KR20160108133A - Method for generating proton beam using a laser - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011275 oncology therapy Methods 0.000 description 1
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
Description
본 발명은 양성자 빔 발생 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 고에너지 양성자 빔 발생 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a proton beam generating method, and more particularly, to a high energy proton beam generating method.
양성자 빔은 의료 분야에서 사용된다. 특히, 양성자 빔은 암 치료 분야에서 유용하게 사용된다. 예를 들어, 양성자 빔은 인체 내부로 침투하여, 종양을 효과적으로 제거할 수 있다. 이때, 양성자 빔의 에너지가 클수록 치료 효과도 커질 수 있다. Proton beams are used in the medical field. In particular, proton beams are useful in the field of cancer therapy. For example, the proton beam can penetrate into the human body, effectively removing the tumor. At this time, the larger the energy of the proton beam, the greater the therapeutic effect.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 고에너지를 가지는 양성자 빔을 제공하는 것에 있다. A problem to be solved by the present invention is to provide a proton beam having a high energy.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 개시에 한정되지 않는다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above disclosure.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 레이저를 이용한 양성자 빔의 발생 방법은 챔버 내에 전자들을 제공하는 것; 상기 전자들에 레이저를 조사하여, 상기 전자들을 밀집시키는 것; 및 상기 밀집된 전자들을 향해 양성자 빔을 방출하는 것을 포함하되, 상기 레이저는 수 펨토초(fs) 내지 수백 피코초(ps) 펄스(pulse) 레이저이고, 상기 양성자 빔은 상기 밀집된 전자들 사이를 통과하는 레이저를 이용할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of generating a proton beam using a laser, comprising: providing electrons in a chamber; Irradiating the electrons with a laser to densify the electrons; And emitting a proton beam toward the densely packed electrons, wherein the laser is a few femtoseconds (fs) to a few hundred picoseconds (ps) pulse laser, the proton beam passing through the densely packed electrons Can be used.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 높은 농도로 밀집된 전자 구름이 제공될 수 있다. 양성자를 전자 구름을 향해 방사하면, 양성자는 전자 구름에 의해 가속될 수 있다. 가속된 양성자는 높은 에너지를 가진 상태이므로, 고에너지를 가지는 양성자가 제공될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a dense electron cloud can be provided at a high concentration. When a proton is emitted toward the electron cloud, the proton can be accelerated by the electron cloud. Since the accelerated proton is in a state of high energy, a proton having high energy can be provided.
다만, 본 발명의 효과는 상기 개시에 한정되지 않는다. However, the effect of the present invention is not limited to the above disclosure.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔 조사 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔 조사 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔의 발생 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 구름의 발생 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a block diagram of a proton beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a proton beam illuminator according to an embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a method of generating a proton beam according to an embodiment of the present invention.
4 is a view for explaining a method of generating an electron cloud according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 기술적 사상의 구성 및 효과를 충분히 이해하기 위하여, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술적 사상의 바람직한 실시예들을 설명한다. 그러나 본 발명 기술적 사상은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라, 여러가지 형태로 구현될 수 있고 다양한 변경을 가할 수 있다. 단지, 본 실시예들의 설명을 통해 본 발명의 기술적 사상의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. In order to fully understand the structure and effect of the technical idea of the present invention, preferred embodiments of the technical idea of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the technical idea of the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various forms and various modifications may be made. It is to be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.
명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분은 동일한 구성요소들을 나타낸다. 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 기술적 사상의 이상적인 예시도인 블록도, 단면도, 및/또는 순서도를 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서의 다양한 실시예들에서 다양한 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 여기에 설명되고 예시되는 실시예들은 그것의 상보적인 실시예들도 포함한다. The same reference numerals denote the same elements throughout the specification. The embodiments described herein will be described with reference to block diagrams, sectional views, and / or flowcharts, which are ideal illustrations of the technical spirit of the present invention. In the drawings, the thickness of the regions is exaggerated for an effective description of the technical content. Thus, the regions illustrated in the figures have schematic attributes, and the shapes of the regions illustrated in the figures are intended to illustrate specific types of regions of the elements and are not intended to limit the scope of the invention. Although various terms have been used in the various embodiments of the present disclosure to describe various elements, these elements should not be limited by these terms. These terms have only been used to distinguish one component from another. The embodiments described and exemplified herein also include their complementary embodiments.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. The terms "comprises" and / or "comprising" used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술적 사상의 바람직한 실시예들을 설명함으로써 본 발명을 상세히 설명한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔 조사 장치의 블록도이다. 1 is a block diagram of a proton beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 챔버(100), 전자 발생 장치(200), 레이저 발생 장치(300), 및 양성자 발생 장치(400)가 제공될 수 있다. 챔버(100)는 양성자 빔이 에너지를 얻는 영역을 포함할 수 있다. 전자 발생 장치(200)는 챔버(100) 내에 전자들을 제공할 수 있다. 전자들은 챔버(100) 내에 밀집될 수 있다. 레이저 발생 장치(300)는 챔버(100) 내에 레이저를 조사할 수 있다. 레이저는 챔버 내에 전자들을 밀집시킬 수 있다. 양성자 발생 장치(400)는 챔버(100) 내에 양성자 빔을 제공할 수 있다. 양성자 빔은 양성자들을 포함할 수 있다. 양성자 빔은 양성자 발생 장치(400)로부터 밀집된 전자들을 향해 방출될 수 있다. Referring to FIG. 1, a
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔 조사 장치의 단면도이다. 설명의 간결함을 위하여, 양성자 빔 조사 장치의 측벽은 선으로 표현된다. 즉, 양성자 빔 조사 장치의 측벽의 두께는 도시되지 않는다. 2 is a cross-sectional view of a proton beam illuminator according to an embodiment of the present invention. For the sake of brevity, the side walls of the proton beam irradiating device are represented by lines. That is, the thickness of the side wall of the proton beam irradiating device is not shown.
도 2를 참조하면, 챔버(100)가 제공될 수 있다. 일 예에서, 챔버(100)는 진공일 수 있다. 챔버(100)는 후술될 제2 양성자 빔(420)이 생성되는 영역을 제공할 수 있다. 챔버(100)는 제2 양성자 빔(420)을 챔버(100)의 외부로 방출하는 조사부(110)를 포함할 수 있다.Referring to Figure 2, a
챔버(100) 내에 전자들(210)을 제공하는 전자 발생 장치(200)가 제공될 수 있다. 일 예에서, 전자 발생 장치(200)는 챔버(100)의 외벽의 일부에 연결될 수 있다. 예를 들어, 전자 발생 장치(200)는 챔버(100)의 외벽으로부터 챔버(100)의 외부를 향해 돌출될 수 있다. 일 예에서, 전자 발생 장치(200)는 ECR(Electron Cyclotron Resonance) 플라즈마 장치일 수 있다. 예를 들어, ECR 플라즈마 장치는 마이크로 웨이브가 방사되는 챔버 내에 수소 가스(H2)를 제공하여 전자를 생성할 수 있다. 일 예에서, 전자 발생 장치(200)는 레이저를 이용한 전자 발생 장치일 수 있다. 예를 들어, 레이저를 이용한 전자 발생 장치는 타겟에 레이저를 조사하여 전자를 생성할 수 있다. 이때, 상기 타겟은 박막 타겟 또는 수소 가스 타겟일 수 있다. An
챔버(100) 내에 레이저 빔(310)를 조사하는 레이저 발생 장치(300)가 제공될 수 있다. 구체적으로, 레이저 빔(310)은 전자들(210)을 향해 조사될 수 있다. 일 예에서, 레이저 발생 장치(300)는 챔버(100)의 외벽의 다른 일부에 연결될 수 있다. 예를 들어, 레이저 발생 장치(300)는 챔버(100)의 외벽으로부터 챔버(100)의 외부를 향해 돌출될 수 있다. 일 예에서, 레이저 발생 장치(300)는 챔버(100) 내에 펄스(pulse)형 레이저를 조사할 수 있다. 예를 들어, 레이저 발생 장치(300)는 챔버(100) 내에 수 펨토초(fs) 내지 수백 피코초(ps) 동안 발진되는 레이저 펄스를 조사할 수 있다. 일 예에서, 레이저 빔(310)은 레이저 파동의 진폭이 가우스 함수를 따르는 가우스 빔(Gaussian Beam) 형태를 가질 수 있다. 이에 따라, 레이저 빔(310)은 바깥부분에서 중심부분으로 갈수록 세기가 셀 수 있다. 레이저 빔(310)은 챔버(100) 내에 초점(미도시)을 가질 수 있다. 이때, 레이저 빔(310)의 초점 주위로 전자들(210)이 밀집될 수 있다. 밀집된 전자들(210)은 전자 구름(220)으로 정의될 수 있다. 즉, 전자 구름(220)은 전자들(210)이 밀집된 상태일 수 있다.A
챔버(100) 내에 제1 양성자 빔(410)을 방출하는 양성자 발생 장치(400)가 제공될 수 있다. 구체적으로, 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)을 향해 방출될 수 있다. 일 예에서, 양성자 발생 장치(400)는 챔버(100)의 외벽의 또 다른 일부에 연결될 수 있다. 예를 들어, 양성자 발생 장치(400)는 챔버(100)의 외벽으로부터 챔버(100)의 외부를 향해 돌출될 수 있다. 일 예에서, 양성자 발생 장치(400)는 전자 구름(220)을 향해 제1 양성자 빔(410)을 방출할 수 있다. 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)과 제1 양성자 빔(410) 사이의 인력에 의해 가속될 수 있다. 제1 양성자 빔(410)과 전자 구름(220) 사이의 거리가 좁을수록, 제1 양성자 빔(410)과 전자 구름(220) 사이의 인력은 클 수 있다. 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)에 도달할 때가지 가속되어, 전자 구름(220)을 통과할 수 있다. 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)을 통과하여, 제2 양성자 빔(420)이 될 수 있다. 제2 양성자 빔(420)은 제1 양성자 빔(410)보다 큰 에너지를 가질 수 있다. 제2 양성자 빔(420)은 조사부(110)를 통해 챔버(100)의 외부로 조사될 수 있다.A
본 발명의 개념에 따르면, 레이저 빔(310)에 의해 형성된 전자 구름(220)이 제공될 수 있다. 전자 구름(220)의 밀도가 높을수록 제1 양성자 빔(410)과 전자 구름(220) 사이의 인력이 강할 수 있다. 제1 양성자 빔(410)과 전자 구름(220) 사이의 인력이 강할수록, 제1 양성자 빔(410)이 전자 구름(220)까지 이동하는 동안 가지는 에너지는 커질 수 있다. 제1 양성자 빔(410)이 전자 구름(220)을 통과할 때의 에너지가 제2 양성자 빔(420)의 에너지이므로, 제2 양성자 빔(420)이 갖는 에너지는 커질 수 있다. 일 예에서, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)은 고밀도로 밀집될 수 있다. 예를 들어, 전자 구름(220) 내의 서로 바로 인접한 전자들(210) 사이의 거리는 고체 내의 원자들 사이의 거리보다 더 좁을 수 있다. 전자 구름(220)의 크기는 수 마이크로미터(μm)일 수 있다. 이때, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)이 챔버(100) 내에 만드는 전기장의 크기는 고체 타겟과 레이저를 이용해서 만드는 전기장의 크기보다 클 수 있다. 예를 들어, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)은 약 1017 V/m 이상의 크기를 가지는 전기장을 챔버(100) 내에 형성할 수 있다. 고밀도의 전자 구름(220)을 통해, 고에너지를 갖는 제2 양성자 빔(420)이 발생될 수 있다. According to the concept of the present invention, an
이하에서, 순서도를 참조하여 고에너지를 갖는 양성자 빔의 발생 방법이 설명된다.Hereinafter, a method of generating a proton beam having a high energy will be described with reference to a flowchart.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 양성자 빔의 발생 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 구름의 발생 방법을 설명하기 위한 도면이다. 설명의 간결함을 위하여, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명된 내용과 실질적으로 동일한 것을 설명되지 않는다.3 is a flowchart illustrating a method of generating a proton beam according to an embodiment of the present invention. 4 is a view for explaining a method of generating an electron cloud according to an embodiment of the present invention. For brevity of description, substantially the same as that described with reference to Figs. 1 and 2 is not described.
도 2 및 도 3을 참조하면, 챔버(100) 내에 전자들(210)이 제공될 수 있다.(S110) 일 예에서, 전자들(210)은 진공 챔버(100) 내에 제공될 수 있다. 예를 들어, 전자들(210)은 ECR(Electron Cyclotron Resonance) 플라즈마 장치 또는 레이저를 이용한 전자 발생 장치를 통해 챔버(100) 내에 제공될 수 있다. 구체적으로, ECR 플라즈마 장치는 수소 가스(H2)에 마이크로웨이브를 방사하여 양성자를 생성할 수 있고, 레이저를 이용한 전자 발생 장치는 타겟(박막 타겟 또는 가스 타겟)에 레이저를 조사하여 전자를 생성할 수 있다. 일 예에서, 전자들(210)은 챔버(100) 내에 고루 분포할 수 있다. 2 and 3,
챔버(100) 내에 레이저 빔(310)을 조사하여, 전자들(210)을 밀집시킬 수 있다.(S120) 일 예에서, 레이저 빔(310)은 펄스(pulse)형으로 발진될 수 있다. 예를 들어, 레이저 빔(310)은 수 펨토초(fs) 내지 수백 피코초(ps) 동안 발진될 수 있다. 일 예에서, 레이저 빔(310)은 레이저 파동의 진폭이 가우스 함수를 따르는 가우스 빔(Gaussian Beam) 형태를 가질 수 있다. 이에 따라, 레이저 빔(310)의 폭은 레이저 빔(310)의 초점(미도시) 근처에서 좁아질 수 있다. 전자들(210)은 레이저 빔(310)의 폭이 좁은 영역에서 밀집될 수 있다. 이하, 전자들(210)의 밀집에 대해 자세히 설명된다.The
도 4를 참조하면, 레이저 빔(310) 내에서 운동하는 전자(210)가 제공될 수 있다. 전자(210)에 레이저 빔(310)이 조사되어, 전자(210)는 폰더로모티브 힘(ponderomotive force)(또는 로렌츠 힘(Lorentz force))을 받을 수 있다. 전자(210)는 폰더로모티브 힘을 통해 레이저 빔(310)의 진행 방향으로 이동하며 회전하는 나선 운동(212)을 할 수 있다. 일 예에서, 복수의 전자들(210)이 레이저 빔(310) 내에 제공되어, 레이저 빔(310) 내에서 나선 운동(212)을 할 수 있다. 이때, 전자들(210)은 레이저 빔(310)의 폭이 좁은 영역에서 밀집될 수 있다. 레이저 빔(310)의 세기가 셀수록 전자들(210)의 밀도는 높을 수 있다. 일 예에서, 서로 바로 인접한 전자들(210) 사이의 거리는 고체 내의 원자 사이의 거리보다 좁을 수 있다. 밀집된 전자들(210)은 전자 구름(220)으로 정의될 수 있다. Referring to FIG. 4,
도 2 및 도 3을 다시 참조하면, 제1 양성자 빔(410)을 전자 구름(220)을 향해 조사하여, 제2 양성자 빔(420)이 발생될 수 있다.(S130) 제1 및 제2 양성자 빔들(410, 420)의 각각은 양성자들을 포함할 수 있다. 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220) 내에 포함된 전자들(210)과 제1 양성자 빔(410) 사이의 인력에 의해 전자 구름(220) 방향으로 가속될 수 있다. 제1 양성자 빔(410)이 가속됨에 따라, 제1 양성자 빔(410)의 에너지가 높아질 수 있다. 따라서, 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)에 가까워짐에 따라, 제1 양성자 빔(410)이 갖는 에너지가 높아질 수 있다. 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)을 통과하여, 제2 양성자 빔(420)이 될 수 있다. 즉, 제2 양성자 빔(420)은 제1 양성자 빔(410)보다 큰 에너지를 가질 수 있다. 제2 양성자 빔(420)은 조사부(110)를 통해 챔버(100) 밖으로 조사될 수 있다.Referring again to Figures 2 and 3, a
본 발명의 개념에 따르면, 제1 양성자 빔(410)은 전자 구름(220)에 의해 가속될 수 있다. 전자 구름(220) 내의 전자들(210)은 고밀도로 밀집될 수 있다. 예를 들어, 전자 구름(220) 내의 서로 바로 인접한 전자들(210) 사이의 거리는 고체 내의 원자들 사이의 거리보다 더 좁을 수 있다. 이때, 전자 구름(220)의 크기는 수 마이크로미터(μm)일 수 있다. 이에 따라, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)이 챔버(100) 내에 만드는 전기장의 크기는 고체 타겟과 레이저를 이용해서 만드는 전기장의 크기보다 클 수 있다. 예를 들어, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)은 약 1017 V/m 이상의 크기를 가지는 전기장을 챔버(100) 내에 형성할 수 있다. 제1 양성자 빔(410)이 전자 구름(220)까지 이동하는 동안 얻는 에너지의 크기는 전자 구름(220) 내의 전자들(210)의 밀집 정도에 따라 조절될 수 있다. 예를 들면, 전자 구름(220) 내의 전자들(210)의 밀집도가 높을 수록, 제1 양성자 빔(410)은 이 전자 구름(220)까지 이동하는 동안 얻는 에너지가 커질 수 있다. 제1 양성자 빔(410)이 전자 구름(220)을 통과할 때의 에너지가 제2 양성자 빔(420)의 에너지이므로, 제2 양성자 빔(420)이 갖는 에너지는 커질 수 있다. 고밀도의 전자 구름(220)을 통해, 고에너지를 갖는 제2 양성자 빔(420)이 발생될 수 있다. According to the concept of the present invention, the
본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 대한 이상의 설명은 본 발명의 기술적 사상의 설명을 위한 예시를 제공한다. 따라서 본 발명의 기술적 사상은 이상의 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 상기 실시예들을 조합하여 실시하는 등 여러 가지 많은 수정 및 변경이 가능함은 명백하다. The above description of embodiments of the technical idea of the present invention provides an example for explaining the technical idea of the present invention. Therefore, the technical spirit of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but various modifications and changes may be made by those skilled in the art within the technical scope of the present invention, It is clear that this is possible.
Claims (1)
상기 전자들에 레이저를 조사하여, 상기 전자들을 밀집시키는 것; 및
상기 밀집된 전자들을 향해 양성자 빔을 방출하는 것을 포함하되,
상기 레이저는 수 펨토초(fs) 내지 수백 피코초(ps) 펄스(pulse) 레이저이고,
상기 양성자 빔은 상기 밀집된 전자들 사이를 통과하는, 레이저를 이용한 양성자 빔의 발생 방법.Providing electrons in the chamber;
Irradiating the electrons with a laser to densify the electrons; And
And emitting a proton beam towards the dense electrons,
The laser is a few femtoseconds (fs) to hundreds of picoseconds (ps) pulses,
Wherein the proton beam passes between the dense electrons.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20150031476 | 2015-03-06 | ||
| KR1020150031476 | 2015-03-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20160108133A true KR20160108133A (en) | 2016-09-19 |
Family
ID=57102969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160005579A Withdrawn KR20160108133A (en) | 2015-03-06 | 2016-01-15 | Method for generating proton beam using a laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20160108133A (en) |
-
2016
- 2016-01-15 KR KR1020160005579A patent/KR20160108133A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20160115 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination |