KR20160128331A - Control of polarization and diffractive artifact resolution in retro-imaging systems - Google Patents
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Abstract
역반사 어레이에서의 편광 상태는 시스템 효율을 향상시키기 위해 역반사성 역 이미징 셋업의 광학 경로 전반에 걸쳐 제어될 수 있다. 역반사체 어레이 앞에 배치된 편광 빔 스플리터 층 및 지연체 층은 편광 광이 소스로서 사용되고, 소스 입력 광이 편광 빔 스플리터 층에서 역반사 층 쪽으로 효과적으로 반사되며, 편광이 지연체 층을 통한 최초 통과시에 원형으로 변환되도록 방위 설정된다. 편광은 또한 입력 편광 상태에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 방위 설정될 수 있고, 광이 역반사 층에서 역반사 및 재수렴되며 선형 편광 상태로 변환될 수 있다. 그 다음에, 광은 입력 선형 상태에 대하여 약 90°회전되며 및/또는 제2 통과시에 편광 빔 스플리터 층을 통과하여 재수렴 이미지를 형성할 수 있다.The polarization state in the retroreflective array can be controlled throughout the optical path of the retroreflective inverse imaging setup to improve system efficiency. The polarizing beam splitter layer and the retarder layer disposed in front of the retroreflective array are arranged such that the polarized light is used as the source and the source input light is effectively reflected from the polarizing beam splitter layer toward the retroreflective layer, And is oriented to be converted into a circular shape. The polarization can also be oriented at 45 [deg.] Or about 45 [deg.] To the input polarization state, and the light can be retro-reflected and re-converged in the retroreflective layer and converted to a linear polarization state. The light may then be rotated about 90 degrees relative to the input linear state and / or pass through the polarization beam splitter layer during the second pass to form a re-converged image.
Description
도 1은 역반사 디스플레이 시스템에서 재수렴성 플로팅 이미지의 형성을 보인 도이다.
도 2a 내지 도 2c는 다른 구현예에 따른 재수렴성 플로팅 이미지의 예시적인 형성을 보인 도이다.
도 3a는 편광 제어를 통해 효율이 증가된 예시적인 역 이미징 시스템 구성을 보인 도이다.
도 3b는 관리형(ruled type) 역반사 막의 예시적인 경우에 대한 회절 모델에서의 '연'(kite) 타일링의 정의를 보인 도이다.
도 3c는 비금속화 제2 표면 역반사체 어레이를 이용할 때 리졸브에서 예시적인 회절 충격을 보인 도이다.
도 3d는 전환형 표면 및 플로팅 디스플레이 시스템에서 플로팅 이미지 및 표면 이미지 상태를 보인 도이다.
도 4는 입력 편광 대 출력에서의 셀 내 모습을 코너 큐브(corner cube) 구성으로 보인 도이다.
도 5a 내지 도 5i는 비금속화 역반사체 어레이를 이용하는 경우에 도 4의 예시적인 구성에서 다른 입력에 대한 예시적인 편광 동공 지도를 보인 도이다.
도 6은 지연체 기반 스테레오 3D형 LCD 모듈을 이용한 하나의 디스플레이로부터의 예시적인 이중 이미지 콘텐츠 발생을 보인 도이다.
도 7은 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템의 제조 시스템의 제어를 위해 사용할 수 있는 예시적인 컴퓨팅 장치의 블록도이다.
도 8은 구현예에 따른 예시적인 역반사 이미징 장치 제조 시스템을 보인 도이다.
도 9는 구현예에 따른 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템을 제조하는 방법의 논리 흐름도이다.Figure 1 shows the formation of a re-convergent floating image in a retroreflective display system.
2A to 2C show an exemplary formation of a re-convergent floating image according to another embodiment.
FIG. 3A shows an exemplary reverse imaging system configuration with increased efficiency through polarization control.
FIG. 3B is a view showing the definition of 'kite' tiling in a diffraction model for an exemplary case of a ruled-type retroreflective film.
Figure 3c shows an exemplary diffraction bombardment at the resolver using an unmetallized second surface retroreflective array.
FIG. 3D is a diagram showing floating images and surface image states in a transitionable surface and a floating display system.
4 is a view showing a state in a cell at an input polarization band output as a corner cube configuration.
Figures 5A-5I illustrate exemplary polarizing pupil maps for different inputs in the exemplary configuration of Figure 4 when using a non-metalized retroreflective array.
Figure 6 shows an exemplary dual image content generation from one display using a delay-based stereo 3D LCD module.
Figure 7 is a block diagram of an exemplary computing device that may be used for control of a manufacturing system of a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability.
Figure 8 shows an exemplary retro-reflective imaging device manufacturing system in accordance with an embodiment.
9 is a logic flow diagram of a method of fabricating a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability according to an embodiment.
일부 구현예에 따르면, 분해능의 추가적인 손실을 회피하면서 비코팅형 또는 코팅형 역반사 어레이의 사용이 가능해지고 편광 기반 시스템의 효율이 증가된다. 시스템의 효율을 향상시키기 위해 편광 상태는 역반사성 역 이미징 셋업의 광학 경로 전반에 걸쳐 제어될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 모듈로부터의 선형 편광된 입력 광은 역반사체 어레이 앞에 배치된 편광 빔 스플리터 또는 지연체(retarder)와 함께 사용될 수 있다. 층들은 편광 광이 소스로서 사용되고, 소스 입력 광이 스플리터에서 역반사 층 쪽으로 효과적으로 반사되며, 편광이 입력 편광 상태에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 방위 설정된(oriented) 지연체 층을 통한 최초 통과시에 원형으로 변환되고, 광이 역반사 층에서 역반사되어 재수렴되고, 반사광이 재수렴 이미지를 형성하기 위해 선형 편광 상태로 변환되고 입력 선형 상태에 대하여 90°회전되며 및/또는 제2 통과시에 스플리터를 통과하도록 방위 설정될 수 있다.In some implementations, the use of an uncoated or coated retroreflective array is enabled, while the additional loss of resolution is avoided, and the efficiency of the polarization-based system is increased. To improve the efficiency of the system, the polarization state can be controlled throughout the optical path of the retroreflective inverse imaging setup. For example, linearly polarized input light from a display module may be used with a polarizing beam splitter or retarder disposed in front of the retroreflective array. Layers are used as the source of the polarized light and the source input light is effectively reflected from the splitter towards the retroreflective layer and the polarization passes through the first pass through the retarder layer oriented at < RTI ID = 0.0 > 45 & And the light is reflected back in the retroreflective layer and re-converged, and the reflected light is converted into a linear polarization state to form a re-converged image and rotated 90 degrees to the input linear state and / or the second pass May be oriented to pass through the splitter.
다른 구현예에 있어서, 금속화 코팅형 제2 표면 역반사 어레이는 리졸브(resolve)에서의 충격 없이 사용될 수 있다. 비코팅형 제2 표면 역반사 어레이는 코팅 난제(challenge)를 회피할 수 있지만, 여기에서 설명하는 것처럼 플로팅 이미지의 분해능에 대한 충격을 회피하기 위해 편광 상태 제어 시스템의 지연 층을 통한 적절한 위상 보정을 수반할 수 있다. 편광을 제어함으로써, 이러한 비코팅형 역반사체 어레이는 패싯(facet) 각도 오차에만 기인하는 기본적인 제한을 넘어서는 분해능에 대한 추가적인 충격 없이 편광 기반 시스템에서 사용할 수 있다. 또 다른 구현예에 있어서, 소스 디스플레이에서의 2개의 직교 편광 상태를 이용하여 디스플레이 패널의 직접 뷰와 플로팅 이미지 양자의 동시 보기를 달성할 수 있다. 따라서, 지연 기반 입체형 액정 디스플레이(LCD) 모듈을 사용할 수 있다.In another embodiment, the metallized coated second surface retroreflective array can be used without impact on the resolve. An uncoated second surface retroreflective array can avoid coating challenges, but as described herein, an appropriate phase correction through the retardation layer of the polarization state control system to avoid impacts on the resolution of the floating image . By controlling the polarization, such an uncoated retroreflective array can be used in a polarization-based system without any additional impact on the resolution beyond the fundamental limitation due only to facet angular error. In another embodiment, two orthogonal polarization states in the source display can be used to achieve a simultaneous view of both the direct view and the floating image of the display panel. Thus, a delay based stereoscopic liquid crystal display (LCD) module can be used.
상기 및 기타의 특징들은 이하의 설명을 읽고 관련 도면을 참고함으로써 명백하게 될 것이다. 이하의 설명에서는 본 명세서의 일부를 구성하고 예증, 구체적인 구현예 또는 실시예로서 도시된 첨부 도면을 참조한다. 이러한 양태들은 본 발명의 정신 또는 범위로부터 벗어남이 없이 결합될 수 있고, 다른 양태들을 이용할 수 있으며, 구조적 변경이 이루어질 수 있다. 그러므로 이하의 설명은 제한하는 의미로 해석되어서는 안된다.These and other features will become apparent by reading the following description and referring to the accompanying drawings. In the following description, reference is made to the accompanying drawings which form a part hereof, serve as illustrations, specific embodiments or examples. These aspects may be combined without departing from the spirit or scope of the invention, and other aspects may be utilized and structural changes may be made. The following description is, therefore, not to be construed in a limiting sense.
도 1은 역반사 디스플레이 시스템에서 재수렴성 플로팅 이미지의 형성을 보인 도이다.Figure 1 shows the formation of a re-convergent floating image in a retroreflective display system.
도면(100)은 큰 시청 부피(viewing volume) 또는 아이 박스(eye box)와 함께 실제 플로팅 이미지를 형성할 수 있는 일 유형의 이미징 시스템을 보인 것이다. 역 이미징 시스템은 소스 오브젝트 광(source object light)(108)(평면(124)에서 소스 오브젝트 광(108)의 확장된 뷰를 나타내는 확장부(104)에 도시되어 있음), 하프미러(빔 스플리터(120)), 및 역반사 어레이(122)를 이용하여 플로팅 이미지를 제공할 수 있다. 이러한 시스템에서, 소스 오브젝트 광(108)은 빔 스플리터(120)에 의해 역반사 어레이(122) 쪽으로 부분적으로 반사될 수 있다. 복수의 코너 큐브 반사체(corner cube array("CCA")라고도 부름)를 포함할 수 있는 역반사 어레이(122)는 광을 재수렴(118)시키는 방식으로 상기 광을 반사할 수 있다. 상기 광의 일부는 제2 통과시에 하프미러를 통해 투과하여 재수렴 이미지(118)를 형성할 수 있고, 이 재수렴 이미지(118)는 소스 광의 '플로팅' 복제물(floating replica)일 수 있다. 플로팅 복제물은 2D 또는 3D 오브젝트로부터 형성될 수 있다.Drawing 100 shows one type of imaging system capable of forming an actual floating image with a large viewing volume or eye box. The reverse imaging system includes a source object light 108 (shown in
도면(100)의 예시적인 시스템에서는 뷰어의 눈(110)에 성분(112, 114, 116)으로서 도달하는 3개의 소스 광이 사용된다. 상기 성분들은 예를 들면 RGB 표색계의 기본 성분으로서 적색, 녹색 및 청색일 수 있다. 소스 광은 시스템의 구성에 따라서 소스 평면, 디스플레이 평면 또는 오브젝트 평면으로서 설명되는 평면(124) 상에 있을 수 있다.In the exemplary system of FIG. 100, three source lights reaching the viewer's
여기에서 설명하는 시스템의 광 경로가 오브젝트로부터의 광 방사, 빔 스플리터에 의해 반사된 제1 통과 광, 역반사 어레이에 의해 반사된 광, 빔 스플리터를 통해 투과된 제2 통과 광, 및 재수렴 이미지의 형성을 포함하기 때문에, 빔 스플리터와의 2개의 상호작용 각각에서 손실되는 광 에너지의 적어도 절반, 및 역반사 어레이와 연관된 임의의 추가적인 손실로부터 시스템 효율성이 저하될 수 있다. 그래서, 전형적인 역반사 이미징 시스템은 25% 미만의 효율을 가질 수 있다.The optical path of the system described herein may include optical radiation from an object, first pass light reflected by a beam splitter, light reflected by a retroreflective array, second pass light transmitted through a beam splitter, The system efficiency may be degraded from at least half of the light energy lost in each of the two interactions with the beam splitter, and from any additional losses associated with the retro-reflective array. Thus, a typical retroreflective imaging system may have an efficiency of less than 25%.
일부 구현예에 따르면, 역반사 어레이의 편광 상태는 시스템의 효율을 향상시키기 위해 역반사 역 이미징 셋업의 광학 경로 전반에 걸쳐 제어될 수 있다. 역반사체 어레이 앞에 배치된 편광 빔 스플리터 층과 지연체 층은 편광 광이 소스로서 사용되고, 소스 입력 광이 편광 빔 스플리터 층에서 역반사 층 쪽으로 효과적으로 반사되며, 편광이 지연체 층의 최초 통과시에 원형으로 변환되도록 방위 설정될 수 있다. 편광은 또한 입력 편광 상태에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 방위 설정되고, 광은 역반사 층에서 역반사 및 재수렴되며, 선형 편광 상태로 변환될 수 있다. 그 다음에 광은 재수렴 이미지를 형성하기 위해 입력 선형 상태에 대하여 약 90°회전되며, 및/또는 제2 통과시에 편광 빔 스플리터 층을 통과할 수 있다. 다른 구현예에 있어서, 금속화 코팅형 제2 표면 역반사 어레이는 리졸브에서의 충격 없이 사용될 수 있다. 또 다른 구현예에 있어서, 소스 디스플레이에서의 2개의 직교 편광 상태를 이용하여 디스플레이 패널의 직접 뷰와 플로팅 이미지 양자의 동시 보기를 달성할 수 있다.According to some embodiments, the polarization state of the retroreflective array can be controlled throughout the optical path of the retro-reflective imaging setup to improve the efficiency of the system. The polarizing beam splitter layer and the retarder layer disposed in front of the retroreflective array are such that the polarized light is used as a source and the source input light is effectively reflected toward the retroreflective layer in the polarizing beam splitter layer, As shown in Fig. The polarized light is also oriented at 45 [deg.] Or nearly 45 [deg.] With respect to the input polarization state, and the light is retroreflected and re-converged in the retroreflective layer and can be converted to the linear polarization state. The light may then be rotated about 90 degrees relative to the input linear state to form a re-converged image, and / or pass through the polarization beam splitter layer during the second pass. In another embodiment, the metallized coated second surface retroreflective array can be used without impact on the resolves. In another embodiment, two orthogonal polarization states in the source display can be used to achieve a simultaneous view of both the direct view and the floating image of the display panel.
비록 역반사 층에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 PBS(polarizing beam splitter)를 가진 구성이 여기에서 예시적인 구성으로서 사용되지만, 45°로부터 소정 범위(예를 들면, 약 +/-5°~10°)의 각도 편향은 유사한 기능을 제공할 수 있다. 많은 역반사 막은 비수직 입사각에서 보았을 때 각도 대 회절에 기인하여 감소하는 성능을 가질 수 있다. 따라서, 뷰어의 위치, 역반사성 물질의 유형 및 다른 요소들에 따라서 45°가 아닌 다른 각도를 또한 사용할 수 있다.Although a configuration with a polarizing beam splitter (PBS) at 45 ° or near 45 ° to the retroreflective layer is used here as an exemplary configuration, 10 deg.) Can provide a similar function. Many retroreflective films can have a decreasing performance due to angle versus diffraction when viewed at non-normal incidence angles. Thus, depending on the viewer's position, the type of retroreflective material, and other factors, an angle other than 45 may also be used.
도 2a 내지 도 2c는 다른 구현예에 따른 재수렴성 플로팅 이미지의 예시적인 형성을 보인 도이다.2A to 2C show an exemplary formation of a re-convergent floating image according to another embodiment.
구현예에 따른 시스템에서, 소스 입력 광은 빔 스플리터를 통한 소스 광의 2회의 통과 각각에 대한 효율 손실을 회피하기 위해 무작위 편광으로부터 선형 편광으로 변경될 수 있다. 또한, 하프미러를 편광 감응 빔 스플리터로 교체함으로써, 입력 광 편광 상태는 빔 스플리터의 최초 만남에서 실질적으로 반사되도록 선택될 수 있다. 다른 구현예에서, 지연체 층은 예를 들면 1/4 파장 막을 기판으로 이용함으로써 역반사체 바로 앞에 도입되거나 어레이 앞에 라미네이트될 수 있고, 선형 편광 광은 역반사체 어레이를 조명할 때 원형으로 변환될 수 있다. 원형으로 편광된 광은 그 다음에 제2 통과시에 선형 편광으로 다시 변환될 수 있지만 입력 편광 상태에 직교한다. 변환된 상태는 광이 어레이로부터 재수렴을 시작하게 할 뿐만 아니라 빔 스플리터 또는 '선택적' 미러에서의 제2 통과시에 빔 스플리터를 통해 통과할 수 있게 하여 광이 재수렴 이미지를 더 효율적으로 형성하게 한다. 각종 직교 상태는 유사한 효과를 달성하기 위해 시스템에서 사용될 수 있다.In a system according to an embodiment, the source input light may be changed from random polarized light to linear polarized light to avoid efficiency loss for each of two passes of the source light through the beam splitter. Further, by replacing the half mirror with the polarization sensitive beam splitter, the input optical polarization state can be selected to be substantially reflected at the initial encounter of the beam splitter. In other implementations, the retarder layer can be introduced in front of or in front of the retroreflector, for example by using a quarter wavelength film as the substrate, and the linearly polarized light can be converted into a circular shape when illuminating the retroreflective array have. The circularly polarized light can then be converted back to linearly polarized light in the second pass, but is orthogonal to the input polarization state. The transformed state allows the light to begin re-converging from the array as well as allowing it to pass through the beam splitter during the second pass through the beam splitter or the " optional " mirror, do. Various orthogonal states may be used in the system to achieve a similar effect.
도 2a의 도형(200A)에서, 선형으로 편광된 입력 광빔(202)은 정렬된 편광 빔 스플리터(PBS) 층(216)에 의해 역반사 층(212) 쪽으로 효율적으로 반사되고(광빔(204)으로 도시됨), 1/4 파장 지연체 층(214)을 통한 제1 통과에 의해 원형 편광으로 변환된다. 원형 편광되고 역반사된 광빔은 1/4 파장 지연체 층(214)을 통한 제2 통과시에 원형으로부터 입력 상태에 비하여 90°회전된 선형 편광으로 변환되어 광빔(206)으로서 PBS 층에 도달할 수 있다. 재수렴 광(광빔(206))은 PBS 층(216) 및 편광자 필터(218)를 통해 투과할 수 있다(광빔(208)).2A, the linearly polarized
도 2b의 도형(200B)에서, 역반사 층(212), 1/4 파장 지연체 층(214), PBS 층(216) 및 편광자 필터(218)는 도형(200A)에서와 실질적으로 유사하게 기능한다. 소스 광빔(222)은 선형으로 편광되지만 도 2a의 예에 비하여 90°회전된다. 반사된 광빔(224)은 소스 광빔(222)과 동일한 편광 및 회전을 갖는다. 역반사된 광빔(226) 및 투과된 광빔(228)도 또한 선형 편광을 갖지만 소스 광빔(222)에 비하여 90°회전을 갖는다.2B, the
도 2c의 도형(200C)에서는 추가적인 지연체 층(220)이 PBS 층(216)에서 사용되어 원형으로 편광된 소스 광빔(232)이 역시 원형으로 편광된 반사 광빔(234), 역반사 광빔(236) 및 투과 광빔(238)과 함께 사용될 수 있게 한다. 대안예로서, 도 2a 및 도 2b의 구성과 복잡도면에서 유사한 단순화한 구성이 원형 편광을 이용하는 경우에 PBS 층을 이용함으로써 달성될 수 있고, 상기 PBS 층은 단지 하나의 지연체 층만이 시스템에서 구현되도록 하나의 원형 편광 상태를 반사하고 상기 제1 상태에 직교하는 다른 원형 편광 상태를 투과시킴으로써 직교 편광 상태를 분할한다. 단일 지연체 층은 플로팅 디스플레이를 형성하기 위해 역반사체 어레이 바로 앞에서 구현될 수 있다.In figure 200C diagram 200C an
원형으로 편광된 입력 광빔(232)은 정렬된 원형 편광 빔 스플리터 층에 의해 역반사 층(212) 쪽으로 효율적으로 반사되고(광빔(234)으로 도시됨), 1/4 파장 지연체 층(214)을 통한 제1 통과에 의해 선형 편광으로 변환된다. 선형 편광되고 역반사된 광빔은 1/4 파장 지연체 층(214)을 통한 제2 통과시에 선형으로부터 입력 상태에 대해 직교인 원형 편광으로 변환되어 광빔(236)으로서 PBS 층에 도달할 수 있다. 재수렴 광(광빔(236))은 PBS 층(216) 및 이 경우에 옵션인 원형 편광자 필터(218)를 통해 투과할 수 있다(광빔(238)). 원형 편광을 더 직접 분할하는 막들의 형태는 일부 구현예에 따라서 유리 또는 플라스틱과 같은 광학적으로 투명한 기판에 라미네이트된 별도의 층으로서 사용될 수 있다.The circularly polarized input
역반사 층은 표면 금속화, 내부 또는 외부 반사 시나리오, 중합체 층의 순서 또는 광학 코팅을 이용하여 각종 구현예에 따라 형성될 수 있다. 예를 들면, 실리콘(또는 다른 입방 결정 물질) 웨이퍼는 반사성의 코팅된 제1 표면을 포함하도록 처리될 수 있고, 상기 제1 표면은 그 다음에 역반사 어레이의 반사 표면으로서 사용될 수 있다. 다른 예로서, 반사성의 코팅된 제2 표면이 기처리된 웨이퍼 위에 형성되고, 이때 상기 표면은 자외선 경화성의 깨끗한 수지로 라미네이트되거나 채워질 수 있다. 유리, 중합체, 경화 유리, 하드 코트 에폭시 또는 유사한 물질의 기판이 또한 상기 수지 위에 증착되거나 라미네이트될 수 있다. 기판은 복굴절성일 수도 있고 아닐 수도 있으며(즉, 지연체 막으로 코팅 또는 라미네이트된다), 또는 상기 수지 충전 층과 커버 기판 사이에 라미네이트된 복굴절 층 또는 기판 외측에 라미네이트된 복굴절 층을 포함할 수 있다.The retroreflective layer may be formed according to various embodiments using surface metallization, internal or external reflection scenarios, ordering of polymer layers, or optical coatings. For example, a silicon (or other cubic crystal material) wafer can be processed to include a reflective coated first surface, which can then be used as the reflective surface of the retroreflective array. As another example, a reflective coated second surface is formed on the preprocessed wafer, wherein the surface may be laminated or filled with a UV curable clean resin. Substrates of glass, polymer, hardened glass, hard coat epoxy or similar material may also be deposited or laminated onto the resin. The substrate may or may not be birefringent (i.e., coated or laminated with a retarder film), or a birefringent layer laminated between the resin filled layer and the cover substrate or a birefringent layer laminated outside the substrate.
도 3a는 편광 제어를 통해 효율이 증가된 예시적인 역 이미징 시스템 구성을 보인 도이다.FIG. 3A shows an exemplary reverse imaging system configuration with increased efficiency through polarization control.
도형(300A)으로 도시된 예시적인 시스템은 실질적으로 편광된(예를 들면, 선형) 광 출력을 가진 디스플레이 모듈(308)을 포함한다. 편광된 디스플레이 광(306)은 디스플레이 광 경로(304)를 따를 수 있고, 디스플레이 모듈 평면에 대하여 소정의 각도(예를 들면, 45°)로 배치된 편광 빔 스플리터 판(310)에 의해 지연체 층을 가진 역반사 층(302) 쪽으로 반사된다. 편광 빔 스플리터 판(310)은 디스플레이 광(306)을 효율적으로 반사하는 아웃보드 편광자 필터를 가질 수 있다. 위에서 설명한 바와 같이, 반사광은 지연체 층에 의해 원형 편광으로 변환되고, 역반사되고, 선형 편광으로 다시 변환되고, 디스플레이 광이 선형으로 편광된 경우에 플로팅 이미지(312)를 형성하기 위해 편광 빔 스플리터 판(310)을 통해 투과될 수 있다.An exemplary system illustrated with graphic 300A includes a
구현예에서는 금속화 및 비금속화 역반사체 표면을 둘 다 사용할 수 있지만, 여기에는 트레이드 오프(trade-off)가 있을 수 있다. 금속화 코팅의 경우에, 편광 상태는 반사시에 유지될 수 있고, 따라서 상태에 대하여 양호한 제어가 가능하지만, 금속화는 금속 층의 반사성 면에서 비용 효율성이 있다. 비록 금속 종류의 선택에 의해 손실을 줄일 수 있지만, 타당성(feasibility) 제한이 있을 수 있다.In embodiments, both metallized and non-metallized retroreflector surfaces can be used, but there may be a trade-off. In the case of a metallized coating, the polarization state can be maintained at the time of reflection and thus allows good control over the state, but metallization is cost-effective in terms of the reflectivity of the metal layer. Although the choice of metal type may reduce losses, there may be feasibility limitations.
편광된 입력 광을 가진 비금속화 역반사체(제2 표면 유형)를 사용함으로써, 역반사 층에 지연체 층이 있어야 하고 재수렴 이미지의 리졸브에 대한 충격을 회피 또는 최소화하기 위해 적절히 방위 설정되어야 한다. 그 이유는 역반사 이미지(또는 '연'(kites))를 형성하는 셀 내에서 광도의 상대적 양이 여러 경우에서 변화하여 회절 아티팩트(이것은 회절 모델에 의해 예측될 수 있음)를 야기할 수 있기 때문이다. 회절 아티팩트는 재수렴 스폿 또는 이미지의 점상 강도 분포 함수(point spread function, PSF)의 분리를 야기할 수 있다. 각종의 분리 효과가 지연체 층의 부정확한 방위에 의해 실현될 수 있지만, 선형 입력의 경우에 45°로 방위 설정된 1/4 파장 지연체를 통한 이중 통과는 이 난제를 해결할 수 있고, 회절에 의해 허용되는 완전한 분해능이 달성될 수 있게 한다.By using a non-metalized retroreflector with a polarized input light (second surface type), a retarder layer must be present in the retroreflective layer and properly orientated to avoid or minimize the impact on the resolving of the re-convergent image . This is because the relative amount of light intensity in the cell forming the retroreflective image (or 'kites') can change in many cases, resulting in diffraction artifacts (which can be predicted by a diffraction model) to be. Diffraction artifacts can cause a re-convergence spot or separation of the point spread function (PSF) of the image. Dual splitting through a quarter wave retarder oriented at 45 degrees in the case of a linear input can solve this difficulty, although various splitting effects can be realized by the inaccurate orientation of the retarder layer, Allowing the full resolution allowed to be achieved.
도 3b는 관리형(ruled type) 역반사 막의 예시적인 경우에 대한 회절 모델에서의 '연'(kite) 타일링의 정의를 보인 도이다.FIG. 3B is a view showing the definition of 'kite' tiling in a diffraction model for an exemplary case of a ruled-type retroreflective film.
편광 유도 회절에 기인하는 감소된 리졸브는 역반사 셀 내의 패싯(facet)의 패싯 각도 오차에 의해 야기되는 리졸브의 손실에 대한 추가적인 난제이다. 이상적인 각도로 제조된 패싯들을 포함하고 패싯 각도 오차가 없는 역반사 어레이 조차도 편광 광이 여기에서 설명하는 지연 보정 없이 사용될 경우 강한 리졸브 손실을 나타낼 수 있다. 일 예로서, 관리형의 역반사 어레이의 경우에 각각의 역반사 셀은 도형(300B)에서 각각의 실선 윤곽 삼각형으로 나타낸 바와 같이 3개의 패싯(324)을 포함한다. 제조 방법에 기인해서, 이 유형의 역반사 어레이는 입력 광이 3개의 패싯에서 반사되는 영역들을 나타낼 수 있고, 이것은 입력 광이 역반사되는 영역들을 구성한다. 광이 3개 미만의 패싯에서 반사되는 영역들은 빗금 영역(322)으로 나타낸 바와 같이 어두운 '데드'(dead) 영역으로서 나타난다. 각각의 역반사 셀 내의 각각의 육각형 역반사 영역 내에서, 3개의 패싯은 각각 2개의 다른 패싯들 간의 접합선(seam)의 반사를 나타내고, 그래서 반사된 접합선, 패싯들 간의 인접 접합선, 셀의 가장자리 및 '데드' 존의 가장자리의 경계들에 의해 영역이 규정된다. 상기 경계들은 '연'(326)을 규정하고, 이것은 연(kite)과 닮은 그의 형상 때문에 그렇게 이름 붙혔다. 각각의 역반사 셀 내의 역반사 영역에는 6개의 '연'이 있다.The reduced resolution due to the polarization induced diffraction is an additional challenge to the loss of resolving caused by facet angular error of the facet in the retroreflecting cell. Even retroreflective arrays that include facets fabricated at ideal angles and that do not have facet angular error can exhibit strong resolving losses when the polarized light is used without delay correction as described herein. As an example, in the case of a retroreflective array of a managed type, each retroreflective cell includes three
각각의 '연'이 패싯 각도 오차를 가진 패싯으로부터의 반사에 기인하는 경사진 포인팅 오차를 포함하고 그러한 오차가 재수렴 PSF의 각도 확산을 증가시킬 수 있지만, 비금속화 역반사 어레이와 함께 편광된 입력 광을 사용함으로써 추가적인 편광 유도형 회절 아티팩트 및 리졸브 손실이 나타날 수 있다. 그러한 사용 시나리오에 있어서, 입력 광이 역반사된 때, 각각의 '연' 타일링은 상이한 위상 변이뿐만 아니라 강도를 나타낼 수 있고, 이것은 육각형 역반사 영역 크기가 아닌 대략 '연' 형상 및 크기를 가진 피처(feature) 크기의 회절을 야기할 수 있고, 따라서 편광 유도형 회절 아티팩트에 의해 각도 확산을 증가시킨다.Although each " soft " includes inclined pointing errors due to reflections from the facets with facet angular error and such errors can increase the angular spreading of the re-converging PSF, The use of light may result in additional polarization-induced diffraction artifacts and resolving losses. In such a usage scenario, when the input light is retroreflected, each 'soft' tiling may represent intensity as well as different phase shifts, which is not a feature of the hexagonal retro-reflective region, may cause diffraction of feature size magnitude, thus increasing angular dispersion by polarization induced diffraction artifacts.
도 3c는 비금속화 제2 표면 역반사체 어레이를 이용할 때 리졸브에서 예시적인 회절 충격을 보인 도이다.Figure 3c shows an exemplary diffraction bombardment at the resolver using an unmetallized second surface retroreflective array.
편광 입력 광에 대하여 45°로 방위 설정된 1/4 파장 지연체 층(214)을 사용하면 각 셀 내의 '연'으로부터의 출력의 위상 및 강도 둘 다가 실질적으로 유사한 차수로 되게 하여 이러한 추가된 편광 유도형 회절 아티팩트 없이 재수렴 이미지의 재구성을 가능하게 한다. 리졸브에 대한 충격의 중요성의 일 예로서, 도형(300C)은 텍스트 "L O H"의 이미지(332, 334, 336)뿐만 아니라 '점' 또는 PSF의 이미지(342, 344, 346)의 경우에 대하여 재수렴 이미지 및 PSF를 보여준다. 이미지(332, 342)는 리졸브를 실질적으로 유지하면서 재수렴 평면에서 적당한 이미지를 야기하는, 약 45°의 1/4 파장 지연체 층을 이용한 보정을 나타낸다. 이미지(334, 344)는 리졸브에 상당한 충격이 가해지는 약 68° 보정을 나타낸다. 이미지(336, 346)로 표시된 약 90°의 보정(지연체 층 또는 복굴절 층을 사용하지 않는 경우)은 실질적인 분해능 손실을 야기한다.Using a quarter
도 3d는 전환형 표면 및 플로팅 디스플레이 시스템에서 플로팅 이미지 및 표면 이미지 상태를 보인 도이다.FIG. 3D is a diagram showing floating images and surface image states in a transitionable surface and a floating display system.
도형(300D)은 플로팅 디스플레이 시스템의 플로팅 이미지 상태를 보인 것이고, 여기에서 프로젝터(360)로부터의 이미지는 발산 상태에 있는 제1 전환형 디퓨저(362)로 선택적 프레넬 렌즈(358)를 통하여 제공된다. 발산된 광은 상기 제1 전환형 디퓨저(362)에 대하여 약 45°각도로 배치된 PBS 층(364)에서 반사된다. 반사된 광은 지연체 층(354)을 통과하고 지연체 층(354)으로부터 1/4 파장 떨어져 있는 역반사 층(356)으로부터 역으로 반사된다. 역반사된 광은 그 다음에 PBS 층(364) 및 이 PBS 층(364) 뒤의 제2 전환형 디퓨저(352)(비발산 상태임)를 통과하여 뷰어의 눈(370)으로 볼 수 있는 플로팅 디스플레이 이미지(366)를 형성할 수 있다.
도형(300E)은 동일한 플로팅 디스플레이 시스템의 표면 이미지 상태를 보인 것이고, 여기에서 프로젝터(360)로부터의 이미지는 비발산 상태에 있는 제1 전환형 디퓨저(362)로 선택적 프레넬 렌즈(358)를 통하여 제공된다. 광은 PBS 층(364)을 통과하고 발산 상태인 제2 전환형 디퓨저(352)에 의해 발산되어 뷰어의 눈(370)으로 볼 수 있는 표면 디스플레이 이미지(368)를 형성한다.
장치 위에서 맴도는 플로팅 디스플레이는 명백히 공중에 부유하는 디스플레이 표면을 재현하기 위해 역반사체 및 편광 빔 스플리터를 이용하여 구현될 수 있다. 프로젝터로부터의 광 콘텐츠와 같은 적당한 피사계 심도를 가진 투영된 디스플레이 광과 함께 한 쌍의 전환형 디스플레이를 이용함으로써 도 3d에 도시된 바와 같이 2개의 디스플레이 표면, 즉 하나의 평평한 물리적 표면과 이 물리적 표면 위에 부유하는 제2 호버링(hovering) 디스플레이를 가진 디스플레이가 생성될 수 있다. 이러한 장치는 다층 스크린의 사용이 바람직하고 고전적인 터치 행동 제어와 공중 행동 제어를 직관적으로 혼합하는 상황에서 사용될 수 있다.The floating display that is hovering above the device can be implemented using a retroreflector and a polarization beam splitter to reproduce the display surface that apparently floats in the air. By using a pair of switchable displays with projected display light having a suitable depth of field, such as optical content from the projector, it is possible to display two display surfaces, one on the flat physical surface and the other on the physical surface A display with a floating second hovering display can be created. Such a device may be used in situations where the use of a multi-layer screen is desirable and intuitively blends classic behavioral and behavioral controls.
전환형 디퓨저의 물리적 위치의 배치와 관련하여, 적어도 하나는 빔 스플리터 아래에 있고 하나는 빔 스플리터 위에 또는 상부와 접촉하는 바로 위에 있을 수 있다. 또한, 플로팅 이미지(3D 카메라) 및 물리 층(터치 센서 층)의 터치 양자와의 상호작용을 촉진하기 위해 터치 패널(용량성, 저항성 또는 다른 유형)이 물리적인 전환가능 층과 일치하는 층으로서 배치될 수 있다.Regarding the placement of the physical location of the switchable diffuser, at least one may be below the beam splitter and one directly above or in contact with the beam splitter. It is also possible to arrange a touch panel (capacitive, resistive or other type) as a layer coincident with the physical switchable layer to facilitate interaction with the touch of both the floating image (3D camera) and the physical layer (touch sensor layer) .
또한, 3개 이상 층의 순차적인 전환이 약간의 트레이드 오프를 갖고서 가능하지만, 플로팅 이미지의 형성을 위해 적어도 하나의 전환가능 층은 빔 스플리터 아래에 위치될 수 있다. 다른 대안예는 z차원을 따라 2개 이상의 플로팅 이미지 평면을 달성하기 위해, 처리된 콘텐츠가 한번에 발산 상태에 있도록 선택적으로 선정되어 스플리터 아래에서 복수의 발산 층의 옵션이 가능하도록 상기 전환가능 층을 픽셀화(pixelate)하는 것을 포함할 수 있다. 전환형 디퓨저 층은 PDLC(polymer dispersed liquid crystal, 중합체 분산형 액정), PNLC(polymer network liquid crystal, 중합체 네트워크 액정) 및 이에 필적하는 것들을 포함한 임의의 전환형 디퓨저 유형의 사용을 포함할 수 있다.Also, sequential switching of three or more layers is possible with some tradeoffs, but at least one switchable layer may be located below the beam splitter for the formation of a floating image. Another alternative is to select two or more floating image planes along the z dimension so that the processed content is selectively selected to be in a divergent state at one time, And may include pixelating. The switchable diffuser layer may include the use of any type of diverter type including polymer dispersed liquid crystal (PDLC), polymer network liquid crystal (PNLC), and the like.
편광 상태에 민감하거나 편광 상태를 유지할 수 있는 전환형 발산의 다른 형태는 직교 상태가 산란 대 비산란을 제공할 수 있도록 액정을 가진 패시브 마이크로렌즈 어레이와 함께 전환형 회전자 층을 사용하는 것을 포함할 수 있다. 이와 관련하여, 하나의 옵션은 입력 편광 상태에 의해 전환되는 전환형 디퓨저 층들 간의 타이밍 및 제1층 아래에서 편광 회전자의 사용을 포함할 수 있고, 그래서 편광 상태의 전환은 제1층(플로팅)을 발산하고 상태의 전환은 모든 광이 제1층을 통과하여 물리적 제2층에 투영되게 하며, 상기 물리적 제2층은 직교 제2 편광 상태에 정렬된 발산 상태를 가짐으로써 편광에 대한 민감성을 가진 방식으로 전환이 가능하다.Other forms of divergent divergence that are sensitive to or can maintain a polarization state include using a divergent rotor layer with a passive microlens array having liquid crystals such that the orthogonal state can provide scattering versus scattering . In this regard, one option may include the timing between the switching diffuser layers being switched by the input polarization state and the use of a polarization rotator below the first layer, And the transition of state causes all light to pass through the first layer to be projected onto the physical second layer and the physical second layer has a diverging state aligned with the orthogonal second polarization state, It is possible to switch to the method.
전환형 디퓨저 층이 어느 경우에 있든지, 스플리터 아래의 2개 이상의 층을 이용하여 z차원을 따라 2개 이상의 플로팅 이미지 층이 가능하게 하고, 또한 일부 경우는 전환형 디퓨저 층의 픽셀화를 이용하여 전환형 디퓨저 층이 콘텐츠에 의해 다루어질 수 있게 한다.Regardless of the case of a switchable diffuser layer, it is possible to use two or more layers below the splitter to enable two or more floating image layers along the z dimension, and in some cases to use pixelization of the switchable diffuser layer Allowing the convertible diffuser layer to be handled by the content.
프로젝터는 예를 들면 120Hz에서 동작하고 제1 비디오 스트림과 제2 비디오 스트림을 교대로 투영할 수 있다. 제1 디퓨저는 예를 들면 응용 창을 보이는 제1의 인터리브된 비디오 스트림과 동기화될 수 있다. 이것은 플로팅 이미지로 될 수 있고, 행동을 이용하여 조작될 수 있다. 제2 디퓨저는 예를 들면 데스크톱일 수 있는 제2의 인터리브된 비디오 스트림과 동기화될 수 있고 터치를 이용하여 상호작용될 수 있다. 사용자는 터치-데스크톱 앞에 부유하는 행동-응용 창을 볼 수 있다.The projector may operate at, for example, 120 Hz and alternately project the first video stream and the second video stream. The first diffuser may be synchronized, for example, with a first interleaved video stream showing the application window. This can be a floating image and can be manipulated using behavior. The second diffuser may be synchronized with a second interleaved video stream, which may be, for example, a desktop, and may be interacted using a touch. The user can see a behavior-application window floating in front of the touch-desktop.
일부 구현예에서, 컴퓨팅 장치 위에서 맴도는 플로팅 디스플레이는 명백히 공중에 부유하는 디스플레이 표면을 재현하기 위해 역반사체와 빔 스플리터를 이용하여 구현될 수 있다. 사용자는 행동 센서를 이용하여 플로팅 디스플레이와 상호작용할 수 있다. 이와 같은 장치는 디스플레이 표면과의 접촉이 바람직하지 않은, 예컨대 물리적 게임 및 공공 키오스크(public kiosk)와 같은 상황에서 사용될 수 있다.In some implementations, a floating display that revolves on a computing device may be implemented using a retroreflector and a beam splitter to reproduce the display surface that apparently floats in the air. The user can interact with the floating display using a behavioral sensor. Such devices may be used in situations where contact with the display surface is undesirable, such as in physical games and public kiosks.
도 4는 입력 편광 대 출력에서의 셀 내 모습을 코너 큐브 구성으로 보인 도이다.4 is a view showing a state in a cell at an input polarization band output in a corner cube configuration.
도형(400)은 입력 광 및 반사광(402)이 한번은 반사체에 들어오는 길로 및 한번은 반사체로부터 나가는 길로 편광 빔 스플리터(406) 및 편광자 필터(404)를 통과하는 예시적인 코너 큐브 반사체(408)를 보인 것이다. 편광 입력 광에서 PBS(및 편광자 필터)에서 반사하는 것과 투과하는 것의 효과는 도 5a 내지 도 5i에 도시되어 있다.The graphic 400 shows an exemplary
도 5a 내지 도 5i는 도 4의 예시적인 구성에서 상이한 입력에 대한 예시적인 편광 동공 지도(map)를 보인 도이다.Figures 5A-5I illustrate exemplary polarization pupil maps for different inputs in the exemplary configuration of Figure 4;
도형(500A-500G)은 수직 편광(502), 수평 편광(562), 및 수직 편광과 수평 편광 사이의 각종 각도(입력 편광(512, 522, 532, 542, 552))와 같이, 각종의 선형 입력 광 편광에 대하여 여기에서 설명하는 바와 같이 역반사체 시스템을 통한 출력광 빔의 편광 분포를 보인 것이다.Figures 500A-500G illustrate various shapes of linearly polarized light, such as vertical
도형(500H, 500I)은 반대 방향의 원형 입력 광 편광(입력 편광(572, 582))에 대하여 여기에서 설명하는 바와 같이 역반사체 시스템을 통한 출력광 빔의 편광 분포를 보인 것이다.Figures 500H and 500I show the polarization distribution of the output light beam through the retro-reflector system as described herein for the circular input polarized light (input
도 6은 지연체 기반 스테레오 3D형 LCD 모듈을 이용한 하나의 디스플레이로부터의 예시적인 이중 이미지 콘텐츠 발생을 보인 도이다.Figure 6 shows an exemplary dual image content generation from one display using a delay-based stereo 3D LCD module.
도형(600)으로 나타낸 바와 같이, 뷰어의 눈(610)은 하나의 편광 상태를 가진 픽셀 집합(606 A)으로부터 플로팅 이미지(582)를 보고, 반대의 편광을 가진 다른 픽셀 집합(606 B)으로부터 직접 디스플레이를 볼 수 있다. 패시브 편광으로부터의 직교 A-B 상태는 지연체(602)를 가진 역반사 층 및 PBS 층(604)을 포함한 시스템 구성에서 입체 디스플레이(선형 또는 원형 + 지연체)를 발생하기 위해 사용될 수 있다.The viewer's
원형으로 편광된 광 출력을 가진 디스플레이의 경우에, 광을 PBS에 대한 입력으로서의 선형 편광으로 변환하기 위해 다른 하나의 지연체 층이 디스플레이 위해 추가될 수 있다. 역반사체로부터의 반사는 직교 상태로 회전할 수 있고, 따라서 적용된(이중 통과) 지연은 반사체로부터의 광이 제2 통과시에 PBS를 효율적으로 통과하게 할 수 있다. 위에서 언급한 바와 같이, '콜레스테릭' 원형 편광 막을 PBS 층으로서 또한 사용할 수 있고, 따라서 원형 편광의 경우에는 단일 지연체 층만이 필요하다.In the case of a display with a circularly polarized light output, another retarder layer may be added for display to convert the light to linear polarized light as input to the PBS. Reflection from the retroreflector can rotate in an orthogonal state so that the applied (double pass) delay can allow light from the reflector to pass through the PBS efficiently during the second pass. As mentioned above, a ' cholesteric ' circular polarizer film can also be used as the PBS layer, and thus only a single retarder layer is required in the case of circular polarization.
여기에서 설명하는 바와 같이 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템은 역반사 이미징 시스템의 효율을 향상시킬 수 있고, 이것에 의해 그러한 시스템을 각종 응용에서 사용할 수 있게 한다. 또한, 소스 디스플레이에서의 직교 편광 상태는 플로팅 이미지와 디스플레이 패널의 직접 뷰 둘 다의 동시 보기를 달성하기 위해 사용될 수 있다.As described herein, a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability can improve the efficiency of a retro-reflective imaging system, thereby enabling such systems to be used in various applications. In addition, the orthogonal polarization state in the source display can be used to achieve a simultaneous view of both the floating image and the direct view of the display panel.
도 1 내지 도 6에 도시된 예들은 특정 장치, 컴포넌트, 컴포넌트 구성 및 컴포넌트 타스크를 포함한 특정 시스템과 관련하여 설명하였다. 구현예는 이러한 예시적인 구성에 따른 시스템으로 제한되지 않는다. 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템은 여기에서 설명하는 원리를 이용하여 유사한 방식으로 특정 장치, 컴포넌트, 컴포넌트 구성 및 컴포넌트 태스크를 포함한 다른 유형의 시스템을 이용하는 구성에서 구현될 수 있다.The examples shown in FIGS. 1-6 have been described with reference to specific systems including specific devices, components, component configurations, and component tasks. Implementations are not limited to systems according to this exemplary configuration. Retroreflective imaging systems with polarization and diffraction artifact resolution control capabilities can be implemented in a configuration that utilizes other types of systems, including specific devices, components, component configurations, and component tasks, in a similar manner using the principles described herein.
도 7은 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템의 제조 시스템의 제어를 위해 사용할 수 있는 예시적인 컴퓨팅 장치의 블록도이다.Figure 7 is a block diagram of an exemplary computing device that may be used for control of a manufacturing system of a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability.
예를 들면, 컴퓨팅 장치(700)는 여기에서 설명하는 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템의 제조 시스템과 함께 사용될 수 있다. 기본 구성(702)의 예로서, 컴퓨팅 장치(700)는 하나 이상의 프로세서(704)와 시스템 메모리(706)를 포함할 수 있다. 메모리 버스(708)는 프로세서(704)와 시스템 메모리(706) 간의 통신을 위해 사용될 수 있다. 기본 구성(702)은 내부 대시 선 내의 컴포넌트들에 의해 도 7에 도시되어 있다.For example, the computing device 700 may be used with a fabrication system of a retro-reflective imaging system having polarization and diffraction artifact resolution control capabilities described herein. As an example of a basic configuration 702, computing device 700 may include one or more processors 704 and system memory 706. Memory bus 708 may be used for communication between processor 704 and system memory 706. The basic configuration 702 is illustrated in FIG. 7 by the components in the internal dashed line.
바람직한 구성에 따라서, 프로세서(704)는 비제한적인 예를 들자면 마이크로프로세서(μP), 마이크로컨트롤러(μC), 디지털 신호 프로세서(DSP) 또는 이들의 임의 조합을 포함한 임의 유형의 것일 수 있다. 프로세서(704)는 레벨 캐시 메모리(712), 프로세서 코어(714) 및 레지스터(716)와 같은 하나 이상 레벨의 캐시를 포함할 수 있다. 프로세서 코어(714)는 산술 논리 유닛(ALU), 부동 소수점 유닛(floating point unit, FPU), 디지털 신호 처리 코어(DSP 코어) 또는 이들의 임의 조합을 포함할 수 있다. 메모리 제어기(718)는 프로세서(704)와 함께 또한 사용될 수 있고, 또는 일부 구현예에 있어서, 메모리 제어기(718)는 프로세서(704)의 내부 부품일 수 있다.According to a preferred configuration, the processor 704 may be of any type, including but not limited to a microprocessor (uP), a microcontroller (uC), a digital signal processor (DSP) or any combination thereof. The processor 704 may include one or more levels of cache, such as a level cache memory 712, a
바람직한 구성에 따라서, 시스템 메모리(706)는 비제한적인 예를 들자면 휘발성 메모리(RAM 등), 비휘발성 메모리(ROM, 플래시 메모리 등), 또는 이들의 임의 조합을 포함한 임의 유형의 것일 수 있다. 시스템 메모리(706)는 워싱톤주 레드몬드에 소재하는 마이크로소프트 코포레이션으로부터의 윈도즈(WINDOWS®), 윈도즈 모바일(WINDOWS MOBILE®), 윈도즈 알티(WINDOWS RT®) 또는 윈도즈 폰(WINDOWS PHONE®) 및 유사한 운영체제와 같이, 플랫폼의 동작을 제어하는데 적합한 운영체제(720)를 포함할 수 있다. 시스템 메모리(706)는 또한, 제조 애플리케이션(722), 층 발생 모듈(726), 어셈블리 모듈(728) 및 프로그램 데이터(724)를 포함할 수 있다. 제조 애플리케이션(722)은 역반사체 어레이 앞에 배치되고 편광 광이 소스로서 사용될 때 소스 입력 광이 편광 빔 스플리터 층에서 역반사 층 쪽으로 효율적으로 반사되고 편광이 지연체 층을 통한 제1 통과시에 원형으로 변환되도록 방위 설정되는 편광 빔 스플리터 층 및 지연체 층의 형성과 같은 역반사 시스템 제조의 각종 양태를 제어할 수 있다.Depending on the preferred configuration, system memory 706 may be of any type, including but not limited to volatile memory (such as RAM), non-volatile memory (ROM, flash memory, etc.), or any combination thereof. The system memory 706 may be any of the following: Windows®, WINDOWS®, WINDOWS® or WINDOWS PHONE® and similar operating systems from Microsoft Corporation, Redmond, Wash. As such, it may include an
컴퓨팅 장치(700)는 추가적인 특징 또는 기능을 가질 수 있고, 기본 구성(702)과 임의의 바람직한 장치 및 인터페이스 간의 통신을 촉진하기 위한 추가의 인터페이스를 가질 수 있다. 예를 들면, 버스/인터페이스 제어기(730)는 스토리지 인터페이스 버스(734)를 통해 기본 구성(702)과 하나 이상의 데이터 스토리지 장치(732) 간의 통신을 촉진하기 위해 사용될 수 있다. 데이터 스토리지 장치(732)는 하나 이상의 분리형 스토리지 장치(736), 하나 이상의 비분리형 스토리지 장치(738), 또는 이들의 조합일 수 있다. 분리형 스토리지 및 비분리형 스토리지 장치의 예로는, 몇 가지만 예로 들자면, 가요성 디스크 드라이브 및 하드디스크 드라이브(HDD)와 같은 자기 디스크 장치, 컴팩트 디스크(CD) 드라이브 또는 디지털 다기능 디스크(DVD) 드라이브와 같은 광디스크 드라이브, 반도체 드라이브(SSD) 및 테이프 드라이브 등이 있다. 예시적인 컴퓨터 기억 매체는 컴퓨터 판독가능 명령어, 데이터 구조, 프로그램 모듈 또는 기타 데이터와 같은 정보의 저장을 위해 임의의 방법 또는 기술로 구현되는 휘발성 및 비휘발성, 분리형 및 비분리형 매체를 포함할 수 있다.The computing device 700 may have additional features or functionality and may have additional interfaces to facilitate communication between the base configuration 702 and any desired devices and interfaces. For example, the bus /
시스템 메모리(706), 분리형 스토리지 장치(736) 및 비분리형 스토리지 장치(738)는 컴퓨터 기억 매체의 예이다. 컴퓨터 기억 매체는 비제한적인 예를 들자면 RAM, ROM, EEPROM, 플래시 메모리 또는 기타의 메모리 기술, CD-ROM, 디지털 다기능 디스크(DVD), 반도체 드라이브 또는 기타의 광학 스토리지, 자기 카세트, 자기 테이프, 자기 디스크 스토리지 또는 기타의 자기 스토리지 장치, 또는 바람직한 정보를 저장하기 위해 사용되고 컴퓨팅 장치(700)에 의해 접근 가능한 임의의 다른 매체를 포함할 수 있다. 이러한 임의의 컴퓨터 기억 매체는 컴퓨팅 장치(700)의 부품일 수 있다.The system memory 706, the
컴퓨팅 장치(700)는 또한 버스/인터페이스 제어기(730)를 통해 각종의 인터페이스 장치(예를 들면, 하나 이상의 출력 장치(742), 하나 이상의 주변 인터페이스(744) 및 하나 이상의 통신 장치(766))로부터 기본 구성(702)으로의 통신을 촉진하기 위한 인터페이스 버스(740)를 포함할 수 있다. 예시적인 출력 장치(742)의 일부는 하나 이상의 A/V 포트(752)를 통하여 디스플레이 또는 스피커와 같은 각종 외부 장치와 통신하도록 구성된 그래픽 처리 장치(748) 및 오디오 처리 장치(750)를 포함할 수 있다. 하나 이상의 예시적인 주변 인터페이스(744)는 하나 이상의 I/O 포트(758)를 통해 입력 장치(예를 들면, 키보드, 마우스, 펜, 음성 입력 장치, 터치 입력 장치 등) 또는 다른 주변 장치(예를 들면, 프린터, 스캐너 등)와 같은 외부 장치와 통신하도록 구성된 직렬 인터페이스 제어기(754) 또는 병렬 인터페이스 제어기(756)를 포함할 수 있다. 예시적인 통신 장치(766)는 하나 이상의 통신 포트(764)를 통해 네트워크 통신 링크에 의하여 하나 이상의 다른 컴퓨팅 장치(762)와 통신을 촉진하도록 배열된 네트워크 제어기(760)를 포함할 수 있다. 하나 이상의 다른 컴퓨팅 장치(762)는 서버, 클라이언트 장비 및 이에 필적하는 장치들을 포함할 수 있다.The computing device 700 may also be coupled to various types of interface devices (e.g., one or more output devices 742, one or more peripheral interfaces 744 and one or more communication devices 766) via a bus /
네트워크 통신 링크는 통신 매체의 일 예일 수 있다. 통신 매체는 컴퓨터 판독가능 명령어, 데이터 구조, 프로그램 모듈, 또는 반송파 또는 다른 운송 메카니즘과 같은 피변조 데이터 신호의 기타 데이터에 의해 구체화될 수 있고, 임의의 정보 전달 매체를 포함할 수 있다. 상기 "피변조 데이터 신호"는 신호 내의 정보를 인코딩하는 방식으로 설정 또는 변경되는 하나 이상의 피변조 데이터 신호 특성을 가진 신호일 수 있다. 비제한적인 예를 들자면, 통신 매체는 유선 네트워크 또는 직접 유선 접속과 같은 유선 매체, 및 음향, 무선 주파수(RF), 마이크로파, 적외선(IR) 및 기타의 무선 매체와 같은 무선 매체를 포함할 수 있다. 여기에서 사용하는 용어 컴퓨터 판독가능 매체는 기억 매체와 통신 매체 양자를 포함할 수 있다.The network communication link may be an example of a communication medium. Communication media may be embodied by computer readable instructions, data structures, program modules, or other data in a modulated data signal, such as a carrier wave or other transport mechanism, and may include any information delivery media. The "modulated data signal" may be a signal having one or more modulated data signal characteristics set or changed in such a manner as to encode information in the signal. By way of example, and not limitation, communication media may include wired media such as a wired network or direct-wired connection, and wireless media such as acoustic, radio frequency (RF), microwave, infrared (IR) . The term computer-readable media as used herein may include both storage media and communication media.
컴퓨팅 장치(700)는 전술한 임의의 기능을 포함하는 범용 또는 특수 서버, 메인프레임, 또는 유사한 컴퓨터의 일부로서 구현될 수 있다. 컴퓨팅 장치(700)는 또한 랩톱 컴퓨터 및 비랩톱 컴퓨터 구성 둘 다를 포함한 개인용 컴퓨터로서 구현될 수 있다.The computing device 700 may be implemented as part of a general purpose or special server, mainframe, or similar computer including any of the functions described above. The computing device 700 may also be implemented as a personal computer, including both laptop computers and non-laptop computer configurations.
예시적인 구현예는 방법을 또한 포함한다. 이러한 방법들은 이 명세서에서 설명하는 구조를 포함한 임의 수의 방법으로 구현될 수 있다. 그러한 방법 중의 하나는 이 명세서에서 설명하는 유형의 장치들의 기계 동작에 의한 것이다.An exemplary implementation also includes a method. These methods may be implemented in any number of ways, including those described in this specification. One such method is by machine operation of devices of the type described in this specification.
다른 선택적인 방법은 일부를 수행하는 하나 이상의 휴먼 오퍼레이터(human operator)와 함께 수행되는 방법의 하나 이상의 개별 동작에 관한 것이다. 휴먼 오퍼레이터는 서로 공존될 필요가 없고, 각각 프로그램의 일부를 수행하는 기계만을 가질 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 컴퓨팅 장치(700)와 관련하여 설명한 컴포넌트 또는 단계들은 클라우드 컴퓨팅 환경 내의 네트워크 컴퓨터, 예를 들면, 데이터 센터에서 위치 또는 수행될 수 있다.Another optional method relates to one or more separate operations of a method performed with one or more human operators performing some of the operations. The human operators do not need to coexist with each other and can only have machines that perform part of the program. Alternatively or additionally, the components or steps described in connection with computing device 700 may be located or performed in a networked computer, e.g., a data center, in a cloud computing environment.
도 8은 구현예에 따른 예시적인 역반사 이미징 장치 제조 시스템을 보인 도이다.Figure 8 shows an exemplary retro-reflective imaging device manufacturing system in accordance with an embodiment.
일부 구현예에 따르면, 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템의 제조 시스템은 층 발생 모듈(806), 코팅 모듈(808) 및 어셈블리 모듈(810)을 포함할 수 있다. 제어기(802)는 예를 들면 클라우드(804)를 통한 모듈과의 유선 또는 무선 통신을 통해 각종 제조 모듈의 동작을 제어 및 조정시킬 수 있다.According to some implementations, a fabrication system for a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability may include a
층 발생 모듈(806)은 반사층, PBS 층 및 지연체 층과 같이 편광 제어형 역반사 디스플레이 시스템의 각종 층들을 형성하도록 구성될 수 있다. 반사층은 예를 들면 금속화 또는 비금속화, 코팅형 또는 비코팅형일 수 있는 코너 큐브 어레이(CCA)로서 형성될 수 있다. 각종의 복제, 라미네이션, 몰딩, 커팅 및 사이징(예를 들면, 밀링, 그라인딩, 폴리싱 및 전자 방전 머시닝(EDM))은 적당한 물질의 사용과 함께 각종 층의 형성시에 사용될 수 있다.The
코팅 모듈(808)은 반사층 및/또는 PBS 층의 반사율, 신뢰도 및 정확도를 향상시키기 위해 상이한 코팅을 적용하도록 구성될 수 있다. 층들, 예를 들면 반사층을 형성하는 다른 제조 기술은, 비제한적인 예를 들자면, 에피택셜 성장, 증기 선택적 에피택셜 성장, 유도 가열, 플래시 스팀 가열 및 냉각 유체를 포함할 수 있다.The
도 9는 구현예에 따른 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템을 제조하는 방법의 논리 흐름도이다. 프로세스(900)는 예를 들면 컴퓨팅 장치(700)와 같은 제조 시스템의 제어기에서 구현될 수 있다.9 is a logic flow diagram of a method of fabricating a retro-reflective imaging system with polarization and diffraction artifact resolution control capability according to an embodiment.
프로세스(900)는 동작 910에서 시작하고, 이 동작에서 반사층(예를 들면, 코너 큐브 어레이("CCA") 역반사 어레이), PBS 층 및 하나 이상의 지연체 층이 형성된다.
동작 910에 이어지는 동작 920에서, 상기 형성된 층들은 직교로(선형 또는 원형) 편광된 소스 광이 PBS 층을 통해 투과하여 플로팅 재수렴 이미지를 형성하도록 조립될 수 있다. 예를 들면, 반사층은 광원에 실질적으로 수직하게 배치되고 PBS 층은 반사층 및 광원에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 배치될 수 있다. 지연체 층은 선형으로 편광된 소스 광이 PBS 층으로부터 반사 표면으로 반사되고, 그 다음에 PBS 층 쪽으로 직교 편광으로 반사되어 PBS 층을 통해 투과됨으로써 플로팅 이미지를 형성하도록 반사층의 내향 표면에 또한 부착될 수 있다. 유사하게, 원형으로 편광된 광의 직교 위상도 역시 위에서 설명한 것처럼 재수렴 이미지를 형성하기 위해 반사될 수 있다.In
동작 920에 이어지는 동작 930에서, 반사층으로부터 반사된 원형 편광된 소스 광이 재수렴 이미지를 형성하기 위해 PBS 층을 통해 투과되도록 제2 지연체 층이 PBS 층의 내향 표면에 부착 또는 형성될 수 있다. 대안적으로, 직교 원형 편광 상태에 기초하여 광을 직접 반사 또는 투과할 수 있는 막 또는 층이 사용될 수 있다. 따라서, 동작 920에서 형성된 것과 유사한 시스템이 이러한 막을 빔 스플리터로서 이용하고 지연체 층을 추가함으로써 PBS 층에서의 제2 통과시에 투과를 가능하게 한다.At
프로세스(900)에 포함된 동작들은 설명을 위한 것이다. 편광 및 회절 아티팩트 분해능 제어 기능이 있는 역반사 이미징 시스템을 제공하는 것은 여기에서 설명한 원리를 이용하여 더 적은 단계 또는 더 많은 단계를 가진 유사한 프로세스에 의해, 및 다른 동작 순서로 구현될 수 있다.The operations included in the
일부 실시예에 따르면, 역반사 디스플레이는 광원에 대해 실질적으로 수직한 위치에 있는 반사 층, 및 광원으로부터의 편광된 소스 광이 PBS 층으로부터 반사 층으로 반사되고 소스 광에 대해 직교 편광을 가진 반사 층으로부터의 반사광이 재수렴 이미지를 형성하기 위해 PBS 층을 통해 투과되도록 배치된 편광 빔 스플리터(PBS) 층을 포함할 수 있다.According to some embodiments, the retroreflective display comprises a reflective layer at a substantially vertical position relative to the light source, and a reflective layer, wherein the polarized source light from the light source is reflected from the PBS layer to the reflective layer, (PBS) layer disposed such that the reflected light from the PBS layer is transmitted through the PBS layer to form a re-converged image.
다른 실시예에 따르면, 상기 PBS 층은 광원 및 반사 층에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 배치될 수 있다. 역반사 디스플레이는 PBS 층에 대면하는 반사 층의 내향 표면에 형성된 지연체 층을 또한 포함할 수 있다. 지연체 층은 고속 축이 선형으로 편광된 입력 광의 편광에 대하여 약 45°가 되도록 상기 지연체 층의 평면 내에서 각도 있게 방위 설정된 1/4 파장 지연체 층일 수 있다. 역반사 디스플레이는 또한 PBS 층의 외향 표면에 형성된 편광자 필터를 포함할 수 있다.According to another embodiment, the PBS layer may be disposed at 45 [deg.] Or near 45 [deg.] Relative to the light source and the reflective layer. The retroreflective display may also include a retarder layer formed on the inward surface of the reflective layer facing the PBS layer. The retarder layer may be a quarter wave retarder layer orientated angularly in the plane of the retarder layer such that the fast axis is about 45 degrees with respect to the polarization of the linearly polarized input light. The retroreflective display may also include a polarizer filter formed on the outward surface of the PBS layer.
추가의 실시예에 따르면, 역반사 디스플레이는 원형으로 편광된 소스 광이 반사 표면으로부터의 원형으로 편광된 반사광으로서 수신되고 PBS 층을 통해 선형으로 편광된 광으로서 투과되도록 상기 편광자 필터에 반대되는 상기 PBS 층의 내향 표면상에 형성된 다른 지연체 층을 또한 포함할 수 있다. 역반사 디스플레이는 또한 무작위로 편광된 소스 광을 선형으로 편광된 소스 광으로 변환하기 위한, 상기 광원에 형성된 편광자를 포함할 수 있다.According to a further embodiment, the retroreflective display is configured such that the circularly polarized source light is received as circularly polarized reflected light from the reflective surface and is transmitted as linearly polarized light through the PBS layer, But may also include other retarder layers formed on the inward surface of the layer. The retroreflective display may also include a polarizer formed in the light source for converting the randomly polarized source light into linearly polarized source light.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 반사 표면은 역반사 어레이일 수 있다. 역반사 어레이는 코팅형 또는 비코팅형일 수 있고, 금속화 또는 비금속화될 수 있다. PBS 층은 하나의 지연체 층만이 역반사 디스플레이에서 구현되도록 제1 원형 편광 상태를 반사하고 상기 제1 원형 편광 상태에 직교하는 제2 원형 편광 상태를 투과시킴으로써 원형으로 편광된 입력 광의 직교 편광 상태를 분할하도록 구성될 수 있다.According to yet another embodiment, the reflective surface may be a retro-reflective array. The retroreflective array can be coated or uncoated and can be metallized or nonmetallic. The PBS layer reflects the first circular polarization state such that only one retarder layer is implemented in the retroreflective display and transmits the second circular polarization state orthogonal to the first circular polarization state to produce an orthogonal polarization state of the circularly polarized input light As shown in FIG.
다른 실시예에 따르면, 디스플레이 시스템은 하나 이상의 광원; 상기 하나 이상의 광원에 실질적으로 수직한 위치에 있는 반사 층; 및 상기 하나 이상의 광원 및 상기 반사 층에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 배치된 편광 빔 스플리터(PBS)를 포함할 수 있다. 상기 하나 이상의 광원으로부터의 소스 광은 2개의 직교 편광으로 투과될 수 있고, 상기 직교 편광 중의 하나로 편광된 소스 광 중의 일부는 PBS 층으로부터 반사 층으로 반사되며 상기 반사 층으로부터의 반사광은 재수렴 이미지를 형성하도록 상기 PBS 층을 통해 투과될 수 있다. 상기 직교 편광 중의 다른 하나로 편광된 소스 광의 다른 부분은 입체 이미지가 생성되도록 상기 PBS 층을 통해 직접 투과될 수 있다.According to another embodiment, the display system comprises at least one light source; A reflective layer at a position substantially perpendicular to said at least one light source; And a polarizing beam splitter (PBS) disposed at 45 [deg.] Or approximately 45 [deg.] Relative to the at least one light source and the reflective layer. Wherein the source light from the at least one light source can be transmitted with two orthogonal polarizations and some of the polarized source light is reflected from the PBS layer to the reflective layer and the reflected light from the reflective layer reflects the re- Lt; RTI ID = 0.0 > PBS < / RTI > Other portions of the source light polarized to the other of the orthogonal polarizations may be transmitted directly through the PBS layer to produce a stereoscopic image.
일부 실시예에 따르면, 상기 하나 이상의 광원으로부터의 소스 광은 2개의 디스플레이 표면, 즉 물리적 표면에 대응하는 제1 디스플레이 표면과 상기 물리적 표면 위에 부유하는 호버링 이미지에 대응하는 제2 디스플레이 표면이 생성되도록 한 쌍의 전환형 디퓨저를 통해 2개의 직교 편광으로 투과될 수 있다. 제1 전환형 디퓨저는 PBS 층 아래에 배치되고 제2 전환형 디퓨저는 상기 PBS 층의 외부 표면에 또는 그 위에 배치될 수 있다.According to some embodiments, the source light from the one or more light sources is generated to produce two display surfaces, a first display surface corresponding to the physical surface and a second display surface corresponding to the hovering image floating over the physical surface Lt; RTI ID = 0.0 > polarized < / RTI > polarization through a pair of switched diffusers. The first switchable diffuser may be disposed below the PBS layer and the second switchable diffuser may be disposed on or above the outer surface of the PBS layer.
또 다른 실시예에 따르면, 시스템은 플로팅 이미지 및 물리적 표면과의 상호작용을 촉진하도록 상기 제1 전환형 디퓨저와 일치하는 터치 검출 층을 포함할 수 있다. 시스템은 또한 별개의 이미지 평면에서 복수의 플로팅 이미지가 가능하도록 상기 PBS 층 아래에 배치된 적어도 제3 전환형 디퓨저를 포함할 수 있다. 상기 전환형 디퓨저는 PDLC(polymer dispersed liquid crystal, 중합체 분산형 액정), PNLC(polymer network liquid crystal, 중합체 네트워크 액정)로 제조될 수 있다. 시스템은 또한 선택된 직교 편광 상태가 산란을 제공하도록 액정을 구비한 패시브 마이크로렌즈 어레이 및 하나 이상의 전환가능 회전자 층을 포함할 수 있다. 상기 반사 층과 상기 PBS 층 중의 어느 하나 또는 둘 다는 내측 지연체 층을 포함한다.According to another embodiment, the system may include a touch detection layer coinciding with the first switchable diffuser to facilitate interaction with the floating image and the physical surface. The system may also include at least a third switchable diffuser disposed below the PBS layer to enable a plurality of floating images in a separate image plane. The switchable diffuser may be fabricated from a polymer dispersed liquid crystal (PDLC) or a polymer network liquid crystal (PNLC). The system may also include a passive microlens array with liquid crystals and one or more convertible rotor layers to provide selected orthogonal polarization states for scattering. Either or both of the reflective layer and the PBS layer include an inner retarder layer.
추가의 실시예에 따르면, 편광 제어형 역반사 디스플레이 제조 시스템은 역반사 층, 지연체 층 및 편광 빔 스플리터(PBS) 층 중의 하나 이상을 발생하도록 구성된 층 발생 모듈; 반사 코팅을 상기 역반사 층에 적용하도록 구성된 코팅 모듈; 및 광원으로부터의 편광된 소스 광이 상기 PBS 층으로부터 상기 반사층으로 반사되고 상기 광원에 대하여 직교 편광을 가진 상기 반사 층으로부터의 반사광이 재수렴 이미지를 형성하기 위해 상기 PBS 층을 통해 투과되도록 상기 역반사 층, 상기 PBS 층 및 하나 이상의 지연체 층을 조립하도록 구성된 어셈블리 모듈을 포함할 수 있다. 상기 제조 시스템은 또한 상기 층 발생 모듈, 상기 코팅 모듈 및 상기 어셈블리 모듈의 하나 이상의 동작을 조정시키도록 구성된 제어기를 포함할 수 있다.According to a further embodiment, a polarization-controlled retroreflective display manufacturing system comprises a layer generating module configured to generate at least one of a retroreflective layer, a retarder layer and a polarizing beam splitter (PBS) layer; A coating module configured to apply a reflective coating to the retroreflective layer; And a polarizing beam splitter for splitting the polarized source light from the PBS layer back into the reflective layer so that the reflected light from the reflective layer having orthogonal polarization with respect to the light source is transmitted through the PBS layer to form a re- An assembly module configured to assemble the layer, the PBS layer, and one or more retarder layers. The manufacturing system may also include a controller configured to coordinate one or more operations of the layer generating module, the coating module and the assembly module.
일부 실시예에 따르면, 상기 역반사 층은 코너 큐브 어레이(CCA)일 수 있고, 상기 층 발생 모듈은 복수의 코너 큐브 구조물의 패싯에 직접 적용되는 반사 코팅; 복제된 역반사 어레이 위에 적용되는 반사 코팅; 또는 총 내부 반사(total internal reflection; TIR)를 통하여 반사 렌더링된 상기 복수의 코너 큐브 구조물의 패싯을 통하여 상기 CCA의 상기 복수의 코너 큐브 구조물의 패싯들을 덮는 반사 표면을 발생하도록 구성될 수 있다.According to some embodiments, the retroreflective layer may be a corner cube array (CCA), the layer generating module comprising a reflective coating applied directly to the facets of the plurality of corner cube structures; A reflective coating applied over a replicated retroreflective array; Or facets of the plurality of corner-cube structures of the CCA through the facets of the plurality of corner-cube structures that are reflected through the total internal reflection (TIR).
일부 실시예에 따르면, 편광 제어형 역반사 디스플레이를 제조하기 위한 수단은 역반사 층, 지연체 층 및 편광 빔 스플리터(PBS) 층 중의 하나 이상을 발생하도록 구성된 층 발생 수단; 반사 코팅을 상기 역반사 층에 적용하도록 구성된 코팅 수단; 및 광원으로부터의 편광된 소스 광이 상기 PBS 층으로부터 상기 반사 층으로 반사되고 상기 광원에 대하여 직교 편광을 가진 상기 반사 층으로부터의 반사광이 재수렴 이미지를 형성하기 위해 상기 PBS 층을 통해 투과되도록 상기 역반사 층, 상기 PBS 층 및 하나 이상의 지연체 층을 조립하도록 구성된 어셈블리 수단을 포함할 수 있다. 상기 제조 수단은 또한 상기 층 발생 모듈, 상기 코팅 모듈 및 상기 어셈블리 모듈의 하나 이상의 동작을 조정시키도록 구성된 제어 수단을 포함할 수 있다.According to some embodiments, the means for producing a polarization-controlled retroreflective display comprises layer generating means configured to generate at least one of a retroreflective layer, a retarder layer, and a polarizing beam splitter (PBS) layer; Coating means configured to apply a reflective coating to the retroreflective layer; And a polarized source light from the light source is reflected from the PBS layer to the reflective layer and the reflected light from the reflective layer having orthogonal polarization to the light source is transmitted through the PBS layer to form a re- Reflective layer, the PBS layer, and one or more retarder layers. The manufacturing means may also include control means configured to adjust one or more operations of the layer generating module, the coating module and the assembly module.
상기 명세서, 실시예 및 데이터는 구현예 구성의 제조 및 용법에 대한 완전한 설명을 제공한다. 비록 본 발명이 구조적 특징 및/또는 방법론적 작용에 특유한 언어로 설명되었지만, 첨부된 특허 청구범위에서 규정되는 본 발명은 위에서 설명한 특유의 특징 또는 작용으로 반드시 제한되는 것이 아님을 이해하여야 한다. 그보다, 위에서 설명한 특유의 특징 및 작용은 특허 청구범위를 구현하는 예시적인 형태 및 구현예로서 개시된다.The above specification, examples and data provide a complete description of the manufacture and use of the exemplary embodiments. Although the present invention has been described in language specific to structural features and / or methodological acts, it should be understood that the invention as defined in the appended claims is not necessarily limited to the specific features or acts described above. Rather, the specific features and acts described above are disclosed as exemplary forms and implementations which implement the claims.
전술한 상세한 설명은 블록도, 흐름도 및/또는 실시예를 이용하여 장치 및/또는 프로세스의 각종 구현예를 나타내었다. 그러한 블록도, 흐름도 및/또는 실시예가 하나 이상의 기능 및/또는 동작을 포함하는 한, 그러한 블록도, 흐름도 및/또는 실시예 내의 각각의 기능 및/또는 동작은 당업자라면 이해하고 있는 바와 같이 광범위한 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어 또는 실질적으로 이들의 임의 조합에 의해 개별적으로 및/또는 집합적으로 구현될 수 있다. 일 예로서, 여기에서 설명한 본 발명의 몇 가지 부분은 특수 용도 집적회로(ASIC), 필드 프로그래머블 게이트 어레이(FPGA), 디지털 신호 프로세서(DSP), 또는 다른 집적된 포맷을 통해 구현될 수 있다. 그러나 당업자라면 여기에서 설명한 구현예들의 일부 양태는 전체적으로 또는 부분적으로 하나 이상의 컴퓨터에서 구동하는 하나 이상의 컴퓨터 프로그램으로서(예를 들면, 하나 이상의 컴퓨터 시스템에서 구동하는 하나 이상의 프로그램으로서), 하나 이상의 프로세서에서 구동하는 하나 이상의 프로그램으로서(예를 들면, 하나 이상의 마이크로프로세서에서 구동하는 하나 이상의 프로그램으로서), 펌웨어로서, 또는 실질적으로 이들의 임의 조합으로서 집적회로에서 등가적으로 구현될 수 있다는 점, 및 회로의 설계 및/또는 소프트웨어 및/또는 펌웨어용의 코드 작성이 전술한 설명에 비추어 당업자의 기술적 지식 내에 있다는 것을 인식할 것이다.The foregoing detailed description illustrates various implementations of devices and / or processes using block diagrams, flow diagrams, and / or examples. Each such function and / or operation in such block diagrams, flowcharts, and / or examples, as such block diagrams, flowcharts and / or embodiments include one or more functions and / or operations, , Software, firmware, or substantially any combination thereof. By way of example, some portions of the invention described herein may be implemented through special purpose integrated circuits (ASICs), field programmable gate arrays (FPGAs), digital signal processors (DSPs), or other integrated formats. However, those skilled in the art will appreciate that some aspects of the implementations described herein may be implemented as one or more computer programs (e.g., as one or more programs running on one or more computer systems), running on one or more computers in whole or in part, (E. G., As one or more programs running on one or more microprocessors), firmware, or substantially any combination thereof, and that the design of the circuit And / or the writing of the code for the software and / or firmware is within the technical knowledge of those skilled in the art in light of the foregoing description.
Claims (12)
광원에 대해 실질적으로 수직인 위치에 있는 반사 층과;
편광 빔 스플리터(polarizing beam splitter, PBS) 층
을 포함하고,
상기 PBS 층은,
상기 광원으로부터의 편광된 소스 광이 상기 PBS 층으로부터 상기 반사 층으로 반사되고, 상기 소스 광에 대해 직교 편광을 가진 상기 반사 층으로부터의 반사광이 상기 PBS 층을 통해 투과되어 재수렴 이미지를 형성하도록 배치된 것인 역반사 디스플레이.In a retroreflective display,
A reflective layer at a position substantially perpendicular to the light source;
A polarizing beam splitter (PBS) layer
/ RTI >
Wherein the PBS layer comprises:
Polarized source light from the light source is reflected from the PBS layer to the reflective layer and reflected light from the reflective layer having orthogonal polarization to the source light is transmitted through the PBS layer to form a re- ≪ / RTI >
하나 이상의 광원과;
상기 하나 이상의 광원에 실질적으로 수직인 위치에 있는 반사 층과;
상기 하나 이상의 광원 및 상기 반사 층에 대하여 45°로 또는 거의 45°로 배치된 편광 빔 스플리터(PBS) 층
을 포함하고,
상기 하나 이상의 광원으로부터의 소스 광은 2개의 직교 편광으로 투과되고,
상기 직교 편광 중의 하나로 편광된 소스 광의 일부는 상기 PBS 층으로부터 상기 반사 층으로 반사되고, 상기 반사 층으로부터의 반사광은 상기 PBS 층을 통해 투과되어 재수렴 이미지를 형성하고,
상기 직교 편광 중의 또다른 하나로 편광된 상기 소스 광의 다른 부분은, 입체 이미지가 생성되도록 상기 PBS 층을 통해 직접 투과되는 것인 디스플레이 시스템.In a display system,
At least one light source;
A reflective layer at a location substantially perpendicular to the at least one light source;
A polarizing beam splitter (PBS) layer disposed at 45 [deg.] Or near 45 [deg.] Relative to the at least one light source and the reflective layer
/ RTI >
Wherein the source light from the at least one light source is transmitted by two orthogonal polarizations,
A portion of the polarized source light is reflected from the PBS layer to the reflective layer, and the reflected light from the reflective layer is transmitted through the PBS layer to form a re-converged image,
And another portion of the source light polarized to another one of the orthogonal polarizations is transmitted directly through the PBS layer to produce a stereoscopic image.
역반사 층, 지연체 층 및 편광 빔 스플리터(PBS) 층 중의 하나 이상을 발생하도록 구성된 층 발생 모듈과;
상기 역반사 층에 반사 코팅을 도포하도록 구성된 코팅 모듈과;
광원으로부터의 편광된 소스 광이 상기 PBS 층으로부터 반사 층으로 반사되고, 상기 광원에 대하여 직교 편광을 가진 상기 반사 층으로부터의 반사광이 상기 PBS 층을 통해 투과되어 재수렴 이미지를 형성하도록, 상기 역반사 층, 상기 PBS 층 및 하나 이상의 지연체 층을 조립하도록 구성된 어셈블리 모듈과;
상기 층 발생 모듈, 상기 코팅 모듈 및 상기 어셈블리 모듈 중 하나 이상의 동작을 조정하도록 구성된 제어기
를 포함한 편광 제어형 역반사 디스플레이 제조 시스템.A polarization-controlled retroreflective display manufacturing system,
A layer generation module configured to generate at least one of a retroreflective layer, a retarder layer, and a polarizing beam splitter (PBS) layer;
A coating module configured to apply a reflective coating to the retroreflective layer;
Wherein the polarized source light from the light source is reflected from the PBS layer to the reflective layer and the reflected light from the reflective layer having orthogonal polarization to the light source is transmitted through the PBS layer to form a re- An assembly module configured to assemble the layer, the PBS layer, and one or more retarder layers;
A controller configured to adjust the operation of at least one of the layer generating module, the coating module and the assembly module,
/ RTI > display system, comprising:
복수의 코너 큐브 구조물의 패싯(facet)에 직접 도포되는 반사 코팅; 및
복제된 역반사 어레이 위에 도포되는 반사 코팅
중의 하나를 통하여 상기 CCA의 상기 복수의 코너 큐브 구조물의 패싯들을 덮는 반사 표면을 발생하도록 구성되고,
상기 복수의 코너 큐브 구조물의 패싯들은 총 내부 반사(total internal reflection; TIR)를 통하여 반사 렌더링되는 것인 편광 제어형 역반사 디스플레이 제조 시스템.12. The method of claim 11, wherein the retroreflective layer is a corner cube array (CCA)
A reflective coating applied directly to a facet of a plurality of corner cube structures; And
Reflective coating applied over cloned retroreflective array
To generate facets of the facets of the plurality of corner-cube structures of the CCA,
Wherein the facets of the plurality of corner cube structures are reflections rendered through total internal reflection (TIR).
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