KR20130124649A - Electrophoretic light shutter display device and method for driving the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 화상의 명암비 및 응답속도를 높일 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 제1 격벽에 의해 마련된 복수의 화소 영역에 대전입자 및 용매가 충진된 제1 TFT 어레이 기판; 제2 격벽에 의해 마련된 복수의 화소 영역에 대전입자 및 용매가 충진되고 상기 제1 TFT 어레이 기판 상부에 형성된 제2 TFT 어레이 기판; 상기 제1 TFT 어레이 기판과 상기 제2 TFT 어레이 기판 사이에 개재된 봉지 기판; 상기 제1 TFT 어레이 기판에 광을 조사하는 광원 및 상기 제1 TFT 어레이 기판, 상기 제2 TFT 어레이 기판 및 상기 광원을 구동시키는 구동 회로부를 포함한다.The present invention relates to an electrophoretic light shutter display device and a driving method thereof capable of increasing contrast ratio and response speed of an image.
An electrophoretic optical shutter display device according to an embodiment of the present invention comprises: a first TFT array substrate in which charged particles and a solvent are filled in a plurality of pixel areas provided by a first partition wall; A second TFT array substrate filled with charged particles and a solvent in a plurality of pixel regions provided by a second partition wall and formed on the first TFT array substrate; An encapsulation substrate interposed between the first TFT array substrate and the second TFT array substrate; And a light source for irradiating light to the first TFT array substrate, and a driving circuit unit for driving the first TFT array substrate, the second TFT array substrate, and the light source.
Description
본 발명은 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 화상의 명암비 및 응답속도를 높일 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrophoretic light shutter display device, and more particularly, to an electrophoretic light shutter display device and a driving method thereof capable of increasing contrast ratio and response speed of an image.
이동통신 단말기, 노트북 컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 디스플레이 장치(flat panel display device)에 대한 요구가 증대되고 있다.With the development of various portable electronic devices such as mobile communication terminals and notebook computers, there is an increasing demand for a flat panel display device that can be applied thereto.
평판 디스플레이 장치로는 액정 디스플레이 장치(LCD: liquid crystal display device), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP: plasma display panel), 전계 방출 디스플레이 장치(FED: field emission display device), 유기발광 다이오드 디스플레이 장치(OLED: organic light emitting diode display device), 전기영동 디스플레이 장치(EPD: electrophoretic display device) 및 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치(ELD: electrophoretic light shutter display device) 등이 개발되었다.The flat panel display device includes a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display device (FED), an organic light emitting diode display device (OLED) A light emitting diode display device (EPD), an electrophoretic display device (EPD) and an electrophoretic light shutter display device (ELD) have been developed.
평판 디스플레이 장치는 양산 기술의 발전, 구동수단의 용이성, 저전력 소비, 고화질 구현 및 대화면 구현의 장점이 있어 휴대용으로 기기에 적합하며 적용 분야가 지속적으로 확대되고 있다.The flat panel display device has the advantages of development of mass production technology, ease of driving means, low power consumption, high definition and large screen, and is suitable for portable devices, and its field of application is continuously expanding.
이러한, 평판 디스플레이 장치들 중에서 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치(ELD: electrophoretic light shutter display device)는 외부로부터 가해진 전계에 의해 착색된 대전입자가 이동하는 전기영동(Electrophoresis) 현상을 이용하여 백라이트로부터 입사된 광의 투과 및 차단을 제어함으로써 화상을 표시하는 장치를 말한다.Among such flat panel display devices, an electrophoretic light shutter display device (ELD) is a device that uses an electrophoresis phenomenon in which colored particles are moved by an electric field applied from the outside. Refers to an apparatus for displaying an image by controlling transmission and blocking.
여기서 전기영동 현상이란, 대전입자를 용매 속에 분산시킨 전기영동 분산액(e-ink)에 전계를 인가하는 경우에 대전입자가 쿨롱력에 의하여 용매 속을 이동하는 현상을 의미한다. The electrophoretic phenomenon herein refers to a phenomenon in which charged particles move in a solvent by a Coulomb force when an electric field is applied to an electrophoretic dispersion (e-ink) in which charged particles are dispersed in a solvent.
도 1은 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.1 is a view showing an electrophoretic light shutter display device according to the prior art.
도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 TFT 어레이 기판(10), 화소 전극(12), 봉지 기판(20), 공통 전극(22), 격벽(30), 대전입자(40), 용매(50), 광원 및 구동회로부(미도시)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the electrophoretic light shutter display apparatus according to the related art includes a
TFT 어레이 기판(10)에는 복수의 데이터 라인(미도시) 및 복수의 게이트 라인(미도시)이 형성되어 있고, 화소 전극(12)에 데이터 전압이 공급되는 것을 스위칭하기 위한 박막트랜지스터(TFT, 미도시)가 형성되어 있다.A plurality of data lines (not shown) and a plurality of gate lines (not shown) are formed in the
구동회로부는 박막트랜지스터를 구동시켜 화소 전극(12)에 데이터 전압을 공급하고, 공통 전극(22)에 공통 전압을 공급한다. 이때, 화소 전극(12)에는 -5V ~ +15V의 데이터 전압이 공급되고, 공통 전극(22)에는 -2 ~ +2V의 공통전압(Vcom)이 공급된다. 여기서, 화소 전극(12)은 소정 크기로 패터닝되어 화소 영역의 하부에 형성되고, 공통 전극(22)은 판 형상으로 화소 영역의 상부에 형성된다.The driving circuit unit drives the thin film transistor to supply a data voltage to the
박막트랜지스터를 경유하여 화소 전극(12)에 공급된 데이터 전압과 공통 전극(22)에 공급된 공통전압(Vcom) 사이의 형성된 전계에 의해 대전입자(40)가 용매(50) 내에서 이동하여 광원에서 조사된 광의 투과를 조절한다. 즉, 대전입자(40)는 광원에서 조사된 광을 차단하거나 광의 투과량을 조절하는 광 셔터로 기능한다.The
대전입자(40)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 경우에, 화소 전극(12)에 포지티브(+) 극성의 데이터 전압이 공급되면 대전입자(40)가 화소 영역의 하부에 형성된 화소 전극(12)의 주위로 이동하여 광원으로부터 조사된 광을 외부로 출사시킨다. 한편, 화소 전극(12)에 네거티브(-) 극성의 데이터 전압이 공급되면 대전입자(40)가 화소 영역의 상부에 형성된 공통 전극(22)으로 이동하여 광원으로부터 조사된 광을 차단시킨다.In the case where the
이와 같이, 화소 전극(12)에 공급되는 데이터 전압의 조절을 통해 대전입자(40)를 화소 영역 내에서 이동시켜 화상의 휘도 및 명암비를 조절하게 된다.As such, the
상술한, 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 표시품질은 회도, 응답속도(RT: response time) 및 명암비(CR: contrast ratio)에 큰 영향을 받게 된다.The display quality of the electrophoretic light shutter display apparatus according to the related art described above is greatly influenced by the gray degree, response time (RT) and contrast ratio (CR).
종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 응답속도는 구동 전압의 크기, 화소 전극들 간의 간격 및 셀 갭(cell gap) 등에 의해 영향을 받게 되는데, 이중에서 셀 갭이 응답속도에 가장 큰 영향을 준다.The response speed of the electrophoretic optical shutter display device according to the prior art is affected by the magnitude of the driving voltage, the gap between the pixel electrodes, and the cell gap, of which the cell gap has the greatest influence on the response speed. give.
화상의 휘도 및 명암비는 광원의 밝기 및 화소 영역 내에 충진되는 대전입자(40)의 양에 의해 영향을 받게 되는데, 대전입자(40)의 양에 명암비가 크게 달라지게 된다.The brightness and contrast ratio of the image are affected by the brightness of the light source and the amount of
도 2는 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 문제점을 나타내는 도면이다. 도 2에서는 셀 갭에 따른 응답속도(RT) 및 셀 갭에 따른 명암비(CR)의 관계를 나타내고 있다.2 is a view showing a problem of the electrophoretic light shutter display device according to the prior art. 2 illustrates the relationship between the response speed (RT) according to the cell gap and the contrast ratio (CR) according to the cell gap.
도 2를 참조하면, 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 응답속도와 명암비는 서로 트레이드 오프(trade off) 관계이다. 응답속도를 높이기 위해서는 셀 갭을 줄여야 하지만, 셀 갭을 줄이면 화소 영역 내에 충진되는 대전입자(40)의 양이 줄어들어 명암비가 낮아지게 되는 문제점이 있다.Referring to FIG. 2, the response speed and the contrast ratio of the electrophoretic light shutter display apparatus are trade off relationship with each other. In order to increase the response speed, the cell gap needs to be reduced. However, reducing the cell gap reduces the amount of
한편, 명암비를 높이기 위해서는 화소 영역 내에 충진되는 대전입자(40)의 양을 증가시켜야 하지만, 이로 인해 화소 영역의 셀갭이 증가하게 되어 응답속도가 느려지는 문제점이 있다. 즉, 명암비의 저감 없이 응답속도를 높이는데 한계가 있고, 반대로 응답속도의 저감 없이 명암비를 높이는데 한계가 있다.On the other hand, in order to increase the contrast ratio, the amount of
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 화상의 명암비(contrast ratio)를 높여 표시품질을 향상시킬 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.An object of the present invention is to provide an electrophoretic light shutter display device and a driving method thereof, which can improve display quality by increasing a contrast ratio of an image.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 화상의 응답속도를 높여 표시품질을 향상시킬 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.Disclosure of Invention The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an electrophoretic optical shutter display device and a driving method thereof capable of improving display quality by increasing an image response speed.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 구동 신뢰성이 향상된 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide an electrophoretic optical shutter display device having improved driving reliability and a driving method thereof.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 다양한 컬러로 높은 품질의 화상을 구현할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an electrophoretic optical shutter display device capable of realizing a high quality image in various colors and a driving method thereof.
위에서 언급된 본 발명의 기술적 과제 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Other features and advantages of the invention will be set forth in the description which follows, or may be obvious to those skilled in the art from the description and the claims.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 제1 격벽에 의해 마련된 복수의 화소 영역에 대전입자 및 용매가 충진된 제1 TFT 어레이 기판; 제2 격벽에 의해 마련된 복수의 화소 영역에 대전입자 및 용매가 충진되고 상기 제1 TFT 어레이 기판 상부에 형성된 제2 TFT 어레이 기판; 상기 제1 TFT 어레이 기판과 상기 제2 TFT 어레이 기판 사이에 개재된 봉지 기판; 상기 제1 TFT 어레이 기판에 광을 조사하는 광원 및 상기 제1 TFT 어레이 기판과, 상기 제2 TFT 어레이 기판과, 상기 광원을 구동시키는 구동 회로부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided an electrophoretic optical shutter display device including: a first TFT array substrate filled with charged particles and a solvent in a plurality of pixel areas provided by a first partition wall; A second TFT array substrate filled with charged particles and a solvent in a plurality of pixel regions provided by a second partition wall and formed on the first TFT array substrate; An encapsulation substrate interposed between the first TFT array substrate and the second TFT array substrate; And a light source for irradiating light to the first TFT array substrate, the first TFT array substrate, the second TFT array substrate, and a driving circuit portion for driving the light source.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법은 하부에 제1 공통 전극이 형성되고 상부에 제2 공통 전극이 형성된 봉지 기판과, 상기 봉지 기판을 사이에 두고 합착된 제1 TFT 어레이 기판 및 제2 TFT 어레이 기판을 포함하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법에 있어서, 상기 제1 공통 전극 및 상기 제2 공통 전극에 공통 전압을 공급하는 단계; 상기 제1 TFT 어레이 기판에 형성된 제1 화소 전극 및 상기 제2 TFT 어레이 기판에 형성된 제2 화소 전극에 데이터 전압을 공급하는 단계; 및 상기 데이터 전압을 조절하여 제1 TFT 어레이 기판 및 제2 TFT 어레이 기판에 충진된 대전입자를 상기 공통 전극 또는 상기 제1 화소 전극 및 상기 제2 화소 전극으로 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 대전입자로 광원에서 조사된 광의 투과를 조절하여 화상을 표시하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of driving an electrophoretic optical shutter display apparatus, wherein an encapsulation substrate having a first common electrode formed thereon and a second common electrode formed thereon is disposed between the encapsulation substrate and the encapsulation substrate. A method of driving an electrophoretic optical shutter display device comprising a first TFT array substrate and a second TFT array substrate bonded to each other, the method comprising: supplying a common voltage to the first common electrode and the second common electrode; Supplying a data voltage to a first pixel electrode formed on the first TFT array substrate and a second pixel electrode formed on the second TFT array substrate; And adjusting the data voltage to move the charged particles filled in the first TFT array substrate and the second TFT array substrate to the common electrode or the first pixel electrode and the second pixel electrode. It characterized in that the image is displayed by adjusting the transmission of the light irradiated from the light source.
본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법은 화상의 명암비(contrast ratio)를 높여 표시품질을 향상시킬 수 있다.The electrophoretic light shutter display apparatus and its driving method according to an embodiment of the present invention can improve the display quality by increasing the contrast ratio of the image.
본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법은 응답속도를 높여 표시품질을 향상시킬 수 있다.The driving method of the electrophoretic optical shutter display apparatus according to the embodiment of the present invention can improve the display quality by increasing the response speed.
실시 예에 따른 본 발명은 구동 신뢰성이 향상된 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공할 수 있다.The present invention according to the embodiment can provide an electrophoretic optical shutter display device and a driving method thereof with improved driving reliability.
실시 예에 따른 본 발명은 다양한 컬러로 높은 품질의 화상을 구현할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제공할 수 있다.The present invention according to the embodiment can provide an electrophoretic light shutter display device and a driving method thereof capable of realizing a high quality image in various colors.
이 밖에도, 본 발명의 실시 예들을 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 이점들이 새롭게 파악될 수도 있을 것이다.In addition, other features and advantages of the present invention may be newly understood through embodiments of the present invention.
도 1은 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.
도 2는 종래 기술에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 문제점을 나타내는 도면.
도 3 및 도 4는 흑백 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.
도 5 및 도 6은 컬러 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 컬러 화상을 표시할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 흑백 화상을 표시할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.
도 9 내지 도 13은 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법을 나타내는 도면.
도 14 내지 도 16은 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 제조방법을 개략적으로 나타내는 도면.
도 17은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면.1 is a view showing an electrophoretic light shutter display device according to the prior art.
2 is a view showing a problem of the electrophoretic light shutter display device according to the prior art.
3 and 4 illustrate an electrophoretic light shutter display device according to an embodiment of the present invention capable of displaying a black and white image.
5 and 6 illustrate an electrophoretic light shutter display device according to an embodiment of the present invention capable of displaying color images.
7 is a view showing an electrophoretic light shutter display device capable of displaying a color image according to another embodiment of the present invention.
8 is a view showing an electrophoretic light shutter display device capable of displaying a black and white image according to another embodiment of the present invention.
9 to 13 are views illustrating a method of driving an electrophoretic optical shutter display device according to an embodiment of the present invention.
14 to 16 schematically illustrate a method of manufacturing an electrophoretic light shutter display device according to an embodiment of the present invention.
17 is a view showing an electrophoretic light shutter display device according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부되는 도면들을 참고하여 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치 및 그 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an electrophoretic optical shutter display device and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시 예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물 '상에 또는 상부에' 및 '아래에 또는 하부에' 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing embodiments of the present invention, when a structure is described as being formed 'on or on top' and 'under or under' another structure, these descriptions may be used as well as when these structures are in contact with each other. It should be interpreted as including even if a third structure is interposed between them.
본 발명은 대전입자와 용매를 포함하는 전기영동 분산액이 하부 기판에 내재화된 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치와 이의 구동방법을 제안한다. 본 발명에서 전기영동 분산액을 디스플레이 솔벤트(display solvent)로 정의할 수 있다.The present invention proposes an electrophoretic optical shutter display device in which an electrophoretic dispersion including charged particles and a solvent is embedded in a lower substrate and a driving method thereof. In the present invention, the electrophoretic dispersion may be defined as a display solvent.
본 발명의 기술적 사상은 흑백 화상 또는 컬러 화상의 디스플레이 여부와 관계없이 모든 타입의 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치에 적용될 수 있다.The technical idea of the present invention can be applied to any type of electrophoretic light shutter display device regardless of whether a monochrome image or a color image is displayed.
도 3 및 도 4는 흑백 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.3 and 4 illustrate an electrophoretic light shutter display device according to an exemplary embodiment of the present invention capable of displaying a black and white image.
도 3을 참조하면, 흑백 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판), 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 및 상기 두 기판(100, 200) 사이에 개재된 봉지 기판(300)을 포함한다.Referring to FIG. 3, an electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention capable of displaying a black and white image may include a first TFT array substrate 100 (lower substrate) and a second TFT array substrate 200 (upper substrate). And an
제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)은 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판), 복수의 제1 화소 전극(120) 및 격벽(140)을 포함하고, 격벽(140)에 의해 마련된 공간에 전기영동에 의해 화상을 표시하기 위한 전기영동 분산액 즉, 디스플레이 솔벤트(display solvent)가 충진된다. 이때, 복수의 제1 화소 전극(120)을 덮도록 제1 보호층(130)이 형성되어 전기영동 분산액이 제1 화소 전극(120)과 직접 접촉되지 않도록 한다.The first TFT array substrate 100 (lower substrate) includes a first base substrate 110 (lower base substrate), a plurality of
도면에 도시되어 있지 않지만, 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판)에는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(미도시)이 교차하도록 형성되어 있다. 복수의 게이트 라인 및 복수의 데이터 라인의 교차에 의해 복수의 화소가 정의되며, 복수의 화소에 박막트랜지스터(TFT)가 형성되어 있다.Although not illustrated, the first base substrate 110 (lower base substrate) is formed so that a plurality of gate lines (not shown) and a plurality of data lines (not shown) intersect. A plurality of pixels is defined by the intersection of the plurality of gate lines and the plurality of data lines, and a thin film transistor TFT is formed in the plurality of pixels.
박막트랜지스터의 게이트는 게이트 라인과 접속되고, 소스 전극은 데이터 라인과 접속되며, 드레인은 복수의 제1 화소 전극(120)과 전기적으로 접속된다. 박막트랜지스터를 통해 각각의 화소의 온-오프(on-off)가 스위칭되고, 데이터 라인에 인가된 데이터 전압이 제1 화소 전극(120)에 공급된다.The gate of the thin film transistor is connected to the gate line, the source electrode is connected to the data line, and the drain is electrically connected to the plurality of
광원에서 조사된 광을 투과시키기 위해, 복수의 제1 화소 전극(120)은 소정 간격을 두고 이격되도록 패터닝되어 형성된다.In order to transmit the light emitted from the light source, the plurality of
화상을 표시하기 위해서, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)은 투명하여야 함으로, 하부 베이스 기판(110)은 투명 재질의 유리 또는 투명한 플라스틱의 재질로 형성될 수 있다.In order to display an image, since the first TFT array substrate 100 (lower substrate) must be transparent, the
격벽(140)은 전기영동 분산액의 물성과 일치되도록 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질로 형성되어, 제조과정에서 전기영동 분산액의 충진이 원활이 이루어질 수 있도록 한다.The
격벽(140)은 일정 개수의 제1 화소 전극(120)을 둘러싸도록 형성되어, 전기영동 분산액이 충진되는 공간을 정의한다. 격벽(140)은 10㎛ ~ 100㎛의 높이 및 5㎛ ~ 30㎛의 폭을 가지도록 형성된다.The
제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판)에 형성된 격벽(140)에 의해 가로 및 세로 길이가 50㎛ ~ 300㎛이고, 높이가 10㎛ ~ 100㎛인 화소 영역 즉, 전기영동 분산액의 충진되는 충진 공간이 마련된다. 격벽(140)에 의해 마련된 화소 영역에 전기영동 분산액이 충진된다.Filled filling of a pixel region, that is, an electrophoretic dispersion, having a horizontal and vertical length of 50 μm to 300 μm and a height of 10 μm to 100 μm by the
전기영동 분산액은 복수의 대전입자(160)와 용매(150)로 구성된다.The electrophoretic dispersion is composed of a plurality of charged
복수의 대전입자(160)는 포지티브(+) 극성 또는 네거티브(-) 극성으로 대전될 수 있으며, 본 발명에서는 복수의 대전입자(160)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 것을 일 예로 한다.The plurality of charged
전기영동 광 셔터 디스플레이 장치가 흑백 화상을 표시하는 경우에는 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 대전입자(160)가 블랙(black) 컬러로 착색된다. 이때, 블랙 컬러의 대전입자는 카본 블랙(carbon black) 물질로 형성될 수 있다.When the electrophoretic light shutter display device displays a black and white image, as shown in FIG. 3, the plurality of charged
한편, 복수의 대전입자(160)가 화이트 컬러로 착색될 수도 있으며, 이때에는 이산화 티타늄(TiO2: titanium oxide) 물질로 대전입자가 형성될 수 있다.Meanwhile, the plurality of charged
용매(150)는 대전입자(160)가 전기영동에 의해 이동될 수 있도록 10cP ~ 100KcP의 점도를 가지는 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질이 적용될 수 있다.The solvent 150 may be a nonpolar organic material or a nonpolar inorganic material having a viscosity of 10 cP to 100 KcP so that the charged
일 예로서, 용매(150)로는 할로겐 솔벤트(halogenated solvents), 포화 탄화수소(saturated hydrocarbons), 실리콘 오일(silicone oils), 저 분자량 할로겐을 포함하는 폴리머(low molecular weight halogen-containing polymers), 에폭사이드(epoxides), 비닐 에테르(vinyl ethers), 비닐 에스테르(vinyl ester), 방향족 탄화수소(aromatic hydrocarbon), 톨루엔(toluene), 나프탈렌(naphthalene), 액상 파라핀(paraffinic liquids) 또는 폴리 클로로트리플루오로에틸렌 폴리머(poly chlorotrifluoroethylene polymers) 물질이 사용될 수 있다.For example, the solvent 150 may include halogenated solvents, saturated hydrocarbons, silicone oils, low molecular weight halogen-containing polymers, and epoxides. epoxides, vinyl ethers, vinyl esters, aromatic hydrocarbons, toluene, toluene, naphthalene, liquid paraffinic liquids or polychlorotrifluoroethylene polymers (poly chlorotrifluoroethylene polymers) materials may be used.
이어서, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)은 제2 베이스 기판(210, 상부 베이스 기판), 복수의 제2 화소 전극(220) 및 격벽(240)을 포함하고, 격벽(240)에 의해 마련된 공간에 전기영동에 의해 화상을 표시하기 위한 전기영동 분산액 즉, 디스플레이 솔벤트가 충진된다. 이때, 복수의 제2 화소 전극(220)의 덮도록 제2 보호층(230)이 형성되어 전기영동 분산액이 제2 화소 전극(220)과 직접 접촉되지 않도록 한다.Subsequently, the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) includes the second base substrate 210 (the upper base substrate), the plurality of
도면에 도시되어 있지 않지만, 제2 베이스 기판(210, 하부 베이스 기판)에도 복수의 게이트 라인, 복수의 데이터 라인 및 박막트랜지스터(TFT)가 형성되어 있다. 박막트랜지스터를 통해 각각의 화소의 온-오프(on-off)가 스위칭되고, 데이터 라인에 인가된 데이터 전압이 제2 화소 전극(220)에 공급된다.Although not shown in the drawing, a plurality of gate lines, a plurality of data lines, and a thin film transistor TFT are also formed in the second base substrate 210 (the lower base substrate). On-off of each pixel is switched through the thin film transistor, and a data voltage applied to the data line is supplied to the
광원에서 조사된 광을 투과시키기 위해, 복수의 제2 화소 전극(220)은 소정 간격을 두고 이격되도록 패터닝되어 형성된다.In order to transmit the light irradiated from the light source, the plurality of
격벽(240)은 전기영동 분산액의 물성과 일치되도록 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질로 형성되어, 제조과정에서 전기영동 분산액의 충진이 원활이 이루어질 수 있도록 한다.The
격벽(240)은 일정 개수의 제2 화소 전극(220)을 둘러싸도록 형성되어, 전기영동 분산액이 충진되는 공간을 정의한다. 격벽(240)은 10㎛ ~ 100㎛의 높이 및 5㎛ ~ 30㎛의 폭을 가지도록 형성된다.The
제2 베이스 기판(210, 상부 베이스 기판)에 형성된 격벽(240)에 의해 가로 및 세로 길이가 50㎛ ~ 300㎛이고, 높이가 10㎛ ~ 100㎛인 화소 영역 즉, 전기영동 분산액의 충진되는 충진 공간이 마련된다. 격벽(240)에 의해 마련된 화소 영역에 전기영동 분산액이 충진된다.Filling of the pixel region, i.e., electrophoretic dispersion, having a width of 50 μm to 300 μm and a height of 10 μm to 100 μm by the
전기영동 분산액은 복수의 대전입자(260)와 용매(250)로 구성된다.The electrophoretic dispersion is composed of a plurality of charged
전기영동 광 셔터 디스플레이 장치가 흑백 화상을 표시하는 경우에는 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 대전입자(260)가 블랙(black) 컬러로 착색된다. 이때, 블랙 컬러의 대전입자는 카본 블랙(carbon black) 물질로 형성될 수 있다.When the electrophoretic light shutter display device displays a black and white image, as shown in FIG. 3, the plurality of charged
용매(250)는 대전입자(260)가 전기영동에 의해 이동될 수 있도록 10cP ~ 100KcP의 점도를 가지는 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질이 적용될 수 있다.The solvent 250 may be a nonpolar organic material or a nonpolar inorganic material having a viscosity of 10 cP to 100 KcP so that the charged
일 예로서, 용매(250)로는 할로겐 솔벤트(halogenated solvents), 포화 탄화수소(saturated hydrocarbons), 실리콘 오일(silicone oils), 저 분자량 할로겐을 포함하는 폴리머(low molecular weight halogen-containing polymers), 에폭사이드(epoxides), 비닐 에테르(vinyl ethers), 비닐 에스테르(vinyl ester), 방향족 탄화수소(aromatic hydrocarbon), 톨루엔(toluene), 나프탈렌(naphthalene), 액상 파라핀(paraffinic liquids) 또는 폴리 클로로트리플루오로에틸렌 폴리머(poly chlorotrifluoroethylene polymers) 물질이 사용될 수 있다.As an example, the solvent 250 may include halogenated solvents, saturated hydrocarbons, silicone oils, low molecular weight halogen-containing polymers, and epoxides. epoxides, vinyl ethers, vinyl esters, aromatic hydrocarbons, toluene, toluene, naphthalene, liquid paraffinic liquids or polychlorotrifluoroethylene polymers (poly chlorotrifluoroethylene polymers) materials may be used.
이어서, 봉지 기판(300)은 투명 재질의 유리 기판 또는 투명한 플라스틱의 재질로 형성될 수 있으며, 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 식각하여 그 두께를 얇게 형성하여 사용한다.Subsequently, the
봉지 기판(300)의 상면 및 하면에는 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 산화 인듐 아연(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 전도성 물질로 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)이 형성된다.The upper and lower surfaces of the
광원에서 조사되는 광의 차단시키기 위해, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 판(plate) 형상으로 전체 화소 영역에 대응되도록 형성된다.In order to block light irradiated from the light source, the first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) are formed in a plate shape to correspond to the entire pixel area.
이러한, 봉지 기판(300)을 이용하여 화소 영역에 전기영동 분산액이 충진된 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 봉지 및 합착시킨다.The
본 발명의 다른 예로서, 봉지 기판(300)을 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 산화 인듐 아연(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 전도성 물질로 형성하거나, 무기막(SiNx, SiO2, a-Si:H 등)을 진공 증착하여 봉지 기판(300)을 형성할 수 있다.As another example of the present invention, the
여기서, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)과 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 전기적으로 연결될 수 있다.Here, the first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) may be electrically connected.
한편, 도 4를 참조하면, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)의 봉지 및 합착이 원활히 이루어지도록 하기 위해, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 상에 제1 실링 레이어(312)가 형성될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 4, in order to facilitate sealing and bonding of the first TFT array substrate 100 (the lower substrate), the
제1 실링 레이어(312)는 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 위에 투명한 실런트(sealant)로 형성되며, 제1 실링 레이어(312)를 통해 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 내재화된 전기영동 분산액을 실링할 수 있다.The
또한, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 봉지 및 합착이 원활히 이루어지도록 하기 위해, 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극) 상에 제2 실링 레이어(322)가 형성될 수 있다.In addition, the
제2 실링 레이어(322)는 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극) 위에 투명한 실런트(sealant)로 형성되며, 제2 실링 레이어(322)를 이용하여 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 내재화된 전기영동 분산액을 실링할 수 있다.The
여기서, 제1 실링 레이어(312) 및 제2 실링 레이어(322)는 전기영동 분산액을 밀봉하는 용도뿐만 아니라, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)과 봉지 기판(300)을 합착시키는 기능도 가진다.Here, the
제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 형성된 복수의 데이터 라인 및 복수의 게이트 라인은 구동 회로부와 연결된다. 또한, 봉지 기판(300)의 하면과 상면에 형성된 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)과 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 구동 회로부에 연결된다. 이때, 구동 회로부는 FPC(flexible printed circuit)로 형성될 수 있다.The plurality of data lines and the plurality of gate lines formed on the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) are connected to the driving circuit unit. In addition, the first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) formed on the lower surface and the upper surface of the
상술한 구성을 포함하는 흑백 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 화소 별로 픽셀 전극(120)에 공급되는 데이터 전압을 조절함으로써, 광원으로부터 입사된 광의 투과 및 차단을 제어하여 흑백 화상을 표시할 수 있다.In the electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention capable of displaying a black and white image including the above-described configuration, the transmission and reception of light incident from a light source by adjusting the data voltage supplied to the
본 발명은 대전입자(160)가 블랙 및 화이트 컬러로 착색되어 흑백 화상을 표시하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 물론이고, 컬러 화상을 표시하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치도 제공한다.The present invention provides an electrophoretic light shutter display device in which charged
도 5 및 도 6은 컬러 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.5 and 6 are views illustrating an electrophoretic light shutter display device according to an embodiment of the present invention capable of displaying a color image.
도 5 및 도 6을 참조하여 컬러 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 설명함에 있어서, 상기 도 3 및 도 4를 참조한 설명과 동일한 내용에 대한 상세한 설명은 생략할 수 있다.In the description of the electrophoretic optical shutter display device according to an embodiment of the present invention capable of displaying a color image with reference to FIGS. 5 and 6, a detailed description of the same contents as those described with reference to FIGS. 3 and 4 will be given. Can be omitted.
도 5 및 도 6을 참조하면, 컬러 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판), 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판), 상기 두 기판(100, 200) 사이에 개재된 봉지 기판(300) 및 상기 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 상부에 형성된 복수의 컬러필터(400)를 포함한다.5 and 6, an electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention capable of displaying a color image may include a first
제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)은 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판), 복수의 제1 화소 전극(120) 및 격벽(140)을 포함한다.The first TFT array substrate 100 (lower substrate) includes a first base substrate 110 (lower base substrate), a plurality of
제1 베이스 기판(110) 상에 형성된 격벽(140)에 의해 가로 및 세로 길이가 50㎛ ~ 300㎛이고, 높이가 10㎛ ~ 100㎛인 화소 영역 즉, 전기영동 분산액의 충진되는 충진 공간이 마련된다.The
격벽(140)에 의해 마련된 화소 영역에 전기영동 분산액 즉, 디스플레이 솔벤트가 충진된다. 이때, 복수의 제1 화소 전극(120)을 덮도록 제1 보호층(130)이 형성되어 전기영동 분산액이 제1 화소 전극(120)과 직접 접촉되지 않도록 한다.An electrophoretic dispersion, that is, a display solvent, is filled in the pixel region provided by the
격벽(140)은 전기영동 분산액의 물성과 일치되도록 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질로 형성되어, 제조과정에서 전기영동 분산액의 충진이 원활이 이루어질 수 있도록 한다.The
이어서, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)은 제2 베이스 기판(210, 상부 베이스 기판), 복수의 제2 화소 전극(220) 및 격벽(240)을 포함한다.Subsequently, the second TFT array substrate 200 (upper substrate) includes a second base substrate 210 (upper base substrate), a plurality of
제2 베이스 기판(210, 상부 베이스 기판)에 형성된 격벽(240)에 의해 가로 및 세로 길이가 50㎛ ~ 300㎛이고, 높이가 10㎛ ~ 100㎛인 화소 영역 즉, 전기영동 분산액의 충진되는 충진 공간이 마련된다.Filling of the pixel region, i.e., electrophoretic dispersion, having a width of 50 μm to 300 μm and a height of 10 μm to 100 μm by the
격벽(240)에 의해 마련된 화소 영역에 전기영동 분산액 즉, 디스플레이 솔벤트가 충진된다. 이때, 복수의 제2 화소 전극(220)을 덮도록 제2 보호층(230)이 형성되어 전기영동 분산액이 제2 화소 전극(220)과 직접 접촉되지 않도록 한다.An electrophoretic dispersion, that is, a display solvent, is filled in the pixel region provided by the
격벽(240)은 전기영동 분산액의 물성과 일치되도록 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질로 형성되어, 제조과정에서 전기영동 분산액의 충진이 원활이 이루어질 수 있도록 한다.The
전기영동 분산액은 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 마련된 화소 영역 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 마련된 호소 영역에 충진되며, 복수의 대전입자(160, 260)와 용매(150, 250)로 구성된다.The electrophoretic dispersion is filled in the pixel region provided on the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the appeal region provided on the second TFT array substrate 200 (the upper substrate), and the plurality of charged
복수의 대전입자(160, 260)는 포지티브(+) 극성 또는 네거티브(-) 극성으로 대전될 수 있으며, 본 발명에서는 복수의 대전입자(160, 260)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 것을 일 예로 한다.The plurality of charged
전기영동 광 셔터 디스플레이 장치가 흑백 화상을 표시하는 경우에는 복수의 대전입자(160, 260)가 블랙(black) 컬러로 착색된다. 이때, 블랙 컬러의 대전입자는 카본 블랙(carbon black) 물질로 형성될 수 있다.When the electrophoretic light shutter display device displays a black and white image, the plurality of charged
용매(150, 260)는 대전입자(160, 260)가 전기영동에 의해 이동될 수 있도록 10cP ~ 100KcP의 점도를 가지는 무극성의 유기물질 또는 무극성의 무기물질이 적용될 수 있다. 용매(150, 260)로 적용될 수 있는 물질 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한 실시 예와 동일하다.The solvent 150 or 260 may be a nonpolar organic material or a nonpolar inorganic material having a viscosity of 10 cP to 100 KcP so that the charged
봉지 기판(300)은 투명 재질의 유리 기판 또는 투명한 플라스틱의 재질로 형성될 수 있다. 봉지 기판(300)의 상면 및 하면에는 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 산화 인듐 아연(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 전도성 물질로 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)이 형성된다.The
이러한, 봉지 기판(300)을 이용하여 화소 영역에 전기영동 분산액이 충진된 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 봉지 및 합착시킨다.The
본 발명의 다른 예로서, 봉지 기판(300)을 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 산화 인듐 아연(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 전도성 물질로 형성하거나, 무기막(SiNx, SiO2, a-Si:H 등)을 진공 증착하여 봉지 기판(300)을 형성할 수 있다. 이때, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)과 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 전기적으로 연결될 수 있다.As another example of the present invention, the
한편, 도 6을 참조하면, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)의 봉지 및 합착이 원활히 이루어지도록 하기 위해, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 상에 제1 실링 레이어(312)가 형성될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 6, in order to facilitate sealing and bonding of the first TFT array substrate 100 (lower substrate), the
또한, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 봉지 및 합착이 원활히 이루어지도록 하기 위해, 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극) 상에 제2 실링 레이어(322)가 형성될 수 있다.In addition, the
제1 실링 레이어(312) 및 제2 실링 레이어(322)는 투명한 실런트로 형성되며, 제1 실링 레이어(312) 및 제2 실링 레이어(322)를 이용하여 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 내재화된 전기영동 분산액을 실링할 수 있다.The
컬러 화상을 표시하기 위해, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 상부에 형성된 복수의 컬러필터(400)는 레드(red) 컬러필터, 그린(green) 컬러필터 및 블루(blue) 컬러필터로 구성된다.In order to display a color image, the plurality of
제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 상부에 형성된 복수의 컬러필터(400)를 기준으로, 레드 화소, 그린 화소 및 블루 화소가 모여 컬러 화상을 표시하기 위한 하나의 단위 화소를 구성하게 된다.Based on the plurality of
여기서, 레드 컬러필터, 그린 컬러필터 및 블루 컬러필터 사이에는 빛 샘을 방지하고, 색광의 혼합을 방지하기 위해 차광층(410)이 형성된다. 이때, 차광층(410)은 블랙매트릭스(BM)가 적용될 수 있다.Here, a
상술한 구성을 포함하는 컬러 화상을 표시할 수 있는 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 레드 화소, 그린 화소 및 블루 화소 별로 픽셀 전극(120)에 공급되는 데이터 전압을 조절함으로써, 광원으로부터 입사된 광의 투과 및 차단을 제어하여 컬러 화상을 표시할 수 있다.In the electrophoretic optical shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention capable of displaying a color image including the above-described configuration, the data voltage supplied to the
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 컬러 화상을 표시할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.7 is a diagram illustrating an electrophoretic light shutter display apparatus capable of displaying a color image according to another exemplary embodiment.
도 7에서는 컬러 화상을 표시하기 위해, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진되는 용매(150, 250)가 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러로 착색되어 있다. 도 7에서는 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러로 착색된 용매(150, 250) 중에서 일부만을 도시하고 있다.In FIG. 7, in order to display a color image, the
광원에서 조사된 광이 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 충진된 용매(150)와, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진된 용매(250)를 경유하면서 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러의 색광으로 변화되어 외부로 출사되도록 한다. 레드 화소, 그린 화소 및 블루 화소의 광 투과 및 차단을 조절하여 컬러 화상을 표시할 수 있다.While the light emitted from the light source passes through the solvent 150 filled in the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the solvent 250 filled in the second TFT array substrate 200 (the upper substrate), The color is changed to green and blue color light to be emitted to the outside. The light transmission and blocking of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel may be adjusted to display a color image.
도 3 내지 도 7을 참조한 설명에서는 대전입자(160, 260)가 블랙 컬러 또는 화이트 컬러로 착색된 것으로 설명하였다. 그러나, 본 발명의 또 다른 예에서 대전입자(160, 260)는 도 8에 도시된 바와 같이, 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러로 착색될 수 있다. 또한, 도면에 도시하지 않았지만, 대전입자(160, 260)는 옐로우(yellow), 시안(cyan) 또는 마젠타(magenta) 컬러로 착색될 수도 있다.In the description with reference to FIGS. 3 to 7, the charged
도 3 내지 도 8에 도시된 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 셀 갭을 줄일 수 있다. 이를 통해, 대전입자(160, 260)가 전기영동에 의해 이동하는 거리를 감소시켜 화상 디스플레이의 응답속도를 높일 수 있다.The electrophoretic optical shutter display apparatus according to the exemplary embodiments of the present invention illustrated in FIGS. 3 to 8 may reduce the cell gap between the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate). Can be. Through this, the distance that the charged
또한, 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 봉지 기판(300)을 사이에 두고 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 합착하고, 대전입자(160, 260)를 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진하여 화상의 명암비를 높일 수 있다.In addition, the electrophoretic light shutter display apparatus according to the embodiments of the present invention may be bonded to the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) with the
또한, 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 종래 기술 대비 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 셀 갭을 줄일 수 있어, 대전입자(160, 260)의 전기영동 구동에 필요한 구동전압을 줄일 수 있다.In addition, the electrophoretic optical shutter display device according to the embodiments of the present invention can reduce the cell gap of the first TFT array substrate 100 (lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (upper substrate) compared to the prior art, The driving voltage required for the electrophoretic driving of the charged
도 9 내지 도 13은 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법을 나타내는 도면이다.9 to 13 are views illustrating a method of driving an electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는, 광원에서 조사된 광을 차단시키고자 하는 경우, 대전입자(160, 260)가 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)으로 이동되도록 공급되는 데이터 전압 및 제2 화소 전극(220, 상부 화소 전극)에 공급되는 데이터 전압을 조절한다.In the electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, when the light emitted from the light source is to be blocked, the charged
한편, 광원에서 조사된 광을 투과시키고자 하는 경우, 대전입자(160, 260)가 제1 화소 전극(120, 하부 화소 전극) 및 제2 화소 전극(220, 상부 화소 전극)으로 이동되도록 공급되는 데이터 전압을 조절한다.On the other hand, to transmit the light irradiated from the light source, the charged
대전입자(160, 260)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 경우, 포지티브(+) 극성의 데이터 전압을 공급하여 광원에서 조사된 광의 투과량을 증가시킬 수 있다.When the charged
한편, 네거티브(-) 극성의 데이터 전압을 공급하여 광원에서 조사된 광의 투과량을 감소시킬 수 있다.On the other hand, it is possible to reduce the amount of light transmitted from the light source by supplying a data voltage of negative (-) polarity.
도 9를 참조하면, 대전입자(160, 260)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 경우에, 제1 및 제2 공통 전극(310, 320)에 인가되는 공통 전압(Vcom)을 소정 값으로 일정하게 유지하고, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 인가되는 데이터 전압 값을 일정 범위 내에서 변화시켜(일 예로서, -15V ~ +15V) 화상의 계조를 변화시킬 수 있다. 이때, 화상이 256 계조 범위로 표시되는 경우, 0계조(0gray)의 블랙 이미지로부터 255계조(255gray)의 화이트 이미지까지 화상을 변화시킬 수 있다.Referring to FIG. 9, when the charged
도 10 및 도 11을 참조하면, 대전입자(160, 260)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 경우에, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 포지티브(+) 극성의 데이터 전압을 공급하여 화소를 온(pixel on)시킬 수 있고, 반대로 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 네거티브(-) 극성의 데이터 전압을 공급하여 화소를 오프(pixel off)시킬 수 있다.Referring to FIGS. 10 and 11, when the charged
화소가 온(on)되면, 광원으로부터 입사된 빛이 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판), 봉지 기판(300) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 투과하여 외부로 출사되게 된다. 한편, 화소가 오프(off)되면, 광원으로부터 입사된 빛이 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 충진된 대전입자(160) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진된 대전입자(260)에 의해 차단되어 광이 외부로 출사되지 않는다.When the pixel is turned on, light incident from the light source passes through the first TFT array substrate 100 (lower substrate), the
구체적으로, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 포지티브(+) 극성 일 예로서, +15V의 데이터 전압이 공급되면 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 충진된 대전입자(160)가 화소 영역의 하부에 형성된 제1 화소 전극(120)의 주위로 이동하게 된다. 아울러, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진된 대전입자(260)가 화소 영역의 상부에 형성된 제2 화소 전극(220)의 주위로 이동하게 된다.Specifically, when the data voltage of + 15V is applied to the
이와 같이, 대전입자(160, 260)가 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220) 주위로 이동하게 되면, 화소가 오픈(open)되어 광원으로부터 조사된 광이 외부로 출사되어 화이트 이미지가 표시되게 된다.As such, when the charged
도 11에 도시된 바와 같이, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 상부에 컬러필터(400)가 형성되어 있으면, 광이 컬러필터(400)를 투과하면서 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러의 색광으로 변화되어 컬러 화상을 표시할 수 있다.As shown in FIG. 11, when the
본 발명의 다른 예로서, 컬러필터(400)를 대체하여 도 7에 도시된 바와 같이, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진되는 용매(150, 250)가 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러로 착색될 수 있다.As another example of the present invention, a solvent filled in the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) as shown in FIG. 7 in place of the
이러한 경우, 광원에서 조사된 광이 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 충진된 용매(150)와, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진된 용매(250)를 경유하면서 레드 컬러, 그린 컬러 및 블루 컬러의 색광으로 변화되어 외부로 출사되어 컬러 화상을 표시할 수 있다.In this case, the light irradiated from the light source passes through the solvent 150 filled in the first TFT array substrate 100 (lower substrate) and the solvent 250 filled in the second TFT array substrate 200 (upper substrate). The color light of the red, green, and blue colors may be changed and emitted to the outside to display a color image.
한편, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 네거티브 극성 일 예로서, -15V의 데이터 전압이 공급되면 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 충진된 대전입자(160)가 화소 영역의 상부에 형성된 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)으로 이동하게 된다. 아울러, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 충진된 대전입자(260)가 화소 영역의 하부에 형성된 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)으로 이동하게 된다.Meanwhile, as an example of negative polarity, when the data voltage of −15 V is supplied to the
이와 같이, 대전입자(160, 260)가 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)으로 이동하게 되면, 광원으로부터 조사된 광이 대전입자(160, 260)에 의해 차단되어 블랙 이미지가 표시되게 된다.As such, when the charged
이어서, 도 12 및 도 13을 참조하면, 화이트 이미지 또는 블랙 이미지 이외에 임의의 휘도를 가지는 그레이 화상(gray image)를 표시하고자 하는 경우, 제1 및 제2 공통 전극(310, 320)에 인가되는 공통 전압(Vcom)을 소정 값으로 일정하게 유지한다. 그리고, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 소정 값의 데이터 전압을 공급하여 임의의 그레이 화상을 표시할 수 있다.Next, referring to FIGS. 12 and 13, when it is desired to display a gray image having an arbitrary brightness in addition to the white image or the black image, the common applied to the first and second
여기서, 블랙 이미지를 표시하기 위한 제1 데이터 전압(일 예로서, -15V)보다 높고, 화이트 이미지를 표시하기 위한 제2 데이터 전압(일 예로서, +15V)보다 낮은 제3 데이터 전압을 공급하여 그레이 화상을 표시할 수 있다.Here, a third data voltage higher than a first data voltage (for example, -15V) for displaying a black image and lower than a second data voltage (for example, + 15V) for displaying a white image is supplied. Gray images can be displayed.
일 예로서, -15V 초과 ~ +15V 미만의 범위 내에서 임의의 전압 값을 가지는 데이터 전압을 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급하여 대전입자(160, 260)의 이동을 조절할 수 있다. 이를 통해, 도 9에 도시된 바와 같이, 블랙 이미지(0gray)보다는 밝고 화이트 이미지(255gray) 보다는 어두운 흑백 및 컬러의 그레이 화상을 표시할 수 있다.As an example, a data voltage having an arbitrary voltage value within a range of greater than −15 V and less than +15 V may be supplied to the
도 9에서는 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급되는 데이터 전압이 3V 단위로 조절된 예를 도시하고 있으나, 이는 본 발명의 여러 실시 예들 중에서 하나를 나타낸 것이다.FIG. 9 illustrates an example in which the data voltages supplied to the
화상의 휘도를 미세하게 조절하고자 하는 경우, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급되는 데이터 전압을 1V 단위로 세분화 시키거나, 또는 1V 이하의 전압으로 더욱 세분화시킬 수도 있다.In order to finely adjust the brightness of the image, the data voltage supplied to the
다음 화면으로 이미지를 전환시키고자 하는 경우, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 리프레쉬 시그널(refresh signal) 즉, 리셋 데이터 전압을 공급하여 이전 화상을 소거시킨다. 이후, 다음 화상의 데이터 전압을 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급할 수 있다.When the image is switched to the next screen, a refresh signal, that is, a reset data voltage is supplied to the
여기서, 전기영동 현상을 이용하여 화상을 표시하는 경우 대전입자의 쌍안정성의 특성으로 인해 이전 화면의 잔상이 남아 다음 화면에 영향을 줄 수 있다. 따라서, 이전 화면의 잔상을 소거시키기 위해, 리프레쉬 시그널을 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급한다.Here, when displaying an image using the electrophoresis phenomenon, the afterimage of the previous screen may remain due to the bistable characteristics of the charged particles, which may affect the next screen. Therefore, in order to erase the afterimage of the previous screen, the refresh signal is supplied to the
상술한 바와 같이, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 형성된 제1 화소 전극(120) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 형성된 제2 화소 전극(220)에 인가되는 데이터 전압 값을 일정 범위 내에서 조절하여 대전입자(160, 260)를 화소 영역 내에서 이동시킬 수 있다. 이와 같이, 화소 영역 내에서 대전입자(160, 260)의 이동을 조절하여 흑백 및 컬러 화상의 휘도와 명암비를 조절할 수 있다.As described above, data applied to the
상술한 설명에서는 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)에 공급되는 공통 전압(Vcom)을 일정한 값으로 유지시키고, 제1 화소 전극(120) 및 제2 화소 전극(220)에 공급되는 데이터 전압을 조절하여 대전입자(160, 260)의 전기영동 이동을 조절하여 화상을 표시하는 것으로 설명하다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 데이터 전압뿐만 아니라, 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)에 공급되는 공통 전압(Vcom)도 변화시켜 화상을 표시할 수도 있다.In the above description, the common voltage Vcom supplied to the first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) is maintained at a constant value, and the
도 14 내지 도 16은 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 제조방법을 개략적으로 나타내는 도면이다. 이하, 상술한 본 발명의 실시 예들 중에서, 흑백 화상을 표시할 수 있는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 제조방법을 일 예로서 설명한다.14 to 16 are schematic diagrams illustrating a method of manufacturing an electrophoretic light shutter display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. Hereinafter, among the above-described embodiments of the present invention, a manufacturing method of an electrophoretic light shutter display device capable of displaying a black and white image will be described as an example.
도 14(A)를 참조하면, 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판) 상에 구리, 알루미늄, ITO 또는 IZO와 같은 도전성 물질을 도포하여 도전성 레이어를 형성한다.Referring to FIG. 14A, a conductive layer such as copper, aluminum, ITO, or IZO is coated on the first base substrate 110 (lower base substrate) to form a conductive layer.
이후, 도전성 레이어 상에 포토레지스트(PR)를 도포하고, 포토레지스트를 마스크로 이용한 포토리쏘그래피(Photo lithography) 공정 및 에칭 공정을 수행하여 도전성 레이어를 패터닝한다. 도전성 레이어(122)가 패터닝되어 복수의 화소 영역 각각에 구리, 알루미늄, ITO 또는 IZO의 물질로 복수의 제1 화소 전극(120)이 형성된다. 한편, 복수의 제1 화소 전극(120)은 상술한 구리, 알루미늄, ITO 또는 IZO의 물질에 니켈 또는 금 등이 더 적층되어 형성될 수도 있다.Thereafter, photoresist (PR) is coated on the conductive layer, and a photolithography process and an etching process using the photoresist as a mask are performed to pattern the conductive layer. The conductive layer 122 is patterned to form a plurality of
제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판)은 투명 재질의 유리기판, 유연성(flexibility)을 가지는 플라스틱 기판 또는 금속 기판이 적용될 수 있다.The first base substrate 110 (lower base substrate) may be a glass substrate made of a transparent material, a plastic substrate having a flexibility, or a metal substrate.
도면에 도시되지 않았지만, 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판)에는 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인이 교차하도록 형성되어 복수의 화소를 정의한다.Although not illustrated, the first base substrate 110 (lower base substrate) is formed so that a plurality of gate lines and a plurality of data lines intersect to define a plurality of pixels.
게이트 라인 및 데이터 라인은 비저항(Resistivity)이 낮은 은(Ag), 알루미늄(Al), 또는 합금(Alloy)으로 이루어진 단일막으로 형성될 수 있다. 한편, 게이트 라인 및 데이터 라인은 전기적 특성이 우수한 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 또는 탄탈륨(Ta)으로 이루어진 막을 더 포함하는 다층막으로 형성될 수도 있다.The gate line and the data line may be formed of a single layer made of silver (Ag), aluminum (Al), or alloy (Alloy) having a low resistivity. The gate line and the data line may be formed of a multilayer film further including a film made of chromium (Cr), titanium (Ti), or tantalum (Ta) having excellent electrical characteristics.
박막트랜지스터의 게이트는 게이트 라인과 접속되고, 소스는 데이터 라인과 접속되며, 드레인은 복수의 제1 화소 전극(120)과 전기적으로 접속된다. 박막트랜지스터를 통해 화소의 온-오프(on-off)를 스위칭된다. 게이트 라인을 통해 스캔 펄스가 박막트랜지스터의 게이트에 인가되면 박막트랜지스터가 온(on)되고, 데이터 라인에 인가된 데이터 전압이 복수의 제1 화소 전극(120)에 공급되게 된다.The gate of the thin film transistor is connected to the gate line, the source is connected to the data line, and the drain is electrically connected to the plurality of
복수의 제1 화소 전극(120)을 덮도록 제1 보호층(130)을 형성한다. 제1 보호층(130)은 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiO2)으로 형성될 수 있으며, 후술되는 제조공정에서 화소 영역 내에 충진되는 전기영동 분산액이 제1 화소 전극(120)과 직접 접촉하는 것을 방지한다.The
이어서, 복수의 제1 화소 전극(120)이 형성된 제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판) 상에 유기물질을 도포한 후, 패터닝하여 일정 개수의 제1 화소 전극(120)을 둘러싸도록 격벽(140)을 형성한다.Subsequently, an organic material is coated on the first base substrate 110 (the lower base substrate) on which the plurality of
여기서, 격벽(140)은 상술한 포토리쏘그래피 방식뿐만 아니라, 임프린팅(imprinting) 또는 몰드 프린팅(Mold Printing) 방식을 이용하여 형성될 수 있다.Here, the
격벽(140)을 통해 전기영동 분산액이 충진되는 화소 영역(충진 셀)이 정의된다. 격벽(140)은 10㎛ ~ 100㎛의 높이 및 5㎛ ~ 30㎛의 폭을 가지도록 형성된다.A pixel region (filling cell) in which the electrophoretic dispersion is filled through the
제1 베이스 기판(110, 하부 베이스 기판)에 형성된 격벽(140)에 의해 가로 및 세로 길이가 50㎛ ~ 300㎛이고, 높이가 10㎛ ~ 100㎛인 화소 영역 즉, 전기영동 분산액의 충진되는 충진 공간이 마련된다.Filled filling of a pixel region, that is, an electrophoretic dispersion, having a horizontal and vertical length of 50 μm to 300 μm and a height of 10 μm to 100 μm by the
격벽(140)은 후속 제조 공정을 통해 화소 영역에 충진되는 전기영동 분산액과 접하게 된다. 따라서, 전기영동 분산액의 충진이 원활이 이루어질 수 있도록 상기 격벽(140)은 전기영동 분산액의 물성과 일치되도록 무극성의 유기물질로 형성한다. 한편, 본 발명의 다른 실시 예로서, 상기 격벽(140)을 무극성의 무기물질로 형성할 수도 있다.The
상술한, 제1 TFT 어레이 기판의 조제방법과 동일한 공정을 이용하여 제2 TFT 어레이 기판의 제2 베이스 기판(210)에 복수의 제2 화소 전극(220), 제2 보호층(230) 및 격벽(240)을 형성한다.The plurality of
이어서, 도 14(B)를 참조하면, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판) 중 하나에 전기영동 분산액을 충진한다. 이때, 전기영동 분산액은 격벽(140)에 의해 마련된 화소 영역 내에 충진된다.Subsequently, referring to FIG. 14B, an electrophoretic dispersion is filled in one of the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate). At this time, the electrophoretic dispersion is filled in the pixel region provided by the
이하, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)에 전기영동 분산액을 충진하고, 이후, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 전기영동 분산액을 충진하는 것을 실시 예로서 설명한다.Hereinafter, the electrophoretic dispersion is filled in the first TFT array substrate 100 (the lower substrate), and then the electrophoretic dispersion is filled in the second TFT array substrate 200 (the upper substrate).
구체적으로, 격벽(140)에 의해 정의된 화소 영역 내에 포지티브(+) 또는 네거티브(-) 극성으로 대전된 대전입자(160)와 용매(150)로 구성된 전기영동 분산액을 충진시킨다.In detail, an electrophoretic dispersion composed of the charged
여기서, 화소 영역을 오픈 시키는 개구부가 형성된 마스크(미도시)를 격벽(140) 상부에 얼라인 시킨다. 이때, 마스크의 두께는 20㎛ ~ 40㎛이고, 개구부의 홀 사이즈(hole size)는 30㎛ ~ 60㎛로 형성될 수 있다.Here, a mask (not shown) having an opening for opening the pixel area is aligned on the
이후, 스퀴지 바(squeeze bar)를 이용한 스크린 프린팅(screen printing) 방식으로 대전입자(160)와 용매(150)로 구성된 전기영동 분산액을 전체 화소 영역에 충진시킨다.Subsequently, the electrophoretic dispersion consisting of the charged
마스크는 니켈(nickel)을 재료로 한 메탈 마스크, 격벽(140)과 동일 물질의 유기 마스크 또는 무기 마스크가 이용될 수 있다. 한편, 메쉬 마스크가 이용될 수도 있다.The mask may be a metal mask made of nickel, an organic mask made of the same material as the
복수의 대전입자(160)는 블랙(black) 컬러로 착색된다. 이때, 블랙 컬러의 대전입자는 카본 블랙(carbon black) 물질로 형성될 수 있다.The plurality of charged
전기영동 분산액의 충진 공정은 5~50[mm/sec]의 스퀴지 속도 및 0.1~30[Kgf/㎠] 스퀴지 압력으로 이루어질 수 있다.Filling process of the electrophoretic dispersion may be made of a squeegee speed of 5 ~ 50 [mm / sec] and 0.1 ~ 30 [Kgf / ㎠] squeegee pressure.
용매(150)는 10cP ~ 100kcP)의 점도를 가지며, 무극성의 유기물 또는 무극성을 무기물질이 사용될 수 있다.The solvent 150 has a viscosity of 10 cP to 100 kcP, and nonpolar organic material or nonpolar inorganic material may be used.
일 예로서, 용매(150)는 할로겐 솔벤트(halogenated solvents), 포화 탄화수소(saturated hydrocarbons), 실리콘 오일(silicone oils), 저 분자량 할로겐을 포함하는 폴리머(low molecular weight halogen-containing polymers), 에폭사이드(epoxides), 비닐 에테르(vinyl ethers), 비닐 에스테르(vinyl ester), 방향족 탄화수소(aromatic hydrocarbon), 톨루엔(toluene), 나프탈렌(naphthalene), 액상 파라핀(paraffinic liquids) 또는 폴리 클로로트리플루오로에틸렌 폴리머(poly chlorotrifluoroethylene polymers) 물질이 사용될 수 있다.As an example, the solvent 150 may include halogenated solvents, saturated hydrocarbons, silicone oils, low molecular weight halogen-containing polymers, and epoxides. epoxides, vinyl ethers, vinyl esters, aromatic hydrocarbons, toluene, toluene, naphthalene, liquid paraffinic or polychlorotrifluoroethylene polymers (poly chlorotrifluoroethylene polymers) materials may be used.
한편, 전기영동 분산액 충진 공정은 상기 스크린 프린팅 방식 이외에도 다이 코팅(Die coating) 방식, 캐스팅(Casting) 방식, 바 코팅(Bar Coating) 방식, 슬릿 코팅(Slit Coating) 방식, 디스펜스(Dispense) 방식, 스퀴징(squeezing) 방식, 방식 또는 잉크젯 프린팅(Inkjet printing) 방식을 이용할 수도 있다.On the other hand, the electrophoretic dispersion filling process is not only the screen printing method but also die coating method, casting method, bar coating method, slit coating method, dispensing method, A squeezing method, a method, or an inkjet printing method may also be used.
이어서, 도 14(C)를 참조하면, 봉지 기판(300)과 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)을 합착하여 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)을 봉지한다.Subsequently, referring to FIG. 14C, the
봉지 기판(300)의 하부에는 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)의 제1 화소 전극(120)과 대응되어 대전입자(150)에 전계를 인가하기 위한 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)이 형성되어 있다. 또한, 봉지 기판(300)의 상부에는 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 제2 화소 전극(220)과 대응되어 대전입자(250)에 전계를 인가하기 위한 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)이 형성되어 있다.The lower part of the
제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극) 및 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 산화 인듐 주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 산화 인듐 아연(IZO: Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 전도성 물질로 형성된다. 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)과 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)은 전기적으로 연결될 수 있다.The first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) are transparent conductive materials such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). Is formed. The first common electrode 310 (lower common electrode) and the second common electrode 320 (upper common electrode) may be electrically connected.
봉지 기판(300)은 투명 재질의 유리 기판 또는 투명한 플라스틱의 재질로 형성될 수 있으며, 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 식각하여 그 두께를 얇게 형성할 수 있다.The
이어서, 도 15(A)를 참조하면, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 화소 영역 내에 전기영동 분산액을 충진한다. 이때, 전기영동 분산액은 대전입자(260)와 용매(250)로 구성되며, 격벽(140)에 의해 마련된 화소 영역 내에 충진된다. 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 전기영동 분산액을 충진하는 방법은 상술한 도 14(B)에 따른 제조 공정과 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Subsequently, referring to FIG. 15A, an electrophoretic dispersion is filled in the pixel region of the second TFT array substrate 200 (the upper substrate). At this time, the electrophoretic dispersion is composed of the charged
이어서, 도 15(B)를 참조하면, 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 전기영동 분산액을 충진시킨 후, 이전 제조 공정에서 합착된 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 봉지 기판(300)을 뒤집어 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)과 합착한다.Subsequently, referring to FIG. 15B, the electrophoretic dispersion is filled in the second TFT array substrate 200 (the upper substrate), and then encapsulated with the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) bonded in the previous manufacturing process. The
이를 통해, 봉지 기판(300)을 이용하여 화소 영역에 전기영동 분산액이 충진된 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 봉지 및 합착시킨다.Through this, the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) filled with the electrophoretic dispersion in the pixel region are encapsulated and bonded using the
봉지 기판(300)과 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 합착은 일정 압력을 가하는 가압 공정을 통해 이루어질 수 있다. 또한, 가압 공정과 함께 일정 온도를 가하는 어닐링 공정을 수행하여 봉지 기판(300)과 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)을 합착할 수도 있다.The bonding of the
여기서, 봉지 기판(300)은 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판) 및 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)의 제조 공정과 별도로 이루어지며, 선행 제조공정을 통해 미리 마련될 수 있다. Here, the
이어서, 도 16을 참조하면, 제1 TFT 어레이 기판(100, 하부 기판)과 제2 TFT 어레이 기판(200, 상부 기판)에 형성된 복수의 데이터 라인 및 복수의 게이트 라인을 구동 회로부(500)와 연결한다. 또한, 봉지 기판(300)의 하면과 상면에 형성된 제1 공통 전극(310, 하부 공통 전극)과 제2 공통 전극(320, 상부 공통 전극)을 구동 회로부(500)와 연결한다. 이때, 구동 회로부(500)는 FPC(flexible printed circuit)로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 16, a plurality of data lines and a plurality of gate lines formed on the first TFT array substrate 100 (the lower substrate) and the second TFT array substrate 200 (the upper substrate) are connected to the
상술한 제조 방법을 통해 본 발명의 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 제조할 수 있다. 상술한 본 발명의 실시 예들에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법은 기존의 액정 표시장치의 제조 공정에 이용되는 제조 인프라(infra)를 적용할 수 있는 장점이 있다.It is possible to manufacture the electrophoretic light shutter display device according to an embodiment of the present invention through the above-described manufacturing method. The driving method of the electrophoretic optical shutter display apparatus according to the embodiments of the present invention described above has an advantage that a manufacturing infrastructure (infra) used in the manufacturing process of the existing liquid crystal display device can be applied.
도 17은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.17 is a diagram illustrating an electrophoretic light shutter display device according to another embodiment of the present invention.
도 17을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치는 하부 기판(600), 상부 기판(700) 및 TFT 어레이 기판(800)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 17, an electrophoretic light shutter display apparatus according to another exemplary embodiment may include a
하부 기판(600)은 제1 베이스 기판(610), 제1 공통 전극(620), 격벽(640), 용매(650) 및 대전입자(660)로 구성된다.The
하부 기판(700)은 제2 베이스 기판(710), 제2 공통 전극(720), 격벽(740), 용매(750) 및 대전입자(760)로 구성된다.The
TFT 어레이 기판(800)은 베이스 기판(810)의 하부에 복수의 제1 화소 전극(820)이 형성되어 있고, 제1 화소 전극(820)을 덮도록 제1 보호층(830)이 형성된다. 그리고, 베이스 기판(810)의 상부에 복수의 제2 화소 전극(840)이 형성되어 있고, 제2 화소 전극(840)을 덮도록 제2 보호층(850)이 형성된다.In the
도 17에 도시된 바와 같이, 디바이스의 중앙부에 제1 화소 전극(820)과 제2 화소 전극(840)이 형성되고, 제1 공통 전극(610)은 하측에 형성되며, 제2 공통 전극(720)은 상측에 형성된다. 이때, TFT 어레이 기판(800)이 봉지 기판으로 기능한다.As illustrated in FIG. 17, a
대전입자(660, 670)가 네거티브(-) 극성으로 대전된 경우, 제1 화소 전극(820) 및 제2 화소 전극(840)에 포지티브(+)의 데이터 전압이 공급되면 대전입자(660, 670)가 제1 화소 전극(820) 및 제2 화소 전극(840) 주위로 이동하여 광원에서 입사된 광을 투과시킨다.When the charged
한편, 제1 화소 전극(820) 및 제2 화소 전극(840)에 네거티브(-)의 데이터 전압이 공급되면 대전입자(660, 670)가 제1 공통 전극(620) 및 제2 공통 전극(720)으로 이동하여 광원에서 입사된 광을 차단시킨다.Meanwhile, when a negative (-) data voltage is supplied to the
또한, 제1 화소 전극(820) 및 제2 화소 전극(840)에 공급되는 데이터 전압을 조절하여, 화소 영역 내에서 대전입자(660, 670)의 이동을 제어할 수 있다. 이를 통해, 화이트 이미지, 블랙 이미지 및 소정 그레이의 이미지를 표시할 수 있다.In addition, the data voltages supplied to the
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.Those skilled in the art to which the present invention pertains will understand that the above-described present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features.
그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.
100: 제1 TFT 어레이 기판 110: 제1 베이스 기판
120: 제1 픽셀 전극 130: 제1 보호층
140, 240: 격벽 150, 250: 용매
160, 260: 대전입자 200: 상부 기판
210: 제2 베이스 기판 220: 제2 픽셀 전극
230: 제2 보호층 300: 봉지 기판
310: 제1 공통 전극 312: 제1 실링 레이어
320: 제2 공통 전극 322: 제2 실링 레이어
400: 컬러필터 410: 차광층
500: 구동 회로부 600: 제1 TFT 어레이 기판
610: 제1 베이스 기판 620: 제1 공통 전극
640, 740: 격벽 650, 750, 용매
660, 760: 대전입자 800: 봉지 기판
810: 베이스 기판 820: 제1 픽셀 전극
830: 제1 보호층 840: 제2 픽셀 전극
850: 제2 보호층100: first TFT array substrate 110: first base substrate
120: first pixel electrode 130: first protective layer
140, 240:
160 and 260: charged particles 200: upper substrate
210: second base substrate 220: second pixel electrode
230: second protective layer 300: sealing substrate
310: first common electrode 312: first sealing layer
320: second common electrode 322: second sealing layer
400: color filter 410: light shielding layer
500: drive circuit portion 600: first TFT array substrate
610: first base substrate 620: first common electrode
640, 740:
660, 760: charged particles 800: encapsulation substrate
810: base substrate 820: first pixel electrode
830: First protective layer 840: Second pixel electrode
850: second protective layer
Claims (11)
제2 격벽에 의해 마련된 복수의 화소 영역에 대전입자 및 용매가 충진되고 상기 제1 TFT 어레이 기판 상부에 형성된 제2 TFT 어레이 기판;
상기 제1 TFT 어레이 기판과 상기 제2 TFT 어레이 기판 사이에 개재된 봉지 기판;
상기 제1 TFT 어레이 기판에 광을 조사하는 광원 및
상기 제1 TFT 어레이 기판과 상기 제2 TFT 어레이 기판과 상기 광원을 구동시키는 구동 회로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.A first TFT array substrate in which charged particles and a solvent are filled in a plurality of pixel regions provided by the first partition wall;
A second TFT array substrate filled with charged particles and a solvent in a plurality of pixel regions provided by a second partition wall and formed on the first TFT array substrate;
An encapsulation substrate interposed between the first TFT array substrate and the second TFT array substrate;
A light source for irradiating light to the first TFT array substrate;
And a driving circuit unit for driving the first TFT array substrate, the second TFT array substrate, and the light source.
상기 제1 TFT 어레이 기판은 데이터 전압이 공급되는 복수의 제1 화소 전극을 포함하고,
상기 제2 TFT 어레이 기판은 데이터 전압이 공급되는 복수의 제2 화소 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
The first TFT array substrate includes a plurality of first pixel electrodes to which a data voltage is supplied.
And the second TFT array substrate comprises a plurality of second pixel electrodes supplied with a data voltage.
상기 봉지 기판은 상기 제1 화소 전극과 대응되는 제1 공통 전극 및 상기 제2 화소 전극과 대응되는 제2 공통 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.3. The method of claim 2,
The encapsulation substrate may include a first common electrode corresponding to the first pixel electrode and a second common electrode corresponding to the second pixel electrode.
상기 제1 TFT 어레이 기판과 상기 제2 TFT 어레이 기판이 상기 봉지 기판에 의해 봉지 및 합착된 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
And the first TFT array substrate and the second TFT array substrate are encapsulated and bonded by the encapsulation substrate.
상기 제1 TFT 어레이 기판을 실링하는 제1 실링 레이어 및 상기 제2 TFT 어레이 기판을 실링하는 제2 실링 레이어를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
And a second sealing layer for sealing the first TFT array substrate and a second sealing layer for sealing the second TFT array substrate.
상기 제2 TFT 어레이 기판 상부에 레드 컬러필터, 그린 컬러필터 및 블루 컬러필터가 형성된 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
And a red color filter, a green color filter, and a blue color filter formed on the second TFT array substrate.
상기 용매 레드 컬러, 그린 컬러, 블루 컬러, 옐로우 컬러, 시안 컬러, 마젠타 컬러, 블랙 컬러 및 화이트 컬러가 선택적으로 착색된 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
The solvent red color, green color, blue color, yellow color, cyan color, magenta color, black color and white color are selectively colored.
상기 대전입자는 레드 컬러, 그린 컬러, 블루 컬러, 옐로우 컬러, 시안 컬러, 마젠타 컬러, 블랙 컬러 및 화이트 컬러가 선택적으로 착색된 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치.The method of claim 1,
The charged particles are electrophoretic light shutter display device characterized in that the red color, green color, blue color, yellow color, cyan color, magenta color, black color and white color are selectively colored.
상기 제1 공통 전극 및 상기 제2 공통 전극에 공통 전압을 공급하는 단계;
상기 제1 TFT 어레이 기판에 형성된 제1 화소 전극 및 상기 제2 TFT 어레이 기판에 형성된 제2 화소 전극에 데이터 전압을 공급하는 단계; 및
상기 데이터 전압을 조절하여 제1 TFT 어레이 기판 및 제2 TFT 어레이 기판에 충진된 대전입자를 상기 공통 전극 또는 상기 제1 화소 전극 및 상기 제2 화소 전극으로 이동시키는 단계;를 포함하고,
상기 대전입자로 광원에서 조사된 광의 투과를 조절하여 화상을 표시하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법.An electrophoretic optical shutter display device including an encapsulation substrate having a first common electrode formed thereon and a second common electrode formed thereon, a first TFT array substrate and a second TFT array substrate bonded together with the encapsulation substrate therebetween. In the driving method of,
Supplying a common voltage to the first common electrode and the second common electrode;
Supplying a data voltage to a first pixel electrode formed on the first TFT array substrate and a second pixel electrode formed on the second TFT array substrate; And
And controlling the data voltage to move the charged particles filled in the first TFT array substrate and the second TFT array substrate to the common electrode or the first pixel electrode and the second pixel electrode.
And controlling the transmission of the light irradiated from the light source with the charged particles to display an image.
상기 광원에서 조사된 광을 차단시키고자 하는 경우, 상기 대전입자가 상기 제1 공통 전극 및 상기 제2 공통 전극으로 이동되도록 공급되는 데이터 전압을 조절하고,
상기 광원에서 조사된 광을 투과시키고자 하는 경우, 상기 대전입자가 상기 제1 화소 전극 및 상기 제2 화소 전극으로 이동되도록 공급되는 데이터 전압을 조절하는 하는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법.The method of claim 9,
When the light emitted from the light source is to be blocked, the data voltage supplied to move the charged particles to the first common electrode and the second common electrode is adjusted.
In order to transmit the light irradiated from the light source, the electrophoretic light shutter display device, characterized in that for controlling the data voltage supplied to move the charged particles to the first pixel electrode and the second pixel electrode. Driving method.
상기 대전입자가 네거티브 극성으로 대전된 경우,
포지티브 극성의 데이터 전압을 공급하여 상기 광원에서 조사된 광의 투과량을 증가시키고,
네거티브 극성의 데이터 전압을 공급하여 상기 광원에서 조사된 광의 투과량을 감소시키는 것을 특징으로 하는 전기영동 광 셔터 디스플레이 장치의 구동방법.11. The method of claim 10,
When the charged particles are charged with negative polarity,
Supplying a data voltage of positive polarity to increase the transmission of light irradiated from the light source,
A method of driving an electrophoretic optical shutter display device, characterized in that to reduce the transmission of light irradiated from the light source by supplying a data voltage of negative polarity.
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| KR20150077163A (en) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | method of forming electrophoretic particle and electrophoretic light shutter display device including electrophoretic particle |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20120507 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |