacked, and the reflectance at a wavelength of 550 nm To 5% to 20%, a transparent electrode having a high transmittance and a low reflectance, an improved visibility, a low sheet resistance and an excellent bending property, and a high adhesiveness to a substrate, will be.

Description

투명 전극 및 이를 포함하는 터치 센서{TRANSPARENT ELECTRODE AND TOUCH SENSOR INCLUDING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a transparent electrode and a touch sensor including the transparent electrode.

본 발명은 투명 전극, 상기 투명 전극을 포함하는 터치 센서 및 상기 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent electrode, a touch sensor including the transparent electrode, and an image display apparatus including the touch sensor.

최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 증가하고 있으며, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전기발광표시장치(Electro Luminescent Display device) 등이 연구되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] With the development of information society in recent years, demands for the display field have been increasing in various forms. In response to this demand, various flat panel display devices having characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption, A liquid crystal display device, a plasma display panel device, and an electro luminescent display device have been studied.

또한, 상기 표시 장치 상에 부착되어 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치인 터치 패널(touch panel)이 각광받고 있다. 터치 패널은 표시 장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.Also, a touch panel, which is an input device attached to the display device so as to select an instruction content displayed on the screen as a human hand or an object and to input a command of a user, is spotlighted. The touch panel is provided on the front face of the display device and converts a contact position in direct contact with a human hand or an object into an electrical signal.

이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다. 이와 같은 터치 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Thus, the instruction content selected at the contact position is accepted as the input signal. Such a touch panel can be replaced with a separate input device that is connected to an image display device such as a keyboard and a mouse, and the use range thereof is gradually expanding.

이러한 터치 패널의 전극은 표시 장치의 전면에 형성되어야 하므로 일반적으로 잘 알려진 투명 전극으로는 ITO(indium doped Tin Oxide)가 사용된다. 하지만, ITO 전극의 경우 취성(brittleness) 문제로 플렉서블(flexible) 터치 센서에는 적용하기 어려울 뿐만 아니라, 고저항의 특성을 보이기 때문에 대면적화의 한계가 있어 사용하기 곤란한 문제가 있다.Since the electrode of the touch panel must be formed on the front surface of the display device, ITO (indium doped tin oxide) is generally used as a well-known transparent electrode. However, in the case of the ITO electrode, it is difficult to apply to a flexible touch sensor due to a brittleness problem, and since it exhibits a high resistance characteristic, it is difficult to use the ITO electrode due to limitations of its large size.

한편 투명 전극에 있어서, 메탈 메쉬(metal mesh) 구조도 금속의 연성 및 저저항 특성으로 인해 플렉서블 터치 센서 및 대면적 터치 센서에 적용이 용이하다는 장점이 있지만, 시인성이 취약하다는 단점이 있어 터치 센서에 적용하기 어려운 문제점이 있다.On the other hand, the metal mesh structure of the transparent electrode is advantageous in that it is easily applicable to a flexible touch sensor and a large area touch sensor due to the ductility and low resistance characteristic of the metal, but it has a disadvantage that the visibility is weak, There is a problem that is difficult to apply.

한국공개특허 제2013-0116597호에는 터치 스크린 패널이 개시되어 있다. Korean Patent Laid-Open Publication No. 2013-0116597 discloses a touch screen panel.

한국공개특허 제2013-0116597호Korea Patent Publication No. 2013-0116597

본 발명은 높은 투과율 및 낮은 반사율을 가짐으로써 전극을 육안으로 시인할 수 없는 투명 전극을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a transparent electrode which has a high transmittance and a low reflectance and can not visually recognize the electrode.

또한, 본 발명은 우수한 굽힘 특성을 가짐으로써 플렉서블 표시장치 적용에 적합한 투명 전극을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a transparent electrode suitable for a flexible display device by having excellent bending properties.

또한, 본 발명은 낮은 면저항 값을 가짐으로써 대면적 화상 표시 장치 적용에 적합한 투명 전극을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a transparent electrode suitable for application to a large area image display device by having a low sheet resistance value.

또한, 본 발명은 기재와 높은 밀착력을 갖는 투명 전극을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a transparent electrode having a high adhesion with a substrate.

또한, 본 발명은 전술한 투명 전극을 포함하는 터치 센서 및 상기 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is still another object of the present invention to provide a touch sensor including the transparent electrode and an image display apparatus including the touch sensor.

1. 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 메쉬 패턴은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하며, 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 20%인 투명 전극.1. A transparent electrode comprising a mesh pattern, wherein the mesh pattern comprises a sequentially stacked first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer, wherein the reflectance at a wavelength of 550 nm is 5 to 20%.

2. 위 1에 있어서, 상기 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 13%인 투명 전극.2. The transparent electrode as in 1 above, wherein the reflectance at the 550 nm wavelength is 5 to 13%.

3. 위 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 550nm 파장에서의 굴절률은 각각 독립적으로 1.7 내지 2.2이고, 상기 금속층의 550nm 파장에서의 굴절률은 0.1 내지 1.0이며, 소멸 계수는 2.0 내지 7.0인 투명 전극.3. The method of claim 1, wherein the first metal oxide layer and the second metal oxide layer each have a refractive index of 1.7 to 2.2 at a wavelength of 550 nm, the refractive index of the metal layer at a wavelength of 550 nm is 0.1 to 1.0, Is 2.0 to 7.0.

4. 위 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 두께는 각각 독립적으로 5 내지 140nm이고, 상기 금속층의 두께는 5 내지 30nm인 투명 전극.4. The transparent electrode according to 1 above, wherein the thicknesses of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are independently 5 to 140 nm and the thickness of the metal layer is 5 to 30 nm.

5. 위 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 두께는 각각 독립적으로 30 내지 50nm이고, 상기 금속층의 두께는 8 내지 15nm인 투명 전극.5. The transparent electrode as in 1 above, wherein the thicknesses of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are independently 30 to 50 nm and the thickness of the metal layer is 8 to 15 nm.

6. 위 1에 있어서, 상기 메쉬 패턴의 선폭은 1 내지 7㎛인 투명 전극.6. The transparent electrode according to 1 above, wherein the line width of the mesh pattern is 1 to 7 mu m.

7. 위 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 알루미늄아연산화물(AZO), 갈륨아연산화물(GZO), 인듐주석아연산화물(ITZO), 아연주석산화물(ZTO), 인듐갈륨산화물(IGO), 산화주석(SnO2) 및 산화아연(ZnO)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.7. The method of claim 1, wherein the first metal oxide layer and the second metal oxide layer each independently comprise indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO) , Indium tin zinc oxide (ITZO), zinc tin oxide (ZTO), indium gallium oxide (IGO), tin oxide (SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO).

8. 위 1에 있어서, 상기 제 1금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO) 및 인듐아연산화물(IZO)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.8. The transparent electrode according to 1 above, wherein the first metal oxide layer and the second metal oxide layer each independently comprise at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

9. 위 1에 있어서, 상기 금속층은 은, 금, 구리, 알루미늄, 백금, 팔라듐, 크롬, 티타늄, 텅스텐, 니오븀, 탄탈륨, 바나듐, 칼슘, 철, 망간, 코발트, 니켈, 아연 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.9. The method of claim 1 wherein the metal layer is selected from the group consisting of silver, gold, copper, aluminum, platinum, palladium, chromium, titanium, tungsten, niobium, tantalum, vanadium, calcium, iron, manganese, cobalt, nickel, And at least one selected from the group consisting of the above-mentioned alloys.

10. 위 1에 있어서, 상기 금속층은 은, 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.10. The transparent electrode according to 1 above, wherein the metal layer comprises at least one selected from the group consisting of silver, gold, copper, palladium, aluminum, and two or more alloys thereof.

11. 위 1에 있어서, 상기 투명 전극의 헤이즈는 -1 내지 +1%인 투명 전극.11. The transparent electrode according to item 1 above, wherein the transparent electrode has a haze of -1 to + 1%.

12. 위 1에 있어서, 상기 투명 전극의 색차값 b*는 -4 내지 +4인 투명 전극.12. The transparent electrode according to 1 above, wherein the color difference value b * of the transparent electrode is -4 to +4.

13. 위 1에 있어서, 곡률 반경 1 mm 이상에서 180°방향으로 접는 경우 선저항의 변화가 없는 투명 전극.13. A transparent electrode having no change in line resistance when folded in a direction of 180 ° from a radius of curvature of 1 mm or more,

14. 위 1 내지 13 중 어느 한 항의 투명 전극을 포함하는 터치 센서.14. A touch sensor comprising a transparent electrode according to any one of items 1 to 13 above.

15. 위 14에 있어서, 상기 투명 전극은 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 기재 상에 구비된 터치 센서.15. The method of claim 14, wherein the transparent electrode is selected from the group consisting of a cyclic olefin polymer (COP), a polyethylene terephthalate (PET), a polyacrylate (PAR), a polyetherimide (PEI), a polyethylene naphthalate (PPS), polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), polymethylmethacrylate (PMMA), and the like.

16. 위 14에 있어서, 상기 투명 전극은 환형올레핀중합체(COP)를 포함하는 기재 상에 구비된 터치 센서.16. The touch sensor of claim 14, wherein the transparent electrode is provided on a substrate comprising an annular olefin polymer (COP).

17. 위 14에 있어서, 복수 개의 이격된 감지 패턴을 포함하고, 상기 감지 패턴은 동일면 상에 배치되고 상기 투명 전극으로 형성된 것인 터치 센서.17. The touch sensor of claim 14, comprising a plurality of spaced apart sensing patterns, wherein the sensing patterns are disposed on the same surface and are formed of the transparent electrodes.

18. 위 17에 있어서, 제1 방향으로 형성된 제1 감지 패턴, 제2 방향으로 형성된 제2 감지 패턴 및 상기 제2 감지 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극을 포함하는 터치 센서.18. The touch sensor of claim 17, comprising a bridge electrode connecting a first sensing pattern formed in a first direction, a second sensing pattern formed in a second direction, and a unit pattern spaced apart from the second sensing pattern.

19. 위 17에 있어서, 셀프 캡(self-cap) 방식으로 형성된 것인 터치 센서.19. The touch sensor of claim 17, wherein the touch sensor is formed in a self-capping manner.

20. 분리층; 및 상기 분리층 상에 형성된 위 17의 터치센서를 포함하는 필름 터치 센서.20. Separation layer; And a touch sensor (17) formed on the separation layer.

21. 위 20에 있어서, 상기 터치 센서와 분리층 사이에 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서.21. The film touch sensor of claim 20, further comprising a protective layer between the touch sensor and the separating layer.

22. 위 14의 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치.22. An image display device comprising the touch sensor of 14 above.

23. 위 20의 필름 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치.23. An image display device comprising the above-mentioned film touch sensor of 20 above.

본 발명의 투명 전극은 높은 투과율 및 낮은 반사율을 가짐으로써 현저히 개선된 시인성을 가진다.The transparent electrode of the present invention has a remarkably improved visibility by having a high transmittance and a low reflectance.

또한, 본 발명의 투명 전극은 플렉서블 표시장치 적용에 적합한 우수한 굽힘 특성을 가진다.Further, the transparent electrode of the present invention has an excellent bending property suitable for a flexible display device application.

또한, 본 발명의 투명 전극은 대면적 화상 표시 장치 적용에 적합하도록 면저항이 낮다.Further, the transparent electrode of the present invention has a low surface resistance suitable for application to a large-area image display apparatus.

또한, 본 발명의 투명 전극은 기재와의 밀착력이 높다.Further, the transparent electrode of the present invention has high adhesion to a substrate.

따라서, 본 발명의 투명 전극은 터치 센서 및 화상 표시 장치의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.Therefore, the transparent electrode of the present invention can be usefully used for manufacturing a touch sensor and an image display device.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기재 상에 투명 전극을 포함하는 구조이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 메쉬 패턴의 단면도를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 굽힘 특성 시험 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
1 is a structure including a transparent electrode on a substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a mesh pattern according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing a bending property test method according to the present invention.

본 발명은 투명 전극에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 메쉬 패턴은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하며, 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 20%인 것으로서, 높은 투과율 및 낮은 반사율을 가짐으로써 개선된 시인성을 가지고, 낮은 면저항 및 우수한 굽힘 특성을 가지며, 기재와의 밀착성이 높아 플렉서블 및 대면적 화상 표시 장치 적용에 적합한 투명 전극에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent electrode, and more particularly to a transparent electrode comprising a mesh pattern, wherein the mesh pattern comprises a first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer which are sequentially stacked, and the reflectance at a wavelength of 550 nm To 5% to 20%, a transparent electrode having a high transmittance and a low reflectance, an improved visibility, a low sheet resistance and an excellent bending property, and a high adhesiveness to a substrate, will be.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기재 상에 구비된 투명 전극을 포함하는 구조를 나타낸 것이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 메쉬 패턴의 단면도를 나타낸 것이다. FIG. 1 illustrates a structure including a transparent electrode provided on a substrate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 illustrates a cross-sectional view of a mesh pattern according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명의 투명 전극은 메쉬 패턴(200)을 포함하고, 상기 메쉬 패턴(200)은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 포함한다.The transparent electrode of the present invention includes a mesh pattern 200 and the mesh pattern 200 includes a first metal oxide layer 210, a metal layer 220, and a second metal oxide layer 230 that are sequentially stacked do.

본 명세서에 있어서, '투명 전극'은 실제로 투명한 전극뿐만 아니라, 불투명한 소재로 제조된다고 하더라도 사용자가 식별할 수 없을 정도로 좁은 선폭으로 제조되는 등에 의해 사용자에게 실질적으로 투명하게 보이는 전극도 포함하는 전극을 의미한다.As used herein, the term 'transparent electrode' refers not only to a transparent electrode but also to an electrode including an electrode that is substantially transparent to the user, such as being manufactured with a line width that is too small for the user to identify, even though it is made of an opaque material it means.

본 명세서에 있어서, 메쉬 패턴은 그물망 모양의 패턴을 의미하며, 본 발명에서 메쉬 패턴은 전극의 역할을 하는 것이다.In this specification, the mesh pattern means a net-like pattern, and in the present invention, the mesh pattern serves as an electrode.

본 발명의 투명 전극은 메쉬 패턴(200)의 구조를 가짐으로써, 굽힘 특성이 우수하므로, 휘어짐 및 복원력이 우수하고 유연성 및 신축성이 뛰어난 터치 센서의 제조가 가능하다. 예를 들어, 본 발명의 투명 전극은 곡률 반경 1 mm 이상에서, 바람직하게는 2 mm 이상에서, 180°방향으로 접는 경우 선저항의 변화가 없을 수 있다. 이는 본 발명의 투명 전극은 메쉬 패턴의 구조를 가지면서도 3층 구조를 갖기 때문에 전극의 특성을 유지하면서도 우수한 굽힘 특성을 갖는 것으로 판단된다.Since the transparent electrode of the present invention has the structure of the mesh pattern 200, it has excellent bending property, and thus it is possible to manufacture a touch sensor which is excellent in warping and restoring force and excellent in flexibility and stretchability. For example, the transparent electrode of the present invention may have no change in line resistance when it is folded in the 180 ° direction at a radius of curvature of 1 mm or more, preferably 2 mm or more. This is because the transparent electrode of the present invention has a mesh pattern structure and has a three-layer structure, so that it has excellent bending properties while maintaining the characteristics of the electrode.

본 발명에 있어서, 메쉬 구조의 구체적인 형태는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 직각 사각형 메쉬 구조, 마름모 메쉬 구조, 육각형 메쉬 구조 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 각 구조에서 장변의 길이는 예를 들면 2 내지 500㎛일 수 있고, 상기 범위 내에서 전기 전도도, 투과율 등에 따라 적절히 조절될 수 있다.In the present invention, the specific form of the mesh structure is not particularly limited. For example, a rectangular square mesh structure, a rhombus mesh structure, a hexagonal mesh structure, and the like, but the present invention is not limited thereto. The length of the long side in each structure may be, for example, 2 to 500 mu m, and may be appropriately adjusted within the above range according to electric conductivity, transmittance and the like.

본 발명에 있어서, 메쉬 패턴(200)의 선폭은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 상기 메쉬 패턴(200)의 선폭은 1 내지 7㎛일 수 있다. 종래의 메쉬 패턴 전극은 1㎛ 정도의 선폭을 갖는 경우에도 전극이 육안으로 시인되나, 본 발명에 따른 메쉬 패턴(200)은 선폭이 1 내지 7㎛인 경우에도 육안으로 시인되지 않으면서도 적정 전기 저항을 가질 수 있다.In the present invention, the line width of the mesh pattern 200 is not particularly limited. For example, the line width of the mesh pattern 200 may be 1 to 7 m. The mesh pattern 200 according to the present invention is not visually recognized even when the line width is 1 to 7 mu m even when the line width is 1 to 7 mu m, Lt; / RTI >

본 발명에 있어서, 상기 메쉬 패턴(200)은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 포함한다.In the present invention, the mesh pattern 200 includes a first metal oxide layer 210, a metal layer 220, and a second metal oxide layer 230 which are sequentially stacked.

본 발명은 기존의 ITO 투명 전극 대신에 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 포함하는 메쉬 패턴(200)을 투명 전극으로 사용하여, 높은 투과율을 가지면서도 낮은 반사율을 가짐으로써 시인성이 현저히 개선될 수 있다. 뿐만 아니라 본 발명의 메쉬 패턴은 굽힘 특성이 우수하여 휘어짐 및 복원력이 우수하고 낮은 면 저항을 함께 확보할 수 있어, 터치 센서에 사용되는 투명 전극으로서 적합하다.The present invention uses a mesh pattern 200 including a first metal oxide layer 210, a metal layer 220, and a second metal oxide layer 230 that are sequentially stacked instead of the conventional ITO transparent electrode as a transparent electrode , Visibility can be remarkably improved by having a low reflectance while having a high transmittance. In addition, the mesh pattern of the present invention is excellent in bending property, excellent in bending and restoring force and low in surface resistance, and is suitable as a transparent electrode used in a touch sensor.

본 발명에 있어서, 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)의 두께는 특별히 한정하지 않으며, 높은 투과율 및 낮은 반사율을 확보하고, 아울러 굽힘 특성을 향상시키는 측면에서 예를 들면 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)의 두께는 각각 독립적으로 5 내지 140nm이고, 상기 금속층(220)의 두께는 5 내지 30nm일 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)의 두께는 각각 독립적으로 30 내지 50nm이고, 상기 금속층(220)의 두께는 8 내지 15nm일 수 있다.In the present invention, the thicknesses of the first metal oxide layer 210, the metal layer 220, and the second metal oxide layer 230 are not particularly limited, and a high transmittance and a low reflectance are ensured, For example, the thicknesses of the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 may be independently 5 to 140 nm and the thickness of the metal layer 220 may be 5 to 30 nm. More preferably, the thicknesses of the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 are independently 30 to 50 nm, and the thickness of the metal layer 220 may be 8 to 15 nm.

본 발명에 있어서, 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)의 소재는 특별하게 한정하지 않으며, 예를 들면 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 알루미늄아연산화물(AZO), 갈륨아연산화물(GZO), 인듐주석아연산화물(ITZO), 아연주석산화물(ZTO), 인듐갈륨산화물(IGO), 산화주석(SnO2) 및 산화아연(ZnO)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게는 시인성을 더욱 개선시키고, 굽힘특성을 더욱 개선시킨다는 측면에서 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO) 및 인듐아연산화물(IZO)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)은 인듐아연산화물(IZO)을 포함할 수 있다.In the present invention, the materials of the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 are not particularly limited. For example, the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 230 are each formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO), indium tin zinc oxide (ITZO), zinc tin oxide (ZTO) At least one selected from the group consisting of gallium oxide (IGO), tin oxide (SnO 2 ), and zinc oxide (ZnO). Preferably, the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 are formed of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (ITO), respectively, in view of further improving the visibility and further improving the bending property IZO). More preferably, the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 may include indium zinc oxide (IZO).

본 발명에 있어서, 금속층(220)의 소재는 특별히 한정하지 않으며, 예를 들면 전기 전도도가 우수하면서도 낮은 면 저항 값을 가진다는 측면에서 은, 금, 구리, 알루미늄, 백금, 팔라듐, 크롬, 티타늄, 텅스텐, 니오븀, 탄탈륨, 바나듐, 칼슘, 철, 망간, 코발트, 니켈, 아연 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 더욱 바람직하게는 전술한 장점을 가지면서도 굽힘 특성이 우수하다는 측면에서 은, 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 보다 바람직하게는 은, 구리 및 팔라듐의 합금인 Ag-Pd-Cu(APC) 합금일 수 있다.In the present invention, the material of the metal layer 220 is not particularly limited. For example, silver, gold, copper, aluminum, platinum, palladium, chromium, titanium, At least one selected from the group consisting of tungsten, niobium, tantalum, vanadium, calcium, iron, manganese, cobalt, nickel, zinc and alloys of two or more thereof. More preferably, at least one selected from the group consisting of gold, copper, palladium, aluminum, and at least two of these alloys may be included in terms of excellent bending properties, May be an Ag-Pd-Cu (APC) alloy which is an alloy of copper and palladium.

본 발명의 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 또는 제2 금속 산화물층(230)을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD) 등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다.The method of forming the first metal oxide layer 210, the metal layer 220 or the second metal oxide layer 230 of the present invention is not particularly limited and may be selected from the group consisting of physical vapor deposition (PVD) (Chemical Vapor Deposition, CVD), or the like. For example, it can be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition.

본 발명의 메쉬 패턴(200)을 형성하는 방법은 특별하게 한정되지 않으며, 예를 들면 포토리소그래피에 의해서 형성될 수 있다.The method of forming the mesh pattern 200 of the present invention is not particularly limited, and may be formed by, for example, photolithography.

본 발명의 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 포함하는 메쉬 패턴(200)을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 순차적으로 형성하여 적층한 후 포토리소그래피에 의해서 상기 층들을 동시에 식각하거나 층별로 각각 식각하는 방법에 의해 형성될 수 있다.The method for forming the mesh pattern 200 including the first metal oxide layer 210, the metal layer 220, and the second metal oxide layer 230 of the present invention is not particularly limited. For example, Layer 210, metal layer 220 and second metal oxide layer 230 may be sequentially formed and stacked, and then the layers may be simultaneously etched by photolithography or may be etched by layers.

본 발명의 투명 전극은 550nm 파장에서의 반사율이 5 내지 20%이다. 본 발명의 투명 전극은 낮은 반사율을 가짐으로써, 사용자에게 시인되는 것을 최소화 할 수 있다. 구체적으로 본 발명의 투명 전극에 있어서 반사율에 큰 영향을 미치는 요소는 금속층(220)이다. 본 발명의 투명 전극에 요구되는 최소한의 전기 전도도를 갖기 위해 금속층(220)이 사용되는데, 금속층(220)이 사용됨으로써 투명 전극의 반사율이 높아질 수 있다. 이에 본 발명은 투명 전극이 전술한 3층 구조를 가지면서 메쉬 패턴(200)으로 형성됨으로써 반사율을 낮추고, 각 층의 두께 및 굴절률 값을 조절하여 전술한 반사율 값을 달성할 수 있다. 본 발명의 투명 전극(200)의 550nm 파장에서의 반사율이 5% 미만이면 금속층(220)의 두께를 현저하게 얇게 해야 하므로 전극의 저항이 증가하는 문제가 있고, 20%를 초과하면 전극이 육안으로 시인되는 문제가 있다. 보다 바람직하게는 시인성을 더욱 개선하기 위하여 본 발명의 투명 전극의 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 13%일 수 있다.The transparent electrode of the present invention has a reflectance of 5 to 20% at a wavelength of 550 nm. The transparent electrode of the present invention has a low reflectance, thereby minimizing the visibility to the user. Specifically, in the transparent electrode of the present invention, the factor that greatly affects the reflectivity is the metal layer 220. The metal layer 220 is used to have the minimum electrical conductivity required for the transparent electrode of the present invention. The reflectance of the transparent electrode can be increased by using the metal layer 220. Accordingly, the present invention can achieve the aforementioned reflectance value by reducing the reflectance and controlling the thickness and the refractive index of each layer by forming the mesh pattern 200 with the transparent electrode having the three-layer structure described above. If the reflectance of the transparent electrode 200 of the present invention at a wavelength of 550 nm is less than 5%, the thickness of the metal layer 220 must be remarkably reduced, thereby increasing the resistance of the electrode. If the reflectance is more than 20% There is a problem to be admitted. More preferably, in order to further improve the visibility, the reflectance of the transparent electrode of the present invention at a wavelength of 550 nm may be 5 to 13%.

또한, 본 발명의 투명 전극은 메쉬 패턴(200)을 포함하고, 상기 메쉬 패턴(200)이 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)을 포함하여 낮은 반사율을 가질 뿐 아니라 높은 투과율을 가짐으로써 시인성이 크게 개선될 수 있다. 구체적으로 바람직하게는 본 발명의 투명 전극의 550nm 파장에서의 투과율은 60 내지 90%일 수 있다.The transparent electrode of the present invention includes the mesh pattern 200 and the first metal oxide layer 210, the metal layer 220 and the second metal oxide layer 230 in which the mesh pattern 200 is sequentially stacked. The reflectance can be greatly improved by having a high transmittance as well as a low reflectance. Specifically, preferably, the transmittance of the transparent electrode of the present invention at a wavelength of 550 nm may be 60 to 90%.

또한, 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)은 상대적으로 고굴절률, 금속층(220)은 상대적으로 저굴절률을 가짐으로써 굴절률이 고-저-고인 메쉬 패턴(200)층의 형성이 가능하므로, 고투과율 및 저반사율을 확보하여 시인성을 크게 개선시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 금속 산화물층(210) 및 제2 금속 산화물층(230)의 550nm 파장에서의 굴절률이 각각 독립적으로 1.7 내지 2.2이고, 상기 금속층(220)의 550nm 파장에서의 굴절률이 0.1 내지 1.0이고, 소멸 계수가 2.0 내지 7.0으로서 이를 달성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 소멸 계수는 하기 수학식 1 및 2로 표시되는 식에 의해 구할 수 있다.The first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 have a relatively high refractive index and the metal layer 220 has a relatively low refractive index so that the mesh pattern 200 having a high- It is possible to secure a high transmittance and a low reflectance, thereby greatly improving the visibility. For example, the refractive indexes of the first metal oxide layer 210 and the second metal oxide layer 230 at a wavelength of 550 nm are independently from 1.7 to 2.2, and the refractive index of the metal layer 220 at a wavelength of 550 nm is 0.1 To 1.0, and an extinction coefficient of 2.0 to 7.0, but this is not restrictive. The extinction coefficient can be obtained by the following equations (1) and (2).

[수학식 1][Equation 1]

I = I0 e(- αT ) I = I 0 e (- 留 T )

(식 중 α는 흡수 계수, T는 두께, I0는 투과 전 광의 세기, I는 투과 후 광의 세기임)(Where? Is the absorption coefficient, T is the thickness, I 0 is the intensity of the transmitted light, and I is the intensity of the transmitted light)

[수학식 2]&Quot; (2) "

α = 4πk/λ0 ? = 4? k /? 0

(식 중, α는 흡수 계수, k는 소멸 계수, λ0는 파장임) (Where? Is the absorption coefficient, k is the extinction coefficient, and? 0 is the wavelength)

본 발명의 투명 전극은 전술한 메쉬 패턴(200) 및 메쉬 패턴(200)에 포함되는 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)의 적층 구조를 포함하여 높은 투과율 및 낮은 반사율을 가질뿐 아니라 투명한 색차값을 달성할 수 있다. 구체적으로 본 발명의 투명 전극의 색차값 b*는 -4 내지 +4로써, 패턴의 시인성을 낮추고 표현되는 색상의 왜곡을 방지할 수 있다.The transparent electrode of the present invention includes a laminate structure of the first metal oxide layer 210, the metal layer 220, and the second metal oxide layer 230 included in the mesh pattern 200 and the mesh pattern 200 High transmittance and low reflectance as well as a clear color difference value can be achieved. Specifically, the color difference value b * of the transparent electrode according to the present invention is in the range of -4 to +4, so that the visibility of the pattern can be lowered and the color distortion can be prevented.

또한 본 발명의 투명 전극은 전술한 메쉬 패턴(200) 및 메쉬 패턴(200)에 포함되는 제1 금속 산화물층(210), 금속층(220) 및 제2 금속 산화물층(230)의 적층 구조를 포함하여 낮은 헤이즈 값을 가질 수 있다. 보다 구체적으로 본 발명의 투명 전극의 헤이즈는 -1 내지 +1%로서 우수한 광학 특성을 가질 수 있다.The transparent electrode of the present invention includes a laminate structure of the first metal oxide layer 210, the metal layer 220, and the second metal oxide layer 230 included in the mesh pattern 200 and the mesh pattern 200 So that it can have a low haze value. More specifically, the haze of the transparent electrode of the present invention is in the range of -1 to + 1% and can have excellent optical properties.

또한, 본 발명은 전술한 투명 전극을 포함하는 터치 센서를 제공한다.The present invention also provides a touch sensor including the above-described transparent electrode.

본 발명의 터치 센서는 전술한 현저히 개선된 시인성을 가지고, 우수한 굽힘 특성 및 낮은 면 저항을 가지는, 전술한 투명 전극을 터치 감지 전극으로 사용함으로써 고성능 터치 센서의 제조가 가능하며 특히 플렉서블 표시 장치 적용에 매우 적합하다. 본 발명의 투명 전극은 당분야에 알려진 터치 센서의 감지 전극에 특별한 제한 없이 적용될 수 있다.The touch sensor of the present invention is capable of manufacturing a high-performance touch sensor by using the above-described transparent electrode having a remarkably improved visibility, excellent bending property and low surface resistance as the touch sensing electrode, It is very suitable. The transparent electrode of the present invention can be applied to a sensing electrode of a touch sensor known in the art without particular limitation.

본 발명의 터치 센서는 전술한 투명 전극이 기재(100) 상에 구비된 것일 수 있으며, 상기 기재(100)의 소재는 특별한 제한이 없고, 예를 들면 본 발명의 터치 센서는 전술한 투명 전극이 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 기재(100) 상에 구비된 것일 수 있다. 바람직하게는 본 발명의 터치 센서는 전술한 투명 전극이 환형올레핀중합체(COP)를 포함하는 기재(100) 상에 구비된 것일 수 있다.In the touch sensor of the present invention, the above-mentioned transparent electrode may be provided on the substrate 100, and the material of the substrate 100 is not particularly limited. For example, in the touch sensor of the present invention, (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyether sulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), polymethyl methacrylate , And the like), and the like. Preferably, the touch sensor of the present invention may be such that the above-mentioned transparent electrode is provided on the substrate 100 including the cyclic olefin polymer (COP).

본 발명의 일 구현예에 따르면, 본 발명의 터치 센서는 복수 개의 이격된 감지 패턴을 포함할 수 있다. 각 감지 패턴은 터치 지점의 좌표 정보를 제공하며, 구체적으로 사람의 손 또는 물체가 커버 윈도우 기판에 접촉되면, 그 위치의 패턴 및 패턴에 연결된 위치 검출라인을 통해 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달되며, 그 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.According to an embodiment of the present invention, the touch sensor of the present invention may include a plurality of spaced sensing patterns. Each sensing pattern provides coordinate information of the touch point. Specifically, when a human hand or an object touches the cover window substrate, a change in capacitance due to the contact position through the position detection line connected to the pattern and the pattern at that position And the contact position is determined by converting the change in capacitance into an electrical signal.

상기 구현예의 일 측면으로서, 상기 감지 패턴들은 셀프 캡(self-cap, self capacitance) 방식으로 형성된 것일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the sensing patterns may be formed in a self-cap (self-capacitance) manner.

상기 구현예의 다른 일 측면으로서, 본 발명의 터치 센서는 제1 방향으로 형성된 제1 감지 패턴, 제2 방향으로 형성된 제2 감지 패턴 및 상기 제2 감지 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극을 포함할 수 있다.According to another aspect of the embodiment, the touch sensor of the present invention includes a bridge electrode connecting a first sensing pattern formed in a first direction, a second sensing pattern formed in a second direction, and a unit pattern spaced apart from the second sensing pattern .

제1 감지 패턴과 제2 감지 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 예를 들면, 상기 제1 방향은 X축 방향일 수 있고, 제2 방향은 이와 수직으로 교차하는 Y축 방향일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first sensing pattern and the second sensing pattern are arranged in different directions. For example, the first direction may be an X-axis direction, and the second direction may be a Y-axis direction perpendicular to the first direction, but the present invention is not limited thereto.

제1 감지 패턴과 제2 감지 패턴은 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공하게 된다. 구체적으로는, 사람의 손 또는 물체가 커버 윈도우 기판에 접촉되면, 제1 감지 패턴, 제2 감지 패턴 및 위치 검출라인을 경유하여 구동회로 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달된다. 그리고, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.The first sensing pattern and the second sensing pattern provide information on the X and Y coordinates of the touched point. Specifically, when a human hand or an object is brought into contact with the cover window substrate, a change in capacitance according to the contact position is transmitted to the driver circuit side via the first sensing pattern, the second sensing pattern, and the position detection line. Then, the contact position is grasped by the change of the electrostatic capacitance by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like and converted into an electrical signal.

제1 감지 패턴, 제2 감지 패턴은 전술한 메쉬 패턴을 포함하는 투명전극 일 수 있다.The first sensing pattern and the second sensing pattern may be transparent electrodes including the above-mentioned mesh pattern.

제1 감지 패턴과 제2 감지 패턴은 동일면 상에 배치될 수 있다.The first sensing pattern and the second sensing pattern may be disposed on the same plane.

브릿지 전극은 제2 메쉬 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결한다. 이때, 브릿지 전극은 감지 패턴 중 제1 감지 패턴과는 절연되어야 하므로, 이를 위해 절연층이 형성된다.The bridge electrode connects the spaced apart unit patterns of the second mesh pattern. At this time, since the bridge electrode must be insulated from the first sensing pattern of the sensing patterns, an insulating layer is formed for this purpose.

절연층은 감지 패턴과 브릿지 전극 사이에 개재되어 제1 감지 패턴과 제2 감지 패턴을 절연시키는 기능을 한다.The insulating layer intervenes between the sensing pattern and the bridge electrode to insulate the first sensing pattern from the second sensing pattern.

또한, 본 발명은 상기 터치 센서를 포함하는 필름 터치 센서를 제공한다.The present invention also provides a film touch sensor including the touch sensor.

본 발명의 필름 터치 센서는 분리층 및 상기 분리층 상에 형성된 터치 센서를 포함하는 것일 수 있다.The film touch sensor of the present invention may include a separation layer and a touch sensor formed on the separation layer.

본 발명에 따른 분리층은 필름 터치 센서의 제조 공정 시 캐리어 기판으로부터의 박리를 위해 형성되는 층이며, 본 발명에 따른 분리층의 소재는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스타일렌(polystylene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계 고분자 등의 고분자로 제조된 것일 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The separating layer according to the present invention is a layer formed for peeling from a carrier substrate in a manufacturing process of a film touch sensor, and the material of the separating layer according to the present invention is not particularly limited. For example, a polyimide- A polymer, a polyvinyl alcohol polymer, a polyamic acid polymer, a polyamide polymer, a polyethylene polymer, a polystylene polymer, a polynorbornene polymer, Based polymer, a phenylmaleimide copolymer-based polymer, a polyazobenzene-based polymer, a polyphenylenephthalamide-based polymer, a polyester-based polymer, a polymethylmethacrylate-based polymer, methacrylate-based polymers, polyarylate-based polymers, cinnamate-based polymers, coumarin-based polymers, De limiter Dean (phthalimidine) based polymers, can be made of a polymer such as chalcone (chalcone) based polymers, aromatic acetylene-based polymer, these may be used alone or in mixture of two or more.

본 발명에 따른 분리층의 박리력은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 0.01 내지 1N/25mm일 수 있으며, 바람직하게는 0.01 내지 0.2N/25mm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 필름 터치 센서의 형성시 캐리어 기판으로부터 잔여물 없이 용이하게 박리될 수 있으며, 박리시 발생하는 장력에 의한 컬(curl) 및 크랙을 저감할 수 있다는 측면에서 바람직하다.The separating force of the separating layer according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 to 1 N / 25 mm, preferably 0.01 to 0.2 N / 25 mm. When the above-mentioned range is satisfied, the film can be easily peeled off without residue from the carrier substrate upon formation of the touch sensor, and curl and cracks due to the tensile force generated during peeling can be reduced.

본 발명에 따른 분리층의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 10 내지 1,000nm일 수 있으며, 바람직하게는 50 내지 500nm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 박리력이 안정하고, 균일한 패턴을 형성할 수 있다는 측면에서 바람직하다.The thickness of the separation layer according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 1,000 nm, preferably 50 to 500 nm. When the above-mentioned range is satisfied, it is preferable that the peeling force is stable and a uniform pattern can be formed.

또한 본 발명의 필름 터치 센서는 상기 터치 센서와 분리층 사이에 보호층을 더 포함하는 것일 수 있다.The film touch sensor of the present invention may further include a protective layer between the touch sensor and the separation layer.

보호층은 상기 분리층과 마찬가지로 투명 전극을 피복하여 투명 전극을 보호하고, 본 발명의 필름 터치 센서의 제조 공정 중에 분리층이 투명 전극 형성을 위한 에천트에 노출되지 않도록 하는 역할을 한다.Like the separation layer, the protection layer protects the transparent electrode by covering the transparent electrode, and prevents the separation layer from being exposed to the etchant for forming the transparent electrode during the manufacturing process of the film touch sensor of the present invention.

보호층으로는 당분야에 공지된 고분자가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유기 절연막으로 제조된 것일 수 있으며, 그 중에서도 폴리올 및 멜라민 경화제를 포함하는 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. As the protective layer, a polymer known in the art may be used without limitation, for example, an organic insulating layer, and may be formed of a curable composition including a polyol and a melamine curing agent. However, no.

상기 폴리올의 구체적인 종류로는 폴리에테르 글리콜 유도체, 폴리에스테르 글리콜 유도체, 폴리카프로락톤 글리콜 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the polyol include polyether glycol derivatives, polyester glycol derivatives, and polycaprolactone glycol derivatives, but the present invention is not limited thereto.

상기 멜라민 경화제의 구체적인 종류로는 메톡시 메틸 멜라민 유도체, 메틸 멜라민 유도체, 부틸 멜라민 유도체, 이소부톡시 멜라민 유도체 및 부톡시 멜라민 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the melamine curing agent include, but are not limited to, a methoxymethylmelamine derivative, a methylmelamine derivative, a butylmelamine derivative, an isobutoxymelamine derivative, and a butoxy melamine derivative.

본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 보호층은 유무기 하이브리드 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으며, 유기 화합물과 무기 화합물을 동시에 사용하는 경우, 박리시 발생하는 크랙을 저감할 수 있다는 점에서 바람직하다.According to another embodiment of the present invention, the protective layer may be formed of an organic-inorganic hybrid curable composition, and when an organic compound and an inorganic compound are used at the same time, it is preferable that cracks generated during peeling can be reduced.

유기 화합물로는 전술한 성분이 사용될 수 있고, 무기물로는 실리카계 나노 입자, 실리콘계 나노 입자, 유리 나노 섬유 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As the organic compound, the above-described components can be used. Examples of the inorganic substance include silica-based nanoparticles, silicon-based nanoparticles, glass nanofibers, and the like, but are not limited thereto.

본 발명에 따른 필름 터치 센서는 유연성 확보를 위해 캐리어 기판에 분리층 형성용 조성물을 도포하여 분리층을 형성하고, 상기 분리층 상에 전술한 투명전극을 구비한 터치 센서를 형성하고, 이 후, 캐리어 기판을 제거하는 공정으로 제조될 수 있다.In order to ensure flexibility, the film touch sensor according to the present invention forms a separation layer by applying a composition for forming a separation layer on a carrier substrate, forms a touch sensor having the transparent electrode described above on the separation layer, And removing the carrier substrate.

이하 상기 단계들을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the above steps will be described in detail.

먼저, 캐리어 기판 상에 전술한 성분 및 경화 후 물성을 만족하는 분리층 형성용 조성물을 도포하여 분리층을 형성한다.First, a separation layer is formed on the carrier substrate by applying a composition for forming a separation layer satisfying the above-described components and physical properties after curing.

상기 분리층 형성용 조성물의 도포 방법은 당 분야에서 적용되는 통상적인 방법이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 스프레이 코팅법, 롤 코팅법, 토출노즐식 도포법 등의 슬릿노즐을 이용한 코팅법, 중앙 적하 스핀법 등의 회전도포법, 익스트루젼 코팅법, 바 코팅법 등이 있으며, 두가지 이상의 도포 방법을 조합하여 코팅할 수 있으며, 도포 후에 건조 공정을 더 수행할 수 있으며, 가열 건조(프리베이크), 또는 감압 건조 후에 가열하여 용매 등을 휘발시킨다. 가열 온도는 통상적으로 80 내지 250℃일 수 있다.The method for applying the composition for forming a separation layer is not particularly limited as long as it is a conventional method applied in the art. For example, a coating method using a slit nozzle such as a spray coating method, a roll coating method, a discharge nozzle coating method, A spin coating method such as a center drop spin method, an extrusion coating method, a bar coating method, and the like, and two or more coating methods can be combined and coated. Further, a drying process can be performed after coating, Baking), or drying under reduced pressure to volatilize the solvent or the like. The heating temperature may typically be 80 to 250 ° C.

상기 캐리어 기판은 상면에 분리층을 형성하기 위한 기재 역할을 하는 것으로서, 그 상면이 평탄하여 분리층을 고르게 형성할 수 있고, 분리층 상부에 형성되는 각 층들의 적층 공정을 안정적으로 수행할 수 있는 정도의 강도를 갖는 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 유리 기판, 플라스틱 기판 등을 사용할 수 있다.The carrier substrate serves as a substrate for forming a separation layer on the upper surface. The upper surface of the carrier substrate is flat, so that the separation layer can be uniformly formed. In addition, the carrier substrate can stably carry out the lamination process of the layers formed on the separation layer A glass substrate, a plastic substrate, or the like can be used.

이후, 전술한 투명 전극을 구비한 터치 센서를 상기 분리층 위에 형성할 수 있다. 본 발명의 제1 금속 산화물층, 금속층 또는 제2 금속 산화물층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD) 등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다.Then, a touch sensor having the transparent electrode described above can be formed on the isolation layer. The method of forming the first metal oxide layer, the metal layer or the second metal oxide layer of the present invention is not particularly limited, and various thin films such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) May be formed by a deposition technique. For example, it can be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition.

본 발명의 투명 전극에 포함되는 메쉬 패턴을 형성하는 방법은 특별하게 한정되지 않으며, 예를 들면 포토리소그래피에 의해서 형성될 수 있다.The method of forming the mesh pattern included in the transparent electrode of the present invention is not particularly limited and may be formed by, for example, photolithography.

본 발명의 따른 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하는 메쉬 패턴을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 순차적으로 형성하여 적층한 후 포토리소그래피에 의해서 상기 층들을 동시에 식각하거나 층별로 각각 식각하는 방법에 의해 형성될 수 있다.The method for forming the mesh pattern including the first metal oxide layer, the metal layer and the second metal oxide layer according to the present invention is not particularly limited. For example, the first metal oxide layer, the metal layer and the second metal oxide layer may be sequentially And then the layers may be simultaneously etched by photolithography or etched by layers.

다음으로, 상기 캐리어 기판으로부터 분리층 및 상기 투명 전극을 포함하는 상부 적층물을 박리하는 단계를 수행한다.Next, a step of peeling the upper laminate including the separation layer and the transparent electrode from the carrier substrate is performed.

본 발명의 필름 터치 센서는 이에 포함된 투명 전극이 현저히 개선된 시인성, 우수한 굽힘 특성, 낮은 면저항을 가질 수 있다.The film touch sensor of the present invention can have significantly improved visibility, excellent bending property, and low sheet resistance.

또한, 본 발명은 상기 터치 센서 또는 필름 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.The present invention also provides an image display apparatus including the touch sensor or the film touch sensor.

본 발명의 터치 센서 또는 필름 터치 센서는 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The touch sensor or the film touch sensor of the present invention is applicable not only to a general liquid crystal display but also to various image display devices such as an electroluminescence display, a plasma display, and a field emission display.

전술한 투명 전극은 현저히 개선된 시인성을 가지고, 우수한 굽힘 특성 및 낮은 면 저항을 가지는 바, 바람직하게 플렉서블 화상 표시 장치에 적용 될 수 있다.The above-mentioned transparent electrode has remarkably improved visibility, has excellent bending property and low surface resistance, and therefore can be preferably applied to a flexible image display device.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여, 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술 사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to be illustrative of the present invention, and not to limit the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the examples, and it is obvious that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims.

실시예Example  And 비교예Comparative Example

실시예Example 1. 투명 전극의 제조 1. Manufacture of transparent electrode

본 발명의 투명 전극의 광학적 특성, 전기적 특성 및 굽힘 특성을 평가하기 위하여 투명 전극을 제조하였다. 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 인듐아연산화물(IZO)을 사용하였고, 금속층은 은-팔라듐-구리(APC) 합금을 사용하였으며, 제1 금속 산화물층, 금속층, 제2 금속 산화물층을 스퍼터링을 이용하여 환형올레핀중합체(COP) 상에 순차적으로 적층한 뒤, 동시에 포토리소그래피에 의해 식각하여 선폭 3㎛의 메쉬 패턴을 형성하였다. 각 층의 두께는 제1 금속 산화물층 30nm, 금속층 10nm, 제2 금속 산화물층 30nm으로 하였다.A transparent electrode was prepared to evaluate optical characteristics, electrical characteristics and bending properties of the transparent electrode of the present invention. The first metal oxide layer and the second metal oxide layer were made of indium zinc oxide (IZO), the metal layer was a silver-palladium-copper (APC) alloy, and the first metal oxide layer, the metal layer, Was sequentially laminated on the cyclic olefin polymer (COP) by sputtering, and then simultaneously etched by photolithography to form a mesh pattern having a line width of 3 탆. The thickness of each layer was 30 nm for the first metal oxide layer, 10 nm for the metal layer, and 30 nm for the second metal oxide layer.

실시예Example 2 내지 12 및  2 to 12 and 비교예Comparative Example 1 내지 5 1 to 5

각 층의 소재는 동일하게 하되, 하기 표 1에 따라 소재, 선폭, 두께만을 달리하여 실시예 1의 방법에 따라 실시예 2 내지 12 및 비교예 1 내지 5의 투명 전극을 제조하였다.The transparent electrodes of Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 5 were produced in the same manner as in Example 1 except that the materials of the respective layers were the same, except that the material, line width, and thickness were different according to the following Table 1.

구분division 제1 금속 산화물층The first metal oxide layer 금속층Metal layer 제2 금속 산화물층The second metal oxide layer 메쉬 패턴
선폭(㎛)
Mesh pattern
Line width (탆)
메쉬 패턴
반사율(550nm)
(%)
Mesh pattern
Reflectance (550 nm)
(%)
소재Material 두께
(nm)
thickness
(nm)
소재Material 두께
(nm)
thickness
(nm)
소재Material 두께
(nm)
thickness
(nm)
실시예Example 1One IZOIZO 3030 APCAPC 1010 IZOIZO 3030 33 7.07.0 22 IZOIZO 3030 APCAPC 1010 IZOIZO 3030 55 7.07.0 33 IZOIZO 3030 APCAPC 1212 IZOIZO 3030 33 12.312.3 44 IZOIZO 3030 APCAPC 1212 IZOIZO 3030 55 12.312.3 55 IZOIZO 3030 APCAPC 1515 IZOIZO 3030 33 12.812.8 66 IZOIZO 4040 APCAPC 1212 IZOIZO 4040 33 12.412.4 77 IZOIZO 4040 APCAPC 1212 IZOIZO 4040 55 12.412.4 88 IZOIZO 4040 APCAPC 1515 IZOIZO 4040 33 12.812.8 99 IZOIZO 5050 APCAPC 1515 IZOIZO 5050 33 13.013.0 1010 IZOIZO 2020 APCAPC 1515 IZOIZO 2020 33 18.518.5 1111 IZOIZO 4040 APCAPC 1717 IZOIZO 4040 33 19.819.8 1212 IZOIZO 4040 APCAPC 88 IZOIZO 4040 33 6.86.8 1313 IZOIZO 4040 APCAPC 1010 IZOIZO 8080 33 8.28.2 1414 IZOIZO 4040 APCAPC 1010 IZOIZO 100100 33 8.68.6 1515 IZOIZO 4040 APCAPC 1010 IZOIZO 120120 33 99 1616 IZOIZO 4040 APCAPC 1010 IZOIZO 140140 33 9.39.3 비교예Comparative Example 1One IZOIZO 3030 APCAPC 1010 없음none -- 33 7.07.0 22 IZOIZO 3030 APCAPC 1515 없음none -- 33 17.117.1 33 IZOIZO 4040 APCAPC 1717 없음none -- 33 21.121.1 44 IZOIZO 3030 APCAPC 44 IZOIZO 3030 33 4.84.8 55 IZOIZO 3030 APCAPC 3131 IZOIZO 3030 33 67.267.2

실험예Experimental Example 1 One

1. 반사율 측정1. Reflectometry

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 반사율은 550nm 파장 조건 하에서 분광측색계(CM-3600A, Konica Minolta)로 측정하였다.The reflectance of the transparent electrode prepared according to Examples and Comparative Examples was measured with a spectroscopic colorimeter (CM-3600A, Konica Minolta) under a wavelength of 550 nm.

2. 투과율 측정2. Transmittance measurement

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 투과율은 550nm 파장 조건 하에서 분광측색계(CM-3600A, Konica Minolta)로 측정하였다.The transmittance of the transparent electrode prepared according to Examples and Comparative Examples was measured with a spectroscopic colorimeter (CM-3600A, Konica Minolta) under a wavelength of 550 nm.

3. 3. 면저항Sheet resistance 측정 Measure

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 면저항은 면저항 측정기(RG-80, Napson)로 측정하였다.The sheet resistances of the transparent electrodes prepared according to Examples and Comparative Examples were measured with a sheet resistance meter (RG-80, Napson).

4. 4. 색차값Color difference value 측정 Measure

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 색차값은 550nm 파장 조건 하에서 분광측색계(CM-3600A, Konica Minolta)로 측정하였다.The color difference values of the transparent electrodes prepared according to Examples and Comparative Examples were measured with a spectroscopic colorimeter (CM-3600A, Konica Minolta) under a wavelength of 550 nm.

5. 헤이즈5. Hayes 측정 Measure

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 헤이즈는 hazemeter(HM-150, Murasaki)로 측정하였다. The haze of the transparent electrode prepared according to Examples and Comparative Examples was measured by a hazemeter (HM-150, Murasaki).

6. 밀착력 측정6. Adhesion measurement

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극의 밀착력은 ASTM D3359에 따라 측정되었으며, 평가 기준은 하기와 같다.The adhesion of the transparent electrode prepared according to Examples and Comparative Examples was measured according to ASTM D3359, and the evaluation criteria are as follows.

5B: 박리 없음5B: No peeling

4B: 5% 미만의 박리4B: Less than 5% exfoliation

3B: 5% 이상 내지 15% 미만의 박리3B: peeling from 5% or more to less than 15%

2B: 15% 이상 내지 35% 미만의 박리2B: peeling from 15% or more to less than 35%

1B: 35% 이상 내지 65% 미만의 박리1B: peeling from 35% or more to less than 65%

0B: 65% 이상의 박리0B: peeling of 65% or more

구분division 반사율
(550nm)(%)
reflectivity
(550 nm) (%)
투과율
(550nm)(%)
Transmittance
(550 nm) (%)
면저항
(Ω/sq)
Sheet resistance
(Ω / sq)
b*b * Haze
(%)
Haze
(%)
밀착력
(B)
Adhesion
(B)
실시예Example 1One 7.07.0 89.389.3 10.210.2 1.21.2 0.90.9 55 22 7.07.0 88.788.7 10.210.2 1.31.3 0.90.9 55 33 12.312.3 88.088.0 5.75.7 -1.6-1.6 0.50.5 55 44 12.312.3 87.387.3 5.75.7 -2.0-2.0 0.50.5 55 55 12.812.8 84.784.7 5.15.1 -2.5-2.5 0.70.7 55 66 12.412.4 88.388.3 4.94.9 -1.6-1.6 0.60.6 55 77 12.412.4 87.587.5 4.94.9 -2.0-2.0 0.60.6 55 88 12.812.8 84.884.8 4.54.5 -2.3-2.3 0.80.8 55 99 13.013.0 84.584.5 4.44.4 -2.5-2.5 1.01.0 55 1010 18.518.5 83.883.8 5.05.0 -2.1-2.1 1.01.0 55 1111 19.819.8 82.582.5 4.04.0 -2.2-2.2 1.11.1 55 1212 6.86.8 89.189.1 16.816.8 -1.5-1.5 0.50.5 55 1313 8.28.2 88.788.7 99 1One 0.70.7 55 1414 8.68.6 88.188.1 8.68.6 0.90.9 0.70.7 55 1515 99 87.887.8 8.38.3 0.90.9 0.80.8 55 1616 9.39.3 87.387.3 88 0.80.8 0.90.9 55 비교예Comparative Example 1One 7.07.0 88.388.3 10.010.0 0.60.6 0.80.8 00 22 17.117.1 84.084.0 6.06.0 0.80.8 1.11.1 00 33 21.121.1 80.580.5 5.45.4 -2.0-2.0 1.61.6 33 44 4.84.8 89.389.3 72.072.0 -1.5-1.5 0.50.5 55 55 67.267.2 61.961.9 1.21.2 -3.3-3.3 2.82.8 55

실험예를 참조하면, 비교예의 경우 반사율 및 밀착력이 떨어지는 반면 실시예의 경우 반사율, 투과율, b*, 면저항, 헤이즈 및 밀착성 모두 우수하다. Referring to Experimental Examples, the reflectance and adhesion of Comparative Examples are inferior, while the reflectivity, transmittance, b *, sheet resistance, haze, and adhesion are excellent in Examples.

비교예 1 및 2의 경우에는 투명 전극이 시인되지는 않았으나, 밀착력이 실시예에 비해 현저하게 저하되었고, 비교예 3은 밀착력이 현저하게 저하될 뿐만 아니라, 투명 전극이 육안으로 시인되었다.In the case of Comparative Examples 1 and 2, the transparent electrode was not visually observed, but the adhesion was remarkably lowered than in the Example. In Comparative Example 3, not only the adhesiveness was remarkably lowered but also the transparent electrode was visually observed.

비교예 4는 투명 전극이 시인되지는 않았으나 면저항이 매우 높아 전극으로 사용이 불가능하고, 비교예 5는 투명 전극이 육안으로 용이하게 시인되었다.In Comparative Example 4, the transparent electrode was not visually recognized, but the sheet resistance was too high to be used as an electrode. In Comparative Example 5, the transparent electrode was easily visually observed.

실험예Experimental Example 2: 굽힘 특성 측정 2: Measurement of bending properties

실시예 및 비교예에 의해 제조된 투명 전극에 대해, 도 3에 도시된 바와 같이 곡률 반경(R) = 2mm로 180°방향으로 하기 표 3에 기재된 횟수만큼 접는 굽힘 시험(folding test)를 수행하고, 굽힘 후 선저항(㏀)을 측정하여 그 결과를 하기 표 3에 기재하였다.Folding tests were performed on the transparent electrodes prepared by the examples and the comparative examples as many times as shown in the following Table 3 in the direction of 180 占 with a radius of curvature (R) = 2 mm as shown in Fig. 3 , And line resistance (k?) After bending were measured. The results are shown in Table 3 below.

굽힘 횟수Number of bends 1*1021 * 10 2 times 5*1025 * 10 2 times 1*1031 * 10 3 times 2*1032 * 10 3 times 5*1035 * 10 3 times 1*1041 * 10 4 times 5*1045 * 10 4 times 1*1051 * 10 5 times 2*1052 * 10 5 times 6*1056 * 10 5 times 실시예Example 1One 387.9387.9 387.9387.9 387.9387.9 387.8387.8 387.9387.9 387.9387.9 387.9387.9 387.9387.9 387.8387.8 387.8387.8 22 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 186.6186.6 33 216.8216.8 216.8216.8 216.8216.8 216.7216.7 216.8216.8 216.8216.8 216.8216.8 216.8216.8 216.7216.7 216.7216.7 44 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 104.3104.3 55 194.0194.0 194.0194.0 194.0194.0 193.9193.9 194.0194.0 194.0194.0 194.0194.0 194.0194.0 193.9193.9 193.9193.9 66 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 186.3186.3 77 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 89.689.6 88 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 171.1171.1 99 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 167.3167.3 1010 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 190.1190.1 1111 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 152.1152.1 1212 638.9638.9 638.9638.9 638.9638.9 638.7638.7 638.9638.9 638.9638.9 638.9638.9 638.9638.9 638.7638.7 638.7638.7 1313 342.3342.3 342.3342.3 342.3342.3 342.2342.2 342.3342.3 342.3342.3 342.3342.3 342.3342.3 342.2342.2 342.2342.2 1414 327.1327.1 327.1327.1 327.1327.1 327.0327.0 327.1327.1 327.1327.1 327.1327.1 327.1327.1 327.0327.0 327.0327.0 1515 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 315.6315.6 1616 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 304.2304.2 358.9358.9 비교예Comparative Example 1One 380.3380.3 380.3380.3 380.3380.3 380.2380.2 380.3380.3 380.3380.3 380.3380.3 532.41532.41 -- -- 22 228.2228.2 228.2228.2 228.2228.2 228.1228.1 228.2228.2 228.2228.2 228.2228.2 387.90387.90 -- -- 33 205.4205.4 205.4205.4 205.4205.4 205.3205.3 205.4205.4 205.4205.4 205.4205.4 369.65369.65 -- -- 44 2,738.12,738.1 2,738.22,738.2 2,738.12,738.1 2,737.42,737.4 2,738.12,738.1 2,738.12,738.1 2,738.22,738.2 2738.12738.1 2738.32738.3 2738.12738.1 55 45.645.6 45.645.6 45.645.6 45.645.6 45.645.6 45.645.6 78.4978.49 -- -- --

표 3을 참고하면, 본 발명에 따른 투명 전극은 곡률반경이 2mm에 이르러도 굽힘 시 선저항의 변화가 없음을 확인할 수 있다. Referring to Table 3, it can be seen that the line resistance of the transparent electrode according to the present invention does not change at the time of bending even if the radius of curvature reaches 2 mm.

그러나, 비교예 1 내지 3 및 비교예 5는 각각 굽힘 횟수가 10만회 및 5만회에서 선저항이 급격하게 증가됨을 확인하였으며, 비교예 4는 선저항의 변화는 없었으나 선저항 자체가 매우 높아 전극으로서 사용이 불가능하다.However, in Comparative Examples 1 to 3 and Comparative Example 5, it was confirmed that the line resistance increased sharply at 100,000 times and 50,000 times, respectively. In Comparative Example 4, the line resistance was not changed, As shown in FIG.

이에 따라, 본 발명의 투명 전극은 유연성이 우수하여 플렉서블 디스플레이에 유용하게 사용될 수 있다.Accordingly, the transparent electrode of the present invention is excellent in flexibility and can be used for a flexible display.

100: 기재 200: 메쉬 패턴
210: 제1 금속 산화물층 220: 금속층
230: 제2 금속 산화물층
100: substrate 200: mesh pattern
210: first metal oxide layer 220: metal layer
230: second metal oxide layer

Claims (23)

메쉬 패턴을 포함하고,
상기 메쉬 패턴은 순차적으로 적층된 제1 금속 산화물층, 금속층 및 제2 금속 산화물층을 포함하며,
550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 20%인 투명 전극.
Including a mesh pattern,
Wherein the mesh pattern comprises a first metal oxide layer, a metal layer and a second metal oxide layer which are sequentially stacked,
And a reflectance at a wavelength of 550 nm is 5 to 20%.
청구항 1에 있어서, 상기 550nm 파장에서의 반사율은 5 내지 13%인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the reflectance at the 550 nm wavelength is 5 to 13%.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 550nm 파장에서의 굴절률은 각각 독립적으로 1.7 내지 2.2이고, 상기 금속층의 550nm 파장에서의 굴절률은 0.1 내지 1.0이며, 소멸 계수는 2.0 내지 7.0인 투명 전극.
The method of claim 1, wherein the refractive indexes of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer at a wavelength of 550 nm are independently from 1.7 to 2.2, the refractive index of the metal layer at a wavelength of 550 nm is 0.1 to 1.0, To 7.0.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 두께는 각각 독립적으로 5 내지 140nm이고, 상기 금속층의 두께는 5 내지 30nm인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the thicknesses of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are independently 5 to 140 nm and the thickness of the metal layer is 5 to 30 nm.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층의 두께는 각각 독립적으로 30 내지 50nm이고, 상기 금속층의 두께는 8 내지 15nm인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the thicknesses of the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are independently 30 to 50 nm and the thickness of the metal layer is 8 to 15 nm.
청구항 1에 있어서, 상기 메쉬 패턴의 선폭은 1 내지 7㎛인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the line width of the mesh pattern is 1 to 7 占 퐉.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 알루미늄아연산화물(AZO), 갈륨아연산화물(GZO), 인듐주석아연산화물(ITZO), 아연주석산화물(ZTO), 인듐갈륨산화물(IGO), 산화주석(SnO2) 및 산화아연(ZnO)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.
The method of claim 1, wherein the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are each independently selected from indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO) Wherein the transparent electrode comprises at least one selected from the group consisting of tin zinc oxide (ITZO), zinc tin oxide (ZTO), indium gallium oxide (IGO), tin oxide (SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO).
청구항 1에 있어서, 상기 제 1금속 산화물층 및 제2 금속 산화물층은 각각 독립적으로 인듐주석산화물(ITO) 및 인듐아연산화물(IZO)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.
The transparent electrode of claim 1, wherein the first metal oxide layer and the second metal oxide layer each independently comprise at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).
청구항 1에 있어서, 상기 금속층은 은, 금, 구리, 알루미늄, 백금, 팔라듐, 크롬, 티타늄, 텅스텐, 니오븀, 탄탈륨, 바나듐, 칼슘, 철, 망간, 코발트, 니켈, 아연 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.
[4] The method of claim 1, wherein the metal layer comprises at least one of silver, gold, copper, aluminum, platinum, palladium, chromium, titanium, tungsten, niobium, tantalum, vanadium, calcium, iron, manganese, cobalt, nickel, Wherein the transparent electrode comprises at least one selected from the group consisting of:
청구항 1에 있어서, 상기 금속층은 은, 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄 및 이들 중 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the metal layer comprises at least one selected from the group consisting of silver, gold, copper, palladium, aluminum, and two or more alloys thereof.
청구항 1에 있어서, 상기 투명 전극의 헤이즈는 -1 내지 +1%인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the transparent electrode has a haze of -1 to + 1%.
청구항 1에 있어서, 상기 투명 전극의 색차값 b*는 -4 내지 +4인 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the color difference value b * of the transparent electrode is -4 to +4.
청구항 1에 있어서, 곡률 반경 1 mm 이상에서 180°방향으로 접는 경우 선저항의 변화가 없는 투명 전극.
The transparent electrode according to claim 1, wherein the transparent electrode has no change in line resistance when it is folded in a direction of 180 degrees from a radius of curvature of 1 mm or more.
청구항 1 내지 13 중 어느 한 항의 투명 전극을 포함하는 터치 센서.
A touch sensor comprising the transparent electrode according to any one of claims 1 to 13.
청구항 13에 있어서, 상기 투명 전극은 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 기재 상에 구비된 터치 센서.
[14] The method of claim 13, wherein the transparent electrode is formed of at least one selected from the group consisting of a cyclic olefin polymer (COP), a polyethylene terephthalate (PET), a polyacrylate (PAR), a polyetherimide (PEI), a polyethylene naphthalate (PEN), a polyphenylene sulfide ), Polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer ), Polymethylmethacrylate (PMMA), and the like.
청구항 14에 있어서, 상기 투명 전극은 환형올레핀중합체(COP)를 포함하는 기재 상에 구비된 터치 센서.
15. The touch sensor of claim 14, wherein the transparent electrode is provided on a substrate comprising an annular olefin polymer (COP).
청구항 14에 있어서, 복수 개의 이격된 감지 패턴을 포함하고, 상기 감지 패턴은 동일면 상에 배치되고 상기 투명 전극으로 형성된 것인 터치 센서.
15. The touch sensor of claim 14, comprising a plurality of spaced apart sensing patterns, wherein the sensing patterns are disposed on the same surface and are formed of the transparent electrodes.
청구항 17에 있어서, 제1 방향으로 형성된 제1 감지 패턴, 제2 방향으로 형성된 제2 감지 패턴 및 상기 제2 감지 패턴의 이격된 단위 패턴을 연결하는 브릿지 전극을 포함하는 터치 센서.
The touch sensor of claim 17, further comprising a bridge electrode connecting a first sensing pattern formed in a first direction, a second sensing pattern formed in a second direction, and a unit pattern spaced apart from the second sensing pattern.
청구항 17에 있어서, 셀프 캡(self-cap) 방식으로 형성된 것인 터치 센서.
The touch sensor according to claim 17, wherein the touch sensor is formed in a self-capping manner.
분리층; 및 상기 분리층 상에 형성된 청구항 17의 터치 센서를 포함하는 필름 터치 센서.
A separation layer; And a touch sensor according to claim 17 formed on the separation layer.
청구항 20에 있어서, 상기 터치 센서와 분리층 사이에 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서.
21. The film touch sensor of claim 20, further comprising a protective layer between the touch sensor and the separating layer.
청구항 14의 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치.
An image display apparatus comprising the touch sensor of claim 14.
청구항 20의 필름 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치.An image display apparatus comprising the film touch sensor of claim 20.
KR1020160178001A 2016-08-09 2016-12-23 Transparent electrode and touch sensor including the same Withdrawn KR20180018249A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106124920A TWI746603B (en) 2016-08-09 2017-07-25 Transparent electrode, touch sensor and image display device including the same
US15/661,413 US10437112B2 (en) 2016-08-09 2017-07-27 Transparent electrode, touch sensor and image display device including the same
CN201720975100.5U CN207337957U (en) 2016-08-09 2017-08-04 Transparency electrode including its touch sensor and image display
CN201710662030.2A CN107705883B (en) 2016-08-09 2017-08-04 Transparent electrode, touch sensor comprising same and image display device
JP2017152286A JP7028578B2 (en) 2016-08-09 2017-08-07 Transparent electrode, touch sensor and display including it

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160101157 2016-08-09
KR20160101157 2016-08-09

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160179276A Division KR101834870B1 (en) 2016-12-26 2016-12-26 Transparent electrode and touch sensor including the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180018249A true KR20180018249A (en) 2018-02-21

Family

ID=61525337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160178001A Withdrawn KR20180018249A (en) 2016-08-09 2016-12-23 Transparent electrode and touch sensor including the same

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20180018249A (en)
CN (1) CN207337957U (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112885254A (en) * 2021-04-13 2021-06-01 深圳市蝉翼科技有限公司 Flexible transparent LED display screen

Also Published As

Publication number Publication date
CN207337957U (en) 2018-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI746603B (en) Transparent electrode, touch sensor and image display device including the same
JP5997146B2 (en) Touch panel
US8530041B2 (en) Transparent conductive film and touch panel
KR101444132B1 (en) Touch sensing electrode combined with complexed polarization plate and touch screen panel comprising the same
JP4055019B2 (en) Transparent sheet and transparent touch switch
KR101443689B1 (en) Touch sensing electrode combined with polarization plate
KR20120048499A (en) Method for fabricating transparent conductive film
KR101865685B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
KR101879220B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
JP2006011523A (en) Touch panel sensor
KR20180095549A (en) Metal layer laminated transparent conductive film and touch sensor using the same
US8822835B2 (en) Touch panel sensor
CN105765510B (en) Hybrid touch sensing electrode and touch screen panel
KR101181056B1 (en) Touch panel
US20100304013A1 (en) Touch Panel Manufacturing Method
KR101942294B1 (en) Touch screen panel and image display comprising the same
KR20140137823A (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
KR20180018249A (en) Transparent electrode and touch sensor including the same
KR101834870B1 (en) Transparent electrode and touch sensor including the same
KR102131908B1 (en) Flexible touch sensor
KR101810892B1 (en) Touch sensor and touch screen panel comprising the same
JP5585349B2 (en) Transparent conductive film, pointing device, and transparent conductive film manufacturing method
US20140071533A1 (en) Transparent Conductive FILM And Touch Panel Provided With Same
JP5831603B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
KR20170112482A (en) Film touch sensor

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

A107 Divisional application of patent
PA0107 Divisional application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A18-div-PA0107

St.27 status event code: A-0-1-A10-A16-div-PA0107

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

R17-X000 Change to representative recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

PC1202 Submission of document of withdrawal before decision of registration

St.27 status event code: N-1-6-B10-B11-nap-PC1202

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000