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KR20140076206A - Touch panel and method of fabricating the same - Google Patents

Touch panel and method of fabricating the same Download PDF

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KR20140076206A
KR20140076206A KR1020120144517A KR20120144517A KR20140076206A KR 20140076206 A KR20140076206 A KR 20140076206A KR 1020120144517 A KR1020120144517 A KR 1020120144517A KR 20120144517 A KR20120144517 A KR 20120144517A KR 20140076206 A KR20140076206 A KR 20140076206A
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KR
South Korea
Prior art keywords
coating layer
touch panel
transparent electrode
resin
substrate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
KR1020120144517A
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Korean (ko)
Inventor
노준
채경훈
이선영
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to KR1020120144517A priority Critical patent/KR20140076206A/en
Publication of KR20140076206A publication Critical patent/KR20140076206A/en
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Abstract

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판 상에 배치되고, 일정한 간격으로 패턴을 형성하는 투명 전극들; 상기 투명 전극들 상에 배치되는 제 1 코팅층; 상기 투명 전극들 사이에 배치되는 제 2 코팅층을 포함한다.
실시예에 따른 터치 패널 제조방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 투명 전극층을 형성하는 단계; 상기 투명 전극층 상에 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 상기 투명 전극층을 패터닝하여 복수 개의 투명 전극들을 형성하는 단계; 및 상기 투명 전극들 사이에 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.
A touch panel according to an embodiment includes a substrate; Transparent electrodes disposed on the substrate and forming a pattern at regular intervals; A first coating layer disposed on the transparent electrodes; And a second coating layer disposed between the transparent electrodes.
A method of manufacturing a touch panel according to an embodiment includes preparing a substrate; Forming a transparent electrode layer on the substrate; Forming a first coating layer on the transparent electrode layer; Forming a plurality of transparent electrodes by patterning the transparent electrode layer; And forming a second coating layer between the transparent electrodes.

Description

터치 패널 및 이의 제조방법{TOUCH PANEL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel,

실시예는 터치 패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다.Embodiments relate to a touch panel and a method of manufacturing the touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, a touch panel has been applied to an image displayed on a display device in various electronic products by a method of touching an input device such as a finger or a stylus.

이러한 터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.Such a touch panel can largely be divided into a resistance film type touch panel and a capacitive type touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device and the position is detected. A capacitance type touch panel senses a change in electrostatic capacitance between electrodes when a finger touches them, thereby detecting the position.

저항막 방식의 터치 패널은 반복 사용에 의하여 성능이 저하될 수 있으며 스크래치(scratch)가 발생될 수 있다. 이에 의해 내구성이 뛰어나고 수명이 긴 정전 용량 방식의 터치 패널에 대한 관심이 높아지고 있다.The resistance film type touch panel may be deteriorated in performance by repeated use, and scratch may occur. As a result, there is a growing interest in a capacitive touch panel having excellent durability and long life span.

한편, 이러한 터치 패널을 제조하기 위해서, 기판 상에 투명 전극 물질을 코팅한 후에, 상기 투명 전극 상에 절연 물질을 코팅한다, 이후에, 상기 투명 전극 물질 및 상기 절연 물질을 패터닝하여 최종적으로 터치 패널을 제조할 수 있다.In order to manufacture such a touch panel, a transparent electrode material is coated on a substrate, and then an insulating material is coated on the transparent electrode. Then, the transparent electrode material and the insulating material are patterned, Can be prepared.

그러나, 상기 투명 전극 물질과 상기 절연 물질이 패터닝 된 후에, 상기 기판과 상기 투명 전극 물질 및 상기 절연 물질이 일정한 높이로 단차를 형성하게 되므로, 터치 패널의 시인성이 저하될 수 있는 문제점이 있다.However, after the transparent electrode material and the insulating material are patterned, the substrate, the transparent electrode material, and the insulating material may form a step at a certain height, thereby deteriorating the visibility of the touch panel.

따라서, 이러한 단차를 제거하여 터치 패널의 시인성을 개선할 수 있는 새로운 터치 패널 및 이의 제조방법의 필요성이 대두된다.Accordingly, there is a need for a new touch panel and a method for manufacturing the same that can improve the visibility of the touch panel by removing such a step.

실시예는 시인성이 향상된 터치 패널 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel with improved visibility and a method of manufacturing the same.

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판 상에 배치되고, 일정한 간격으로 패턴을 형성하는 투명 전극들; 상기 투명 전극들 상에 배치되는 제 1 코팅층; 상기 투명 전극들 사이에 배치되는 제 2 코팅층을 포함한다.A touch panel according to an embodiment includes a substrate; Transparent electrodes disposed on the substrate and forming a pattern at regular intervals; A first coating layer disposed on the transparent electrodes; And a second coating layer disposed between the transparent electrodes.

실시예에 따른 터치 패널 제조방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 투명 전극층을 형성하는 단계; 상기 투명 전극층 상에 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 상기 투명 전극층을 패터닝하여 복수 개의 투명 전극들을 형성하는 단계; 및 상기 투명 전극들 사이에 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a touch panel according to an embodiment includes preparing a substrate; Forming a transparent electrode layer on the substrate; Forming a first coating layer on the transparent electrode layer; Forming a plurality of transparent electrodes by patterning the transparent electrode layer; And forming a second coating layer between the transparent electrodes.

실시예에 따른 터치 패널은 투명 전극을 패터닝한 후, 투명 전극들 사이에 시인성 개선층인 코팅층을 형성하여 터치 패널의 전체적인 시인성을 개선할 수 있다.The touch panel according to the embodiment may improve the overall visibility of the touch panel by patterning the transparent electrode and then forming a coating layer as a visible improvement layer between the transparent electrodes.

즉, 실시예에 따른 터치 패널은 투명 전극들 사이에 절연층과 유사한 굴절률 및 두께를 가지는 코팅층을 형성함으로써, 패턴에 의해 형성되는 단차부를 메울 수 있으므로, 빛의 굴절에 영향을 주지 않으면서, 상기 패턴에 의해 저하되는 터치 패널의 시인성을 개선할 수 있으므로, 터치 패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.That is, since the touch panel according to the embodiment forms a coating layer having a refractive index and a thickness similar to that of the insulating layer between the transparent electrodes, it is possible to fill the step formed by the pattern, The visibility of the touch panel deteriorated by the pattern can be improved, so that the reliability of the touch panel can be improved.

또한, 실시예에 따른 터치 패널의 제조방법은 상술한 효과를 가지는 터치 패널을 제조할 수 있다. Further, the manufacturing method of the touch panel according to the embodiment can manufacture the touch panel having the above-mentioned effects.

도 1은 종래 터치 패널의 단면도를 도시한 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 터치 패널의 단면도를 도시한 도면이다.
도 3은 실시예에 따른 터치 패널의 일 평면도이다.
도 4는 실시예에 따른 터치 패널 제조방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 5 내지 도 9는 실시예에 따른 터치 패널 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
1 is a cross-sectional view of a conventional touch panel.
2 is a cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment.
3 is a plan view of the touch panel according to the embodiment.
4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.
5 to 9 are views for explaining a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under / under" Quot; includes all that is formed directly or through another layer. The criteria for top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 종래 터치 패널의 단면도이고, 도 2는 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이며, 도 3은 실시예에 따른 터피 패널의 일 평면도이다.Hereinafter, a touch panel according to an embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional touch panel, FIG. 2 is a cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 3 is a plan view of a touch panel according to an embodiment.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널은 기판(10), 투명 전극(20), 배선(30), 절연층(40), 코팅층(50) 및 접착층(60)을 포함한다.1 to 3, a touch panel according to an embodiment includes a substrate 10, a transparent electrode 20, a wiring 30, an insulating layer 40, a coating layer 50, and an adhesive layer 60 .

상기 기판(10)은 상기 기판(10) 상에 형성되는 상기 투명 전극(20), 상기 배선(30) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 may be formed of various materials capable of supporting the transparent electrodes 20 and the wirings 30 formed on the substrate 10. The substrate 10 may be a glass substrate or a plastic substrate, for example.

상기 투명 전극(20)은 상기 기판 상에 형성된다. 상기 투명 전극(20)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The transparent electrode 20 is formed on the substrate. The transparent electrode 20 may be formed in various shapes to detect whether or not an input device such as a finger is in contact.

일례로, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 투명 전극(20)은 제 1 전극(22)과 제 2 전극(24)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 전극(22) 및 상기 제 2 전극(24)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 센서부(22a, 24a)와, 이러한 센서부(22a, 24a)를 연결하는 연결부(22b, 24b)를 포함한다. 상기 제 1 전극(22)의 연결부(22b)는 상기 센서부(22a)를 제 1 방향(도면의 Y축 방향)으로 연결하고, 상기 제 2 전극(24)의 연결부는 상기 센서부(24A)를 제 2 방향(도면의 X축 방향)으로 연결한다.For example, as shown in FIG. 3, the transparent electrode 20 may include a first electrode 22 and a second electrode 24. The first electrode 22 and the second electrode 24 include sensor portions 22a and 24a for detecting whether an input device such as a finger is contacted and connection portions 22b and 22b for connecting the sensor portions 22a and 24a. 24b. The connection part 22b of the first electrode 22 connects the sensor part 22a in a first direction (Y axis direction in the drawing), and the connection part of the second electrode 24 connects the sensor part 24A, In the second direction (X-axis direction in the drawing).

상기 제 1 전극(22)의 상기 연결부(22b)와 상기 제 2 전극(24)의 상기 연결부(24b)가 서로 교차하는 부분에는 이들 사이에 절연층이 위치하여 상기 제 1 전극(22)과 상기 제 2 전극(24)의 전기적 단락을 방지할 수 있다. 이러한 절연층은 상기 연결부(22b, 24b)를 절연할 수 있는 투명 절연성 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 상기 절연층은 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물, 또는 아크릴 등의 수지 등으로 이루어질 수 있다.An insulating layer is located between the connection portion 22b of the first electrode 22 and the connection portion 24b of the second electrode 24 so that the first electrode 22, The electrical shorting of the second electrode 24 can be prevented. The insulating layer may be formed of a transparent insulating material that can insulate the connecting portions 22b and 24b. For example, the insulating layer may be formed of a metal oxide such as silicon oxide, or a resin such as acrylic.

실시예에서는 일례로, 상기 제 1 및 제 2 전극(22, 24)의 상기 센서부(22a, 24a)가 동일한 층에 형성되어 상기 센서부(22a, 24a)를 단일층으로 형성할 수 있다. 이에 의하여 투명 전도성 물질층의 사용을 최소화할 수 있고, 터치 패널(100)의 두께를 줄일 수 있다.For example, the sensor portions 22a and 24a of the first and second electrodes 22 and 24 may be formed on the same layer so that the sensor portions 22a and 24a may be formed as a single layer. Accordingly, the use of the transparent conductive material layer can be minimized, and the thickness of the touch panel 100 can be reduced.

이와 같은 터치 패널(100)에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다. 실시예에서는 투명 전극(20)이 정전 용량 방식의 터치 패널에 적용되는 구조를 가지는 것을 예시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 투명 전극(20)을 저항 방식의 터치 패널에 적용되는 구조로 형성할 수도 있다.When the input device such as a finger touches the touch panel 100, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device is contacted, and a portion where the difference occurs can be detected as the contact position. In the embodiment, the transparent electrode 20 is applied to the capacitive touch panel. However, the present invention is not limited thereto. Therefore, the transparent electrode 20 may be formed in a structure that is applied to a resistance-type touch panel.

이러한 투명 전극(20)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 특히, 상기 투명 전극(20)은 나노와이어(70)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 투명 전극(20)은 은 나노와이어(Ag nanowire)를 포함할 수 있다. 상기 투명 전극(20)이 나노와이어(70)를 포함함으로써, 기존의 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 대체할 수 있다. 나노와이어는 투과도 및 전도도 등 다양한 면에서 인듐 주석 산화물보다 뛰어난 특성을 가진 물질이다.The transparent electrode 20 may include a transparent conductive material so that electricity can flow without disturbing the transmission of light. In particular, the transparent electrode 20 may include a nanowire 70. In detail, the transparent electrode 20 may include silver nanowires. Since the transparent electrode 20 includes the nanowire 70, it can replace the conventional indium tin oxide (ITO). Nanowires are superior to indium tin oxide in various aspects such as transmittance and conductivity.

상기 투명 전극(20)은 다양한 방법으로 상기 기판(10) 상에 코팅될 수 있다. 일례로, 상기 투명 전극(20)은 딥 코팅법에 의해 상기 기판(10) 상에 코팅될 수 있다. 상기 딥 코팅은 코팅 방법의 한 종류이며, 피코팅재를 코팅용액 또는 슬러리에 담그어 피코팅재 표면에 전구체(precursor)층을 형성한 후 적당한 온도로 소성하여 도막을 얻는 방법을 말한다. The transparent electrode 20 may be coated on the substrate 10 in various ways. For example, the transparent electrode 20 may be coated on the substrate 10 by a dip coating method. The dip coating is a kind of coating method and refers to a method of obtaining a coating film by dipping a coating material in a coating solution or slurry to form a precursor layer on the surface of the coating material and then firing the coated material at a suitable temperature.

그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 투명 전극(20)은 스핀(spin) 코팅, 플로우(flow) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 슬럿 다이(slot die) 코팅 및 롤(roll) 코팅 등의 다양한 코팅 방법으로 상기 기판(10) 상에 코팅될 수 있다.However, the embodiment is not limited thereto, and the transparent electrode 20 may be formed by various methods such as spin coating, flow coating, spray coating, slot die coating and roll coating, Can be coated on the substrate 10 by a coating method.

이어서, 상기 배선(30)은 투명 전극(20)에 전기적으로 연결된다. 이러한 배선(30)은 상기 투명 전극(20)과 동일 평면 상에 위치할 수 있다. 즉, 상기 배선(30)은 상기 투명 전극(20)과 동일한 기판(10) 상에서 위치할 수 있다. 따라서, 터치 패널의 두께를 줄일 수 있다. Then, the wiring 30 is electrically connected to the transparent electrode 20. The wiring 30 may be located on the same plane as the transparent electrode 20. That is, the wiring 30 may be located on the same substrate 10 as the transparent electrode 20. Therefore, the thickness of the touch panel can be reduced.

상기 배선(30)은 상기 투명 전극(20)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 즉, 상기 배선(30)은 나노와이어를 포함할 수 있다. 상기 배선(30)은 상기 투명 전극(20)과 동시에 형성될 수 있다. The wiring 30 may include the same material as the transparent electrode 20. That is, the wires 30 may include nanowires. The wiring 30 may be formed simultaneously with the transparent electrode 20.

도면에는 도시하지 않았으나, 상기 배선(30)에 연결되는 인쇄 회로 기판을 더 포함할 수 있다. 인쇄 회로 기판으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.Although not shown in the figure, the printed circuit board may further include a printed circuit board connected to the wiring 30. As the printed circuit board, various types of printed circuit boards can be applied. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) or the like can be applied.

상기 제 1 코팅층(40)은 상기 투명 전극(20) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 1 코팅층은 절연 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 코팅층(40)은 알칼리 가용성 수지, 광산발생제, 광활성화합물, 아크릴화합물, 우레탄 화합물 및 폐놀계 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또는, 상기 제 1 코팅층은 상기 제 1 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The first coating layer 40 may be formed on the transparent electrode 20. The first coating layer may include an insulating material. For example, the first coating layer 40 may include at least one of an alkali-soluble resin, a photo-acid generator, a photoactive compound, an acrylic compound, a urethane compound, and a phenolic compound. Alternatively, the first coating layer may include at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin, and a UV curable resin.

상기 제 1 코팅층(40)은 상기 투명 전극 상에 배치되어, 상기 투명 전극의 산화를 방지할 수 있다.The first coating layer 40 may be disposed on the transparent electrode to prevent oxidation of the transparent electrode.

상기 제 2 코팅층은 상기 투명 전극들 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 유사한 물질을 포함하고, 유사한 두께를 가질 수 있다. 일례로, 상기 제 2 코팅층(50)은 알칼리 가용성 수지, 광산발생제, 광활성화합물, 아크릴화합물, 우레탄 화합물 및 폐놀계 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또는, 상기 제 1 코팅층은 상기 제 2 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The second coating layer may be disposed between the transparent electrodes. The second coating layer includes a material similar to the first coating layer and may have a similar thickness. For example, the second coating layer 50 may include at least one of an alkali-soluble resin, a photo-acid generator, a photoactive compound, an acrylic compound, a urethane compound, and a phenolic compound. Alternatively, the first coating layer may include at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin, and a UV curable resin.

상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 유사한 굴절률을 가질 수 있다. 일로, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 굴절률은 약 1.4 내지 약 1.5 일 수 있으며, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 굴절률은 서로 동일 또는 유사할 수 있다.The second coating layer may have a refractive index similar to that of the first coating layer. The refractive index of the first coating layer and the second coating layer may be about 1.4 to about 1.5, and the refractive indexes of the first coating layer and the second coating layer may be the same or similar to each other.

또한, 상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 유사한 두께를 가질 수 있다. 일례로, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 두께는 약 2㎛ 내지 약 10㎛ 일 수 있으며, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 두께는 서로 동일 또는 유사할 수 있다.In addition, the second coating layer may have a thickness similar to that of the first coating layer. For example, the thickness of the first coating layer and the second coating layer may be about 2 탆 to about 10 탆, and the thicknesses of the first coating layer and the second coating layer may be the same or similar to each other.

상기 제 2 코팅층은 상기 투명 전극들 사이에 배치되어 실시예에 따른 터치 패널의 시인성을 향상시킬 수 있다. 즉, 종래에는, 도 1에 도시되어 있듯이, 투명 전극들이 패터닝된 후, 상기 투명 전극과 상기 기판에는 일정한 단차부가 형성되었으며, 상기 단차부는 터치 패널의 시인성을 저하하는 원인이 되었다.The second coating layer is disposed between the transparent electrodes to improve the visibility of the touch panel according to the embodiment. That is, conventionally, as shown in FIG. 1, after the transparent electrodes are patterned, a certain stepped portion is formed on the transparent electrode and the substrate, and the stepped portion causes the visibility of the touch panel to deteriorate.

이에 따라, 실시예에 따른 터치 패널은 상기 투명 전극들 사이에 제 1 코팅층과 굴절률 및 물질이 유사한 물질을 배치하여 상기 단차부를 메움으로써, 터치 패널의 시인성을 개선할 수 있으므로, 터치 패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Accordingly, the touch panel according to the embodiment can improve the visibility of the touch panel by filling a material having a similar refractive index and material with the first coating layer between the transparent electrodes to fill the step, Can be improved.

상기 접착층(60)은 상기 투명 전극 상에 형성되고, 모듈(D)을 접착할 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층은 상기 투명 전극, 배선, 제 1 코팅층 및 제 2 코팅층을 덮으면서 배치된다.The adhesive layer 60 is formed on the transparent electrode, and the module D can be bonded. Specifically, the adhesive layer is disposed while covering the transparent electrode, the wiring, the first coating layer, and the second coating layer.

상기 접착층(60)은 접착기능을 할 수 있는 고분자 수지를 포함할 수 있다. 상기 고분자 수지는 아크릴계, 우레탄계 또는 에폭시계 수지 또는 이들의 혼합 수지를 포함할 수 있다
The adhesive layer 60 may include a polymer resin capable of performing an adhesive function. The polymer resin may include an acrylic type, a urethane type or an epoxy type resin or a mixed resin thereof

이하, 도 4 내지 도 9를 참조하여, 실시예에 따른 터치 패널 제조방법을 설명한다. 상기 터치 패널 제조방법에 대한 설명에서는, 앞서 설명한 터치 패널에 대한 설명과 동일 또는 유사한 부분에 대해서는 설명을 생략한다. 즉, 상기 터치 패널 제조방법에 대한 설명에서는, 앞서 설명한 터치 패널에 대한 설명과 본질적으로 결합된다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 9. FIG. In the description of the touch panel manufacturing method, the same or similar parts to those of the above-described touch panel will not be described. That is, in the description of the touch panel manufacturing method, it is essentially combined with the description of the touch panel described above.

도 4를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널 제조방법은, 기판을 준비하는 단계(ST10); 투명 전극을 형성하는 단계(ST20); 제 1 코팅층을 형성하는 단계(ST30); 투명 전극층을 패터닝하는 단계(ST40); 및 제 2 코팅층을 형성하는 단계(ST50)을 포함한다.Referring to FIG. 4, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment includes preparing a substrate (ST10); Forming a transparent electrode (ST20); Forming a first coating layer (ST30); Patterning the transparent electrode layer (ST40); And forming a second coating layer (ST50).

상기 기판을 준비하는 단계(ST10)에서는, 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 준비한다. 상기 기판은 유효 영역과 비유효 영역으로 구분될 수 있으며, 상기 비유효 영역에는 소정의 색을 가지는, 일례로 흑색을 가지는 물질을 도포할 수 있으며, 이에 의해 로고 등을 형성할 수 있다.In the step of preparing the substrate (ST10), a glass substrate or a plastic substrate is prepared. The substrate may be divided into a valid region and an ineffective region, and a material having a predetermined color, for example, black may be applied to the ineffective region, thereby forming a logo or the like.

이어서, 상기 투명 전극층을 형성하는 단계(ST20)에서는, 도 5에 도시되어 있듯이, 상기 기판(10) 상에 투명 전극(20)을 형성할 수 있다. 상기 투명 전극은 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 투명 전도성 물질은 금속 나노 와이어를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 상기 투명 전도성 물질은 구리, 알루미늄, 니켈, 주석, 아연, 금, 은 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 적어도 하나 포함할 수 있다.Next, in step ST20 of forming the transparent electrode layer, a transparent electrode 20 may be formed on the substrate 10, as shown in FIG. The transparent electrode may include a transparent conductive material. For example, the transparent conductive material may include metal nanowires. Preferably, the transparent conductive material may include at least one material selected from the group consisting of copper, aluminum, nickel, tin, zinc, gold, silver, and alloys thereof.

상기 투명 전도성 물질은 다양한 방법으로 상기 기판 상에 형성될 수 있다. 일례로, 상기 투명 전도성 물질은 딥 코팅법에 의해 상기 기판 상에 형성될 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 투명 전도성 물질은 스핀(spin) 코팅, 플로우(flow) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 슬럿 다이(slot die) 코팅 및 롤(roll) 코팅 등의 다양한 코팅 방법으로 상기 기판 상에 코팅될 수 있다.The transparent conductive material may be formed on the substrate by various methods. In one example, the transparent conductive material may be formed on the substrate by a dip coating method. However, the embodiment is not limited thereto, and the transparent conductive material may be formed by various coating methods such as spin coating, flow coating, spray coating, slot die coating and roll coating May be coated on the substrate.

이어서, 상기 제 1 코팅층을 형성하는 단계(ST30)에서는, 도 6에 도시되어 있듯이, 상기 투명 전극(20) 상에 제 1 코팅층(40)을 형성할 수 있다.6, the first coating layer 40 may be formed on the transparent electrode 20 in the step of forming the first coating layer ST30.

상기 제 1 코팅층(40)은 절연 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 코팅층(40)은 알칼리 가용성 수지, 광산발생제, 광활성화합물, 아크릴화합물, 우레탄 화합물 및 폐놀계 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또는 상기 제 1 코팅층은 이후에 설명할 상기 제 2 코팅층과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 코팅층(40)은 상기 투명 전극 상에 형성되어 상기 투명 전극의 산화 방지 및 절연 역할을 할 수 있다.The first coating layer 40 may include an insulating material. For example, the first coating layer 40 may include at least one of an alkali-soluble resin, a photo-acid generator, a photoactive compound, an acrylic compound, a urethane compound, and a phenolic compound. Or the first coating layer may include the same material as the second coating layer to be described later. The first coating layer 40 may be formed on the transparent electrode to prevent oxidation and insulation of the transparent electrode.

이어서, 상기 투명 전극층을 패터닝하는 단계(ST40)에서는, 도 7에 도시되어 있듯이, 상기 투명 전극층을 일정한 모양으로 패터닝할 수 있다. 상기 투명 전극층은 다양한 방법으로 패터닝될 수 있다. 일례로, 상기 투명 전극층은 포토리소그래피 공법에 의해 패터닝될 수 있다. 즉, 노광, 현상 및 에칭 공정에 의해, 상기 투명 전극층을 일정한 모양으로 패터닝할 수 있다. 이에 따라, 상기 투명 전극층은 다수 개의 투명 전극들을 형성할 수 있다.Next, in the step of patterning the transparent electrode layer (ST40), as shown in Fig. 7, the transparent electrode layer can be patterned in a predetermined shape. The transparent electrode layer can be patterned by various methods. For example, the transparent electrode layer may be patterned by photolithography. That is, the transparent electrode layer can be patterned in a predetermined shape by the exposure, development and etching processes. Accordingly, the transparent electrode layer may include a plurality of transparent electrodes.

이어서, 도 8에 도시되어 있듯이, 상기 기판(10)의 비유효 영역에 배선 전극(30)을 패터닝할 수 있다.8, the wiring electrode 30 can be patterned in the ineffective area of the substrate 10. In this case,

이어서, 상기 제 2 코팅층을 형성하는 단계(ST50)에서는, 도 9에 도시되어 있듯이, 상기 투명 전극층이 패터닝되어 형성되는 다수 개의 투명 전극들 사이에 제 2 코팅층(50)이 형성될 수 있다. 상기 제 2 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또는, 상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 2 코팅층은 상기 투명 전극들 상에 도포되어 상기 투명 전극들 사이를 메울 수 있다.Next, in the step of forming the second coating layer (ST50), as shown in FIG. 9, a second coating layer 50 may be formed between the plurality of transparent electrodes formed by patterning the transparent electrode layer. The second coating layer may include at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin and a UV curable resin. Alternatively, the second coating layer may include the same material as the first coating layer. The second coating layer may be applied on the transparent electrodes to fill spaces between the transparent electrodes.

상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 유사한 굴절률 및 두께를 가질 수 있다. 일례로, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층은 약 1.4 내지 약 1.5의 굴절률을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층은 약 2㎛ 내지 약 10㎛의 두께를 가질 수 있다. 즉, 상기 제 1 코팅층과 상기 제 2 코팅층은 서로 유사한 두께로 형성되고, 서로 동일 또는 유사한 물질을 포함할 수 있다.The second coating layer may have a refractive index and a thickness similar to those of the first coating layer. In one example, the first coating layer and the second coating layer may have a refractive index of about 1.4 to about 1.5. In addition, the first coating layer and the second coating layer may have a thickness of about 2 탆 to about 10 탆. That is, the first coating layer and the second coating layer are formed to have similar thicknesses, and may include the same or similar materials.

상기 제 2 코팅층은 상기 투명 전극들 사이에 배치되어 상기 투명 전극들과 상기 기판의 단차를 메우는 역할을 한다. 이에 따라, 상기 터치 패널의 시인성을 개선하는 역할을 한다. 즉, 상기 제 2 코팅층은 시인성 개선층일 수 있다.The second coating layer is disposed between the transparent electrodes to fill a gap between the transparent electrodes and the substrate. Thereby improving the visibility of the touch panel. That is, the second coating layer may be a visibility improving layer.

즉, 도 1에 도시되어 있듯이, 상기 투명 전극층을 패터닝함에 따라, 상기 기판과 상기 투명 전극들 사이에는 일정한 단차가 형성된다. 이러한 단차들은 상기 터치 패널의 시인성을 저하하는 원인이 된다. 이에 따라, 실시예에 따른 터치 패널 제조방법은, 상기 투명 전극들 사이에 형성되는 단차부에 제 2 코팅층을 도포하여 상기 단차를 제거하여 터치 패널의 시인성을 개선할 수 있다.That is, as shown in FIG. 1, as the transparent electrode layer is patterned, a certain step is formed between the substrate and the transparent electrodes. These steps cause the visibility of the touch panel to deteriorate. Accordingly, in the touch panel manufacturing method according to the embodiment, the second coating layer is applied to the stepped portion formed between the transparent electrodes to remove the stepped portion, thereby improving the visibility of the touch panel.

또한, 상기 제 2 코팅층은 상기 제 1 코팅층과 유사한 두께 및 굴절률을 가짐으로써, 투과되는 빛의 굴절에도 영향을 주지 않을 수 있다.In addition, the second coating layer may have a thickness and a refractive index similar to those of the first coating layer, thereby not affecting refraction of transmitted light.

이에 따라, 실시예에 따른 터치 패널 제조방법에 의해 제조되는 터치 패널은 전체적으로 시인성을 개선할 수 있으며, 신뢰성이 향상된 터치 패널을 제공할 수 있다.Accordingly, the touch panel manufactured by the touch panel manufacturing method according to the embodiment can improve the visibility as a whole and provide a touch panel with improved reliability.

이어서, 상기 투명 전극층 상에 접착층(60)을 형성하고 모듈(D)를 접착할 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층은 상기 투명 전극, 배선, 제 1 코팅층 및 제 2 코팅층을 덮으면서 배치된다. 또한, 상기 접착층(60)은 이 위에 위치하는 보호필름을 접착할 수 있다. Then, an adhesive layer 60 may be formed on the transparent electrode layer and the module D may be bonded. Specifically, the adhesive layer is disposed while covering the transparent electrode, the wiring, the first coating layer, and the second coating layer. Further, the adhesive layer 60 can adhere the protective film disposed thereon.

상기 접착층(60)은 접착기능을 할 수 있는 고분자 수지를 포함할 수 있다. 상기 고분자 수지는 아크릴계, 우레탄계 또는 에폭시계 수지 또는 이들의 혼합 수지를 포함할 수 있다
The adhesive layer 60 may include a polymer resin capable of performing an adhesive function. The polymer resin may include an acrylic type, a urethane type or an epoxy type resin or a mixed resin thereof

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified in other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (11)

기판;
상기 기판 상에 배치되고, 일정한 간격으로 패턴을 형성하는 투명 전극들;
상기 투명 전극들 상에 배치되는 제 1 코팅층;
상기 투명 전극들 사이에 배치되는 제 2 코팅층을 포함하는 터치 패널.
Board;
Transparent electrodes disposed on the substrate and forming a pattern at regular intervals;
A first coating layer disposed on the transparent electrodes;
And a second coating layer disposed between the transparent electrodes.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함하는 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the second coating layer comprises at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin, and a UV curable resin.
제 2항에 있어서,
상기 제 1 코팅층은 알칼리 가용성 수지, 광산발생제, 광활성화합물, 아크릴화합물, 우레탄 화합물 및 폐놀계 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 터치 패널.
3. The method of claim 2,
Wherein the first coating layer comprises at least one of an alkali-soluble resin, a photo-acid generator, a photoactive compound, an acrylic compound, a urethane compound, and a phenolic compound.
제 3항에 있어서,
상기 제 1 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 3,
Wherein the first coating layer comprises at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin, and a UV curable resin.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 굴절률은 1.4 내지 1.5인 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the first coating layer and the second coating layer have a refractive index of 1.4 to 1.5.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 두께는 2㎛ 내지 10㎛인 터치 패널.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the first coating layer and the second coating layer is 2 占 퐉 to 10 占 퐉.
기판을 준비하는 단계;
상기 기판 상에 투명 전극층을 형성하는 단계;
상기 투명 전극층 상에 제 1 코팅층을 형성하는 단계;
상기 투명 전극층을 패터닝하여 복수 개의 투명 전극들을 형성하는 단계; 및
상기 투명 전극들 사이에 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널 제조방법.
Preparing a substrate;
Forming a transparent electrode layer on the substrate;
Forming a first coating layer on the transparent electrode layer;
Forming a plurality of transparent electrodes by patterning the transparent electrode layer; And
And forming a second coating layer between the transparent electrodes.
제 7항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층은 동일한 물질을 포함하는 터치 패널 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the first coating layer and the second coating layer comprise the same material.
제 8항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층은 알칼리 가용성 수지, 광산발생제, 광활성화합물, 아크릴화합물, 우레탄 화합물 및 폐놀계 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 터치 패널 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the first coating layer and the second coating layer comprise at least one of an alkali-soluble resin, a photo-acid generator, a photoactive compound, an acrylic compound, a urethane compound, and a phenolic compound.
제 8항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층은 우레탄 수지, 페놀 수지, 실리콘 아크릴레이트 수지 및 UV 경화수지 중 적어도 하나를 포함하는 터치 패널 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the first coating layer and the second coating layer comprise at least one of a urethane resin, a phenol resin, a silicone acrylate resin and a UV curable resin.
제 7항에 있어서,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 굴절률은 1.4 내지 1.5이고,
상기 제 1 코팅층 및 상기 제 2 코팅층의 두께는 2㎛ 내지 10㎛인 터치 패널 제조방법.

8. The method of claim 7,
Wherein the refractive indexes of the first coating layer and the second coating layer are 1.4 to 1.5,
Wherein the thickness of the first coating layer and the second coating layer is 2 占 퐉 to 10 占 퐉.

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